JP2013152913A

JP2013152913A - プラズマ発生装置用冷却器

Info

Publication number: JP2013152913A
Application number: JP2012027757A
Authority: JP
Inventors: Osamu Ikeda; 修池田
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2012-01-25
Filing date: 2012-01-25
Publication date: 2013-08-08

Abstract

【課題】本発明は、発生したプラズマガスの温度を下げるとともに温度の制御と高周波誘導コイル、プラズマトーチや放電管の冷却効率を高めるプラズマ発生装置用冷却器の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために本発明のプラズマ発生装置用冷却器は、冷却にボルテックスチューブを用いることを特徴としている。
【選択図】図４

Description

本発明は、プラズマを発生させる装置で使用するガス及び装置構成部品を冷却するための冷却器に関するものである。

従来、プラズマ発生装置を構成する部品や使用ガスの冷却において、プラズマのもととなるプラズマ用ガスの冷却では、プラズマ用ガスをプラズマ発生部に送る配管の途中で配管自身を低温の液体窒素で満たした冷却機に浸してプラズマ用ガスを冷却している。またプラズマ用ガスの温度調整は冷却機に浸す配管の出し入れで調整すると共に加熱部で加熱することで温度調整を行なっている。（特許文献１参照）

高周波誘導コイルの冷却では、冷却水製造装置で冷却された冷水を、銅などの金属中空パイプで形成された高周波誘導コイルの中に循環させることで高周波誘導コイルの発熱による温度上昇を防いでいる。（特許文献２参照）

プラズマの発生部にあたるプラズマトーチの冷却では、プラズマトーチを二重構造以上にして、その隙間に空気やプラズマのもととなるアルゴンガスなどの希ガスを送り込むことで、プラズマトーチの熱を奪い放出させる空冷式によってプラズマトーチを冷やしている。（特許文献３参照）また水冷式では、プラズマの発生部にあたる絶縁物質による二重管の隙間に冷水を流入させて冷却している。（特許文献４参照）マイクロ波の照射においては、プラズマの発生部にあたる放電管を押さえるブロックを介在して水冷を流し入れて冷却している。（特許文献５参照）

特許公開２０１０−６１９３８号広報実用登録２５０５２０４号広報特許公開２００３−２１５０４２号広報特許公開平５−２４２９９５号広報特許公開２００２−２９９３１７号広報

プラズマ用ガスの液体窒素による冷却では、冷却機の断熱処理や液体窒素の保管運用時の環境温度の管理や通気性を確保する為の空調設備を設置しなければならない。氷点下の温度まで冷却させるには時間を要する。プラズマ用ガスの温度調整は冷却冷機に浸す配管の出し入れと共に加熱部での加熱によって温度調整を行なっている。高周波誘導コイルの冷水による冷却では、冷水の製造に冷却水製造装置が必要であり水循環路の破損や劣化と高周波誘導コイル自身の腐食劣化による漏水や目詰まりによる水循環が止まることでプラズマ発生装置の故障や破損が生じる。さらには漏電の危険性も生じる。プラズマトーチの気体による冷却では、プラズマトーチの温度上昇に伴い流入させる空気やアルゴンガスなどの希ガスの流量を増加させなければならず、希ガスの場合には使用量に比例して調達費用が増大する。また冷水による冷却では、冷水の製造に冷却水製造装置が必要となり水循環路の破損や劣化で漏水が発生するとプラズマ発生装置の故障や破損が生じる。さらには漏電の危険性も生じる。

そこで本発明は、液体窒素によるプラズマ用ガスの冷却にかえて、ボルテックスチューブを用いてプラズマ用ガスを冷却させる。プラズマ用ガスをボルテックスチューブに供給することで高温のプラズマ用ガスと低温のプラズマ用ガスに分離させて吐き出され、吐き出された低温のプラズマ用ガスを利用する。ボルテックスチューブから吐き出される高温のプラズマ用ガスの吐出流量を調整することでプラズマ用ガスの温度を制御する。またはプラズマトーチや放電管の構造をボルテックスチューブの構造と同じにすることで供給されるプラズマ用ガスをプラズマトーチや放電管自身で冷却する。冷水循環による高周波誘導コイルの冷却にかえて、空気による空冷とする。高周波誘導コイルに送り込む空気はボルテックスチューブを通過させることで更に冷やされて冷却効率を高める。空気や希ガスによるプラズマトーチの冷却では、プラズマトーチに送り込む空気や希ガスはボルテックスチューブを通過させることで更に冷やされて冷却効率を高め、特にアルゴンガスなどの希ガスの消費を抑えられるプラズマ発生装置用冷却器の提供を目的とする。

上記目的を達成するために本発明のプラズマ発生装置用冷却器は、プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、プラズマのもととなるプラズマ用供給ガスをボルテックスチューブの気体供給口に供給することでプラズマ用供給ガスが冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴としている。

プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、高周波電源装置に繋がる高周波誘導コイルを冷やす高周波誘導コイル用冷却ガスをボルテックスチューブの気体供給口に供給することで高周波誘導コイル用冷却ガスが冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴としている。

プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、プラズマの発生部であるプラズマトーチを冷却させるプラズマトーチ用冷却ガスをボルテックスチューブの気体供給口に供給することでプラズマトーチ用供給ガスが冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴としている。

プラズマ発生装置用冷却器において、さらにボルテックスチューブの暖気吐出口から吐き出される高温気体の流量を流量調整弁で制御することで、冷気吐出口から吐き出される低温気体の温度を、気体供給口へ供給される供給気体の供給気体温度℃から０℃超え７５℃以下の範囲のいずれか一つの引数温度℃を減算した差の範囲及び低温気体が液化する液化温度℃を超える範囲で制御することを特徴としている。

プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマの発生部であるプラズマトーチの構造をボルテックスチューブの構造と同じにすることでプラズマトーチに供給されるプラズマのもととなるプラズマ用供給ガスを冷却させるボルテックスチューブ型プラズマトーチを備えることを特徴としている。

プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマの発生部である放電管の構造をボルテックスチューブの構造と同じにすることで放電管に供給されるプラズマのもととなるプラズマ用供給ガスを冷却させるボルテックスチューブ型放電管を備えることを特徴としている。

本発明によって、発生したプラズマガスの温度を下げるとともに温度の制御ができる。高周波誘導コイルを空冷にすることで漏水によるプラズマ発生装置の破損、故障や漏電の危険性を回避できる。プラズマトーチや放電管の空冷に用いる空気や希ガスが更に冷やされているので冷却効率が良く消費量を抑えられる。冷却水製造装置や水配管の工事も不要となる。

は、プラズマ発生装置の概要の例を示す図である。は、冷却器の概要を示す図である。は、ボルテックスチューブの構造の概要を示す図である。は、誘導結合型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。は、マイクロ波型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。は、容量結合型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。は、ボルテックスチューブの構造を誘導結合型プラズマ発生装置のプラズマトーチに適用した概要を示す図である。は、ボルテックスチューブの構造を容量結合型プラズマ発生装置の放電管（プラズマトーチ）に適用した概要を示す図である。

以下、本発明のプラズマ発生装置用冷却器を図面に基づいて説明する。

図１は、プラズマ発生装置の概要の例を示す図である。プラズマを発生させる方法として、誘導結合型、マイクロ波型や容量結合型などがある。「誘導結合型プラズマ」の一例では、円筒形で二重構造のプラズマトーチ１０の周囲に高周波電源装置１４と繋がった高周波誘導コイル１１が配置されて高周波電力を供給している。高周波電源装置１４は高周波誘導コイル１１との整合回路も含まれる。プラズマトーチ１０にプラズマ用供給ガス１５（主にアルゴン、ヘリウムガスなどの希ガス）を送り込むとプラズマ１７が発生する。発生したプラズマ１７は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱平衡状態である熱平衡プラズマとも呼ばれて高温の熱プラズマである。プラズマトーチ１０は高温のプラズマ１７や高周波誘導コイル１１から受けるエネルギーによって加熱されて高温となるので、プラズマトーチ１０を二重構造にして隙間にコンプレッサー１２で作られた圧縮空気などを送り込んでの冷却している。または冷水による冷却法もある。高周波誘導コイル１１も高温となる。高周波誘導コイル１１は金属中空パイプであって、冷水製造装置１３で冷やされた冷水が配水管１６を通り循環させて冷却している。「マイクロ波型プラズマ」の一例では、プラズマ用供給ガス２１（主にアルゴン、ヘリウムガスなどの希ガス）が流れ込んでいる放電管２２（プラズマトーチとも称する）にマイクロ波電源装置２０からのマイクロ波を照射させることでプラズマ２３が発生する。発生したプラズマ２３は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱平衡状態である熱平衡プラズマとも呼ばれて高温の熱プラズマである。「容量結合型プラズマ」の一例では、プラズマ用供給ガス３１（主にアルゴン、ヘリウムガスなどの希ガス）が流れ込んでいる放電管３２（プラズマトーチとも称する）に高電圧パルス電源装置３３と繋がった電極３０に高電圧をあたえることでプラズマ３４が発生する。発生したプラズマ３４は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱非平衡状態である熱非平衡プラズマとも呼ばれて低温の低温プラズマである。

図２は、冷却器の概要を示す図である。冷却器であるボルテックスチューブは、供給口４１から供給された供給気体４０の温度より高温の高温気体４５と、低温の低温気体４４とに分離して、高温気体４５は暖気吐出口４３から吐き出し、低温気体４４は冷気吐出口４２から吐き出す機能を有する。低温気体４４の温度の調整は、暖気吐出口４３から吐き出される高温気体４５の流量を流量調整弁で制御することで行なう。低温気体４４の温度の低温気体温度℃を制御する温度範囲は、供給気体４０の流入量が一定のもとにおいて、供給気体４０の供給気体温度℃から０℃超え７５℃以下である一点の引数温度℃を減算した差の範囲が低温気体温度℃として制御される。ただし低温気体温度℃は低温気体４４が液化する液化温度℃を超える範囲内である。

図３は、ボルテックスチューブの構造の概要を示す図である。供給された供給気体５０は旋回流５６と成りながらボルテックスチューブの中を移動している間で高温気体５４と低温気体５５とに分離されて暖気吐出口５２および冷気吐出口５３から吐き出される。内部流量調整弁５１で高温気体５４の吐き出し流量を制御することで、低温気体５５の温度の制御を行う機能を有している。内部流量調整弁５１を備えていないボルテックスチューブでは高温気体５４の吐き出し経路に流量調整弁を設けて温度の制御を行なう。

図４は、誘導結合型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。プラズマのもととなる「プラズマ用供給ガス」の冷却では、貯蔵ボンベ７５にあるプラズマ用供給ガス７６が流量調整弁７７と繋がった配管路を経由してボルテックスチューブ７０の供給口７１から供給されると冷気吐出口７２から冷却されたプラズマ用供給ガス７６が吐き出される。冷却されたプラズマ用供給ガス７６はプラズマ発生部６０であるプラズマトーチ６２のガス供給口６３に繋がれてプラズマトーチ６２に供給される。冷気吐出口７２から吐き出される冷却されたプラズマ用供給ガス７６の温度の制御は、暖気吐出口７３から吐き出される高温のプラズマ用供給ガス７６の流量を流量調整弁７４で調整することで行なう。またボルテックスチューブ７０が暖気吐出口７３からの吐出流量を制御する内部流量調整弁５１（図３参照）が備わっていたら必要としない。高温の熱プラズマである誘導結合型のプラズマ６６は、高周波電源装置６５から高周波誘導コイル６１に供給される高周波電力の出力を小電力の方向に調整することとプラズマ用供給ガス７６が低温であることで、発生したプラズマ６６は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱平衡状態から一部崩れた熱非平衡状態となりプラズマ６６の温度の低下が生じる。

プラズマトーチ６２の本体を冷やす「プラズマトーチ用冷却ガス」の冷却では、プラズマトーチ用冷却ガス８１がボルテックスチューブ８０の供給口８３から供給されると冷気吐出口８４から冷却されたプラズマトーチ用冷却ガス８１が吐き出される。冷却されたプラズマトーチ用冷却ガス８１はプラズマ発生部６０であるプラズマトーチ６２のトーチ冷却用ガス供給口６４に繋がれてプラズマトーチ６２を冷やす。冷気吐出口８４から吐き出される冷却されたプラズマトーチ用冷却ガス８１の温度の制御は、暖気吐出口８５から吐き出される高温のプラズマトーチ用冷却ガス８１の流量を流量調整弁８２で調整することで行なう。またボルテックスチューブ８０が暖気吐出口８５からの吐出流量を制御する内部流量調整弁５１（図３参照）が備わっていたら必要としない。

高周波誘導コイル６１を冷やす「高周波誘導コイル用冷却ガス」の冷却では、高周波誘導コイル用冷却ガス９１がボルテックスチューブ９０の供給口９３から供給されると冷気吐出口９４から冷却された高周波誘導コイル用冷却ガス９１が吐き出される。冷却された高周波誘導コイル用冷却ガス９１はプラズマ発生部６０にある高周波誘導コイル６１に繋がれて高周波誘導コイル６１を冷やす。冷気吐出口９４から吐き出される冷却された高周波誘導コイル用冷却ガス９１の温度の制御は、暖気吐出口９５から吐き出される高温の高周波誘導コイル用冷却ガス９１の流量を流量調整弁９２で調整することで行なう。またボルテックスチューブ９０が暖気吐出口９５からの吐出流量を制御する内部流量調整弁５１（図３参照）が備わっていたら必要としない。

図５は、マイクロ波型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。プラズマのもととなる「プラズマ用供給ガス」の冷却では、プラズマ用供給ガス１０４がボルテックスチューブ１０１の供給口１０７から供給されると冷気吐出口１０５から冷却されたプラズマ用供給ガス１０４が吐き出される。冷却されたプラズマ用供給ガス１０４は放電管（プラズマトーチ）１０２に繋がれて供給される。冷気吐出口１０５から吐き出される冷却されたプラズマ用供給ガス１０４の温度の制御は、暖気吐出口１０６から吐き出される高温のプラズマ用供給ガス１０４の流量を流量調整弁１０８で調整することで行なう。またボルテックスチューブ１０１が暖気吐出口１０６からの吐出流量を制御する内部流量調整弁５１（図３参照）が備わっていたら必要としない。高温の熱プラズマであるマイクロ波型のプラズマ１０３は、マイクロ波電源装置１００から放電管（プラズマトーチ）１０２に供給されるマイクロ波電力の出力を小電力の方向に調整することとプラズマ用供給ガス１０４が低温であることで、発生したプラズマ１０３は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱平衡状態から一部崩れた熱非平衡状態となりプラズマ１０３の温度の低下が生じる。

図６は、容量結合型のプラズマ発生装置に適用した冷却器の概要を示す図である。プラズマのもととなる「プラズマ用供給ガス」の冷却では、プラズマ用供給ガス１１４がボルテックスチューブ１１８の供給口１１７から供給されると冷気吐出口１１５から冷却されたプラズマ用供給ガス１１４が吐き出される。冷却されたプラズマ用供給ガス１１４は放電管（プラズマトーチ）１１２に繋がれて供給される。冷気吐出口１１５から吐き出される冷却されたプラズマ用供給ガス１１４の温度の制御は、暖気吐出口１１６から吐き出される高温のプラズマ用供給ガス１１４の流量を流量調整弁１１９で調整することで行なう。またボルテックスチューブ１１８が暖気吐出口１１６からの吐出流量を制御する内部流量調整弁５１（図３参照）が備わっていたら必要としない。低温プラズマである容量結合型のプラズマ１１１は、高電圧パルス電源装置１１３から放電管（プラズマトーチ）１１２の電極１１０に供給される高電圧パルス電力の出力調整とプラズマ用供給ガス１１４を低温にすることで、発生したプラズマ１１１は、電子、イオン、原子（分子）の温度が熱非平衡状態であるプラズマ１１１の温度のさらなる低下が生じる。

図７は、ボルテックスチューブの構造を誘導結合型プラズマ発生装置のプラズマトーチに適用した概要を示す図である。プラズマのもととなる「プラズマ用供給ガス」の冷却には、図４の例で示す様にプラズマ用供給ガスの供給路の途中でボルテックスチューブを用いていたが、１図で示すプラズマトーチ１０の構造からボルテックスチューブと同じ構造のプラズマトーチ１２０にすることで、供給口１２４から供給されたプラズマ用供給ガス１２３が冷気吐出口１２６から冷却されたプラズマ用供給ガス１２３が吐き出される。暖気吐出口１２５からは高温のプラズマ用供給ガス１２３が吐き出される。高周波電源装置１２２と繋がれた高周波誘導コイル１２１に電力供給すると冷気吐出口１２６から吐き出される冷却されたプラズマ用供給ガス１２３がプラズマ１２７となる。プラズマ１２７は、本来、高温の熱プラズマであるプラズマ用供給ガス１２３が冷却されているのでの温度が低いプラズマとなる。

図８は、ボルテックスチューブの構造を容量結合型プラズマ発生装置の放電管（プラズマトーチ）に適用した概要を示す図である。プラズマのもととなる「プラズマ用供給ガス」の冷却には、図６の例で示す様にプラズマ用供給ガスの供給路の途中でボルテックスチューブ１１８を用いていたが、１図で示す放電管（プラズマトーチ）３２の構造からボルテックスチューブと同じ構造のプラズマトーチ１３０にすることで、供給口１３１から供給されたプラズマ用供給ガス１３４が冷気吐出口１３２から冷却されたプラズマ用供給ガス１３４が吐き出される。暖気吐出口１３３からは高温のプラズマ用供給ガス１３４が吐き出される。高電圧パルス電源装置１３６から放電管（プラズマトーチ）１３０の電極１３５に高電圧パルス電力を供給すると冷気吐出口１３２から吐き出される冷却されたプラズマ用供給ガス１３４がプラズマ１３７となる。プラズマ１３７は、本来、低温のプラズマであるがプラズマ用供給ガス１３４が冷却されているのでの更に温度が低いプラズマとなる。誘導結合型、マイクロ波型や容量結合波型のプラズマ発生装置の例としたが他の方式のプラズマ発生装置にも適用される。またプラズマを用いたプラズマ溶射での作動ガスの冷却にも適用される。本発明のプラズマ発生装置用冷却器は、この実施例に限定するものではない。

１０プラズマトーチ
１１高周波誘導コイル
１２コンプレッサー
１３冷水製造装置
１４高周波電源装置
１５プラズマ用供給ガス
１６配水管
１７プラズマ
２０マイクロ波電源装置
２１プラズマ用供給ガス
２２放電管（プラズマトーチ）
２３プラズマ
３０電極
３１プラズマ用供給ガス
３２放電管（プラズマトーチ）
３３高電圧パルス電源装置
３４プラズマ
４０供給気体
４１供給口
４２冷気吐出口
４３暖気吐出口
４４低温気体
４５高温気体
５０供給気体
５１内部流量調整弁
５２暖気吐出口
５３冷気吐出口
５４高温気体
５５低温気体
５６旋回流
６０プラズマ発生部
６１高周波誘導コイル
６２プラズマトーチ
６３ガス供給口
６４トーチ冷却用ガス供給口
６５高周波電源装置
６６プラズマ
７０ボルテックスチューブ
７１供給口
７２冷気吐出口
７３暖気吐出口
７４流量調整弁
７５貯蔵ボンベ
７６プラズマ用供給ガス
７７流量調整弁
８０ボルテックスチューブ
８１プラズマトーチ用冷却ガス
８２流量調整弁
８３供給口
８４冷気吐出口
８５暖気吐出口
９０ボルテックスチューブ
９１高周波誘導コイル用冷却ガス
９２流量調整弁
９３供給口
９４冷気吐出口
９５暖気吐出口
１００マイクロ波電源装置
１０１ボルテックスチューブ
１０２放電管（プラズマトーチ）
１０３プラズマ
１０４プラズマ用供給ガス
１０５冷気吐出口
１０６暖気吐出口
１０７供給口
１０８流量調整弁
１１０電極
１１１プラズマ
１１２放電管（プラズマトーチ）
１１３高電圧パルス電源装置
１１４プラズマ用供給ガス
１１５冷気吐出口
１１６暖気吐出口
１１７供給口
１１８ボルテックスチューブ
１１９流量調整弁
１２０プラズマトーチ
１２１高周波誘導コイル
１２２高周波電源装置
１２３プラズマ用供給ガス
１２４供給口
１２５暖気吐出口
１２６冷気吐出口
１２７プラズマ
１３０放電管（プラズマトーチ）
１３１供給口
１３２冷気吐出口
１３３暖気吐出口
１３４プラズマ用供給ガス
１３５電極
１３６高電圧パルス電源装置
１３７プラズマ

Claims

プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を前記供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び前記供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、前記高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、プラズマのもととなるプラズマ用供給ガスを前記ボルテックスチューブの前記気体供給口に供給することで前記プラズマ用供給ガスが前記冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴とするプラズマ発生装置用冷却器。
プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を前記供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び前記供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、前記高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、高周波電源装置に繋がる高周波誘導コイルを冷やす高周波誘導コイル用冷却ガスを前記ボルテックスチューブの前記気体供給口に供給することで前記高周波誘導コイル用冷却ガスが前記冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴とするプラズマ発生装置用冷却器。
プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、気体供給口から供給された供給気体温度℃の供給気体を前記供給気体温度℃超える高温気体温度℃の高温気体及び前記供給気体温度℃未満の低温気体温度℃の低温気体に分離して、前記高温気体は暖気吐出口から吐き出すこと及び低温気体は冷気吐出口から吐き出すボルテックスチューブを備え、プラズマの発生部であるプラズマトーチを冷却させるプラズマトーチ用冷却ガスを前記ボルテックスチューブの前記気体供給口に供給することで前記プラズマトーチ用供給ガスが前記冷気吐出口から冷却されて吐き出されることを特徴とするプラズマ発生装置用冷却器。
請求項１から３のいずれかに記載のプラズマ発生装置用冷却器において、さらに前記ボルテックスチューブの暖気吐出口から吐き出される高温気体の流量を流量調整弁で制御することで、冷気吐出口から吐き出される低温気体の温度を、気体供給口へ供給される供給気体の供給気体温度℃から０℃超え７５℃以下の範囲のいずれか一つの引数温度℃を減算した差の範囲及び前記低温気体が液化する液化温度℃を超える範囲で制御するプラズマ発生装置用冷却器。
プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマの発生部であるプラズマトーチの構造をボルテックスチューブの構造と同じにすることで前記プラズマトーチに供給されるプラズマのもととなるプラズマ用供給ガスを冷却させるボルテックスチューブ型プラズマトーチを備えるプラズマ発生装置用冷却器。
プラズマを発生させるプラズマ発生装置において、プラズマの発生部である放電管の構造をボルテックスチューブの構造と同じにすることで前記放電管に供給されるプラズマのもととなるプラズマ用供給ガスを冷却させるボルテックスチューブ型放電管を備えるプラズマ発生装置用冷却器。