KR102101155B1 - 블로킹 방지층 형성용 조성물 및 도전성 적층체 - Google Patents

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Abstract

본 출원은 블로킹 방지층 형성용 조성물에 관한 것이다. 본 출원의 블로킹 방지층 형성용 조성물은 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물과 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물를 포함하는 아크릴 중합체; 및 입경이 200nm 이하인 나노입자;를 포함하며, 투명성 및 헤이즈 특성이 우수하면서도 블로킹 방지 특성이 우수한 블로킹 방지층을 제공한다.

Description

블로킹 방지층 형성용 조성물 및 도전성 적층체 {ANTIBLOCKING LAYER FORMING COMPOSITION AND CONDUCTIVE LAMINATE}
본 출원은, 블로킹 방지층 형성용 조성물 및 도전성 적층체에 대한 것이다.
디스플레이 장치, 광전 변환 소자 및 터치 패널 등에 적용되는 도전성 적층체는, 가요성, 가공성 및 경량성 등을 고려하여 플라스틱 필름상이 도전막을 형성하여 제조할 수 있다.
다만, 상기 제조 공정에서 권취 시 필름과 필름이 서로 달라붙는 블로킹(blocking) 현상이 발생할 수 있으며, 블로킹된 필름을 다시 권출하여 주행 시 장력변화를 유발하여 필름이 변형 또는 손상될 수 있고, 심한 경우 파단까지 발생할 수 있다. 또한, 공정 중 롤러 와 필름간 발생되는 마찰 및 정전기로 인해 필름의 표면이 손상되어 도전막의 물성을 저하시킬 위험이 있다.
이를 해결하기 위해, 입자를 포함하는 블로킹 방지층을 형성하여 블로킹 현상을 저감시켜주는 방법이 사용된다. 이때, 입경이 약 1.0μm 이상, 또는 블로킹 방지층의 두께보다 큰 입자를 사용하는 경우, 요철을 형성하여 우수한 블로킹 방지 특성을 부여할 수 있으나, 적층체의 투명성 또는 헤이즈 특성이 손상되는 문제가 있다. 또한, 블로킹 방지층의 두께보다 작은 나노입자를 사용하는 경우, 적층체의 헤이즈 문제는 발생하지 않을 수 있으나, 지나치게 많은 입자가 블로킹 방지층의 표면에 돌출되어 존재함으로써, 추후 공정과정에서 입자의 일부가 탈리하여 결함을 야기하는 문제가 발생할 수 있다.
본 출원의 목적은, 블로킹 방지 특성이 우수한 블로킹 방지층을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것이다.
본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 달성될 수 있다.
본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 블로킹 방지층 형성용 조성물에 관한 것이다. 본 출원에 따른 블로킹 방지층 형성용 조성물은 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물과 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물를 포함하는 아크릴 중합체; 및 입경이 200nm 이하인 나노입자;를 포함한다.
본 출원의 발명자들은 상기 조성물을 경화하여 기재 필름 상에 블로킹 방지층을 형성할 때, 블로킹 방지층 두께의 절반 높이를 기준으로 입자의 분포가 다름을 발견하였다. 즉, 나노입자의 대부분이 블로킹 방지층의 표면(기재필름이 형성된 면의 반대면)에 위치하며, 그 중 일부 나노입자가 돌출되어 요철을 형성하는 것을 확인하였다. 이에 따라, 상기 블로킹 방지층은 정지마찰계수가 5 이하이며, 우수한 블로킹 방지 특성을 가짐과 동시에 우수한 투명성 및 헤이즈 특성을 가질 수 있었다. 특히, 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물이 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 경우, 블로킹 방지층의 두께보다 작은 크기의 나노입자를 사용하더라도, 입자의 대부분이 블로킹 방지층의 표면에 위치하며, 그 중 일부의 입자가 돌출되어 요철을 형성함으로써, 상기 정지마찰계수를 만족하여 블로킹 방지 특성이 우수해 지는 것으로 확인되었다.
상기 주쇄 탄소수 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기란, 알킬기의 골격을 이루는 줄기 분자쇄가 탄소수 8 이상인 것을 의미한다. 주쇄 탄소수 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 예를 들어, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 팔미틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메타)아크릴레이트일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 주쇄 탄소수 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 하나의 화합물을 단독으로 사용하거나 또는 적어도 둘 이상의 혼합물로 사용할 수 있다.
상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 2관능 이상, 예를 들어, 2 내지 8관능을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물이라면 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물은 예를 들어, 다관능 우레탄 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디아크릴레이트(EGDA), 디프로필렌글리콜디아크릴레이트(Dipropylene glycol diacrylate; DPGDA) 비스페놀 A 에폭시 아크릴레이트, 폴리에테르 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트라이/테트라아크릴레이트 (pentaerythritol tri/tetraacrylate; PETA), 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexa-acrylate, DPHA), 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트 (trimethylolpropane triacrylate; TMPTA) 및 헥사메틸렌 다이아크릴레이트 (hexamethylene diacrylate; HDDA) 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 하나의 화합물을 단독으로 사용하거나 또는 적어도 둘 이상의 혼합물로 사용할 수 있다.
상기 아크릴 중합체가 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물과 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물를 포함한다는 것은, 상기 화합물들의 혼합물을 중합하여 아크릴 중합체를 형성하며, 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 중합단위 및 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 중합단위를 포함하는 것을 의미한다.
하나의 예시에서, 아크릴 중합체는 아크릴 중합체 100중량% 대비 탄소수 8 이상인 선형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물 2 중량% 내지 20 중량%를 포함한다.
또 하나의 예시에서, 상기 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물 100 중량부 대비 2 내지 50중량부 이하로 포함될 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 5중량부 이상, 7중량부 이상 또는 10중량부 이상 포함될 수 있고, 40중량부 이하, 30중량부 이하, 20중량부 이하, 또는 15중량부 이하로 포함될 수 있다.
상기 범위로 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물이 포함되는 경우, 블로킹 방지층을 형성 시, 나노입자의 대부분이 블로킹 방지층의 표면에 위치하여 일정 범위의 정지마찰계수를 가지며, 우수한 블로킹 방지 특성을 나타낼 수 있다.
본 출원의 나노입자는 그 형태는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 대략 구형, 타원형, 다각형 또는 무정형을 포함한 다양한 형상을 가질 수 있으며, 입자의 가장 큰 차원의 길이가 나노 스케일에서 규정되는 입자를 의미한다. 본 출원에서 나노입자의 입경은 나노입자의 가장 긴 차원의 길이를 의미한다.
본 출원에 따른 블로킹 방지층 형성용 조성물은, 상기 조성물을 경화하여 형성된 블로킹 방지층의 두께보다 작은 입경을 갖는 나노입자를 포함한다. 블로킹 방지층의 두께보다 작은 입경을 갖는 나노입자를 포함함으로써, 우수한 투명성을 확보하고, 헤이즈특성을 향상시킬 수 있다.
보다 구체적으로 상기 나노입자의 입경은 200nm 이하, 150nm이하, 100nm이하일 수 있다. 나노입자의 크기의 하한은 특별히 제한되지 않으며, 0.1nm이상, 0.5nm이상, 1nm이상, 또는 5nm이상일 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 나노입자의 비율은 아크릴 중합체 100 중량부 대비 20 중량부 내지 200 중량부 포함될 수 있다. 또 다른 예시에서, 나노입자는 30중량부 이상, 40중량부 이상 또는 50중량부 이상 포함될 수 있고, 190중량부 이하, 180중량부 이하, 170중량부 이하, 또는 150중량부 이하로 포함될 수 있다. 상기 나노입자의 함량이 20중량부 미만인 경우 충분한 블로킹 방지 특성이 발현될 수 없고, 200중량부를 초과하는 경우 투과율이 저하되며 헤이즈가 높고 안정성이 미흡하여 이물 등의 문제가 발생할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 나노입자는 블로킹 방지층 형성용 조성물에 포함되는 전체 나노입자 100 중량% 대비 입경이 70 nm 내지 200nm 인 나노입자를 30 중량% 이상 포함한다. 입경이 70 nm 이하인 나노입자는 블로킹 방지 효과가 충분히 발생하지 않으며, 입경이 200nm 인 나노입자는 블로킹 방지 효과가 우수하나, 투과율이 떨어지고, 헤이즈가 높아지는 우려가 있다. 따라서, 상기 범위의 크기를 갖는 나노입자를 일정 함량이상 포함함으로써 정지마찰계수의 범위를 제어할 수 있고, 블로킹 방지 효과가 우수하면서, 우수한 투과율과 헤이즈 특성을 확보할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 나노입자는 콜로이드 상태 일 수 있다. 상기 나노입자가 콜로이드 상태인 경우, 조성물 내에 고르게 분산되어 있으므로, 상기 조성물을 경화하여 블로킹 방지층을 형성하는 경우, 블로킹 방지층의 일부 표면에 입자가 집중되는 것을 방지하며, 투과율이 우수하고 헤이즈가 낮을 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 나노입자는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자, 티타니아 입자, 인듐 주석 산화물(Indium tin oxide, ITO), 안티모니 주석 산화물(antimony tin oxide, ATO) 또는 이들의 혼합물일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 나노입자의 안정성 또는 분산성을 향상하기 위하여 상기 나노입자는 표면을 개질될 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 아크릴 중합체는 실리콘계 (메타)아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 실리콘 아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물은 필름이 서로 잘 미끄러지도록 하기 위한 첨가제(slipping agent)로서 정지마찰계수의 확보에 기여하며, 블로킹 방지 특성을 향상시킬 수 있다. 상기 실리콘계 (메타)아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물은 실리콘 또는 불소를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물이라면 제한없이 사용할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 실리콘계 아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물은 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물 100 중량부 대비 0.01 내지 2 중량부로 포함될 수 있다.
상기 블로킹 방지층 형성용 조성물은 필요에 따라 용매를 포함할 수 있다. 상기 용매는 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 등의 알코올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 메틸아세테이트, 부틸아세테이트 등의 에스테르류, 톨루엔, 벤젠, 크실렌 등의 방향족 화합물, 에테르류 등이 사용될 수 있으며, 아크릴 화합물에 대한 용해도가 높고, 기재표면에 균일하게 도포할 수 있으며, 특별히 제한되지 않고 사용할 수 있다.
상기 블로킹 방지층 형성용 조성물은 본 출원의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 중합 개시제, 광확산제, 대전방지제 자외선 흡수제, 레벨링제, 소포제, 중합촉진제, 산화방지제, 난연제, 적외선 흡수제, 계면활성제, 표면개질제 등을 추가로 포함할 수 있다.
본 출원에 따른 또 다른 일례에서, 본 출원은 적층체에 대한 것이다. 본 출원에 따른 적층체는 기재 필름; 및 블로킹 방지층;을 포함한다.
하나의 예시에서, 상기 블로킹 방지층은 본 출원에 따른 블로킹 방지층 형성용 조성물을 경화시켜 형성한 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 블로킹 방지층은 본 출원에 따른 블로킹 방지층 형성용 조성물을 상기 기재 필름 상에 코팅한 후, 열 또는 광 경화하여 형성될 수 있다. 상기 블로킹 방지층 형성용 조성물을 코팅하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 공지의 코팅 방식, 예를 들면, 바 코팅, 그라비아 코팅, 리버스 롤 코팅, 리버스 그라비아 코팅, 슬롯다이 코팅, 콤마 코팅, 스프레이 코팅, 나이프 코팅, 다이코팅, 딥 코팅, 마이크로 그라비아 코팅 또는 와이어 바코팅 등의 방식을 이용할 수 있다.
상기 블로킹 방지층은 본 출원에 따른 블로킹 방지층 형성용 조성물을 경화하여 형성되므로 나노입자가 대부분 블로킹 방지층의 표면상에 위치하게 되어 정지마찰 계수가 일정 범위 내로 조절되고, 우수한 블로킹 방지특성을 가질 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 블로킹 방지층의 정지마찰계수는 5이하일 수 있다. 또 다른 예시에서, 상기 정지마찰계수는 4이하, 3이하 또는 2이하일 수 있다. 상기 블로킹 방지층의 정지마찰계수는, 본 출원의 실시예에 기재된 바와 같이, 블로킹 방지층의 요철이 형성된 면과 적층체에 사용되는 기재 필름간에 측정될 수 있으며, 상기 정지마찰계수가 낮을수록 윤활성이 향상되며, 블로킹 방지 특성이 우수하다. 따라서, 블로킹 방지층이 상기 범위의 정지마찰계수를 갖는 경우, 적층체의 권취 시 블로킹 현상이 방지되며, 다시 권출하여 추후 공정을 진행하는 과정에서 발생할 수 있는 기재필름의 변형 또는 손상을 방지할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 블로킹 방지층은 두께가 600nm 내지 5μm 일 수 있다. 또한, 상기 블로킹 방지층은 두께가 3㎛ 이하, 2㎛ 이하, 또는 1㎛ 이하일 수 있고, 700nm 이상, 800nm 이상, 900nm 이상일 수 있다. 블로킹 방지층이 상기 범위의 두께를 만족하는 경우, 적절한 투명성 및 헤이즈 특성을 가지면서도 우수한 블로킹 방지 특성을 가질 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 적층체에 포함되는 기재 필름은, 광학적으로 투명한 플라스틱 필름일 수 있다. 플라스틱 필름으로는 예를 들면, COP(cyclic olefin polymer) 필름, COC(cyclic olefin copolymer) 필름, PP(polypropylene) 필름 등의 폴리올레핀 필름, TAC (tiacetyl cellulose) 필름, PA(polyamide) 필름, PVC(poly(vinyl chloride)) 필름, PS(polystyrene) 필름, PES(poly(ether sulfone)) 필름, PEI(poly(ether imide)) 필름, 또는 PE(polyethylene) 필름, PC(Polycarbonate) 필름, PEN(poly(ethylene naphthalate)) 필름 또는 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름과 같은 폴리에스테르 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate)) 필름 등과 같은 아크릴 필름, 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 플라스틱 필름은, 무연신 또는 일축 또는 이축 연신 필름일 수 있다. 기재 필름에는 도전막과의 밀착성의 향상의 관점에서 표면에 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리 또는 스퍼터 에칭 등의 처리가 수행되어 있을 수 있다. 이러한 기재 필름은, 예를 들면, 약 5㎛ 이상, 약 5㎛ 내지 95㎛, 5㎛ 내지 90㎛ 또는 10㎛ 내지 80㎛ 정도의 두께를 가질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 출원에 따른 또 다른 일례에서, 본 출원은 도전성 적층체에 대한 것이다. 본 출원에 따른 도전성 적층체는 제 1 내지 8 항의 어느 한 항의 블로킹 방지층 형성용 조성물을 경화시켜 형성된 블로킹 방지층; 기재 필름; 및 도전막;을 순차로 포함한다.
상기 기재필름 및 블로킹 방지층에 대한 것은 상기 언급한 바와 동일하다.
하나의 예시에서, 도전성 적층체에 포함되는 상기 도전막은 결정성 또는 비결정성일 수 있다. 일반적으로 기재 필름상에 형성된 도전막은 비결정성을 가지며, 이러한 비결정성의 도전 막은 열처리 등에 의해 결정화되어 제품에 적용된다. 본 출원에서 비결정성 또는 결정성 도전막의 구분은 도전성 적층체 분야에서 통상 도전막의 결정성을 구분하는 기준에 따라 수행될 수 있다. 예를 들면, 본 출원에서 용어 비결정성의 도전막은 FE-TEM(Field Emission Transmission Electron Microscopy)로 표면을 관찰한 때에 그 표면에서 일반적으로 다각형 또는 타원 형상인 결정이 차지하는 면적 비율이 50% 이하 또는 0 내지 30%의 범위 내에 있는 도전막을 의미한다. 따라서, 본 출원에서 용어 결정성의 도전막은 상기 결정이 차지하는 면적 비율이 50%를 초과하는 경우를 의미할 수 있다.
상기 도전막은, 예를 들면, 진공 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅, 스프레이 열분해, 화학 도금 또는 전기 도금 방식 등을 통하여 도전막 형성 재료를 포함하는 막을 부설함으로써 형성할 수 있다. 상기에서 도전막의 형성 재료로는, 투명한 도전막을 형성할 수 있는 것을 적절하게 선택하여 사용할 수 있으며, 예를 들어, 인듐 주석 산화물(ITO, Indium Tin Oxide)를 포함할 수 있다. 또한 산화 주석, 산화 아연, 산화 안티몬, 산화 알루미늄, 산화 칼륨, 산화 세륨, 산화 마그네슘, 산화 카드뮴, 산화 구리, 산화 텅스텐 또는 산화 레늄 등과 같은 밴드 갭이 큰 산화물 중에 하나 이상의 산화물을 포함하는 복합 산화물로 구성되어 있을 수 있다.
상기 도전막의 두께는, 예를 들면, 도전성 적층체의 용도에 따라 요구되는 가요성이나 연속성, 투명성 및 저항값 등을 고려하여 결정될 수 있고, 통상적으로 5 nm 이상, 10 nm 이상, 10 nm 내지 300 nm, 10 nm 내지 200 nm, 10 nm 내지 100 nm 또는 10 nm 내지 50 nm의 범위 내에서 선택될 수 있다.
본 출원에 따른 또 다른 일례에서, 본 출원은 디스플레이 장치에 대한 것이다. 본 출원에 따른 디스플레이 장치는 상기 언급한 도전성 적층체를 포함한다.
본 출원에 따르면 블로킹 방지성이 우수한 조성물 및 블로킹 방지층을 포함하는 도전성 적층체를 제공할 수 있다.
이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
1. 정지마찰계수의 측정
실시예 및 비교예에 따라 제조된 블로킹 방지층의 정지 마찰 계수를 ASTMD1894 시험법으로 측정하여 구하였다. 측정 조건은 200g의 무게 추를 가지고, 블로킹 방지층 표면(기재필름이 형성된 면의 반대면)과 적층체에 사용된 기재필름과 동일한 필름 사이에서 측정하였다.
2. 10 ㎛ X 10 ㎛ 면적의 중심선 표면 거칠기(Ra), 10점 평균 거칠기( Rz ) 측정.
AFM(Atomic Force Microscopy)를 이용하였으며, 실시예 및 비교예에 따라 제조된 블로킹 방지층 표면(기재필름이 형성된 면의 반대면)에 일정한 속도로 두드리는 탭핑 모드를 통하여, 10 ㎛ X 10 ㎛ 면적의 중심선 평균 거칠기(Ra) 및 10점 평균 거칠기(Rz)를 측정 하였다.
3. 헤이즈 측정.
실시예 및 비교예에 따라 제조된 적층체에 대하여 Haze meter를 이용하여 JIS K7105 표준 시험 방법에 따라 헤이즈를 측정하였다.
실시예 1.
COP 기재 필름(두께 50㎛, 굴절률 1.53)상에 하기 표 1과 같은 함량으로(중량부) 화합물을 포함하는 조성물을 코팅 및 경화하여 두께 약 1.0μm 인 블로킹 방지층을 형성하였다.
상기 제조된 블로킹 방지층에 대하여 상기 방식으로 물성을 측정하였고, 그 결과는 표 3에 나타낸 바와 같다.
실시예 2 내지 4 및 비교예 1 내지 5
표 1 또는 표 2와 같이 화합물의 함량을 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 같이 블로킹 방지층을 형성하였다.
상기 제조된 블로킹 방지층에 대하여 상기 방식으로 물성을 측정하였고, 그 결과는 표 3 에 나타낸 바와 같다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4
DPGDA (중량부) 69.5 54.5 69.5 66.5
PETA (중량부) 20 30 20 20
Hexyl methacrylate
(중량부)
0 0 0 0
Stearyl methaxrylate
(중량부)
10 15 10 10
Silicone polyester acrylate
(중량부)
0.5 0.5 0.5 0.5
MEK-AC5140Z
(중량부)
30 50 0 30
MEK-ST-ZL
(중량부)
0 50 30 30
IPA-ST-ZL (중량부) 10 0 0 0
MEK-AC2140Z
(중량부)
10 50 20 0
DPGDA: Dipropylene glycol diacrylate
PETA: Pentaerythritol triacrylate
MEK-AC5140Z: colloidal silica (입경: 70nm-100nm)
MEK-ST-ZL: colloidal silica (입경: 70nm-100nm)
IPA-ST-ZL: colloidal silica (입경: 70nm-100nm)
MEK-AC2140Z: colloidal silica (입경: 10nm-15nm)
비교예 1 비교예 2 비교예 3 비교예 4 비교예 5
DPGDA (중량부) 70 69.5 69.5 66.5 69.5
PETA (중량부) 40 40 40 20 40
Hexyl methacrylate
(중량부)
0 0 0 10 0
Stearyl methaxrylate
(중량부)
0 5 0 0 0
Silicone polyester acrylate
(중량부)
0 0 0.5 0.5 0
MEK-AC5140Z
(중량부)
0 5 30 30 0
MEK-ST-ZL
(중량부)
0 5 30 20 30
IPA-ST-ZL (중량부) 0 0 0 0 0
MEK-AC2140Z
(중량부)
0 30 0 0 20
Ra (nm, AFM) Rz (nm, AFM) 정지마찰계수 Haze (%)
실시예 1 7.2 84 0.8 1.0
실시예 2 8.8 113 0.6 1.1
실시예 3 8.7 88 0.5 0.9
실시예 4 6.8 60 1.2 0.5
비교예 1 0.5 6 >10 0.3
비교예 2 4.7 45 >10 0.5
비교예 3 3.6 37 >10 0.5
비교예 4 4.4 40 >10 0.5
비교예 5 1.8 18 >10 0.4

Claims (14)

  1. 기재 필름; 및
    주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물과 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 아크릴 중합체; 및 입경이 200nm 이하인 나노입자;를 포함하는 블로킹 방지층 형성용 조성물을 경화시켜 형성된 블로킹 방지층;을 포함하고,
    상기 블로킹 방지층은 비즈 형태가 아닌 적층체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 나노입자는 전체 나노입자 100 중량% 대비 입경이 70 nm 내지 200nm 인 나노입자를 30 중량% 이상 포함하는 적층체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 나노입자는 콜로이드 상태인 적층체.
  4. 제1항에 있어서, 상기 나노입자는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자, 티타니아 입자, 인듐 주석 산화물(Indium tin oxide, ITO), 안티모니 주석 산화물(antimony tin oxide, ATO) 또는 이들의 혼합물인 적층체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물 100 중량부 대비 2 내지 50중량부 이하로 포함되는 적층체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 나노입자는 아크릴 중합체 100 중량부 대비 20 내지 200 중량부 포함되는 적층체.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 아크릴 중합체는 실리콘계 (메타)아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 포함하는 적층체.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 실리콘계 (메타)아크릴레이트 화합물 또는 불소계 (메타)아크릴레이트 화합물은 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물 100 중량부 대비 0.01 내지 2 중량부로 포함되는 적층체.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서, 상기 블로킹 방지층은 정지마찰계수가 5이하인 적층체.
  11. 제1항에 있어서, 상기 블로킹 방지층의 두께는 600nm 내지 5μm이하인 적층체.
  12. 주쇄 탄소수가 8 이상인 선형 또는 분지형 알킬기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물과 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함하는 아크릴 중합체; 및 입경이 200nm 이하인 나노입자;를 포함하는 블로킹 방지층 형성용 조성물을 경화시켜 형성된 블로킹 방지층;
    기재 필름; 및
    도전막;을 순차로 포함하고,
    상기 블로킹 방지층은 비즈 형태가 아닌 도전성 적층체.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 도전막은 결정성 또는 비결정성인 도전성 적층체.
  14. 제 12 항의 도전성 적층체를 포함하는 디스플레이 장치.

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WO1994006834A1 (en) * 1992-09-18 1994-03-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric microspheres for low-friction surfaces
JP2017080951A (ja) * 2015-10-26 2017-05-18 日東電工株式会社 ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルム
JP2017142377A (ja) * 2016-02-10 2017-08-17 日東電工株式会社 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置

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