KR102091552B1 - 광학용 점착제 조성물 및 이의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름 - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 주쇄에, 히드록시기 및 (메타)아크릴레이트기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 반응성기가 결합된 폴리부타디엔 고무를 포함하는 광학용 점착제 조성물 및 상기 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름을 제공한다.

Description

광학용 점착제 조성물 및 이의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름{ADHESIVE COMPOSITION FOR OPTICAL USE AND ADHESIVE FILM FOR OPTICAL USE COMPRISING ADHESIVE COMPOSITION LAYER COMPRISING PHOTOCURED PRODUCT THEREOF}
본 명세서는 2016년 4월 22일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2016-0049630호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 발명에 포함된다.
본 발명은 광학용 점착제 조성물 및 이의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름에 관한 것이다.
패키징된 전자 소자 또는 투명 도전성 필름 등을 포함하는 터치소재는 탁월한 작동을 위해 우수한 터치 민감도를 필요로 한다. 나아가, 최근에는 플렉서블 터치스크린패널과 같은 장치의 내구성, 유연성 및 광학특성을 향상시키기 위한 점착제 조성물의 개발에 많은 관심이 쏠리고 있다.
일반적으로, 플렉서블 터치스크린패널 등에 사용되는 점착제는 유연성, 투명성 및 시인성 등의 광학 특성을 확보해야 한다. 이를 위해 종래에는 아크릴계 수지를 베이스 수지로 포함하는 점착제가 일반적으로 사용되었으나, 이는 터치 민감도 측면에서 보완이 필요하며, 이와 동시에 적합한 저장 모듈러스 및 광학 특성을 확보하는 것이 중요한 문제이다.
또한, 아크릴계 수지의 단점을 보완하기 위해 고무계 수지를 이용하는 점착제들도 개발되고 있으며, 예를 들어 대한민국 공개특허공보 제2014-0050956호에는 고무계 중합체를 포함하는 점착제 조성물이 개시되어 있고, 대한민국 공개특허공보 제2014-0049278호에도 투습도를 낮추기 위해 부틸고무계 중합체를 사용함이 개시되어 있다.
다만, 고무계 수지를 베이스 수지로 포함하는 점착제의 경우에는 경화 과정을 통해 화학적 가교가 어려우며, 물리적 가교를 이용해야 하고, 결과적으로 충분한 내구성 확보를 위한 경화 또는 가교 구조의 형성이 어려운 문제점이 있다. 또한, 이에 따라 최종 제품의 응용이 제한적일 수 있다.
한국 공개공보: KR 10-2014-0050956 A 한국 공개공보: KR 10-2014-0049278 A
본 발명은 광학용 점착제 조성물 및 이의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 구현예에서, 주쇄에, 히드록시기 및 (메타)아크릴레이트기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 반응성기가 결합된 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하며, 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 트랜스 구조의 몰비는 9:1 내지 10:0인 것인 광학용 점착제 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112017039160809-pat00001
상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112017039160809-pat00002
상기 화학식 2에 있어서,
R3은 히드록시기; H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이다.
상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 2-1 내지 2-3로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
[화학식 2-1]
Figure 112017039160809-pat00003
[화학식 2-2]
Figure 112017039160809-pat00004
[화학식 2-3]
Figure 112017039160809-pat00005
상기 폴리부타디엔 고무의 양말단은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기일 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 3으로 표시되는 것일 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112017039160809-pat00006
상기 화학식 3에 있어서,
R1 및 R2는 각각 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
R3은 히드록시기이며,
R4는 H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
m은 0 몰% 내지 9 몰%이며,
n은 75 몰% 내지 100 몰%이고,
o는 0 몰% 내지 15 몰%이며,
p는 0 몰% 내지 10 몰%이고,
n, o 및 p의 합은 91 몰% 내지 100 몰%이고,
x는 150 이상 20,000 이하의 정수이다.
상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량(Mn)은 1만 내지 100만일 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값(OH value)은 1 mgKOH/g 내지 20 mgKOH/g일 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무는 상기 (메타)아크릴레이트기를 1 중량% 내지 10 중량% 포함할 수 있다.
상기 광학용 점착제 조성물은 광개시제, 광가교제 및 점착증진제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에서, 상기 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름을 제공한다.
상기 점착제층의 유리전이온도(Tg)가 -106 ℃ 내지 -70 ℃일 수 있다.
상기 점착제층의 저장 모듈러스는 -60 ℃에서 2.0 MPa 내지 8.0 MPa이고, -40 ℃에서 0.4 MPa 내지 1.0 MPa이며, 0 ℃에서 0.1 MPa 내지 1.0 MPa이고, 20 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2MPa이며, 60 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2 MPa일 수 있다.
상기 점착제층의 광투과율이 90% 이상일 수 있다.
상기 점착제층의 투습도(WVTR)가 1.0 g/㎡·24hr 내지 50.0 g/㎡·24hr일 수 있다.
상기 광학용 점착제 조성물은 이를 적용한 광학 장치 또는 전자 장치에 우수한 내투습성 및 내화학성을 부여하며, 우수한 장기 내구성, 내변형성 및 광학 특성을 구현할 수 있다.
또한, 상기 광학용 점착 필름은 아크릴계 수지 또는 고무계 수지를 베이스 수지로 한 기존의 점착 필름에 비하여 다양한 전자 장치에 활용이 가능하며, 우수한 부착성 및 장기 신뢰성을 나타낼 수 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 후술하는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다
본 발명의 일 구현예는 적절한 광경화 과정을 통해 화학적인 가교가 가능한 고무를 포함하는 광학용 점착제 조성물을 제공하며, 결과적으로 우수한 장기 내구성, 내투습성, 내변형성 및 내화학성을 확보할 수 있고, 우수한 광학 특성을 제공할 수 있다.
본 발명의 다른 구현예는 고무 자체의 화학적 가교 및 경화가 가능하여 전자 장치에 적용될 때 우수한 내구성 및 내변형성을 구현하고, 광학 특성이 우수하며 점착 성능 및 내투습성이 향상된 광학용 점착 필름을 제공한다.
본 발명의 일 구현예는, 주쇄에, 히드록시기 및 (메타)아크릴레이트기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 반응성기가 결합된 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하며, 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 트랜스 구조의 몰비는 9:1 내지 10:0인 것인 광학용 점착제 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112017039160809-pat00007
본 명세서의 화학식에서 "*" 부분은 구조단위가 주쇄에 연결되는 부위를 의미하거나, 치환기가 결합되는 부위를 의미할 수 있다.
또한, 본 명세서에서 '구조단위'란 폴리부타디엔 고무의 주쇄를 이루는 화학 구조로서, 상기 폴리부타디엔 고무를 중합 형성하기 위한 복수의 단량체 중에서 임의의 하나의 단량체로부터 유래된 화학 구조를 의미한다.
광학용 점착제 조성물은 광학 장치에 사용되는 점착제 조성물로서, 예를 들어, 플렉서블 터치스크린패널 등에 사용되어 외부에서 유입되는 습기와 산소를 차단하는 밀봉 기능을 수행할 수 있다. 이와 같이, 습기 및 산소를 차단하는 성능을 배리어 성능이라 일컫는다. 일반적으로 광학용 점착제는 광학 특성을 위하여 고무가 아닌 아크릴레이트계 수지를 베이스 수지로 사용하는데, 배리어 성능을 향상시키는 측면을 고려하면 고무계 수지가 더 유리할 수 있다.
종래의 점착제에 사용되는 고무는 황(sulfur)을 바탕으로 열경화 또는 광경화를 통해 물리적 가교를 진행하거나, 고무 자체에 할로겐(halogen)을 치환하여 가교를 진행하였다. 또는, 점착제에 고무와 함께 광경화형 단량체를 혼합하여, 광 조사에 의해 상기 광경화형 단량체를 경화시키는 방법으로 고무를 함유시켰다.
점착제에 황(sulfur) 또는 할로겐(halogen) 성분을 이용하는 경우에는 상기 점착제를 최종 전자 제품에 적용했을 때 부식 등의 문제를 야기할 수 있어 응용 범위가 좁으며, 광경화형 단량체를 이용하는 경우에는 고무 자체가 경화에 참여하지 않아 내구성이 좋지 못한 문제가 있었을 뿐만 아니라, 충분히 낮은 정도의 유리전이온도를 구현하기 어려워 유연성을 향상시키는데 한계가 있었다.
이에 대하여, 본 발명의 일 구현예에 따른 상기 광학용 점착제 조성물은 화학적으로 개질된 고무를 이용함으로써 그 자체로 광경화 가능한 특성을 확보할 수 있고, 전술한 문제를 해결하는 이점을 얻을 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 트랜스 구조의 몰비는 9:1 내지 10:0일 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무의 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 트랜스 구조의 몰비는 90:10 내지 98:2, 또는 93:7 내지 98:2일 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조를 약 90몰% 이상 포함할 수 있고, 예를 들어, 약 90몰% 내지 약 100몰% 포함할 수 있고, 예를 들어, 약 90몰% 내지 약 98몰% 포함할 수 있고, 예를 들어, 약 93몰% 내지 약 98몰% 포함할 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조의 몰% 범위는 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 2중 결합을 함유하는 구조단위 전체 100 몰% 중에 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조가 차지하는 몰% 범위를 의미할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조는 고분자 사슬끼리의 팩킹(packing)을 방지하여 결정성 형성을 방해함으로써, 사슬의 유동성(mobility)을 향상시켜 상기 폴리부타디엔 고무의 연성을 높일 수 있으며, 상기 폴리부타디엔 고무의 유리전이온도를 낮추는 역할을 할 수있다.
상기 폴리부타디엔 고무가 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조의 함량을 상기 범위만큼 포함하는 경우, 상기 광학용 점착제 조성물의 유리전이온도(Tg)를 충분히 낮출 수 있고 우수한 점탄성을 확보할 수 있으므로, 상기 광학용 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층의 유연성, 성형성, 장기 내구성 및 내충격성 등이 향상될 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조의 함량이 상기 범위 미만인 경우, 상기 광학용 점착제 조성물의 유리전이온도를 충분히 낮출 수 없으므로, 상기 광학용 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층의 유연성 및 내충격성이 저하되어 성형성이 약화될 수 있으며, 최종 물품에 적용되어 구부렸을 때 변형이 발생할 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무가 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 트랜스 구조를 상기 범위 내로 포함하는 경우, 상기 광학용 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층의 내구성, 인장강도 및 탄성이 향상될 수 있고, 굽힘시 우수한 복원 성능을 확보할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112017039160809-pat00008
상기 폴리부타디엔 고무가 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함하는 경우, 상기 폴리부타디엔 고무의 흐름(flow)성이 향상되고, 우수한 성형성을 구현할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 함께 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 트랜스 구조 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 모두 포함할 수 있고, 이 경우 균일한 점탄성 및 우수한 성형성을 용이하게 확보할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112017039160809-pat00009
상기 화학식 2에 있어서,
R3은 히드록시기; H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 2-1 내지 2-3로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
[화학식 2-1]
Figure 112017039160809-pat00010
[화학식 2-2]
Figure 112017039160809-pat00011
[화학식 2-3]
Figure 112017039160809-pat00012
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 히드록시기를 포함하는 구조단위 및 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 구조단위를 함께 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 화학식 2-1로 표시되는 구조단위와 함께 상기 화학식 2-2로 표시되는 구조단위 및/또는 상기 화학식 2-3으로 표시되는 구조단위를 포함할 수 있다.
상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 폴리부타디엔 고무에 극성을 부여하여 점착력을 향상시킬 수 있으며, 다른 첨가제와의 상용성을 향상시키는 역할을 할 수 있다. 나아가, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 폴리부타디엔 고무의 내구성을 향상시키는 역할을 할 수 있다.
구체적으로, 상기 화학식 2-1로 표시되는 구조단위는 상기 폴리부타디엔 고무에 극성을 부여하여 점착력 향상 및 상용성 향상을 구현할 수 있으며, 상기 화학식 2-2 및 2-3으로 표시되는 구조단위는 상기 광학용 점착제 조성물의 경화시 경화물의 가교 위치를 조절하여 상기 광학용 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층의 내구성을 확보하는 데에 도움을 줄 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무의 양말단은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기일 수 있다.
본 명세서에 있어서, "치환 또는 비치환"은 할로겐기, 니트릴기, 니트로기, 히드록시기, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 아릴옥시기, 티올기, 알킬티오기, 알릴티오기, 술폭시기, 알킬술폭시기, 아릴술폭시기, 실릴기, 붕소기, 아릴아민기, 아랄킬아민기, 알킬아민기, 아릴기, 플루오레닐기, 카바졸기, 아릴알킬기, 아릴알케닐기, 헤테로고리기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환되었거나, 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, "알킬기"는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 16, 또는 탄소수 1 내지 10일 수 있다. 구체적으로, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, iso-펜틸기, neo-펜틸기, n-헥실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, "알킬렌기"는 상기 2가의 알킬기를 의미할 수 있으며, 상기 알킬기에서 결합기가 하나 더 추가된 것을 의미할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112017039160809-pat00013
상기 화학식 3에 있어서,
R1 및 R2는 각각 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
R3은 히드록시기이며,
R4는 H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
m은 0 몰% 내지 9 몰%이며,
n은 75 몰% 내지 100 몰%이고,
o는 0 몰% 내지 15 몰%이며,
p는 0 몰% 내지 10 몰%이고,
n, o 및 p의 합은 91 몰% 내지 100 몰%이고,
x는 150 이상 20,000 이하의 정수이다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량(Mn)은 약 1만 내지 약 100만일 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량(Mn)은 약 10만 내지 약 50만일 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무가 상기 범위의 수평균분자량(Mn)을 유지함으로써 광경화 이후의 가교 구조에 의한 물리적 얽힘 영역(physical entanglement site)을 충분히 확보할 수 있고, 유무기 입자가 고르게 분포될 수 있는 사이트(site)들을 제공하여 우수한 상용성을 확보할 수 있다. 또한, 상기 광학용 점착제 조성물은 상기 범위의 수평균분자량(Mn)을 갖는 상기 폴리부타디엔 고무를 베이스 성분으로 이용함으로써 적절한 점도를 확보하여 점착 필름 또는 점착 시트로 제조할 때 디웨팅(dewetting)과 같은 문제 없이 우수한 코팅성을 나타낼 수 있다. 상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량이 상기 범위 미만인 경우, 내구성 및 내충격성이 저하될 수 있다. 상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량이 상기 범위 초과인 경우, 공정성 및 유연성이 저하될 수 있고, 첨가제의 균일한 분산이 어려워 안정적인 물성 구현이 어려운 문제가 발생할 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 광학용 점착제 조성물은 화학적으로 개질된 상기 폴리부타디엔 고무를 이용함으로써 그 자체로 광경화 가능한 특성을 확보하고 우수한 내구성, 내투습성, 유연성 및 내화학성 등을 구현할 수 있다.
구체적으로, 화학적으로 개질된 상기 폴리부타디엔 고무는 히드록시기 및 (메타)아크릴레이트기를 포함할 수 있다.
나아가, 상기 폴리부타디엔 고무는 상기 히드록시기 및 상기 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 동시에, 카르복시기, 아민기, 알데히드기 등을 포함하지 않음으로써, 상기 광학용 점착제 조성물이 최종 물품에 적용되는 경우, 부식 방지 효과가 향상되고, 점착력 저하가 방지되며, 우수한 장기 내구성을 구현할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 히드록시기는 극성 작용기로서, 다른 극성 첨가제와의 상용성을 향상시키고, 점착력을 향상시키는 효과를 용이하게 확보하는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값(OH value)은 약 1 mgKOH/g 내지 약 20 mgKOH/g 일 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값(OH value)은 약 3 mgKOH/g 내지 약 10 mgKOH/g 일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무 1분자에서의 수산기의 평균수는 1 내지 10, 구체적으로, 2 내지 5일 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값이 상기 범위를 유지함으로써, 유리전이온도가 지나친 상승없이 적절한 수준으로 유지할수 있어, 우수한 점착력, 공정성 및 내구성을 구현할 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값이 상기 범위 미만인 경우, 점착력이 저하되고, 내구성이 약해질 수 있다. 상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값이 상기 범위 초과인 경우, 유리전이온도가 과도하게 상승하여 결과적으로 저장 모듈러스값이 상승하여 변형이 일어나기 쉽고 내투습성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.
나아가, 상기 히드록시기는 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 화학식 1의 시스 또는 트랜스 구조단위, 또는 상기 화학식 4의 구조단위 각각의 이중결합에 도입될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 (메타)아크릴레이트기는 가교역할을 하여, 내구성, 내충격성 및 성형성을 향상시키고, 안정적인 메트릭스를 확보하여 우수한 치수안정성을 용이하게 확보하는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리부타디엔 고무는 아크릴레이트기를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리부타디엔 고무가 아크릴레이트기를 포함하는 경우, 상기 폴리부타디엔 고무가 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 경우에 비해, 유리전이온도의 상승 폭이 적어 점탄성이 우수하고, 최종 물품에 적용된 후, 구부릴 경우, 변형에 대한 복원 성능이 더 우수할 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무는 상기 (메타)아크릴레이트기를 약 1중량% 내지 약 10중량% 포함할 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 (메타)아크릴레이트기의 중량%가 상기 범위를 유지함으로써, 우수한 가교밀도 및 점탄성을 구현하는 동시에, 내구성, 내충격성 및 복원성을 향상시키는 효과를 용이하게 확보할 수 있다. 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 (메타)아크릴레이트기의 중량%가 상기 미만인 경우, 가교밀도가 저하되어, 내구성이 약해질 수 있으며, 복원성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 (메타)아크릴레이트기의 함량이 상기 중량% 범위 초과인 경우, 우연성이 저하되어 성형성이 약화될 수 있다.
나아가, 상기 (메타)아크릴레이트기는 상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 화학식 1의 시스 또는 트랜스 구조단위, 또는 상기 화학식 4의 구조단위 각각의 이중결합에 도입될 수 있다.
상기 폴리부타디엔 고무에 포함된 상기 히드록시기 및 상기 (메타)아크릴레이트기는 상기 화학식 1의 시스 또는 트랜스 구조단위, 또는 상기 화학식 4의 구조단위 각각의 이중결합 내에 생성되어 관능기를 형성한다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학용 점착제 조성물은 광개시제, 광가교제 및 점착증진제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
상기 광개시제는 광경화를 유도하는 역할을 할 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되지는 않으나, 예를 들어, 알파-히드록시케톤류, 페닐글리옥실레이트류, 벤질디메틸-케탈류, 알파-아미노케톤류, 모노아실포스핀류, 비스아실포스핀류, 포스핀옥사이드류, 메탈로센류 및 아이오도늄염류로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 광가교제는 광이 조사된 경우, 상기 폴리부타디엔 고무 사이의 가교를 유도하는 역할을 하며, 그 종류가 특별히 제한되지는 않으나, 예를 들어, 2관능 이상의 아크릴레이트계 및 벤조페논계로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 광학용 점착제 조성물은 고무 성분을 포함하므로 투습성이 낮아 우수한 배리어 성능을 구현할 수 있지만, 충분한 박리력 및 부착력을 확보하기 어려운 측면이 있다. 따라서, 필요에 따라 점착증진제를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착증진제는 수소화된 디사이클로펜타디엔계 화합물, 수소화된 테르펜계 화합물, 수소화된 로진계 화합물, 수소화된 방향족계 화합물 및 수소화된 석유계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 점착증진제는 수소화된 구조를 갖는 화합물을 포함함으로써 투명성을 구현하는 데 유리할 수 있고, 열경화 시에 열에너지의 영향을 적게 받아 우수한 부착력 및 박리력을 구현할 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착증진제는 수소화된 디사이클로펜타디엔계 화합물 또는 수소화된 로진계 화합물을 포함할 수 있고, 이 경우 특히 택(tack) 성능 부여 및 광투과율 및 헤이즈 등의 광학 특성이 향상되는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 구현예는, 상기 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름을 제공한다.
상기 광학용 점착 필름은 디스플레이, 전자 장치, 유기발광소자(OLED) 등의 광학 장치에 적용되는 것으로서, 상기 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하는 점착제층을 통해 우수한 광학 특성 및 배리어 성능을 동시에 구현할 수 있다.
상기 점착제층은 상기 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하며, 상기 경화물은 상기 광학용 점착제 조성물에 빛에너지를 가하여 경화시킴으로써 제조되는 광경화물일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층은 유리전이온도(Tg)가 약 -106 ℃ 내지 약 -70 ℃일 수 있다.
상기 점착제층의 유리전이온도가 상기 범위를 유지함으로써, 우수한 유연성 및 공정성을 구현할 수 있고, 상기 광학용 점착 필름이 적용된 플렉서블(flexible) 장치의 굽힘 등의 물리적 구동에서 치수 안정성 및 장기 내구성을 극대화 할 수 있다. 구체적으로, 상기 점착제층은 상기 광학용 점착제 조성물에 포함된 상기 폴리부타디엔 고무가 상기 화학식 1의 시스 구조단위를 90 몰% 이상 포함하여 적절한 유리전이온도를 유지하여 우수한 유연성을 구현할 수 있고, 결과적으로 향상된 내구성, 내투습성, 내변형성 및 광학특성을 유지할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층의 저장 모듈러스는 -60 ℃에서 2.0 MPa 내지 8.0 MPa이고, -40 ℃에서 0.4 MPa 내지 1.0 MPa이며, 0 ℃에서 0.1 MPa 내지 1.0 MPa이고, 20 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2MPa이며, 60 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2 MPa일 수 있다.
상기 점착제층의 저장 모듈러스가 각각의 온도에서 상기 범위를 유지함으로써, 최종 제품에 상기 점착제층을 적용하더라도, 변형이 적고 치수안정성이 높은 이점이 있고, 구부림 등에 대한 복원성 및 장기 내구성이 향상될 수 있다. 나아가, 상온 이상에서, 저장탄성률 범위에 큰 차이가 없어 제품의 변형이 적고, 우수한 물성 신뢰도를 구현할 수 있다. 상기 점착제층의 저장 모듈러스가 각각의 온도에서 상기 범위를 벗어나는 경우, 온도에 따른 변형이 발생하여 제품의 신뢰성이 저하될 수 있고 내구성이 약화될 수 있으며, 상기 점착층이 최종 제품에 적용되는 경우, 영구변형이 발생하여 플렉서블(flexible)한 물성의 구현이 어려울 수 있다.
상기 점착제층은 상기 광학용 점착제 조성물로부터 제조되어 기재에 대한 박리력이 높고, 투습성이 낮은 특성을 나타낼 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층은 유리 기재에 대한 박리력이 약 800 g/in 이상일 수 있고, 구체적으로 약 900 g/in 내지 약 1500 g/in일 수 있고, 보다 구체적으로 약 960 g/in 내지 약 1300 g/in, 또는 약 1050 g/in 내지 약 1300 g/in 일 수 있다.
이와 동시에, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층의 투습도(WVTR: Water Vapor Transmission Rate)는 약 1.0 g/㎡·24hr 내지 약 50.0 g/㎡·24hr일 수 있고, 예를 들어, 약 10g/㎡·24hr 내지 약 45g/㎡·24hr, 또는 약 30g/㎡·24hr 내지 약 45g/㎡·24hr 일 수 있다. 상기 점착제층은 상기 광학용 점착제 조성물을 통하여 상기 범위의 박리력 및 투습도를 동시에 나타낼 수 있고, 그 결과 상기 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름이 디스플레이 또는 전자 장치 등에 적용되어 우수한 배리어 성능 및 내구성을 동시에 나타낼 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층의 광투과율은 약 90% 이상, 예를 들어 약 92% 이상일 수 있다. 나아가, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 점착제층의 헤이즈는 약 1% 미만, 예를 들어 약 0.85% 미만일 수 있다.
상기 점착제층이 상기 범위의 광투과율 및 헤이즈를 만족함으로써 디스플레이 또는 전자 장치의 시인성이 요구되는 부품에 유용하게 적용될 수 있고, 우수한 광학 특성을 바탕으로 시인성을 향상시킬 수 있다.
상기 점착제층은 상기 광학용 점착제 조성물로부터 형성되며, 저장 모듈러스, 투습도, 광투과율 및 헤이즈가 모두 전술한 각각의 범위 동시에 만족하는 경우 가장 바람직할 수 있다. 이는 상기 광학용 점착제 조성물 내에 포함되어 있는 상기 폴리부타디엔 고무의 상기 화학식 1의 시스 구조단위의 몰% 비율, 수산기 값 및 상기 (메타)아크릴레이트기의 중량% 등을 동시에 제어함으로써 구현될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
< 제조예 >
제조예 1
1단계: 질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 2 L 반응기에 부타디엔 고무(cis 함량 97 몰%, BR1208, LG Chem)를 80 ℃에서 6 시간 동안 톨루엔에 14 중량% 로 녹인 후, 35 ℃로 낮추었다. 다음으로, 상기 부타디엔 고무 100 중량부에 대하여 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid) 10 중량부를 투입한 후 35 ℃에서 4 시간 동안 교반하였다. 이어서, 상기 고무 100 중량부에 대하여 1 N 농도의 염산 수용액을 10 중량부 투입하였고, 35 ℃에서 1시간 동안 교반한 후 90 ℃로 승온하여 1시간 동안 교반하였다.
2단계: 이어서, 상기 고무 100 중량부에 대하여 아크릴로옥시에틸 이소시아네이트(acryloyloxy ethyl isocyanate) 3 중량부 및 디부틸틴라우레이트(DBTDL: dibutyltin dilaurate) 200 ppm을 넣은 후 80 ℃에서 3 시간 동안 유지하였다.
이로써, 상기 화학식 3의 구조이며, 수산기값이 3.86 mgKOH/g이었고, 아크릴레이트기를 3 중량% 포함하는 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
제조예 2
1단계: 제조예 1의 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid)이 15 중량부 투입된 것을 제외하고 제조예 1과 동일한 조건 및 조성으로 공정을 진행하였다.
2단계: 제조예 1의 2단계와 동일
이로써, 상기 화학식 3의 구조이며, 수산기값이 5.79 mgKOH/g이고, 아크릴레이트기를 3 중량% 포함하는 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
제조예 3
1단계: 제조예 1의 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid)이 20 중량부 투입된 것을 제외하고 제조예 1과 동일한 조건 및 조성으로 공정을 진행하였다.
2단계: 제조예 1의 2단계와 동일
이로써, 상기 화학식 3의 구조이며, 수산기값이 7.84 mgKOH/g이고, 아크릴레이트기를 3 중량% 포함하는 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
제조예 4
1단계: 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid) 20 중량부 및 아크릴로옥시에틸 이소시아네이트(acryloyloxy ethyl isocyanate) 3 중량부를 함께 투입된 것을 제외하고 제조예 1과 동일한 조건 및 조성으로 공정을 진행하였다.
2단계: 제조예 1의 2단계와 동일
이로써, 상기 화학식 3의 구조이며, 수산기값이 7.84 mgKOH/g이고, 아크릴레이트기를 6 중량% 포함하는 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
제조예 5
질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 2L 반응기에 부타디엔 고무(cis 함량 97 몰%, BR1208, LGC)를 80 ℃에서 6 시간 동안 톨루엔에 14 중량% 로 녹인 후, 35 ℃로 낮추었다. 다음으로, 상기 부타디엔 고무 100 중량부에 대하여 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid) 10 중량부를 투입한 후 35 ℃에서 4 시간 동안 교반하였다. 이어서, 상기 고무 100 중량부에 대하여 1 N 농도의 염산 수용액을 10 중량부 투입하였고, 35 ℃에서 1시간 동안 교반한 후 90 ℃로 승온하여 1 시간 동안 교반하였다.
이로써, 수산기값이 3.86 mgKOH/g인 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
제조예 6
1단계: 질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 2 L 반응기에 부타디엔 고무(cis 함량 36 몰%, LG Chem)를 80 ℃에서 6 시간 동안 톨루엔에 14 중량% 로 녹인 후, 35 ℃로 낮추었다. 다음으로, 상기 부타디엔 고무 100 중량부에 대하여 과산화물(mCPBA: meta-Chloroperoxybenzoic acid) 10 중량부를 투입한 후 35 ℃에서 4 시간 동안 교반하였다. 이어서, 상기 고무 100 중량부에 대하여 1 N 농도의 염산 수용액을 10 중량부 투입하였고, 35 ℃에서 1 시간 동안 교반한 후 90 ℃로 승온하여 1 시간 동안 교반하였다.
2단계: 이어서, 상기 고무 100중량부에 대하여 아크릴로옥시에틸 이소시아네이트(acryloyloxy ethyl isocyanate) 3 중량부 및 디부틸틴디라우레이트(DBTDL: dibutyltin dilaurate) 200 ppm을 넣은 후 80 ℃에서 3 시간 동안 유지하였다.
이로써, 수산기값이 3.86 mgKOH/g이고, 아크릴레이트기를 3 중량% 포함하는 폴리부타디엔 고무를 제조하였다.
cis 함량(mol%) 수산기 값(mgKOH/g) 아크릴레이트기(중량%)
제조예 1 97 3.86 3
제조예 2 97 5.79 3
제조예 3 97 7.84 3
제조예 4 97 7.84 6
제조예 5 97 3.86 0
제조예 6 36 3.86 3
< 실시예 및 비교예 >
실시예1
상기 제조예 1의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 광가교제(Irgacure 184) 0.5 중량부 및 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
실시예2
상기 제조예 2의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 광가교제(Irgacure 184) 0.5 중량부 및 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
실시예3
상기 제조예 3의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 광가교제(Irgacure 184) 0.5 중량부 및 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
실시예4
상기 제조예 4의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 광가교제(Irgacure 184) 0.5 중량부 및 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
비교예 1
상기 제조예 5의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
비교예 2
상기 제조예 6의 폴리부타디엔 고무를 포함하고, 상기 폴리부타디엔 고무 100 중량부 기준, 광가교제(Irgacure 184) 0.5 중량부 및 점착증진제(ARAKAWA Chem, PE-590) 10 중량부를 혼합하여 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
비교예3
2-에틸헥실아크릴레이트(2-ethylhexyl acrylate), 이소보닐아크릴레이트(isobonyl acrylate) 및 하이드로부틸아크릴레이트(hydrobutyl acrylate)를 각각 70 중량%, 10 중량% 및 20 중량% 포함한 광경화성 수지에, 상기 광경화성 수지 100 중량부 기준, 광개시제(Irgacure 651) 0.3 중량부, 다관능아크릴레이트(Arkema, HDDA) 0.03 중량부 및 우레탄아크릴레이트 올리고머(LGH, GD-300) 0.3 중량부를 포함하는 광학용 점착제 조성물을 제조하였다.
<평가>
상기 실시예의 점착제 조성물 및 상기 비교예 1의 광학용 점착제 조성물은 필름 형상으로 도포한 후 120 ℃의 온도에서 건조한 후 자외선을 조사하여, 3000 mJ/㎠의 조건으로 광경화 하여 25 ㎛ 두께의 점착제층을 제조하였다.
상기 비교예 2의 경우에는 350 nm의 파장을 이용해 1500 mJ/㎠의 조건으로 광경화 시켜 25 ㎛ 두께의 점착제층을 제조하였다.
실험예 1: 투습도의 측정
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각에 대하여, 온도 38 ℃, 상대 습도 90 %의 조건에서 컵에 일정량의 물을 담근 후에 그 위에 상기 점착제층을 로딩(loading)하여 캡핑(capping)한 뒤 24 시간 동안 증발하여 날아간 물의 감량된 무게를 이용하여, 측정 장치(Labthink TSY-T3)로 투습도(WVTR)를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 기재하였다.
실험예 2: 박리력의 측정
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각에 대하여, UTM(Universal Testing Machine)을 이용하여 300 mm/min 박리속도에서 유리 기재에 대한 박리력을 측정하였고, 그 결과는 하기 표 3에 기재된 바와 같다.
실험예 3: 광학 특성의 측정
1) 광투과율(T)의 측정(%)
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각을 투명한 유리 기재에 부착한 후 20 ℃ 내지 30 ℃의 상온 조건에서 자외선-가시광선 분광기(UV-Vis spectrometer)를 이용하여 광투과율을 측정하였고, 그 결과는 하기 표 3에 기재된 바와 같다.
2) 헤이즈(H)의 측정(%)
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각을 투명한 유리 기재에 부착한 후 20 ℃ 내지 30 ℃의 상온 조건에서 Haze meter (BYK社) 장치로 헤이즈를 측정하였고, 그 결과는 하기 표 3에 기재된 바와 같다.
실험예 4: 저장 탄성률(G) 측정
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각에 대하여, 동적 점탄성을 JIS K7244-4에 준하여 측정(주파수 1 Hz, 승온 속도 2 ℃/분)하며 전단모드(shear mode)에서의 -60℃, -40℃, 0℃, 20℃ 및 60℃에서 저장 탄성률 G'를 산출하여 그 결과를 표 2에 기재하였다.
실험예 5: 내구성의 측정
상기 실시예 및 비교예의 점착제층 각각에 대하여, Barrier COP(cyclo-olefin polymer) film/점착제층/유리 기재의 구조를 형성하고, 이를 85℃의 온도 및 85%의 상대 습도 조건 하에서 500 시간 동안 방치한 후 기포의 발생 정도를 관측하여 기포 발생, 황변, 기재에서의 들뜸 여부에 따라 내구성을 평가하였고, 기포가 전혀 발생하지 않고, 황변 현상이 없으며, 들뜸 현상이 없는 경우를 우수(○)로 표기하였고, 이 중 어느 하나라도 만족하지 못하는 경우를 미흡(×)으로 표 3에 표기하였다.
Cis
(mol%)		 수산기 값
(mgKOH/g)		 아크릴레이트기
(중량%)		 점착증진제
(중량부)		 저장탄성률(MPa)
-60℃ -40℃ 0℃ 20℃ 60℃
실시예 1 97 3.86 3 10 4.58 0.459 0.168 0.122 0.088
실시예 2 5.79 3 10 4.96 0.459 0.173 0.119 0.085
실시예 3 7.84 3 10 5.31 0.459 0.175 0.115 0.079
실시예 4 7.84 6 10 7.94 0.502 0.211 0.114 0.075
비교예 1 3.86 0 10 4.48 0.401 0.166 0.122 0.079
비교예 2 36 3.86 3 10 38.2 10.04 0.433 0.490 0.320
비교예 3 아크릴 점착 수지 0 218 29.6 0.066 0.039 0.028
내구성 투습도
(g/㎡·24hr)		 박리력
(g/in)		 광학 특성 (%)
광투과율 헤이즈
실시예 1 ○ 38 970 92.3 0.81
실시예 2 ○ 38 1100 92.4 0.83
실시예 3 ○ 41 1250 92.3 0.82
실시예 4 ○ 39 1150 92.3 0.80
비교예 1 × 38 950 92.4 0.80
비교예 2 ○ 52 1090 92.1 0.93
비교예 3 ○ 185 1600 92.8 0.31
실시예 1 내지 4에 따라 제조된 광학용 점착 필름은 저장 탄성률이 -60 ℃에서 2.0 MPa 내지 8.0 MPa이고, -40 ℃에서 0.4 MPa 내지 1.0 MPa이며, 0 ℃에서 0.1 MPa 내지 1.0 MPa이고, 20 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2MPa이며, 60 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2 MPa의 값을 유지함으로써, 공정 및 사용에 따른 변형을 줄이고, 내구성 및 치수안정성을 극대화 할 수 있음을 확인할 수 있다. 뿐만 아니라, 투과율이 92% 이상이고, 헤이즈값이 0.9% 미만이며, 유리 박리력이 900 g/in 이상이고, 투습도가 50 g/㎡·24hr 미만인 것으로 플렉서블 장치에 적용되는 광학용 점착 필름에 최적화되어 있음을 확인할 수 있다.
반면, 비교예 1은 아크릴레이트기를 포함하지 않아, 내구성이 현저히 악화됨을 확인할 수 있다.
비교예 2는 cis 36%인 부타디엔 고무를 사용하여 저장 탄성률이 - 60℃에서 2.0 MPa 내지 6.0 MPa, -40 ℃에서 0.4 MPa 내지 1.0 MPa 범위를 벗어나, 저온에서의 탄성율이 낮아지는 특성을 나타내었다. 이로 인하여, 비교예 2는 저온에서 접었다 펴는 (folding) 과정에서 기재와의 밀착성이 현저히 떨어지는 현상을 관찰할 수 있었다.
비교예 3은 아크릴레이트계 수지를 이용한 점착제층으로, 저장 탄성률 범위가 현저히 차이나, 최종 제품의 적용시 제품의 심각한 변형이 발생할 수 있음을 확인할 수 있다.

Claims (14)

  1. 주쇄에, 히드록시기 및 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 반응성기가 결합된 폴리부타디엔 고무를 포함하고,
    상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하며, 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 시스 구조와 트랜스 구조의 몰비는 9:1 내지 10:0인 것인 광학용 점착제 조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112019117068298-pat00014
    .
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 더 포함하는 것인 광학용 점착제 조성물:
    [화학식 2]
    Figure 112017039160809-pat00015

    상기 화학식 2에 있어서,
    R3은 히드록시기; H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
    R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
    R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이다.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 2-1 내지 2-3으로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 포함하는 것인 광학용 점착제 조성물:
    [화학식 2-1]
    Figure 112017039160809-pat00016

    [화학식 2-2]
    Figure 112017039160809-pat00017

    [화학식 2-3]
    Figure 112017039160809-pat00018
    .
  4. 제1항에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무의 양말단은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기인 것인 광학용 점착제 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무는 하기 화학식 3으로 표시되는 것인 광학용 점착제 조성물:
    [화학식 3]
    Figure 112017039160809-pat00019

    상기 화학식 3에 있어서,
    R1 및 R2는 각각 수소; 또는 탄소수 1 내지 16의 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
    R3은 히드록시기이며,
    R4는 H2C=C(R5)-COO-*; 또는 H2C=C(R6)-COO-R7-NH-COO-* 이고,
    R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
    R7은 직접결합; 또는 탄소수 1 내지 10의 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
    m은 0 몰% 내지 9 몰%이며,
    n은 75 몰% 내지 100 몰%이고,
    o는 0 몰% 내지 15 몰%이며,
    p는 0 몰% 내지 10 몰%이고,
    n, o 및 p의 합은 91 몰% 내지 100 몰%이고,
    x는 150 이상 20,000 이하의 정수이다.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무의 수평균분자량은 1만 내지 100만인 광학용 점착제 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무의 수산기 값은 1 mgKOH/g 내지 20 mgKOH/g인 광학용 점착제 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 폴리부타디엔 고무는 상기 (메타)아크릴레이트기를 1 중량% 내지 10 중량% 포함하는 광학용 점착제 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 광학용 점착제 조성물은 광개시제, 광가교제 및 점착증진제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 더 포함하는 광학용 점착제 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 광학용 점착제 조성물의 광경화물을 포함하는 점착제층을 포함하는 광학용 점착 필름.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 점착제층의 유리전이온도는 -106 ℃ 내지 -70 ℃인 광학용 점착 필름.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 점착제층의 저장 모듈러스는 -60 ℃에서 2.0 MPa 내지 8.0 MPa이고, -40 ℃에서 0.4 MPa 내지 1.0 MPa이며, 0 ℃에서 0.1 MPa 내지 1.0 MPa이고, 20 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2MPa이며, 60 ℃에서 0.05 MPa 내지 0.2 MPa인 광학용 점착 필름.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 점착제층의 광투과율은 90% 이상인 광학용 점착 필름.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 점착제층의 투습도는 1.0 g/㎡·24hr 내지 50.0 g/㎡·24hr인 광학용 점착 필름.
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