JP2019506477A - 光学用粘着剤組成物及びこの光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルム - Google Patents
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Abstract
本明細書は、主鎖に、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリレート基からなる群より選択される１以上を含む反応性基が結合されたポリブタジエンゴムを含む光学用粘着剤組成物及び前記光学用粘着剤組成物の光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルムを提供する。
Description
本明細書は２０１６年４月２２日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１６−００４９６３０号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本発明に含まれる。
本発明は、光学用粘着剤組成物及びこの光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルムに関する。
パッケージングされた電子素子または透明導電性フィルム等を含むタッチ素材は、卓越した作動のために優れたタッチ感度を必要とする。さらには、最近、フレキシブルタッチスクリーンパネルのような装置の耐久性、柔軟性及び光学特性を向上させるための粘着剤組成物の開発に多くの関心が集まっている。
一般に、フレキシブルタッチスクリーンパネル等に用いられる粘着剤は、柔軟性、透明性及び視認性等の光学特性を確保しなければならない。このために、従来はアクリル系樹脂をベース樹脂として含む粘着剤が一般的に用いられたが、これは、タッチ敏感度の側面で補完が必要であり、これと共に好適な貯蔵モジュラス及び光学特性を確保することが重要な問題である。
また、アクリル系樹脂の短所を補完するためにゴム系樹脂を用いる粘着剤も開発されており、例えば、大韓民国公開特許公報第２０１４−００５０９５６号にはゴム系重合体を含む粘着剤組成物が開示されており、大韓民国公開特許公報第２０１４−００４９２７８号にも透湿度を下げるためにブチルゴム系重合体を用いることが開示されている。
但し、ゴム系樹脂をベース樹脂として含む粘着剤の場合は、硬化過程を通じて化学的架橋が難しく、物理的架橋を利用しなければならず、その結果、十分な耐久性を確保するための硬化または架橋構造の形成が難しいという問題点がある。また、このために最終製品の応用が制限的である可能性もある。
本発明は、光学用粘着剤組成物及びこの光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルムを提供する。
本発明の一実現例において、主鎖に、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリレート基からなる群より選択される１以上を含む反応性基が結合されたポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴムは下記化学式１で表される構造単位を含み、下記化学式１で表される構造単位のシス構造とトランス構造のモル比は９：１〜１０：０である光学用粘着剤組成物を提供する。
前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式２で表される構造単位をさらに含んでもよい。
前記化学式２において、
Ｒ３はヒドロキシ基；Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基である。
Ｒ３はヒドロキシ基；Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基である。
前記化学式２で表される構造単位は、下記化学式２−１〜２−３で表される構造単位のうち少なくとも一つを含んでもよい。
前記ポリブタジエンゴムの両末端は、各々独立して水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であってもよい。
前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式３で表されるものであってもよい。
前記化学式３において、
Ｒ１及びＲ２は各々水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ３はヒドロキシ基であり、
Ｒ４はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基であり、
ｍは０モル％〜９モル％であり、
ｎは７５モル％〜１００モル％であり、
ｏは０モル％〜１５モル％であり、
ｐは０モル％〜１０モル％であり、
ｎ、ｏ及びｐの和は９１モル％〜１００モル％であり、
ｘは１５０以上２０，０００以下の整数である。
Ｒ１及びＲ２は各々水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ３はヒドロキシ基であり、
Ｒ４はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基であり、
ｍは０モル％〜９モル％であり、
ｎは７５モル％〜１００モル％であり、
ｏは０モル％〜１５モル％であり、
ｐは０モル％〜１０モル％であり、
ｎ、ｏ及びｐの和は９１モル％〜１００モル％であり、
ｘは１５０以上２０，０００以下の整数である。
前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量（Ｍｎ）は１万〜１００万であってもよい。
前記ポリブタジエンゴムの水酸基値（ＯＨ ｖａｌｕｅ）は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
前記ポリブタジエンゴムは、前記（メタ）アクリレート基を１重量％〜１０重量％含んでもよい。
前記光学用粘着剤組成物は、光開始剤、光架橋剤及び粘着増進剤からなる群より選択された一つ以上をさらに含んでもよい。
本発明の他の実現例において、前記光学用粘着剤組成物の光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルムを提供する。
前記粘着剤層のガラス転移温度（Ｔｇ）は−１０６℃〜−７０℃であってもよい。
前記粘着剤層の貯蔵モジュラスは、−６０℃で２．０ＭＰａ〜８．０ＭＰａであり、−４０℃で０．４ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、０℃で０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、２０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであり、６０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであってもよい。
前記粘着剤層の光透過率は９０％以上であってもよい。
前記粘着剤層の透湿度（ＷＶＴＲ）は、１．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ〜５０．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであってもよい。
前記光学用粘着剤組成物は、これを適用した光学装置または電子装置に優れた耐透湿性及び耐化学性を付与し、優れた長期耐久性、耐変形性及び光学特性を実現することができる。
また、前記光学用粘着フィルムは、アクリル系樹脂またはゴム系樹脂をベース樹脂にした既存の粘着フィルムに比べて、様々な電子装置に活用可能であり、優れた付着性及び長期信頼性を示すことができる。
本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は後述する実施例を参照すればより明らかになるものである、但し、本発明は以下にて開示される実施例に限定されるものではなく互いに異なる様々な形態に実現されることができ、本実施例は単に本発明の開示が完全になるようにし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであって、本発明は請求項の範疇によって定義されるのみである。
本発明の一実現例は、適切な光硬化過程を通じて化学的な架橋が可能なゴムを含む光学用粘着剤組成物を提供し、その結果、優れた長期耐久性、耐透湿性、耐変形性及び耐化学性を確保することができ、優れた光学特性を提供することができる。
本発明の他の実現例は、ゴム自体の化学的架橋及び硬化が可能であって、電子装置に適用される時に優れた耐久性及び耐変形性を実現し、光学特性に優れ、粘着性能及び耐透湿性が向上した光学用粘着フィルムを提供する。
本発明の一実現例は、主鎖に、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリレート基からなる群より選択される１以上を含む反応性基が結合されたポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴムは下記化学式１で表される構造単位を含み、下記化学式１で表される構造単位のシス構造とトランス構造のモル比は９：１〜１０：０である光学用粘着剤組成物を提供する。
本明細書の化学式において、「＊」部分は、構造単位が主鎖に連結される部位を意味するか、または置換基が結合される部位を意味する。
また、本明細書において、「構造単位」とは、ポリブタジエンゴムの主鎖をなす化学構造であって、前記ポリブタジエンゴムを重合形成するための複数の単量体のうち任意の一つの単量体から由来した化学構造を意味する。
光学用粘着剤組成物は、光学装置に用いられる粘着剤組成物であり、例えば、フレキシブルタッチスクリーンパネル等に用いられて、外部から流入される湿気と酸素を遮断する密封機能を果たすことができる。このように、湿気及び酸素を遮断する性能をバリア性能と称する。一般に、光学用粘着剤は光学特性のためにゴムでないアクリレート系樹脂をベース樹脂として用い、バリア性能を向上させる側面を考慮すれば、ゴム系樹脂がさらに有利である。
従来の粘着剤に用いられるゴムは硫黄（ｓｕｌｆｕｒ）をベースに熱硬化または光硬化によって物理的架橋を行うか、またはゴム自体にハロゲン（ｈａｌｏｇｅｎ）を置換して架橋を行った。または、粘着剤にゴムと共に光硬化型単量体を混合して、光照射によって前記光硬化型単量体を硬化させる方法によりゴムを含有させた。
粘着剤に硫黄（ｓｕｌｆｕｒ）またはハロゲン（ｈａｌｏｇｅｎ）成分を用いる場合には、前記粘着剤を最終電子製品に適用した時、腐食等の問題をもたらしうるために応用範囲が狭く、光硬化型単量体を用いる場合には、ゴム自体が硬化に参與しないために耐久性が良くないという問題があるだけでなく、十分に低い程度のガラス転移温度を実現し難いために柔軟性を向上させるのに限界があった。
これに対し、本発明の一実現例による前記光学用粘着剤組成物は、化学的に改質されたゴムを用いることにより、その自体で光硬化可能な特性を確保し、前述した問題を解決するという利点を得ることができる。
本発明の一実施態様によれば、前記化学式１で表される構造単位のシス構造とトランス構造のモル比は９：１〜１０：０である。具体的には、本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムの前記化学式１で表される構造単位のシス構造とトランス構造のモル比は９０：１０〜９８：２、または９３：７〜９８：２であってもよい。
具体的には、本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムは、前記化学式１で表される構造単位のシス構造を約９０モル％以上含み、例えば、約９０モル％〜約１００モル％含むことができて、例えば、約９０モル％〜約９８モル％含むことができて、例えば、約９３モル％〜約９８モル％含むことができる。
前記ポリブタジエンゴムに含まれた化学式１で表される構造単位のシス構造のモル％範囲は、前記ポリブタジエンゴムに含まれた二重結合を有する全体構造単位の１００モル％中の前記化学式１で表される構造単位のシス構造が占めるモル％範囲を意味する。具体的には、前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記化学式１で表される構造単位のシス構造は、高分子鎖同士のパッキング（ｐａｃｋｉｎｇ）を防止して結晶性の形成を妨害することにより、鎖の流動性（ｍｏｂｉｌｉｔｙ）を向上させて前記ポリブタジエンゴムの軟性を高めることができて、前記ポリブタジエンゴムのガラス転移温度を下げる役割をすることができる。
前記ポリブタジエンゴムが前記化学式１で表される構造単位のシス構造の含量を前記範囲だけ含む場合、前記光学用粘着剤組成物のガラス転移温度（Ｔｇ）を十分に下げ、優れた粘弾性を確保することができるため、前記光学用粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層の柔軟性、成形性、長期耐久性及び耐衝撃性等が向上することができる。
前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記化学式１で表される構造単位のシス構造の含量が前記範囲未満である場合には、前記光学用粘着剤組成物のガラス転移温度を十分に下げることができないため、前記光学用粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層の柔軟性及び耐衝撃性が低下して成形性が弱化されことができて、最終物品に適用されて曲げた時に変形が発生することができる。
前記ポリブタジエンゴムが前記化学式１で表される構造単位のトランス構造を前記範囲内で含む場合、前記光学用粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層の耐久性、引張強度及び弾性が向上し、曲げ時に優れた復元性能を確保することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式４で表される構造単位をさらに含むことができる。
前記ポリブタジエンゴムが前記化学式４で表される構造単位をさらに含む場合、前記ポリブタジエンゴムのフロー（ｆｌｏｗ）性が向上し、優れた成形性を実現することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムは、前記化学式１で表される構造単位のシス構造と共に前記化学式１で表される構造単位のトランス構造及び前記化学式４で表される構造単位を全て含むことができ、この場合、均一な粘弾性及び優れた成形性を容易に確保することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式２で表される構造単位をさらに含むことができる。
前記化学式２において、
Ｒ３はヒドロキシ基；Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基である。
Ｒ３はヒドロキシ基；Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基である。
本発明の一実施態様によれば、前記化学式２で表される構造単位は、下記化学式２−１〜２−３で表される構造単位のうち少なくとも一つを含むことができる。
本発明の一実施態様によれば、前記化学式２で表される構造単位は、ヒドロキシ基を含む構造単位及び（メタ）アクリレート基を含む構造単位を共に含むものであってもよい。
本発明の一実施態様によれば、前記化学式２で表される構造単位は、前記化学式２−１で表される構造単位と共に前記化学式２−２で表される構造単位及び／又は前記化学式２−３で表される構造単位を含むことができる。
前記化学式２で表される構造単位は、前記ポリブタジエンゴムに極性を与えて粘着力を向上させることができて、他の添加剤との相溶性を向上させる役割をすることができる。さらに、前記化学式２で表される構造単位は、前記ポリブタジエンゴムの耐久性を向上させる役割をすることができる。
具体的には、前記化学式２−１で表される構造単位は、前記ポリブタジエンゴムに極性を与えて粘着力の向上及び相溶性の向上を実現することができて、前記化学式２−２及び２−３で表される構造単位は、前記光学用粘着剤組成物の硬化時、硬化物の架橋位置を調節して前記光学用粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層の耐久性を確保するのに役に立つことができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムの両末端は、各々独立して、水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であってもよい。
本明細書において、「置換もしくは非置換」は、ハロゲン基、ニトリル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオール基、アルキルチオ基、アリルチオ基、スルホキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、シリル基、ホウ素基、アリールアミン基、アラルキルアミン基、アルキルアミン基、アリール基、フルオレニル基、カルバゾール基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、複素環基及びアセチレン基からなる群より選択された一つ以上の置換基で置換されるか、またはいかなる置換基も有しないことを意味する。
本明細書において、「アルキル基」は直鎖、分枝鎖もしくは環状鎖であってもよい。アルキル基の炭素数は特に限定されないが、炭素数１〜１６、または炭素数１〜１０であってもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等であってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、「アルキレン基」は、前記２価のアルキル基を意味することができて、前記アルキル基において結合基がさらに一つ追加されたものを意味することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムは下記化学式３で表されることができる。
前記化学式３において、
Ｒ１及びＲ２は各々水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ３はヒドロキシ基であり、
Ｒ４はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基であり、
ｍは０モル％〜９モル％であり、
ｎは７５モル％〜１００モル％であり、
ｏは０モル％〜１５モル％であり、
ｐは０モル％〜１０モル％であり、
ｎ、ｏ及びｐの和は９１モル％〜１００モル％であり、
ｘは１５０以上２０，０００以下の整数である。
Ｒ１及びＲ２は各々水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ３はヒドロキシ基であり、
Ｒ４はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基であり、
ｍは０モル％〜９モル％であり、
ｎは７５モル％〜１００モル％であり、
ｏは０モル％〜１５モル％であり、
ｐは０モル％〜１０モル％であり、
ｎ、ｏ及びｐの和は９１モル％〜１００モル％であり、
ｘは１５０以上２０，０００以下の整数である。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量（Ｍｎ）は約１万〜約１００万であってもよい。本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量（Ｍｎ）は約１０万〜約５０万であってもよい。
前記ポリブタジエンゴムが前記範囲の数平均分子量（Ｍｎ）を維持することにより、光硬化後の架橋構造による物理的絡み合い領域（ｐｈｙｓｉｃａｌ ｅｎｔａｎｇｌｅｍｅｎｔ ｓｉｔｅ）を十分に確保し、有無機粒子が均一に分布できるサイト（ｓｉｔｅ）を提供して優れた相溶性を確保することができる。また、前記光学用粘着剤組成物は、前記範囲の数平均分子量（Ｍｎ）を有する前記ポリブタジエンゴムをベース成分として用いることにより、適切な粘度を確保して粘着フィルムまたは粘着シートとして製造する時にディウェッティング（ｄｅｗｅｔｔｉｎｇ）のような問題なしで優れたコーティング性を示すことができる。前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量が前記範囲未満である場合には、耐久性及び耐衝撃性が低下することができる。前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量が前記範囲超過である場合には、工程性及び柔軟性が低下することができて、添加剤の均一な分散が難しいために安定した物性の実現が難しいという問題が発生することができる。
前述したように、前記光学用粘着剤組成物は、化学的に改質された前記ポリブタジエンゴムを用いることにより、その自体で光硬化可能な特性を確保し、優れた耐久性、耐透湿性、柔軟性及び耐化学性等を実現することができる。
具体的には、化学的に改質された前記ポリブタジエンゴムは、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリレート基を含むことができる。
さらに、前記ポリブタジエンゴムは、前記ヒドロキシ基及び前記（メタ）アクリレート基を含むと同時に、カルボキシ基、アミン基、アルデヒド基等を含まないことにより、前記光学用粘着剤組成物が最終物品に適用される場合、腐食の防止効果が向上し、粘着力の低下が防止され、優れた長期耐久性を実現することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記ヒドロキシ基は極性官能基であって、他の極性添加剤との相溶性を向上させ、粘着力を向上させるという効果を容易に確保する役割をすることができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムの水酸基値（ＯＨ ｖａｌｕｅ）は、約１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜約２０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。具体的には、前記ポリブタジエンゴムの水酸基値（ＯＨ ｖａｌｕｅ）は、約３ｍｇＫＯＨ／ｇ〜約１０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴム１分子における水酸基の平均数は１〜１０、具体的には２〜５であってもよい。
前記ポリブタジエンゴムの水酸基値が前記範囲を維持することにより、ガラス転移温度の過度な上昇なしに適切なレベルに維持することができるため、優れた粘着力、工程性及び耐久性を実現することができる。
前記ポリブタジエンゴムの水酸基値が前記範囲未満である場合には、粘着力が低下し、耐久性が弱化することができる。前記ポリブタジエンゴムの水酸基値が前記範囲超過である場合には、ガラス転移温度が過度に上昇し、その結果、貯蔵モジュラス値が上昇して変形が生じ易く、耐透湿性が低下するという問題が発生することができる。
さらに、前記ヒドロキシ基は、前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記化学式１のシスまたはトランス構造単位、または前記化学式４の構造単位それぞれの二重結合に導入されることができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムに含まれた（メタ）アクリレート基は、架橋の役割をし、耐久性、耐衝撃性及び成形性を向上させ、安定したマトリクスを確保して優れた寸法安定性を容易に確保する役割をすることができる。
本発明の一実施態様によれば、前記ポリブタジエンゴムはアクリレート基を含むことができる。具体的には、前記ポリブタジエンゴムがアクリレート基を含む場合、前記ポリブタジエンゴムが（メタ）アクリレート基を含む場合に比べて、ガラス転移温度の上昇幅が少なくて粘弾性が優秀で、最終物品に適用後、曲げる場合に変形に対する復元性能にさらに優れる。
前記ポリブタジエンゴムは、前記（メタ）アクリレート基を約１重量％〜約１０重量％含むことができる。
前記ポリブタジエンゴムに含まれた（メタ）アクリレート基の重量％が前記範囲を維持することにより、優れた架橋密度及び粘弾性を実現すると共に、耐久性、耐衝撃性及び復原性を向上させるという効果を容易に確保することができる。前記ポリブタジエンゴムに含まれた（メタ）アクリレート基の重量％が前記範囲未満である場合には、架橋密度が低下して、耐久性が弱化し、復原性が低下するという問題が発生することができる。前記ポリブタジエンゴムに含まれた（メタ）アクリレート基の含量が前記重量％範囲超過である場合には、柔軟性が低下して成形性が弱化することができる。
さらに、前記（メタ）アクリレート基は、前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記化学式１のシスまたはトランス構造単位、または前記化学式４の構造単位それぞれの二重結合に導入されることができる。
前記ポリブタジエンゴムに含まれた前記ヒドロキシ基及び前記（メタ）アクリレート基は、前記化学式１のシスまたはトランス構造単位、または前記化学式４の構造単位それぞれの二重結合内に生成されて官能基を形成する。
本発明の一実施態様によれば、前記光学用粘着剤組成物は、光開始剤、光架橋剤及び粘着増進剤からなる群より選択された一つ以上をさらに含むことができる。
前記光開始剤は光硬化を誘導する役割をし、その種類は特に制限されないが、例えば、α−ヒドロキシケトン類、フェニルグリオキシレート類、ベンジルジメチル−ケタール類、α−アミノケトン類、モノアシルホスフィン類、ビスアシルホスフィン類、ホスフィンオキシド類、メタロセン類及びヨードニウム塩類からなる群より選択された一つ以上を含むことができる。
前記光架橋剤は、光が照射された場合、前記ポリブタジエンゴム間の架橋を誘導する役割をし、その種類は特に制限されないが、例えば、２官能以上のアクリレート系及びベンゾフェノン系からなる群より選択された一つ以上を含むことができる。
前記光学用粘着剤組成物は、ゴム成分を含むため、透湿性が低いために優れたバリア性能を実現するが、十分な剥離力及び付着力を確保し難い側面がある。したがって、必要に応じて粘着増進剤をさらに含むことができる。
本発明の一実施態様によれば、前記粘着増進剤は、水素化されたジシクロペンタジエン系化合物、水素化されたテルペン系化合物、水素化されたロジン系化合物、水素化された芳香族系化合物及び水素化された石油系化合物からなる群より選択された一つ以上を含むことができる。前記粘着増進剤は、水素化された構造を有する化合物を含むことにより、透明性を実現するのに有利であり、熱硬化時に熱エネルギーの影響を少なく受けて優れた付着力及び剥離力を実現することができる。
具体的には、本発明の一実施態様によれば、前記粘着増進剤は水素化されたジシクロペンタジエン系化合物または水素化されたロジン系化合物を含み、この場合、特にタック（ｔａｃｋ）性能の付与及び光透過率及びヘイズ等の光学特性が向上するという効果を得ることができる。
本発明の他の実現例は、前記光学用粘着剤組成物の光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルムを提供する。
前記光学用粘着フィルムはディスプレイ、電子装置、有機発光素子（ＯＬＥＤ）等の光学装置に適用されるものであり、前記光学用粘着剤組成物の光硬化物を含む粘着剤層を介して優れた光学特性及びバリア性能を同時に実現することができる。
前記粘着剤層は前記光学用粘着剤組成物の光硬化物を含み、前記硬化物は前記光学用粘着剤組成物に光エネルギーを加えて硬化させることによって製造される光硬化物であってもよい。
本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が約−１０６℃〜約−７０℃であってもよい。
前記粘着剤層のガラス転移温度が前記範囲を維持することにより、優れた柔軟性及び工程性を実現し、前記光学用粘着フィルムが適用されたフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）装置の曲げ等の物理的駆動において寸法安定性及び長期耐久性を極大化することができる。具体的には、前記粘着剤層は前記光学用粘着剤組成物に含まれた前記ポリブタジエンゴムが前記化学式１のシス構造単位を９０モル％以上含んでおり、適切なガラス転移温度を維持して優れた柔軟性を実現し、その結果、向上した耐久性、耐透湿性、耐変形性及び光学特性を維持することができる。
本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層の貯蔵モジュラスは−６０℃で２．０ＭＰａ〜８．０ＭＰａであり、−４０℃で０．４ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、０℃で０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、２０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであり、６０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであってもよい。
前記粘着剤層の貯蔵モジュラスがそれぞれの温度で前記範囲を維持することにより、最終製品に前記粘着剤層を適用しても、変形が少なく寸法安定性が高いという利点があり、曲げ等に対する復原性及び長期耐久性が向上することができる。さらに、常温以上において、貯蔵弾性率範囲に大きな差がないために製品の変形が少なく、優れた物性信頼度を実現することができる。前記粘着剤層の貯蔵モジュラスがそれぞれの温度で前記範囲を外れる場合には、温度に応じた変形が発生して製品の信頼性が低下することができて、耐久性が弱化されることもあり、前記粘着剤層が最終製品に適用される場合、永久変形が発生してフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）な物性の実現が難しいことがある。
前記粘着剤層は、前記光学用粘着剤組成物から製造され、基材に対する剥離力が高く、透湿性が低い特性を示すことができる。
本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層は、ガラス基材に対する剥離力が約８００ｇ／ｉｎ以上であってもよく、具体的には、約９００ｇ／ｉｎ〜約１５００ｇ／ｉｎであってもよく、より具体的には、約９６０ｇ／ｉｎ〜約１３００ｇ／ｉｎ、または約１０５０ｇ／ｉｎ〜約１３００ｇ／ｉｎであってもよい。
これと共に、本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層の透湿度（ＷＶＴＲ：Ｗａｔｅｒ Ｖａｐｏｒ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ）は約１．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ〜約５０．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであってもよく、例えば、約１０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ〜約４５ｇ／ｍ２・２４ｈｒ、または約３０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ〜約４５ｇ／ｍ２・２４ｈｒであってもよい。前記粘着剤層は、前記光学用粘着剤組成物を介して前記範囲の剥離力及び透湿度を同時に示し、その結果、前記粘着剤層を有する光学用粘着フィルムがディスプレイまたは電子装置等に適用されて、優れたバリア性能及び耐久性を同時に示すことができる。
また、本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層の光透過率は約９０％以上、例えば、約９２％以上であってもよい。さらに、本発明の一実施態様によれば、前記粘着剤層のヘイズは約１％未満、例えば、約０．８５％未満であってもよい。
前記粘着剤層が前記範囲の光透過率及びヘイズを満たすことにより、ディスプレイまたは電子装置の視認性が求められる部品に有用に適用され、優れた光学特性に基づいて視認性を向上させることができる。
前記粘着剤層は前記光学用粘着剤組成物から形成され、貯蔵モジュラス、透湿度、光透過率及びヘイズがいずれも前述したそれぞれの範囲を同時に満たす場合に最も好ましいことができる。これは、前記光学用粘着剤組成物内に含まれている前記ポリブタジエンゴムの前記化学式１のシス構造単位のモル％比率、水酸基値及び前記（メタ）アクリレート基の重量％等を同時に制御することによって実現されることができる。
以下では本発明の具体的な実施例を提示する。但し、下記に記載された実施例は本発明を具体的に例示または説明するためのものに過ぎず、それによって本発明が制限されるものではない。
＜製造例＞
製造例１
１段階：窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量９７モル％、ＢＲ１２０８、ＬＧ Ｃｈｅｍ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
製造例１
１段階：窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量９７モル％、ＢＲ１２０８、ＬＧ Ｃｈｅｍ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
２段階：次に、前記ゴム１００重量部に対してアクリロイルオキシエチルイソシアネート（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ ｅｔｈｙｌ ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ）３重量部及びジブチルスズジラウラート（ＤＢＴＤＬ：ｄｉｂｕｔｙｌｔｉｎ ｄｉｌａｕｒａｔｅ）２００ｐｐｍを入れた後に８０℃で３時間維持した。
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が３．８６ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
製造例２
１段階：製造例１の過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）が１５重量部投入されたことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
１段階：製造例１の過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）が１５重量部投入されたことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
２段階：製造例１の２段階と同様
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が５．７９ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が５．７９ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
製造例３
１段階：製造例１の過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）が２０重量部投入されたことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
１段階：製造例１の過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）が２０重量部投入されたことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
２段階：製造例１の２段階と同様
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が７．８４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が７．８４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
製造例４
１段階：過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）２０重量部及びアクリロイルオキシエチルイソシアネート（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ ｅｔｈｙｌ ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ）３重量部を共に投入したことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
１段階：過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）２０重量部及びアクリロイルオキシエチルイソシアネート（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ ｅｔｈｙｌ ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ）３重量部を共に投入したことを除いては、製造例１と同様の条件及び組成をもって工程を行った。
２段階：製造例１の２段階と同様
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が７．８４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を６重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
これにより、前記化学式３の構造であり、水酸基値が７．８４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を６重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
製造例５
窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量９７モル％、ＢＲ１２０８、ＬＧＣ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量９７モル％、ＢＲ１２０８、ＬＧＣ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
これにより、水酸基値が３．８６ｍｇＫＯＨ／ｇのポリブタジエンゴムを製造した。
製造例６
１段階：窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量３６モル％、ＬＧ Ｃｈｅｍ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
１段階：窒素ガスが還流し、温度調節が容易になるように冷却装置を設けた２Ｌ反応器にブタジエンゴム（ｃｉｓ含量３６モル％、ＬＧ Ｃｈｅｍ）を８０℃で６時間トルエンに１４重量％で溶かした後、３５℃に下げた。その次、前記ブタジエンゴム１００重量部に対して過酸化物（ｍＣＰＢＡ：ｍｅｔａ−Ｃｈｌｏｒｏｐｅｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）１０重量部を投入した後、３５℃で４時間攪拌した。その次、前記ゴム１００重量部に対して１Ｎ濃度の塩酸水溶液を１０重量部投入し、３５℃で１時間攪拌した後に９０℃に昇温して１時間攪拌した。
２段階：次に、前記ゴム１００重量部に対してアクリロイルオキシエチルイソシアネート（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ ｅｔｈｙｌ ｉｓｏｃｙａｎａｔｅ）３重量部及びジブチルスズジラウラート（ＤＢＴＤＬ：ｄｉｂｕｔｙｌｔｉｎ ｄｉｌａｕｒａｔｅ）２００ｐｐｍを入れた後に８０℃で３時間維持した。
これにより、水酸基値が３．８６ｍｇＫＯＨ／ｇであり、アクリレート基を３重量％含むポリブタジエンゴムを製造した。
＜実施例及び比較例＞
実施例１
前記製造例１のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
実施例１
前記製造例１のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
実施例２
前記製造例２のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
前記製造例２のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
実施例３
前記製造例３のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
前記製造例３のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
実施例４
前記製造例４のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
前記製造例４のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
比較例１
前記製造例５のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
前記製造例５のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
比較例２
前記製造例６のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
前記製造例６のポリブタジエンゴムを含み、前記ポリブタジエンゴム１００重量部を基準に、光架橋剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４）０．５重量部及び粘着増進剤（ＡＲＡＫＡＷＡ Ｃｈｅｍ、ＰＥ−５９０）１０重量部を混合して光学用粘着剤組成物を製造した。
比較例３
２−エチルヘキシルアクリレート（２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）、イソボルニルアクリレート（ｉｓｏｂｏｒｎｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）及びヒドロブチルアクリレート（ｈｙｄｒｏｂｕｔｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）を各々７０重量％、１０重量％及び２０重量％含む光硬化性樹脂に、前記光硬化性樹脂１００重量部を基準に、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ６５１）０．３重量部、多官能アクリレート（Ａｒｋｅｍａ、ＨＤＤＡ）０．０３重量部及びウレタンアクリレートオリゴマー（ＬＧＨ、ＧＤ−３００）０．３重量部を含む光学用粘着剤組成物を製造した。
２−エチルヘキシルアクリレート（２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）、イソボルニルアクリレート（ｉｓｏｂｏｒｎｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）及びヒドロブチルアクリレート（ｈｙｄｒｏｂｕｔｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ）を各々７０重量％、１０重量％及び２０重量％含む光硬化性樹脂に、前記光硬化性樹脂１００重量部を基準に、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ６５１）０．３重量部、多官能アクリレート（Ａｒｋｅｍａ、ＨＤＤＡ）０．０３重量部及びウレタンアクリレートオリゴマー（ＬＧＨ、ＧＤ−３００）０．３重量部を含む光学用粘着剤組成物を製造した。
＜評価＞
前記実施例の粘着剤組成物及び前記比較例１の光学用粘着剤組成物は、フィルム形状に塗布した後、１２０℃の温度で乾燥した後に紫外線を照射して、３０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で光硬化させて２５μｍ厚さの粘着剤層を製造した。
前記実施例の粘着剤組成物及び前記比較例１の光学用粘着剤組成物は、フィルム形状に塗布した後、１２０℃の温度で乾燥した後に紫外線を照射して、３０００ｍＪ／ｃｍ２の条件で光硬化させて２５μｍ厚さの粘着剤層を製造した。
前記比較例２の場合は、３５０ｎｍの波長を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で光硬化させて２５μｍ厚さの粘着剤層を製造した。
実験例１：透湿度の測定
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、温度３８℃、相対湿度９０％の条件でコップに一定量の水を入れた後、その上に前記粘着剤層をロード（ｌｏａｄｉｎｇ）してキャッピング（ｃａｐｐｉｎｇ）した後に２４時間蒸発させ、蒸発した水の減量された重さを用いて、測定装置（Ｌａｂｔｈｉｎｋ ＴＳＹ−Ｔ３）で透湿度（ＷＶＴＲ）を測定し、その結果を下記の表３に記載した。
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、温度３８℃、相対湿度９０％の条件でコップに一定量の水を入れた後、その上に前記粘着剤層をロード（ｌｏａｄｉｎｇ）してキャッピング（ｃａｐｐｉｎｇ）した後に２４時間蒸発させ、蒸発した水の減量された重さを用いて、測定装置（Ｌａｂｔｈｉｎｋ ＴＳＹ−Ｔ３）で透湿度（ＷＶＴＲ）を測定し、その結果を下記の表３に記載した。
実験例２：剥離力の測定
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、ＵＴＭ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ）を利用して３００ｍｍ／ｍｉｎの剥離速度でガラス基材に対する剥離力を測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、ＵＴＭ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ）を利用して３００ｍｍ／ｍｉｎの剥離速度でガラス基材に対する剥離力を測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
実験例３：光学特性の測定
１）光透過率（Ｔ）の測定（％）
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々を透明なガラス基材に付着した後、２０℃〜３０℃の常温条件で紫外線−可視光線分光器（ＵＶ−Ｖｉｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を利用して光透過率を測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
１）光透過率（Ｔ）の測定（％）
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々を透明なガラス基材に付着した後、２０℃〜３０℃の常温条件で紫外線−可視光線分光器（ＵＶ−Ｖｉｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ）を利用して光透過率を測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
２）ヘイズ（Ｈ）の測定（％）
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々を透明なガラス基材に付着した後、２０℃〜３０℃の常温条件でＨａｚｅ ｍｅｔｅｒ（ＢＹＫ社）装置でヘイズを測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々を透明なガラス基材に付着した後、２０℃〜３０℃の常温条件でＨａｚｅ ｍｅｔｅｒ（ＢＹＫ社）装置でヘイズを測定し、その結果は下記の表３に記載されたとおりである。
実験例４：貯蔵弾性率（Ｇ）の測定
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、動的粘弾性をＪＩＳ Ｋ７２４４−４に準じて測定（周波数１Ｈｚ、昇温速度２℃／分）し、せん断モード（ｓｈｅａｒ ｍｏｄｅ）における−６０℃、−４０℃、０℃、２０℃及び６０℃での貯蔵弾性率Ｇ’を算出し、その結果を表２に記載した。
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、動的粘弾性をＪＩＳ Ｋ７２４４−４に準じて測定（周波数１Ｈｚ、昇温速度２℃／分）し、せん断モード（ｓｈｅａｒ ｍｏｄｅ）における−６０℃、−４０℃、０℃、２０℃及び６０℃での貯蔵弾性率Ｇ’を算出し、その結果を表２に記載した。
実験例５：耐久性の測定
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、Ｂａｒｒｉｅｒ ＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ−ｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ）ｆｉｌｍ／粘着剤層／ガラス基材の構造を形成し、それを８５℃の温度及び８５％の相対湿度の条件下で５００時間放置した後に気泡の発生程度を観測して気泡発生、黄変、基材での浮き立ち有無に応じて耐久性を評価し、気泡が全く発生せず、黄変現象がなく、浮き立ち現象がない場合を優秀（○）に表記し、そのいずれか一つでも満たさない場合を不十分（×）に表３に表記した。
前記実施例及び比較例の粘着剤層の各々に対し、Ｂａｒｒｉｅｒ ＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ−ｏｌｅｆｉｎ ｐｏｌｙｍｅｒ）ｆｉｌｍ／粘着剤層／ガラス基材の構造を形成し、それを８５℃の温度及び８５％の相対湿度の条件下で５００時間放置した後に気泡の発生程度を観測して気泡発生、黄変、基材での浮き立ち有無に応じて耐久性を評価し、気泡が全く発生せず、黄変現象がなく、浮き立ち現象がない場合を優秀（○）に表記し、そのいずれか一つでも満たさない場合を不十分（×）に表３に表記した。
実施例１〜４により製造された光学用粘着フィルムは、貯蔵弾性率が−６０℃で２．０ＭＰａ〜８．０ＭＰａであり、−４０℃で０．４ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、０℃で０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、２０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであり、６０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａの値を維持することにより、工程及び使用に応じた変形を減らし、耐久性及び寸法安定性を極大化することを確認することができる。それのみならず、透過率が９２％以上であり、ヘイズ値が０．９％未満であり、ガラス剥離力が９００ｇ／ｉｎ以上であり、透湿度が５０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ未満であるものであって、フレキシブル装置に適用される光学用粘着フィルムに最適化していることを確認することができる。
それに対し、比較例１は、アクリレート基を含まないため、耐久性が顕著に悪化することを確認することができる。
比較例２は、ｃｉｓ ３６％のブタジエンゴムを用いて、貯蔵弾性率が−６０℃で２．０ＭＰａ〜６．０ＭＰａ、−４０℃で０．４ＭＰａ〜１．０ＭＰａの範囲を外れて、低温での弾性率が低くなる特性を示した。それにより、比較例２は、低温で折り畳む（ｆｏｌｄｉｎｇ）過程で基材との密着性が顕著に落ちる現象を観察することができた。
比較例３は、アクリレート系樹脂を用いた粘着剤層として、貯蔵弾性率の範囲が顕著に差が出て、最終製品の適用時に製品の深刻な変形が発生することを確認することができる。
Claims (14)
- 主鎖に、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリレート基からなる群より選択される１以上を含む反応性基が結合されたポリブタジエンゴムを含み、
前記ポリブタジエンゴムは下記化学式１で表される構造単位を含み、下記化学式１で表される構造単位のシス構造とトランス構造のモル比は９：１〜１０：０である光学用粘着剤組成物：
- 前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式２で表される構造単位をさらに含む、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物：
Ｒ３はヒドロキシ基；Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基である。 - 前記化学式２で表される構造単位は、下記化学式２−１〜２−３で表される構造単位のうち少なくとも一つを含む、請求項２に記載の光学用粘着剤組成物：
- 前記ポリブタジエンゴムの両末端は、各々独立して、水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基である、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
- 前記ポリブタジエンゴムは、下記化学式３で表される、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物：
Ｒ１及びＲ２は各々水素；または炭素数１〜１６の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ３はヒドロキシ基であり、
Ｒ４はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ５）−ＣＯＯ−＊；またはＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ６）−ＣＯＯ−Ｒ７−ＮＨ−ＣＯＯ−＊であり、
Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ｒ７は直接結合；または炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキレン基であり、
ｍは０モル％〜９モル％であり、
ｎは７５モル％〜１００モル％であり、
ｏは０モル％〜１５モル％であり、
ｐは０モル％〜１０モル％であり、
ｎ、ｏ及びｐの和は９１モル％〜１００モル％であり、
ｘは１５０以上２０，０００以下の整数である。 - 前記ポリブタジエンゴムの数平均分子量は１万〜１００万である、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
- 前記ポリブタジエンゴムの水酸基値は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２０ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
- 前記ポリブタジエンゴムは、前記（メタ）アクリレート基を１重量％〜１０重量％含む、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
- 前記光学用粘着剤組成物は、光開始剤、光架橋剤及び粘着増進剤からなる群より選択された一つ以上をさらに含む、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
- 請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物の光硬化物を含む粘着剤層を有する光学用粘着フィルム。
- 前記粘着剤層のガラス転移温度は−１０６℃〜−７０℃である、請求項１０に記載の光学用粘着フィルム。
- 前記粘着剤層の貯蔵モジュラスは、−６０℃で２．０ＭＰａ〜８．０ＭＰａであり、−４０℃で０．４ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、０℃で０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであり、２０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａであり、６０℃で０．０５ＭＰａ〜０．２ＭＰａである、請求項１０に記載の光学用粘着フィルム。
- 前記粘着剤層の光透過率は９０％以上である、請求項１０に記載の光学用粘着フィルム。
- 前記粘着剤層の透湿度は、１．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ〜５０．０ｇ／ｍ２・２４ｈｒである、請求項１０に記載の光学用粘着フィルム。
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