KR102047715B1 - 제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 시스템 및 방법 - Google Patents

제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 시스템 및 방법 Download PDF

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Abstract

회전 제한 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 방법이 개시된다. 상기 방법은 상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 약간 가중되어 상기 미러가 초기에 불균형되도록 제한된 회전 모터 시스템의 회전자축 상에 미러를 제공하는 단계와, 상기 미러가 적어도 전면과 후면 사이에 균형을 이루는 위치로 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 조정하는 단계를 포함한다.

Description

제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHODS FOR BALANCING MIRRORS IN LIMITED ROTATION MOTOR SYSTEMS}
본 출원은 2011년 10월 5일 출원된 미국 실용 특허출원 13/253,194호 및 2011년 7월 29일에 출원된 미국 가특허 출원 61/513,248호의 우선권을 주장하고 그 명세서는 그 전체가 여기에 참조문헌으로 통합된다.
본 발명은 일반적으로 스캐닝 미러 시스템에서 진동 저감 시스템에 관한 것으로서, 특히 제한된 각도 범위에 대하여 스캐닝 레이저 빔용으로서 사용되는 제한된 회전 모터를 포함하는 스캐닝 미러 시스템에서의 진동 및 불균형을 저감하는 것에 관한 것이다.
스캐닝 미러 시스템은 연속적 회전 모터 시스템 및 제한된 모터 시스템을 포함한다. 연속적 회전 모터 시스템은 예를 들면, 연속적으로 회전하는 회전 다각형 미러를 포함하며, 또한 제한된 회전 모터 시스템은 제한된 회전 각도 범위에 대하여 회전자를 왕복 회전시킨다.
특정 선행기술 스캐닝 미러 시스템에서의 균형 시스템은 스캐닝 시스템, 그 자체의 부분에 의해 야기되는 불가피한 불균형을 교정하기 위한 부분을 포함한다. 예를 들면, 미국 특허 7,316,356호는 균형 미러용 텅스텐 평형추의 사용을 개시하고, 상기 평형추는 두 개의 축에 대해 스피너를 회전함으로써 생성되는 세차(precessional) 토크에 의해 야기되는 불균형을 설명하기 위해 개시된다. 상기 평형추는 조정 가능하지 않다. 미국 특허 4,756,586호는 다각형 미러의 회전의 평면을 조정하여 구동축에 대해 수직면이 될 수 있도록 세트 스크류의 사용을 개시하고, 또한 세트 스크류에 의해 야기되는 불균형을 수정하기 위해 제공되는 균형 스크류의 사용을 더 개시한다. 어느 문헌도 제조에서의 결함을 설명하기 위해 샤프트 상에 장착된 미러의 미세한 균형을 개시하지 않는다.
통상적인 제한된 회전 스캐닝 시스템에 있어서, 미러는 제한된 회전 모터(예를 들면 검류계)의 출력축에 장착되고, 또한 상기 제한된 회전 모터는 모터의 회전자 즉, 미러가 임의의 고신뢰도를 갖는 위치와 속도 명령 파형을 따르도록 하는 제어 루프에 의해 제어된다. 그러나, 시스템이 명령을 따를 수 있는 신뢰도에 제한이 있다.
예를 들면, 시스템에서 미러의 가속은 모터 권선에서 전류의 상승 속도에 의해 제한된다. 위치 정확도는 피드백 방법의 신호 대 잡음비에 의해 제한된다. 상기 시스템의 대역폭(요구되는 높은 속도로 위치 A로부터 위치 B로 이동할 수 있는 능력과 그 후 가장 짧은 시간 내에 위치 B에 정확하게 안착할 수 있는 능력)은 주로 이동부 내의 진동에 의해 제한된다. 상기 시스템의 대역폭은 이동 구조체에서 명목상 제 1 비틀림 공진이 될 것이다. 그러므로, 상기 미러는 매우 강성한 상태를 유지한 채 두 각도 위치 사이에서 모터축 상에서 좌우로 아주 빠르게 회전해야만 한다. 상기 미러는 강성한 재료로 만들어지는 것을 요할 뿐만 아니라 그것들의 무게 또한 정지 위치로부터 상기 미러를 이동하는데 요구되는 관성이 너무 높지 않을 정도로 충분히 낮게 유지해야만 한다.
그러므로, 허용 가능한 시스템 관성의 제한 내에 이동부를 가능한 한 강성 및 균형을 이루게 하는 것이 통상적이다. 특정한 가속에 도달하는 모터에 요구되는 토크는 상기 관성에 직접적으로 비례하고 상기 전류(상술된 바와 같이 상승 속도가 제한됨)에 비례하기 때문에, 상기 시스템 파라미터가 특정한 관성에 대해 최적화될 때, 몇몇의 요소, 통상적으로 상기 미러는 매우 높은 강성 대 관성(stiffness-to-inertia) 재료로 이루어질 때에도 시스템 대역폭 목표에 도달하는데 요구되는 정도의 강성 및/또는 균형을 갖지 못한다.
그러므로 그러한 제한된 회전 모터용 미러는 균형되어(전후뿐만 아니라 측면 대 측면도) 그것들이 이동할 때 가능한 한 아주 적게 흔들리도록 도입된다. 특정 적용에 있어서, 추가 재료는 그것의 강성 및/또는 균형을 증가시키기 위해 미러의 후면에 더해지지만, 추가 관성의 비용에서 추가 관성을 구동 가능하게 하는 제어 루프만큼 보다 큰 고가 모터를 요구한다. 일부의 적용에 있어서 예를 들면, 그러한 균형은 그러한 균형에 영향을 미치는 상기 미러의 후면 상에 적은 양의 에폭시를 부착함으로써 산업상에서 행해진다. 그러나, 그러한 절차는 대규모의 제조 응용과 같은 모든 적용에서 완전히 충분한 것은 아니다.
미러의 대향하는 보어 내에 받아들여지는 대향하는 세트 스크류의 형태 내의 트림 무게의 사용을 포함하는 균형 미러(측면 대 측면)에 대한 다른 기술로서, 세트 스크류의 코어를 포함하는 평면에서의 미러의 불균형 등은 미국 특허 6,972,885호 내에 개시된 세트 스크류 중 하나 또는 양쪽의 조정에 의해 교정될 수 있다. 상기 세트 스크류는 상기 미러의 외부 후면 및 측면 내의 보어 내에 받아들여 지는 것으로 개시되었지만, 상기 미러 단독으로 매우 균형이 잡혀있을 때, 완벽한 균형을 얻기 위해 사용하는 것은 어려울 수 있다. 또한, 미국 특허 6,972,885호에 개시된 세트 스크류의 사용은 전후 균형을 얻을 수 없고, 또한 세트 스크류는 무게를 더하며(관성 증가), 또한 상기 미러가 이동하는 동안 움직일 수 있다.
그러므로, 보다 큰 고가 모터와 수반하는 제어 시스템의 요구없이 향상된 대역폭을 제공하는 제한된 회전 모터 시스템이 필요하며, 특히 미러 관성에 불리하게 영향을 주지 않으면서 향상된 미러 균형을 제공하는 것이 필요하다.
일실시형태에 의하면, 본 발명은 제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루는 방법을 제공한다. 상기 방법은 상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 약간 가중되어, 미러가 초기에 불균형되도록 제한된 회전 모터 시스템의 회전자축 상에 미러를 제공하는 단계와, 상기 미러가 적어도 전면과 후면 사이에 균형을 이루는 위치로 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 조정하는 단계를 포함한다.
다른 실시형태에 의하면, 상기 방법은 회전 제한 모터 시스템의 회전자축 상에 미러를 제공하는 단계와, 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류를 조정하여 일반적으로 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하는 단계를 포함한다.
추가 실시형태에 의하면, 본 발명은 제한된 회전 모터 시스템에서 사용하기 위한 미러를 제공하고, 상기 미러는 상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 약간 가중되어, 미러가 초기에 불균형되는 전방 위치에서부터 상기 미러가 전면과 후면 사이에 균형을 이루는 위치로 조정 가능한 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 포함한다.
추가 실시형태에 의하면, 상기 미러는 전반사면, 후면 및 회전축을 포함하고, 상기 후면은 각각이 회전축을 향하는 적어도 2개의 스래드 평형추 스크류를 포함한다.
추가 실시형태에 의하면, 본 발명의 미러는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에서 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추를 포함하고, 상기 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류는 일반적으로 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하기 위해 조정 가능하다.
다음의 설명은 상기 수반하는 도면을 참조로 하여 더 이해될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 미러의 예시적인 개략 평면도를 도시하며;
도 2는 도 1의 상기 미러의 예시적인 개략 정면도를 도시하며;
도 3은 도 1의 상기 미러의 예시적인 개략 후면도를 도시하며;
도 4는 라인 4-4를 따라 자른 도 3의 미러의 예시적인 개략 측단면도를 도시하며;
도 5는 도 1의 상기 미러의 예시적인 개략 측면도를 도시하며;
도 6은 라인 6-6을 따라 자른 도 5의 상기 미러의 예시적인 계략 단면도를 도시하며;
도 7 및 도 8은 본 발명의 다양한 실시형태에 의해 사용하기 위한 균형 평가 시스템의 예시적인 개략도를 도시하며;
도 9는 본 발명의 다른 실시형태에 의한 미러의 예시적인 개략 평면도를 도시하며;
도 10은 도 9의 미러의 예시적인 개략 정면도를 도시하며;
도 11은 도 9의 미러의 예시적인 개략 후면도를 도시하며;
도 12는 라인 11-11을 따라 자른 도 11의 상기 미러의 예시적인 개략 측단면도를 도시하며;
도 13은 도 9의 상기 미러의 예시적인 개략 측면도를 도시하며;
도 14는 라인 14-14를 따라 자른 도 13의 미러의 예시적인 개략 단면도를 도시한다.
도면은 예시적인 목적으로만 도시된다.
일실시형태에 의하면, 본 발명은 상기 미러의 전면의 방향으로 기울고 약간 편향된 제한된 회전 모터용 미러를 제공하는 것을 우선 포함한다. 전후 균형을 위해 하나 또는 그 이상의 스래드 평형추 스크류가 상기 미러의 후면에 배치된다. 상기 평형추 스크류가 상기 미러 안쪽으로 모두 돌아갈 때(전면을 향해), 상기 미러는 상기 전방을 향해 편향된 상태로 남지만, 하나 또는 그 이상의 평형추 스크류가 상기 미러의 밖으로 돌아갈 때는 전후 균형점이 획득된다.
측면 대 측면 균형은 그것들 사이에 텅스텐 볼을 포획하는 대향하는 스래드 평형추 스크류의 한쌍을 사용하여 완료된다. 상기 텅스텐 볼은 증가하는 관성을 최소화하기 위해 상기 미러의 회전 중심선을 따라 초기에 위치된다. 평형추 스크류가 각각의 균형점에 조정된 후, 에폭시는 각각의 배치를 고정하기 위해 각 스크류에 적용되어 각 평형추 스크류는 제한된 회전 스캐닝 시스템에서 사용시 상기 미러의 이동 동안 정지를 유지한다.
도 1 - 도 6은 예를 들면, 고반사 표면을 제공하는 전면(12)을 갖는 미러(10), 후면(14) 및 제한된 회전 모터 시스템에서 상기 미러와 회전자축을 연결하기 위한 장착 구조물(16)을 포함한다(직접적으로 또는 연결 부재를 통해). 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 미러의 후면(14)은 상기 미러의 후면의 스래드 개구 내에 받아들여지는 하나 또는 두 개의 스래드 평형추 스크류(18)를 포함한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 후면은 강성을 유지하면서 상기 미러의 무게를 저감하기 위해 저감 재료(remove material)(예를 들면 도시된 바와 같이 벌집 패턴을 제공하는 것)로 형성될 수 있다.
도 4의 20에 개략적으로 도시된 바와 같이, 상기 미러는 회전축(22)에 대하여 후면의 매스(M-)에 비해 그 회전축(22)에 대하여 상기 미러의 전면 상에 매스(M+)를 약간 더 갖도록 설계된다. 그 결과, 상기 미러가 회전자축 상에 초기에 장착될 때, 상기 미러가 상기 미러의 전면을 향해 기울어진 상태로 불균형이 될 것이다. 스래드 평형추 스크류(18)는 초기에 그들 각각의 개구로 나사결합되어 상기 미러의 전면에 가장 가깝게 위치된다. 전 후 균형을 맞추는 동안, 상기 스래드 평형추 스크류(18)는 돌아가게 되어(열려) 상기 미러의 전면으로부터 멀어지는 방향으로 이동한다. 그러한 두 개의 평형추 스크류(18)를 사용하는 경우, 그 중 하나는 미세한 조정을 제공하는 반면 다른 하나는 넓은 조정을 제공할 수 있다[예를 들면 장착 구조물(16)로부터 먼 것]. 추가 실시형태에 의하면, 하나의 평형추 스크류는 다른 평형추 스크류보다 미세한 스래드 피치를 가질 수 있다. 이동 범위는 조정하는 동안 전면과 후면 사이의 균형점이 달성되도록 설계된다. 특정 대안 실시형태에 의하면, 상기 스크류는 균형점이 달성될 때까지 가장 먼 열린 위치로부터 조정될 수 있다.
또한, 상기 미러(10)는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류(24) 사이에 고밀도 요소(26)를 포획하는 상호간에 대향하는 평형추 스크류(24)를 포함한다. 고밀도 요소는 예를 들면, 텅스텐으로 형성된 구체일 수 있다. 상기 평형추 스크류(24)는 일반적으로 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터(상기 미러의 회전축을 따라 중심에 있는) 고밀도 요소(26)를 가압하기 위해 조정 가능하다. 이 조정은 상기 미러의 측면 대 측면(도 2에 도시된 바와 같이 좌우) 균형을 제공한다.
상술한 평형추 스크류의 조정에 따라, 에폭시와 같은 접착제(28)는 적은 양으로 제한된 회전 모터 시스템의 상기 미러를 사용하는 동안 각 평형추 스크류가 각 배치에 고정되기 위해 노출된 부분에 적용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 에폭시에 의한 무게는 무시할 수 있다. 그렇지 않으면, 각 평형추 스크류는 상기 에폭시의 무게를 수용하는 에폭시의 적용에 앞서 아주 작은 양으로 내향으로 조정될 수 있다.
장착된 미러의 균형 여부에 대한 평가는 다양한 방법으로 달성될 수 있다. 매우 저마찰의 베어링을 갖는 특정 시스템에 의하면, 모터(30) 내에 구동 코일은 제거될 수 있으며, 또한 상기 회전자는 모터의 베어링 내에 장착될 수 있다. 상기 미러(10)는 상기 모터(30)의 회전자축(32)과 차례대로 연결된 미러 장착 기구(16)에 연결된다. 34에 도시된 바와 같이, 상기 모터가 회전자축(32)의 회전축이 일반적으로 편평한 지면과 수평을 이루도록 위치되었을 때, 상기 미러의 가장 무거운 면(전면 또는 후면)이 아래쪽으로 향할 것이다. 마찬가지로, 상기 미러의 하나의 측면(M+)이 다른 면(M-)보다 더 많은 매스를 포함하는 경우, 더 많은 매스를 갖는 면이 아래쪽으로 향할 것이다. 평형추 스크류의 양 세트가 조정을 필요로 하는 경우, 상기 미러는 편평한 지면에 대하여 비스듬한 위치에 있게 될 것이다. 상기 평형추 스크류는 그 자신이 자유롭게 회전(또는 회전하지 않음)하는 것이 허용되었을 때, 회전자축 상에서 상기 미러가 우세한 회전 위치를 가질 때까지 상술한 바와 같이 조정될 수 있다.
도 8을 참조하면, 장착된 미러 균형의 평가는 또한 압력 감지 V-블록 상에 장착된 베어링을 포함하는 모터(40)를 사용하여 수행될 수 있다. 상기 모터는 예를 들면, 46에 도시된 바와 같이 구동 신호를 적용함으로써(또는 제거된 구동 코일을 갖는 회전자의 노출된 부분에 구동 벨트를 적용함으로써) 구동된다. 상기 모터 내에 V-블록과 연결된 센서는 상기 시스템에서의 진동의 양과 불균형의 표시로서 신호(50)를 출력한다. 상기 평형추는 그 후 조정되며, 또한 그 후 출력 신호(50)가 최소화될 때까지 재시험될 수 있다. 특정 실시형태에 의하면, 상기 프로세서(44)는 평형추 스크류의 조정이 필요한 것에 관한 정보를 제공할 수도 있다.
도 9 - 도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시형태에 의한 미러(60)는 고반사 표면을 제공하는 전면(62), 후면(64) 및 제한된 회전 모터 시스템에서 상기 미러와 회전자축을 연결하는 장착 구조물(66)을 포함한다. 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 미러의 후면(64)은 상기 미러의 후면의 스래드 개구 내에 받아들여지는 두 개의 스래드 평형추 스크류(68, 69)를 포함한다.
도 10의 70에 개략적으로 도시된 바와 같이, 상기 미러는 회전축(72)에 대하여 후면의 매스(M-)에 비해 그 회전축(72)에 대하여 상기 미러의 전면 상에 매스(M+)를 약간 더 갖도록 설계된다. 그 결과, 상기 미러가 회전자축 상에 초기에 장착될 때, 상기 미러가 상기 미러의 전면을 향해 기울어진 상태로 불균형이 될 것이다. 상기 스래드 평형추 스크류(68, 69)는 초기에 그들의 각각의 개구로 나사 결합되어 상기 미러의 전면에 가장 가깝게 위치된다. 전 후 균형을 맞추는 동안, 상기 스래드 평형추 스크류(68, 69)는 돌아가게 되어(열려) 상기 미러의 전면으로부터 멀어지는 방향으로 이동한다. 다시, 상기 평형추 스크류(68, 69)는 그 중 하나는 미세한 조정을 제공하는 반면, 다른 하나는 장착 구조물(66)로부터 거리가 먼 하나를 사용하는 넓은 조정을 제공할 수 있다. 추가적으로 도시하는 바와 같이, 넓은 조정 평형추 스크류(68)는 미세 조정 평형추 스크류(69) 보다 클 수 있다. 다시, 추가 실시형태에 의하면, 하나의 평형추 스크류는 다른 평형추 스크류보다 미세한 스래드 피치를 가질 수 있다. 이동 범위는 조정하는 동안 전 후면 사이의 균형점이 달성되도록 설계된다. 특정 대안 실시형태에 의하면, 상기 스크류는 균형점이 달성될 때까지 가장 먼 열린 위치로부터 조정될 수 있다.
또한, 상기 미러(70)는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류(74) 사이에서 고밀도 요소(76)를 포획하는 상호간에 대향하는 평형추 스크류(74)를 포함한다. 고밀도 요소는 예를 들면, 텅스텐으로 형성된 구체일 수 있다. 상기 평형추 스크류(74)는 일반적으로 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터(상기 미러의 회전축을 따라 중심에 있는) 고밀도 요소(76)를 가압하기 위해 조정 가능하다. 이 조정은 상기 미러의 측면 대 측면(좌우) 균형을 제공한다.
다시, 상술한 평형추 스크류의 조정에 따라, 에폭시와 같은 접착제(78)는 적은 양으로 제한된 회전 모터 시스템에서 상기 미러를 사용하는 동안 각 평형추 스크류가 각 배치에 고정되기 위해 노출된 부분에 적용될 수 있다. 다시, 상기 에폭시에 의한 무게는 바람직하게 무시할 수 있다. 그렇지 않으면, 각 평형추 스크류는 상기 에폭시의 무게를 수용하는 에폭시의 적용에 앞서 아주 작은 양으로 내향으로 조정될 수 있다.
당업자는 다양한 변경과 개량이 본 발명의 사상과 범위로부터 벗어나지 않고 상기 개시된 실시형태로 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다.

Claims (20)

  1. 제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 방법으로서,
    상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 가중되어 상기 미러가 초기에 불균형이 되도록 제한된 회전 모터 시스템의 회전자축 상에 미러를 제공하는 단계와,
    상기 미러가 적어도 전면과 후면 사이에 균형을 이루게 되는 위치가 되도록 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 방법은 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에서 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류를 조정하여, 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 구형 형상인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 방법은 각 스래드 평형추 스크류의 노출된 부분에 접착제를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제한된 회전 모터 시스템에서 미러의 균형을 이루기 위한 방법으로서,
    제한된 회전 모터 시스템의 회전자축 상에 미러를 제공하는 단계;
    상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에서 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류를 조정하여, 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 삭제
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 텅스텐을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 구형 형상인 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 5 항에 있어서,
    상기 방법은 각 스래드 평형추 스크류의 노출된 부분에 접착제를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제한된 회전 모터 시스템에서 사용되는 미러로서, 상기 미러는 상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 가중되어 상기 미러가 불균형이 되는 전방 위치에서부터 상기 미러가 전면과 후면 사이에 균형을 이루는 위치로 조정이 가능하도록 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 미러는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에서 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류를 더 포함하고, 상기 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류는 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하기 위해 조정이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 미러.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 텅스텐을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 구형 형상인 것을 특징으로 하는 미러.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 미러는 각 스래드 평형추 스크류의 노출된 부분 상에 접착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  15. 제 10 항에 있어서,
    상기 미러는 회전축을 더 포함하고, 상기 후면은 각각이 회전축을 향해 있는 상기 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  16. 제한된 회전 모터 시스템에서 사용되는 미러로서, 상기 미러는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류 사이에서 고밀도 요소를 포획하는 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류를 포함하고, 상기 상호간에 대향하는 스래드 평형추 스크류는 상기 미러의 전면에서 후면 방향을 가로지르는 방향에서 상기 미러의 한 측면을 향해 상기 미러 내의 중심 위치로부터 고밀도 요소를 가압하기 위해 조정이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 미러.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 미러는 상기 미러의 전반사면을 포함하는 상기 미러의 전면으로 기울고 상기 미러가 가중되어 상기 미러가 불균형이 되는 전방 위치에서부터 상기 미러가 전면과 후면 사이에 균형을 이루는 위치로 조정이 가능하도록 한 상기 미러의 후면 상에 적어도 하나의 스래드 평형추 스크류를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 텅스텐을 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
  19. 제 16 항에 있어서,
    상기 고밀도 요소는 구형 형상인 것을 특징으로 하는 미러.
  20. 제 16 항에 있어서,
    상기 미러는 각 스래드 평형추 스크류의 노출된 부분 상에 접착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 미러.
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