KR102042590B1 - Flux Cleaner System - Google Patents

Flux Cleaner System Download PDF

Info

Publication number
KR102042590B1
KR102042590B1 KR1020180025200A KR20180025200A KR102042590B1 KR 102042590 B1 KR102042590 B1 KR 102042590B1 KR 1020180025200 A KR1020180025200 A KR 1020180025200A KR 20180025200 A KR20180025200 A KR 20180025200A KR 102042590 B1 KR102042590 B1 KR 102042590B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
module
injection
mixed
liquid
Prior art date
Application number
KR1020180025200A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190104731A (en
Inventor
김현태
Original Assignee
김현태
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김현태 filed Critical 김현태
Priority to KR1020180025200A priority Critical patent/KR102042590B1/en
Priority to CN201910156627.9A priority patent/CN110216094B/en
Publication of KR20190104731A publication Critical patent/KR20190104731A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102042590B1 publication Critical patent/KR102042590B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/24Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas with means, e.g. a container, for supplying liquid or other fluent material to a discharge device
    • B05B7/2489Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas with means, e.g. a container, for supplying liquid or other fluent material to a discharge device an atomising fluid, e.g. a gas, being supplied to the discharge device
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/04Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by a combination of operations
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films

Abstract

본 발명에 따른 세정액의 균등분사를 이용한 Flux 크리너 시스템은, 기 설정된 패턴으로 배치된 복수 개의 세정대상물을 이송시키는 이송모듈, 상기 세정대상물에 대응하여 복수 개의 분사노즐이 구비되며 각각의 상기 분사노즐에서 균일하게 세정액을 분사해 불순물을 제거하는 세정모듈, 상기 세정모듈과 연속하여 배치되며, 상기 세정대상물에 별도의 혼합액을 분사하여 상기 세정액 및 상기 분순물을 제거하는 정화모듈 및 상기 세정모듈 및 상기 정화모듈을 경유한 상기 세정대상물을 건조하는 건조모듈을 포함하며, 상기 세정모듈은 상기 세정대상물의 배치 패턴에 대응하여 복수 개의 상기 분사노즐이 배치되며, 각각의 분사노즐이 균일한 압력으로 상기 세정액을 분사하여 독립적으로 상기 세정대상물을 세정하는 것을 특징으로 하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템을 포함한다.Flux cleaner system using an even injection of the cleaning liquid according to the present invention, a transfer module for transferring a plurality of cleaning objects arranged in a predetermined pattern, a plurality of injection nozzles corresponding to the cleaning object is provided in each of the injection nozzles Cleaning module for uniformly spraying the cleaning liquid to remove impurities, disposed in succession with the cleaning module, the cleaning module and the cleaning module and the purification to remove the cleaning liquid and the impurities by spraying a separate mixture to the cleaning object And a drying module for drying the cleaning object via the module, wherein the cleaning module includes a plurality of the injection nozzles corresponding to an arrangement pattern of the cleaning object, and each of the injection nozzles supplies the cleaning liquid at a uniform pressure. Washing liquid bacteria, characterized in that to wash the cleaning object independently by spraying By using a spray it includes the possible Flux cleaner system independent cleaning of the cleaning object.

Description

세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템{Flux Cleaner System}Flux Cleaner System that enables independent cleaning of cleaning objects using equal spray of cleaning solution {Flux Cleaner System}

본 발명은 Flux 크리너 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수 개의 세정대상물 각각에 독립적으로 세정액을 분사하는 분사노즐을 가지며, 복수 개의 분사노즐에서 세정액을 균등분사 하여 세정대상물에 포함된 Flux등의 불순물을 동시에 제거할 수 있는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a Flux cleaner system, and more particularly, has a spray nozzle for spraying a cleaning liquid independently to each of the plurality of cleaning objects, and impurity such as Flux contained in the cleaning object by uniformly spraying the cleaning liquid from the plurality of spray nozzles. The present invention relates to a Flux cleaner system capable of independent cleaning of a cleaning object using a uniform spray of cleaning liquid capable of removing the same.

카메라 등에 사용되는 렌즈의 표면에 먼지 등의 이물질이 부착되면 렌즈 모듈을 투과하는 광에 의해 촬영되는 화상은 이물질에 의해 투과하는 빛의 양이 줄어들어 촬영된 화상의 전체가 어두워지거나 이물질의 그림자가 나타날 수 있다. If a foreign substance such as dust adheres to the surface of the lens used for a camera, etc., the image taken by the light passing through the lens module reduces the amount of light transmitted by the foreign substance, resulting in darkening of the entire image or shadow of the foreign substance. Can be.

따라서, 렌즈 제조공정에는 렌즈 표면에 부착된 렌즈의 세정작업이 필수적으로 포함되며, 이러한 세정작업은 통상적으로 에어 블로우 또는 세정액을 이용하여 이루어진다. Therefore, the lens manufacturing process essentially includes cleaning of the lens attached to the lens surface, and such cleaning is usually performed using an air blow or a cleaning liquid.

세정작업에 사용되는 세정액은 강한 휘발성을 가지고 있기 때문에 세정 작업 중에 많은 양의 세정액이 기화되어 낭비되는 문제점이 있다. Since the cleaning liquid used for the cleaning operation has a strong volatility, a large amount of the cleaning liquid is vaporized and wasted during the cleaning operation.

또한, 기화로 인해 낭비되는 세정액으로 인해 세정작업의 비용이 상승하며, 결국 렌즈 제조 비용이 상승하는 문제점이 있다.In addition, the cost of the cleaning operation is increased due to the cleaning liquid wasted due to vaporization, there is a problem that the lens manufacturing cost increases in the end.

뿐만 아니라, 세정액의 세정 시 복수 개를 동시에 세정하기 어려워 세정 가능한 세정대상물의 한계가 명확하여 세정 시간이 오래 걸리는 문제점이 있다.In addition, there is a problem in that it is difficult to clean a plurality of washing liquids at the same time when the cleaning liquid is washed, so that the limit of the washable cleaning object is clear and the cleaning time is long.

따라서 이와 같은 문제점들을 해결하기 위한 방법이 요구된다.Therefore, there is a need for a method for solving such problems.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 발명으로서, 난류유동을 이용하여 복수 개의 분사노즐에서 세정액의 균등분사가 가능하도록 구성되고, 이를 통해 복수 개의 세정대상물을 편차 없이 균일하게 세정함으로써 복수 개의 세정대상물을 동시에 세정해 전체적인 세정시간을 단축할 수 있는 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템을 제공한다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, it is configured to enable uniform spraying of the cleaning liquid in a plurality of injection nozzles using turbulent flow, thereby uniformly cleaning the plurality of cleaning objects without variation The present invention provides a Flux cleaner system capable of independent cleaning of cleaning objects that can simultaneously clean a plurality of cleaning objects and shorten the overall cleaning time.

본 출원의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Tasks of the present application are not limited to the above-mentioned tasks, and other tasks not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템은 기 설정된 패턴으로 배치된 복수 개의 세정대상물을 이송시키는 이송모듈, 상기 세정대상물에 대응하여 복수 개의 분사노즐이 구비되며 각각의 상기 분사노즐에서 균일하게 세정액을 분사해 불순물을 제거하는 세정모듈, 상기 세정모듈과 연속하여 배치되며, 상기 세정대상물에 별도의 혼합액을 분사하여 상기 세정액 및 상기 분순물을 제거하는 정화모듈, 상기 세정모듈 및 상기 정화모듈을 경유한 상기 세정대상물을 건조하는 건조모듈을 포함하며, 상기 세정모듈은 상기 세정대상물의 배치 패턴에 대응하여 복수 개의 상기 분사노즐이 배치되며, 각각의 분사노즐이 균일한 압력으로 상기 세정액을 분사하여 독립적으로 상기 세정대상물을 세정하는 것을 특징으로 한다.Flux cleaner system capable of independent cleaning of the cleaning object by using the cleaning solution equal injection of the present invention for achieving the above object, a transfer module for transferring a plurality of cleaning objects arranged in a predetermined pattern, a plurality of corresponding to the cleaning object Two injection nozzles are provided and are continuously disposed with the cleaning module and the cleaning module to remove impurities by uniformly injecting the cleaning solution from each of the injection nozzles, and spraying a separate mixed solution to the cleaning object to remove the cleaning solution and the impurities. A purging module for removing the cleaning module, a drying module for drying the cleaning object via the cleaning module, and the cleaning module, wherein the cleaning module includes a plurality of the injection nozzles corresponding to an arrangement pattern of the cleaning object. Each spray nozzle sprays the cleaning liquid at a uniform pressure to independently It is characterized by washing the object to be cleaned.

또한, 상기 세정모듈은 상기 이송모듈의 이송경로상에 배치되어 상기 세정대상물을 내부에 수용하는 세정챔버, 복수 개의 상기 분사노즐을 가지며 내부에 상기 세정액이 유동하는 유동공간이 형성되고, 상기 유동공간을 통해 상기 분사노즐 각각으로 상기 세정액을 균등하게 전달하는 균등분사유닛 및 상기 균등분사유닛 내부에 구비되어 상기 세정액의 유동을 교란해 난류유동을 발생시키며 상기 분사노즐에 상기 세정액이 고르게 분산되도록 하는 복수 개의 저항체를 포함할 수 있다.In addition, the cleaning module is disposed on the transfer path of the transfer module has a cleaning chamber for accommodating the cleaning object therein, a plurality of injection nozzles and a flow space in which the cleaning liquid flows is formed therein, the flow space A plurality of injection nozzles for equally delivering the cleaning solution to each of the injection nozzles and the inside of the equal injection unit are provided to disturb the flow of the cleaning solution to generate turbulent flow and to uniformly disperse the cleaning solution in the injection nozzles. It may include two resistors.

또한, 상기 저항체는 구형으로 형성되어 인접한 복수 개 사이에 공극을 형성할 수 있다.In addition, the resistor may be formed in a spherical shape to form voids between a plurality of adjacent ones.

또한, 상기 세정모듈은 복수 개로 구성되어 상기 이송모듈을 따라 연속하여 배치되며, 다단으로 상기 세정대상물에 상기 세정액을 분사할 수 있다.In addition, the cleaning module is composed of a plurality of continuously arranged along the transfer module, it is possible to spray the cleaning liquid to the cleaning object in multiple stages.

또한, 상기 세정모듈은 상기 정화모듈의 정화시간보다 상대적으로 긴 시간 동안 상기 세정대상물을 세정하며, 상기 정화모둘의 정화시간과 상기 세정모듈의 세정시간 차이에 대응하여 상기 세정모듈의 개수가 정해지고, 각각이 균일한 시간 동안 동작하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the cleaning module cleans the object to be cleaned for a relatively longer time than the purifying time of the purifying module, the number of the cleaning module is determined in response to the difference between the purifying time of the purifying module and the cleaning time of the cleaning module. , Each may be operated for a uniform time.

또한, 상기 정화모듈은 상기 이송모듈의 경로상에 구비되어 상기 세정대상물이 수용되는 정화챔버 및 내부에 혼합공간을 가지며, 별도로 공급되는 복수 개의 유체를 혼합한 상기 혼합액을 상기 세정대상물에 분사하는 혼합분사유닛을 포함할 수 있다.In addition, the purifying module is provided on the path of the transfer module has a purging chamber and a mixing space inside the cleaning object is accommodated, the mixing to spray the mixed liquid mixed with a plurality of fluids supplied separately to the cleaning object It may include an injection unit.

또한, 상기 정화모듈은 유체를 공급받아 하부에 형성된 유출구를 통해 분사하는 혼합분사유닛, 상기 혼합분사유닛에 청정건조공기(CDA) 주입을 위한 제1주입라인, 상기 혼합분사유닛에 탈이온수(DI Water)와 마이크로 버블이 혼합된 혼합 유체의 주입을 위한 제2주입라인, 상기 혼합분사유닛에 스팀 주입을 위한 제3주입라인을 더 포함할 수 있다.In addition, the purification module is a mixed injection unit for supplying a fluid and sprayed through the outlet formed in the lower, the first injection line for the injection of clean dry air (CDA) to the mixed injection unit, deionized water (DI) to the mixed injection unit And a second injection line for injecting a mixed fluid mixed with water) and a third injection line for injecting steam into the mixed injection unit.

또한, 상기 혼합분사유닛은 내부에 주입되는 상기 청정건조공기(CDA)와 상기 혼합 유체의 역류를 방지하는 역류방지 가이드를 더 포함할 수 있다.In addition, the mixed injection unit may further include a backflow prevention guide for preventing backflow of the clean dry air (CDA) and the mixed fluid injected therein.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 세정액의 균등분사를 이용한 Flux 크리너 시스템은 다음과 같은 효과가 있다.Flux cleaner system using the uniform injection of the cleaning solution of the present invention for solving the above problems has the following effects.

첫째, 세정대상물 각각의 위치에 복수 개의 분사노즐을 구비하여 세정액을 분사하며, 각각의 분사노즐에서 균일한 압력으로 분사함으로써, 세정대상물의 세정시간을 단축시킬 수 있는 이점이 있다.First, a plurality of injection nozzles are provided at respective positions of cleaning objects, and the cleaning liquid is sprayed, and the cleaning time of the cleaning objects is shortened by spraying at a uniform pressure in each of the spray nozzles.

둘째, 세정액을 분사하는 세정유닛 내부에 별도의 저항체를 구비하여 세정유닛 내부에서 난류유동을 발생시킴으로써, 복수 개의 분사노즐 각각에 균일한 압력으로 세정액이 전달되는 이점이 있다.Second, by providing a separate resistor in the cleaning unit for spraying the cleaning liquid to generate turbulent flow inside the cleaning unit, there is an advantage that the cleaning liquid is delivered at a uniform pressure to each of the plurality of spray nozzles.

셋째, 세정대상물에 2차적으로 혼합액을 분사하여 세척 시 마이크로 버블과 DIW가 미리 혼합된 혼합 유체를 트위스트 혼합한 혼합액이 기포를 생성하고, 그 생성된 기포가 세정대상물에 충돌하여 미세 불순물까지 제거할 수 있다.Third, when the mixed solution is sprayed on the cleaning object secondly, the mixed liquid twisted and mixed with the microbubble and the DIW mixed in advance generates bubbles, and the generated bubbles collide with the cleaning object to remove fine impurities. Can be.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

아래에서 설명하는 본 출원의 실시예의 상세한 설명뿐만 아니라 위에서 설명한 요약은 첨부된 도면과 관련해서 읽을 때에 더 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 출원을 예시하기 위한 목적으로 도면에는 실시예들이 도시되어 있다. 그러나, 본 출원은 도시된 정확한 배치와 수단에 한정되는 것이 아님을 이해해야 한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 Flux 크리너 시스템의 전체적인 모습을 개략적으로 나타낸 도면;
도 2는 본 발명의 실시 예에서 세정모듈의 구성을 개략적으로 나타낸 도면;
도 3은 도 2의 세정모듈의 내부 구성을 나타낸 도면;
도 4는 도 1의 Flux 크리너 시스템에서 정화유닛의 구성을 나타낸 도면;
도 5는 도 4의 정화유닛의 A - A단면도; 및
도 6은 도 4의 정화유닛의 B - B단면도임
The above summary as well as the detailed description of the embodiments of the present application described below will be better understood when read in connection with the accompanying drawings. Embodiments are shown in the drawings for the purpose of illustrating the present application. However, it should be understood that the present application is not limited to the precise arrangements and instrumentalities shown.
1 is a view schematically showing the overall appearance of a Flux cleaner system according to a first embodiment of the present invention;
2 is a view schematically showing the configuration of a cleaning module in an embodiment of the present invention;
3 is a view showing the internal configuration of the cleaning module of FIG.
4 is a view showing the configuration of a purification unit in the Flux cleaner system of FIG.
5 is a cross-sectional view A-A of the purifying unit of FIG. 4; And
6 is a cross-sectional view B-B of the purification unit of FIG.

이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시 예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다. 또한, 본 발명의 실시 예를 설명함에 있어서 도면에 도시된 구성은 상세한 설명에 대한 이해를 돕기 위한 예시일 뿐, 그 형상에 대하여는 제한 없이 다양할 수 있으며 이로 인해 권리범위가 제한되지 않음을 명시한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the description of this embodiment, the same name and the same reference numerals are used for the same configuration and additional description thereof will be omitted. In addition, in the following description of the embodiments of the present invention, the configuration shown in the drawings is only an example to help understand the detailed description, and the shapes thereof may be varied without limitation, thereby stating that the scope of rights is not limited. .

먼저, 본 발명에 따른 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템은 세정대상물을 이송시키며, 불순물을 세정 및 건조하기 위한 장치로써, 복수 개의 세정대상물을 기 설정된 형태로 배치하여 일괄적으로 세정한다.First, the Flux cleaner system capable of independent cleaning of a cleaning object using the uniform spray of the cleaning liquid according to the present invention transfers the cleaning object, and is a device for cleaning and drying impurities, by placing a plurality of cleaning objects in a predetermined form. Wash at once.

이와 같이 본 발명에 따른 상기 Flux 크리너 시스템은 도시된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 Flux 크리너 시스템에 대해 개략적으로 살펴보면 크게 이송모듈(100), 세정모듈(200), 정화모듈(300) 및 건조모듈(400)을 포함한다.As described above, the Flux cleaner system according to the present invention will be described in greater detail with reference to the illustrated drawings of the Flux cleaner system according to the present invention. The transfer module 100, the cleaning module 200, the purification module 300, and the drying module will be described. 400.

상기 이송모듈(100)은, 상기 세정대상물(20)을 대상위치로 이송시키는 구성으로써, 상기 세정대상물(20)이 상기 이송모듈(100)을 따라 이송하며, 상기 세정모듈(200), 상기 정화모듈(300) 및 상기 건조모듈(400)을 연속하여 경유한다.The transfer module 100 is configured to transfer the cleaning object 20 to a target position, and the cleaning object 20 is transported along the transfer module 100, and the cleaning module 200 and the purification The module 300 and the drying module 400 are continuously passed through.

구체적으로, 상기 이송모듈(100)은 프레임형태로 길게 형성되며, 길이방향을 따라 이송경로가 형성되고, 상기 세정대상물(20)은 상기 이송경로를 따라 이송된다.Specifically, the transfer module 100 is formed long in the form of a frame, a transfer path is formed along the longitudinal direction, and the cleaning object 20 is transferred along the transfer path.

여기서, 상기 이송모듈(100)은 길이방향에 따른 양단에 각각 로더(120)(Loader)와 언로더(130)(Unloader)가 각각 구비되어 상기 세정대상물(20)이 각각 안착되거나 이탈되도록 구성된다.In this case, the transfer module 100 is provided to each of the loader 120 and the unloader 130 (Unloader) at both ends in the longitudinal direction, respectively, so that the cleaning object 20 is seated or separated, respectively. .

본 실시 예에서 상기 이송모듈(100)은 도시된 바와 같이 전체를 지지하는 바디프레임(10)에 의해 일정 높이에서 배치되며, 길게 형성되어 길이방향을 따라 상기 세정대상물(20)을 이송시킨다.In this embodiment, the transfer module 100 is disposed at a predetermined height by the body frame 10 supporting the whole as shown, is formed long to transfer the cleaning object 20 along the longitudinal direction.

보다 상세하게 살펴보면 상기 이송모듈(100)은 길게 형성되어 복수 개의 롤러(112)를 포함하는 이송프레임(110), 상기 이송프레임(110)의 일측에 구비된 상기 로더(120) 및 상기 이송프레임(110)의 타측에 구비된 언로더(130)를 포함한다.Looking in more detail, the transfer module 100 is formed long and the transfer frame 110 including a plurality of rollers 112, the loader 120 and the transfer frame (one provided on one side of the transfer frame 110) It includes an unloader 130 provided on the other side of the 110.

상기 이송프레임(110)은 상기 세정대상물(20)의 이송경로를 따라 길게 형성되며 일정한 폭을 가지도록 형성된다.The transfer frame 110 is formed long along the transfer path of the cleaning object 20 and is formed to have a predetermined width.

그리고 상기 이송프레임(110)은 복수 개의 롤러(112)를 가지며, 각각이 회전하여 상기 세정대상물(20)을 이송시킨다. 이때, 상기 이송프레임(110)은 후술하는 상기 세정모듈(200), 상기 정화모듈(300) 및 상기 건조모듈(400)이 각각 이송경로상에 구비되어 안착된다.In addition, the transfer frame 110 has a plurality of rollers 112, each of which rotates to transfer the cleaning object 20. At this time, the transfer frame 110 is mounted on the cleaning path, the cleaning module 200, the purification module 300 and the drying module 400 to be described later, respectively.

본 실시 예에서 상기 이송프레임(110)은 도시된 바와 같이 일정 높이 이상에서 지지되며 상기 롤러(112)가 배치되도록 구성되고, 상기 롤러(112)의 상부에 상기 세정대상물(20)이 안착되도록 구성된다.In the present embodiment, the transfer frame 110 is configured to be supported at a predetermined height or more, as shown, the roller 112 is arranged, and configured to be seated on the cleaning object 20 on top of the roller 112. do.

이때, 상기 세정대상물(20)은 복수 개가 기 설정된 패턴으로 배치되어 별도의 이송트레이(22)에 안착된 상태로 상기 이송프레임(110)을 따라 이송된다.At this time, the plurality of cleaning objects 20 are disposed in a predetermined pattern and are transported along the transport frame 110 in a state of being seated in a separate transport tray 22.

일반적으로, 상기 세정대상물(20)은 작은 크기의 반도체 장비나 카메라모듈 등 작은 칩 형태로 구성되며, 상기 이송트레이(22)에 균일한 간격을 가지도록 배치함으로써 복수 개를 동시에 세정할 수 있다.In general, the cleaning object 20 may be configured in the form of a small chip such as a semiconductor device or a camera module of a small size, and the plurality of cleaning objects may be simultaneously cleaned by arranging the transfer object 22 at a uniform interval.

본 실시 예에서 상기 세정대상물(20)은 전자기기 등에 사용되는 카메라모듈로써, 제조 시 불순물이나 Flux등이 부착되어 세정액(30)을 통해 제거할 수 있다.In the present embodiment, the cleaning object 20 is a camera module used in an electronic device and the like, and may be removed through the cleaning liquid 30 because impurities or fluxes are attached during manufacture.

이와 같이 상기 이송모듈(100)은 복수 개의 상기 세정대상물(20)이 안착된 상기 이송트레이(22)를 대상위치까지 이송시키며, 후술하는 상기 세정모듈(200), 상기 정화모듈(300) 및 상기 건조모듈(400)을 경유하여 불순물을 제거하도록 한다.As described above, the transfer module 100 transfers the transfer tray 22 on which the plurality of cleaning objects 20 are seated to a target position. The cleaning module 200, the purification module 300, and the The impurities are removed through the drying module 400.

한편, 상기 세정모듈(200)은, 상기 세정대상물(20)을 세정하는 구성으로, 상기 세정대상물(20)의 이송경로상에 구비되어 상기 세정대상물(20)에 세정액(30)을 분사한다.On the other hand, the cleaning module 200, the configuration to clean the cleaning object 20, is provided on the transport path of the cleaning object 20 to spray the cleaning liquid 30 to the cleaning object (20).

여기서, 상기 세정모듈(200)은 이송되는 상기 세정대상물(20)을 내부에 수용한 채 각각의 상기 세정대상물(20)에 상기 세정액(30)을 분사하도록 구성된다.Here, the cleaning module 200 is configured to spray the cleaning liquid 30 to each of the cleaning objects 20 while accommodating the cleaning objects 20 to be transported therein.

구체적으로 상기 세정모듈(200)은 상술한 바와 같이 기 설정된 패턴으로 배치된 상기 세정대상물(20)을 배치에 대응하여 복수 개의 분사노즐(222)을 구비하며, 각각이 상기 세정대상물(20)에 세정액(30)을 분사한다.Specifically, the cleaning module 200 is provided with a plurality of injection nozzles 222 corresponding to the cleaning object 20 arranged in a predetermined pattern as described above, each of the cleaning object 20 The cleaning liquid 30 is sprayed.

본 발명에 따른 상기 세정모듈(200)은 크게 세정챔버(210), 균등분사유닛(220), 저항체(230) 및 조절유닛(240)를 포함한다.The cleaning module 200 according to the present invention includes a cleaning chamber 210, an equal injection unit 220, a resistor 230, and a control unit 240.

상기 세정챔버(210)는, 상기 이송모듈(100)에 의해 이송되는 상기 세정대상물(20)을 내부에 수용하며 외부와 차단하는 구성으로, 적어도 일부가 차단되는 형태로 구성되어 내부에서 상기 세정액(30)이 분사되도록 한다.The cleaning chamber 210 is configured to receive the cleaning object 20 conveyed by the transfer module 100 therein and to block the outside, and at least a part of the cleaning chamber 210 to block the cleaning solution from the inside. 30) to be sprayed.

구체적으로 상기 세정챔버(210)는 일반적인 챔버 형태로 형성되며, 내부공간(212)이 형성되어 상기 세정대상물(20)에 분사되는 상기 세정액(30)이 외부로 노출되지 않도록 차단한다.In detail, the cleaning chamber 210 is formed in a general chamber shape, and an internal space 212 is formed to block the cleaning liquid 30 injected to the cleaning object 20 from being exposed to the outside.

본 실시 예에서 상기 세정챔버(210)는 도시된 바와 같이 사각 형태의 챔버를 이루고 있으며, 내부에 상기 이송트레이(22)와 함께 상기 세정대상물(20)이 수용될 수 있도록 구성된다.In the present embodiment, the cleaning chamber 210 forms a rectangular chamber as shown, and is configured to accommodate the cleaning object 20 together with the transfer tray 22 therein.

이때, 상기 세정챔버(210) 내부에서는 후술하는 상기 균등분사유닛(220)이 구비되며, 상기 균등분사유닛(220)에 의해 상기 세정액(30)이 상기 세정대상물(20)에 분사된다.At this time, in the cleaning chamber 210, the equal injection unit 220 to be described later is provided, and the cleaning liquid 30 is injected into the cleaning object 20 by the equal injection unit 220.

상기 균등분사유닛(220)은 상기 세정챔버(210) 내부에서 상기 세정액(30)을 상기 세정대상물(20)에 분사하는 구성으로, 복수 개의 분사노즐(222)을 포함하며 각각의 상기 분사노즐(222)이 균일한 압력으로 상기 세정액(30)을 분사한다.The equal injection unit 220 is configured to spray the cleaning liquid 30 to the cleaning object 20 in the cleaning chamber 210, and includes a plurality of injection nozzles 222, each of the injection nozzles ( 222 sprays the cleaning liquid 30 at a uniform pressure.

구체적으로, 상기 균등분사유닛(220)은 복수 개의 상기 분사노즐(222)이 구비되며, 상기 이송트레이(22)에 안착된 상기 세정대상물(20)에 고압의 세정액(30)을 분사하여 상기 세정대상물(20)을 세정한다. Specifically, the equal injection unit 220 is provided with a plurality of injection nozzles 222, by spraying a high-pressure cleaning solution 30 to the cleaning object 20 seated on the transfer tray 22 to the cleaning The object 20 is cleaned.

여기서, 상기 분사노즐(222)은 상술한 상기 이송트레이(22)에서 상기 세정대상물(20)이 배치된 형태에 대응하여 각각 1:1 매칭이 되도록 구성된다.Here, the injection nozzles 222 are configured to be 1: 1 matched, respectively, corresponding to the shape in which the cleaning object 20 is disposed in the transfer tray 22 described above.

즉, 상기 분사노즐(222)은 각각의 상기 세정대상물(20)에 대응하여 복수 개가 구성되며, 복수 개가 균일한 속도와 압력으로 상기 세정액(30)을 분사하여 상기 세정대상물(20)을 세정한다.That is, a plurality of injection nozzles 222 are configured corresponding to each of the cleaning objects 20, and the plurality of injection nozzles 222 sprays the cleaning liquid 30 at a uniform speed and pressure to clean the cleaning object 20. .

상기 세정액(30)은 다양한 종류가 사용될 수 있으며, 특히, HFE (hydrofluoroether: 수소화불화에테르)가 사용되는 것이 바람직하다. Various kinds of the cleaning liquid 30 may be used, and in particular, HFE (hydrofluoroether) is preferably used.

이와 같이 상기 균등분사유닛(220)은 내부에 별도의 유동공간(224)을 가지며, 상기 세정액(30)을 공급 받아 각각의 상기 분사노즐(222)로 분배하여 전달한다.As described above, the equal injection unit 220 has a separate flow space 224 therein, receives the cleaning solution 30, and distributes the delivered injection nozzle 222 to each injection nozzle 222.

이에 따라 상기 분사노즐(222) 각각은 대응하는 위치의 상기 세정대상물(20)에 상기 세정액(30)을 분사하여 세정한다.Accordingly, each of the spray nozzles 222 sprays the cleaning liquid 30 onto the cleaning object 20 at a corresponding position to clean the spray nozzles 222.

여기서, 상기 유동공간(224)에는 상기 저항체(230)가 충진되어 상기 세정액(30)의 이송에 따른 저항을 발생시킨다.Here, the resistor 230 is filled in the flow space 224 to generate resistance due to the transfer of the cleaning liquid 30.

구체적으로, 상기 저항체(230)는 상기 균등분사유닛(220) 내부에 구비되어 상기 세정액(30)의 유동을 교란시키며 난류유동을 발생시킨다. 그리고 상기 유동공간(224) 내부에서 상기 세정액(30)의 난류유동이 발생함에 따라 복수 개의 상기 분사노즐(222)에 상기 세정액(30)이 고르게 분산되어 공급된다.Specifically, the resistor 230 is provided inside the equal injection unit 220 to disturb the flow of the cleaning liquid 30 and generate turbulent flow. As the turbulent flow of the cleaning liquid 30 occurs in the flow space 224, the cleaning liquid 30 is uniformly distributed and supplied to the plurality of injection nozzles 222.

즉, 상기 균등분사유닛(220)에 공급되는 상기 세정액(30)은 상기 유동공간(224)을 경유하며 분산되어 상기 분사노즐(222) 각각으로 전달되는데, 상기 저항체(230)가 상기 유동공간(224)에 구비됨에 따라 상기 유동공간(224) 전체에 상기 세정액(30)이 고르게 분산될 수 있다.That is, the cleaning liquid 30 supplied to the equal injection unit 220 is dispersed via the flow space 224 and transferred to each of the injection nozzles 222, wherein the resistor 230 is the flow space ( As provided in the 224, the cleaning liquid 30 may be evenly distributed in the entire flow space 224.

본 발명에서 상기 균등분사유닛(220)은 복수 개의 상기 분사노즐(222)이 상기 유동공간(224)과 연통되어 있으나, 상기 유동공간(224)으로 공급되는 공급구(226)의 경우 상대적으로 적은 개수가 구비된다.In the present invention, the equal injection unit 220 has a plurality of injection nozzles 222 are in communication with the flow space 224, but in the case of the supply port 226 supplied to the flow space 224 is relatively small The number is provided.

일반적으로, 유체가 하나의 관을 통해 복수 개로 분기되어 분사되는 경우 유체를 균일하게 제품에 분사할 수 없는 단점이 있으며, 이를 해결하기 위해 유체의 이동경로상에 저항체를 구비함으로써 유체에 흐름을 분산시킨 후 Nozzle 로 분사되는 유체의 유량과 압력 속도를 균일할 수 있다.In general, there is a disadvantage in that the fluid cannot be evenly sprayed on the product when the fluid is branched and ejected through a single pipe. In order to solve this problem, the flow is distributed in the fluid by providing a resistor on the flow path of the fluid. After the injection, the flow rate and pressure velocity of the fluid injected into the nozzle can be uniform.

이때, 상기 유동공간(224)에 상기 저항체(230)가 없는 경우 상기 복수 개의 상기 분사노즐(222) 중 상기 공급구(226)와 인접하게 배치된 것이 상대적으로 더 강한 수압으로 상기 세정액(30)이 분사된다.In this case, when the resistor 230 is not present in the flow space 224, one of the plurality of injection nozzles 222 adjacent to the supply port 226 may be disposed at a relatively stronger hydraulic pressure. Is sprayed.

하지만, 본 발명과 같이 상기 유동공간(224) 내에 상기 저항체(230)가 구비됨으로써, 상기 유동공간(224)에서 난류유동이 발생하며, 상기 공급구(226)와 인접 여부에 상관 없이 복수 개의 상기 분사노즐(222)에 상기 세정액(30)이 고르게 분산되어 공급된다.However, as the resistor 230 is provided in the flow space 224 as in the present invention, turbulent flow occurs in the flow space 224, and a plurality of the above regardless of whether the supply port 226 is adjacent to the supply port 226. The cleaning liquid 30 is evenly supplied to the injection nozzle 222.

여기서, 상기 저항체(230)는 구 형상을 가지며 인접한 복 수개 사이에 공극을 형성함으로써, 상기 유동공간(224) 내부에서 상기 세정액(30)의 난류유동이 발생될 수 있도록 구성된다.Here, the resistor 230 has a spherical shape and is formed such that turbulent flow of the cleaning liquid 30 can be generated in the flow space 224 by forming voids between a plurality of adjacent ones.

이와 같이 상기 균등분사유닛(220)은 복수 개의 상기 분사노즐(222)을 통해 상기 세정대상물(20) 각각에 독립적으로 상기 세정액(30)을 분사하며, 내부에 상기 저항체(230)를 구비함으로써 상기 분사노즐(222) 각각에서 고르게 상기 세정액(30)이 분사될 수 있도록 구성된다.As described above, the equal injection unit 220 sprays the cleaning solution 30 independently of each of the cleaning objects 20 through a plurality of the injection nozzles 222, and includes the resistor 230 therein to provide the resistor 230. The cleaning solution 30 may be evenly sprayed from each spray nozzle 222.

한편, 상기 위치조절유닛(240)은 상기 세정챔버(210) 내부에서 상기 균등분사유닛(220)을 지지하는 구성으로, 상기 균등분사유닛을 일정 높이에서 배치시키며 선택적으로 위치를 조절한다.On the other hand, the position adjustment unit 240 is configured to support the equal injection unit 220 in the cleaning chamber 210, to arrange the equal injection unit at a predetermined height and to selectively adjust the position.

상기 위치조절유닛(240)은 도시된 바와 같이 적어도 하나 이상의 상기 균등분사유닛(220)이 상기 세정대상물(20)의 상부에 배치되도록 지지하며, 각각의 상기 분사노즐(222)이 상기 세정대상물(20)의 위치에 매칭되도록 조절한다.The position adjusting unit 240 supports at least one of the equal injection units 220 to be disposed on the cleaning object 20, as shown in FIG. Adjust to match the position of 20).

본 실시예에서 상기 위치조절유닛(240)은 상기 이송모듈(100)의 폭에 대응하여 이격되며 상하방향으로 배치된 수직바(242) 및 상기 수직바(242)의 상부에서 상호 연결하는 수평바(244)를 가지며, 상기 균등분사유닛(220)은 상기 수평바(244)상에 적어도 하나 이상이 배치된다.In the present embodiment, the position adjusting unit 240 is spaced to correspond to the width of the transfer module 100 and the vertical bar disposed in the vertical direction 242 and the horizontal bar interconnected at the top of the vertical bar 242 244, the equal injection unit 220 is at least one is disposed on the horizontal bar (244).

그리고, 상기 균등분사유닛(220)은 상기 분사노즐(222)이 상기 세정대상물(20)을 향하도록 배치된 상태에서 횡 방향을 따라 위치가 조절된다.In addition, the equal injection unit 220 is adjusted in the horizontal direction in a state where the injection nozzle 222 is disposed to face the cleaning object 20.

이에 따라, 상기 분사노즐(222)의 횡 방향에 따른 위치가 조절되며 상기 이송트레이(22)상에 배치된 상기 세정대상물(20)에 대응하도록 배치될 수 있다.Accordingly, the position along the transverse direction of the injection nozzle 222 may be adjusted to correspond to the cleaning object 20 disposed on the transfer tray 22.

이와 같이 상기 위치조절유닛(240)은 상기 균등분사유닛(220)을 일정 높이에서 지지함과 동시에 상기 분사노즐(222)이 상기 세정대상물(20) 각각에 상기 세정액(30)을 분사할 수 있도록 위치를 조절한다.As such, the position adjusting unit 240 supports the equal injection unit 220 at a predetermined height, and at the same time, the spray nozzle 222 can spray the cleaning liquid 30 to each of the cleaning objects 20. Adjust the position.

이와 같이 본 발명에 따른 상기 세정모듈(200)은 상기 세정챔버(210) 상기 균등분사유닛(220), 상기 저항체(230) 및 상기 위치조절유닛(240)을 포함하며, 상기 세정대상물(20)에 상기 세정액(30)을 분사하여 플럭스(Flux) 등의 불순물을 제거한다.Thus, the cleaning module 200 according to the present invention includes the cleaning chamber 210, the equal injection unit 220, the resistor 230 and the position control unit 240, the cleaning object 20 The cleaning solution 30 is sprayed on to remove impurities such as flux.

한편, 상기 정화모듈(300)은 상기 세정대상물(20)의 이동경로를 따라 상기 세정모듈(200)과 연속하여 배치되며, 상기 세정대상물(20)에 별도의 혼합액(40)을 분사하여 상기 세정액(30) 및 상기 불순물을 제거한다.On the other hand, the purification module 300 is disposed in series with the cleaning module 200 along the movement path of the cleaning object 20, by spraying a separate mixed liquid 40 to the cleaning object 20 to the cleaning liquid 30 and the impurities are removed.

구체적으로 상기 정화모듈(300)은 상기 세정대상물(20)이 상기 세정모듈(200)을 경유하여 1차적으로 세정된 후 추가적으로 세정하는 구성으로, 상기 혼합액(40)을 분사하여 상기 세정대상물(20)에 남아있는 Flux등의 불순물 및 상기 세정액(30)을 제거한다.Specifically, the purification module 300 is configured to additionally clean after the cleaning object 20 is first washed via the cleaning module 200. The cleaning object 20 is sprayed with the mixed liquid 40. Remove impurities such as Flux and the cleaning liquid 30 remaining in the C).

이때, 상기 정화모듈(300)은 상기 세정모듈(200)과 별도로 구성되며 상기 세정모듈(200)을 경유한 후 이송되는 상기 세정대상물(20)의 이송경로상에 구비되어 상기 세척한다.In this case, the purification module 300 is configured separately from the cleaning module 200 and provided on the transfer path of the cleaning object 20 which is transferred after passing through the cleaning module 200 to wash the cleaning module 200.

본 발명에 따른 상기 정화모듈(300)은 크게 정화챔버(310), 혼합분사유닛(320), 상기 혼합분사유닛(320)에 청정건조공기(CDA) 주입을 위한 제1주입라인(330), 상기 혼합분사유닛(320)에 탈이온수(DI Water)와 마이크로 버블이 혼합된 혼합 유체의 주입을 위한 제2주입라인(340) 및 제3주입라인(350)을 포함한다.The purification module 300 according to the present invention includes a purification chamber 310, a mixing injection unit 320, a first injection line 330 for injecting clean dry air (CDA) into the mixing injection unit 320, The injection unit 320 includes a second injection line 340 and a third injection line 350 for the injection of the mixed fluid mixed with DI water and the micro bubble.

상기 정화챔버(310)는 내부에 별도의 수용공간(312)이 형성되며 상기 세정대상물(20)을 내부에 수용한다.The purification chamber 310 has a separate receiving space 312 is formed therein and accommodates the cleaning object 20 therein.

상기 정화챔버(310)의 구체적인 구성은 상술한 상기 세정챔버(210)와 유사하게 형성되며, 내부에 상기 혼합분사유닛(320)이 구비되고, 상기 혼합분사유닛(320)에서 분사되는 상기 혼합액(40)이 외부로 노출되는 것을 차단한다.A specific configuration of the purification chamber 310 is formed similarly to the cleaning chamber 210 described above, and the mixed injection unit 320 is provided therein, and the mixed liquid injected from the mixed injection unit 320 ( 40) prevents exposure to the outside.

본 실시 예에서 상기 정화챔버(310)는 상기 세정챔버(210)와 동일한 형태로 형성되어 상기 이송모듈(100)상에 구비되며, 내부의 수용공간(312)에 상기 이송트레이(22)가 수용될 수 있도록 구성된다.In this embodiment, the purification chamber 310 is formed in the same shape as the cleaning chamber 210 is provided on the transfer module 100, the transfer tray 22 is accommodated in the receiving space 312 therein It is configured to be.

한편, 상기 혼합분사유닛(320)은 상기 정화챔버(310) 내부에 구비되어 상기 세정대상물(20)에 상기 혼합액(40)을 분사하는 구성으로, 외부로부터 유체를 공급받아 하부에 형성된 유출구를 통해 상기 세정대상물(20)에 분사한다.On the other hand, the mixed injection unit 320 is provided in the purification chamber 310 to inject the mixed liquid 40 to the cleaning object 20, the fluid is supplied from the outside through the outlet formed in the lower Spray to the cleaning object (20).

여기서, 상기 혼합분사유닛(320)은 내부에 별도의 혼합공간(321)이 형성되며 상기 제1주입라인(330) 내지 상기 제3주입라인(350)이 연결되고, 상기 제1주입라인(330) 내지 상기 제3주입라인(350)을 통해 각각 서로 다른 유체를 공급받아 내부에서 혼합한다. 그리고 혼합된 상기 혼합액(40)은 상기 유출구를 통해 상기 세정대상물(20)로 분사된다. Here, the mixing spray unit 320 has a separate mixing space 321 is formed therein, the first injection line 330 to the third injection line 350 is connected, the first injection line 330 ) Through the third injection line 350 is mixed with each other is supplied with a different fluid. The mixed liquid 40 is injected into the cleaning object 20 through the outlet.

구체적으로, 상기 혼합분사유닛(320)은 세정대상물(20)의 미세세정을 실시할 수 있도록 상기 제1주입라인(330) 내지 상기 제3주입라인(350)으로부터 스팀과 청정건조공기 및 유체를 공급받아 이를 혼합하여 분사함으로써 미세세정을 수행할 수 있도록 한다.Specifically, the mixed spraying unit 320 is used to clean steam and clean dry air and fluid from the first injection line 330 to the third injection line 350 so as to perform fine cleaning of the cleaning object 20. It is supplied so that it can be mixed and sprayed to perform fine cleaning.

본 발명에 따른 상기 혼합분사유닛(320)은 청정건조공기(CDA) 주입을 위한 제1주입라인(330)과, 탈이온수(DI Water)와 마이크로 버블이 혼합된 혼합 유체(DI + Micro Bubble)의 주입을 위한 제2주입라인(340)과, 스팀 주입을 위한 제3주입라인(350)이 각각 연결된다.The mixed injection unit 320 according to the present invention is a first injection line 330 for injection of clean dry air (CDA), a mixed fluid (DI + Micro Bubble) mixed with DI water and micro bubbles. The second injection line 340 for injection of the and the third injection line 350 for steam injection are connected respectively.

한편, 상기 제1주입라인(330)은 외부로부터 청정 건조공기를 공급받아 상기 트위스트 노즐부로 공급하며 별도의 밸브(미도시)와 레귤레이터(미도시)에 의해 주입유량과 주입압이 조절된다.On the other hand, the first injection line 330 is supplied with clean dry air from the outside and supplied to the twist nozzle unit, the injection flow rate and the injection pressure is controlled by a separate valve (not shown) and a regulator (not shown).

그리고 상기 제2주입라인(340)은 별도의 혼합기(미도시)에 의해 생성된 혼합유체를 공급하며, 상기 제1주입라인(330)과 마찬가지로 밸브와 레귤레이터에 의해 주입유량과 주입압이 조절된다.The second injection line 340 supplies a mixed fluid generated by a separate mixer (not shown), and the injection flow rate and the injection pressure are controlled by a valve and a regulator like the first injection line 330.

이때, 상기 혼합기에서 생성된 상기 혼합유체는 별도의 버퍼탱크(미도시)를 경유하며 상기 혼합분사유닛(320)으로 공급되기 전에 일시적으로 저장될 수도 있다.In this case, the mixed fluid generated in the mixer may be temporarily stored before being supplied to the mixing spray unit 320 via a separate buffer tank (not shown).

한편, 상기 제3주입라인(350)은 상기 혼합분사유닛(320)을 스팀을 공급하는 구성으로, 일단에 혼합분사유닛(320)이 결합되면서 타단에는 스팀 발생기(Steam generator)결합된다.On the other hand, the third injection line 350 is configured to supply steam to the mixing spray unit 320, the mixing spray unit 320 is coupled to one end is a steam generator (steam generator) is coupled to the other end.

일 예로, 스팀 발생기는 약 120℃의 스팀을 고압으로 주입하며 혼합분사유닛(320) 내에서 다른 주입물들과 트위스트 혼합되면서 60 내지 70℃로 온도가 저하될 수 있다. As an example, the steam generator injects steam at about 120 ° C. at high pressure, and the temperature may be lowered to 60 to 70 ° C. while twisted mixing with other injection materials in the mixing spray unit 320.

스팀 발생기는 병렬로 배치되는 다수의 히터 봉을 구비하며, 히터 봉의 가열에 따라 생성되는 스팀 량과 제3주입라인(350)을 통해 주입되는 스팀 량에 따라 스팀 발생기에 주입되는 탈이온수(DI Water) 량을 조절하여 혼합분사유닛(320)에 24시간 스팀을 주입할 수 있다.The steam generator includes a plurality of heater rods arranged in parallel, and deionized water injected into the steam generator according to the amount of steam generated by heating the heater rod and the amount of steam injected through the third injection line 350 (DI Water). Steam can be injected into the mixing injection unit 320 by adjusting the amount).

이와 같이 상기 제1주입라인(330) 내지 상기 제3주입라인(350)이 형성되며, 상기 혼합분사유닛(320)으로 각각의 유체가 공급된다.As such, the first injection line 330 to the third injection line 350 are formed, and the respective fluids are supplied to the mixed injection unit 320.

이와 같이 상기 정화모듈(300)은, 상기 정화챔버(310) 내부에서 상기 세정대상물(20)이 수용하며, 상기 혼합분사유닛(320)으로 공급된 유체들을 혼합한 상기 혼합액(40)을 상기 세정대상물(20)에 분사함으로써, 상기 세정대상물(20)을 세척한다.In this way, the purification module 300, the cleaning object 20 is accommodated in the cleaning chamber 310, and the cleaning of the mixed liquid 40 mixed with the fluid supplied to the mixed injection unit 320 By spraying on the object 20, the cleaning object 20 is washed.

한편, 상기 혼합분사유닛(320)의 구성에 대해 보다 상세하게 살펴보면, 상기 혼합분사유닛(320)은 On the other hand, when looking at the configuration of the mixed injection unit 320 in more detail, the mixed injection unit 320

분사챔버(322), 제1주입부(323), 제2주입부(324), 제3주입부(325), 유출구(326) 및 역류방지 가이드(328)를 포함한다.The injection chamber 322, the first injection unit 323, the second injection unit 324, the third injection unit 325, the outlet 326, and the backflow prevention guide 328 are included.

제1주입부(323)와 제2주입부(324)와 제3주입부(325)는 상기 제1주입라인(330) 내지 제3주입라인(350)에 대응하며, 상술한 바와 같이 각각 청정건조공기(CDA), 혼합유체 및 스팀등이 상기 분사챔버(322) 내부로 주입되도록 연결되는 구성이다.The first injection unit 323, the second injection unit 324, and the third injection unit 325 correspond to the first injection line 330 to the third injection line 350, and are clean as described above. Dry air (CDA), mixed fluid and steam is configured to be injected into the injection chamber 322.

그리고, 상기 분사챔버(322)는 상기 제1주입부(323) 내지 제3주입부(325)를 통해 복수의 유체가 유입되어 저장 및 혼합되는 장소를 제공하는 것으로서, 내부에 혼합공간(321)이 형성된다. In addition, the injection chamber 322 provides a place where a plurality of fluids are introduced, stored and mixed through the first injection part 323 to the third injection part 325, and the mixing space 321 therein. Is formed.

또한, 상기 분사챔버(322)는 바닥에 혼합된 상기 혼합액(40)을 외부로 분사하는 적어도 하나 이상의 유출구(326)가 형성된다. In addition, the injection chamber 322 is formed with at least one outlet 326 for injecting the mixed liquid 40 mixed in the bottom to the outside.

한편, 상기 제1주입부(323) 내지 상기 제3주입부(325)에 대해 살펴보면, 상기 제1주입라인(330) 내지 상기 제3주입라인(350)이 각각 연결되어 상기 분사챔버(322) 내부로 청정건조공기, 상기 혼합유체 및 스팀을 공급하도록 한다.On the other hand, with reference to the first injection unit 323 to the third injection unit 325, the first injection line 330 to the third injection line 350 is connected to each of the injection chamber 322 Supply clean dry air, the mixed fluid and steam to the inside.

이하 설명에서 상기 청정건조공기는 제1유체, 혼합유체는 제2유체로 하여 설명한다.In the following description, the clean dry air is described as a first fluid and a mixed fluid as a second fluid.

구체적으로 제1주입부(323) 및 제2주입부(324)는 분사챔버(322)의 상부 일측에 구비되어 분사챔버(322) 내부로 유체가 유입되는 통로 역할을 하는 장치이다. In detail, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 are provided at one side of the upper portion of the injection chamber 322 to serve as a passage through which fluid flows into the injection chamber 322.

제1주입부(323)는 분사챔버(322)의 몸체(110) 상부 일측에 구비되어 제1유체(CDA)가 유입되는 통로 역할을 수행하는 장치이다. 이러한 제1주입부(323)는 분사챔버(322) 내부로 소정 길이 인입되도록 구비되고, 분사챔버(322) 내부로 인입된 제1주입부(323)는 하방으로 절곡 형성된다. The first injection part 323 is provided on one side of the body 110 of the injection chamber 322 to serve as a passage through which the first fluid CDA flows. The first injection part 323 is provided to be introduced into the injection chamber 322 by a predetermined length, and the first injection part 323 introduced into the injection chamber 322 is bent downward.

제2주입부(324)는 제2유체(DI와 마이크로 버블의 혼합 유체)가 유입되는 통로를 제공하는 장치이다. 이러한, 분사챔버(322)의 몸체(110) 상부 일 측, 상세하게는 제3주입부(325)를 기준으로 제1주입부(323)와 대향하도록 구비되고, 제1주입부(323)와 마찬가지로 하부로 적곡된 형상으로 이루어진다. 이때, 제1주입부(323) 및 제2주입부(324)의 하단은 제1주입부(323)에서 공급되는 CDA과 제2주입부(324)에서 공급되는 DI 및 마이크로 버블의 혼합 유체를 동일한 위치에서 공급하기 위하여 동일한 높이로 이루어지도록 한다. The second injection portion 324 is a device that provides a passage through which the second fluid (mixed fluid of the DI and the micro bubble) flows. The upper side of the body 110 of the injection chamber 322, in detail, is provided to face the first injection unit 323 on the basis of the third injection unit 325, and the first injection unit 323 is provided. Similarly, it is made in a shape that is lowered. At this time, the lower end of the first injection unit 323 and the second injection unit 324 is a mixed fluid of the DI and micro bubbles supplied from the CDA and the second injection unit 324 supplied from the first injection unit 323. They must be of the same height to feed at the same location.

그러나, 사용 양태에 따라서는 제1주입부(323) 및 제2주입부(324)를 주입 유체의 종류 등에 따라 그 높이를 서로 다르게 형성하여 혼합 성능을 향상시킬 수도 있다. However, depending on the use mode, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 may have different heights depending on the type of injection fluid, for example, to improve mixing performance.

본 발명에서 사용되는 제1유체 및 제2유체의 일 예로, 제1유체는 CDA(Clean Dried Air)이고, 제2유체는 DIW(Deionized Water)와 마이크로 버블이 혼합된 유체일 수 있다.As an example of the first fluid and the second fluid used in the present invention, the first fluid is CDA (Clean Dried Air), and the second fluid may be a fluid mixed with DIW (Deionized Water) and microbubbles.

이와 같이 상기 제1주입부(323) 및 상기 제2주입부(324)가 구성되며, 본 발명에서는 도시된 바와 같이 상기 제1주입부(323) 및 상기 제2주입부(324)가 상기 분사챔버(322)의 측면에서 복수 개가 이격 배치되며 각각이 연통되어 상기 제1주입라인(330)과 상기 제2주입라인(340)에 연결된다.As such, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 are configured, and as shown in the present invention, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 are sprayed. A plurality of spaced apart from each other in the side of the chamber 322 is connected to each other is connected to the first injection line 330 and the second injection line 340.

여기서, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 상기 제1주입부(323) 및 상기 제2주입부(324)는 상기 몸체(110)의 내부에서 유로가 분기되어 복수 개가 상기 분사챔버(322) 내부에 배치된다.5 and 6, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 have a plurality of flow paths branched inside the body 110 such that the plurality of injection chambers 322 are formed. It is placed inside.

즉, 상기 제1주입부(323)는 상기 분사챔버(322)의 측면에서 횡 방향을 따라 복수 개로 분기되며, 상기 제1주입라인(330)을 통해 공급되는 상기 제1유체를 상기 혼합공간(321)으로 공급한다. 그리고 상기 제2주입부(324) 역시 상기 제1주입부(323)와 대향하는 위치에서 유사하게 형성된다.That is, the first injection part 323 is divided into a plurality in the transverse direction at the side of the injection chamber 322, the mixing space (1) the first fluid supplied through the first injection line 330 321). The second injection portion 324 is also similarly formed at a position opposite to the first injection portion 323.

제3주입부(325)는 분사챔버(322)의 상부 중심 일측에 형성된 관통공을 통해 결합되어 분사챔버(322)의 내부로 고온, 고압의 스팀을 공급하는 장치이다. The third injection portion 325 is a device that is coupled through the through-hole formed on one side of the upper center of the injection chamber 322 to supply high temperature, high pressure steam to the interior of the injection chamber 322.

제3주입부(325)를 통해 고온, 고압의 스팀이 공급됨으로써 분사챔버(322) 내부에서는 교반기와 같은 별도의 유체 혼합수단을 사용하지 않더라도, 고압으로 유입되는 스팀에 의해 제1유체, 제2유체 및 스팀이 분사챔버(322)의 내벽면과 충돌하며, 트위스터 방식에 의해 혼합이 이루어진다. 또한, 고압으로 유입되는 스팀에 의해 분사챔버(322) 내부의 압력이 상승하고, 이를 통해 분사챔버(322) 내부에서 상기 혼합액(40)을 유출구(326)를 통해 고압으로 분출할 수 있다.The high-temperature, high-pressure steam is supplied through the third injection unit 325, so that the first fluid and the second fluid are supplied by the steam introduced at a high pressure even when a separate fluid mixing means such as a stirrer is not used in the injection chamber 322. Fluid and steam collide with the inner wall surface of the injection chamber 322, and mixing is performed by a twister method. In addition, the pressure inside the injection chamber 322 is increased by the steam introduced at a high pressure, through which the mixed liquid 40 may be ejected at a high pressure through the outlet 326 in the injection chamber 322.

또한, 스팀은 고압으로 공급됨으로써 분사챔버(322) 내부에서 혼합되는 세정액(30)을 소정 온도로 가열함으로써 세정 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, since the steam is supplied at a high pressure, the cleaning efficiency 30 may be further improved by heating the cleaning liquid 30 mixed in the injection chamber 322 to a predetermined temperature.

유출구(326)는 분사챔버(322)의 하단에 적어도 하나 이상 형성된다. 이러한 유출구(326)는 가능하면 제1주입부(323), 제2주입부(324) 및 제3주입부(325)의 중심축과 동일선상에 위치하지 않도록 형성한다. 만일, 유출구(326)가 제1주입부(323), 제2주입부(324) 및 제3주입부(325) 중 어느 하나와 일치하는 위치에 구비되면 충분히 혼합되지 않은 유체가 유출구(326)를 통해 바로 배출될 수 있기 때문이다. At least one outlet 326 is formed at a lower end of the injection chamber 322. The outlet 326 is formed such that it is not located on the same line as the central axis of the first injection portion 323, the second injection portion 324, and the third injection portion 325, if possible. If the outlet 326 is provided at a position coincident with any one of the first inlet 323, the second inlet 324, and the third inlet 325, the fluid that is not sufficiently mixed is outlet 326. Because it can be discharged directly through.

또한, 고압으로 공급되는 고압의 스팀이 분사챔버(322)의 바닥면에 충돌 후 리바운딩(Rebounding)되며 복수의 유체들을 다시 한번 혼합하여 혼합을 보다 용이하게 할 수 있기 때문에, 유출구(326)는 각각의 주입부(323, 324, 325)들과 동일선상에 위치하지 않도록 구비되는 것이 바람직하다.In addition, since the high-pressure steam supplied at a high pressure impinges on the bottom surface of the injection chamber 322 and then rebounds and mixes a plurality of fluids again to make mixing easier, the outlets 326 are respectively It is preferable that the injection parts 323, 324, and 325 of the injection holes are not positioned on the same line.

유출구(326)의 상부 및 하부 양측 종단은 세정액(30)의 유입 및 확산을 용이하게 하기 위하여 세정액(30)이 유입되는 일측 종단은 유출구(326) 방향으로 갈수록 점차 좁아지는 테이퍼가 형성되어 있고, 타측 종단은 유출구(326)에서 분사되는 방향으로 점차 넓어지는 테이퍼가 형성될 수 있다. 이와 같이, 양측에 테이퍼를 형성함으로써 세정액(30)의 유입은 보다 용이해지고, 세정액(30)이 분사되는 종단에서는 세정액(30)의 확장이 용이해 진다. Both ends of the upper and lower ends of the outlet 326 have a taper that gradually narrows toward the outlet 326 in order to facilitate the inflow and diffusion of the cleaning liquid 30. The other end may be formed with a taper gradually widening in the direction of injection from the outlet 326. Thus, by providing taper on both sides, the inflow of the cleaning liquid 30 becomes easier, and the expansion of the cleaning liquid 30 becomes easy at the terminal to which the cleaning liquid 30 is injected.

이와 같이 상기 혼합분사유닛(320)이 구성됨으로써, 상기 혼합액(40)을 생성하여 상기 세정대상물(20)에 분사할 수 있다.As the mixed spraying unit 320 is configured as described above, the mixed liquid 40 may be generated and sprayed onto the cleaning target 20.

한편, 본 발명에 상기 혼합분사유닛(320)은 별도의 역류방지 가이드(328)를 더 포함할 수 있다. 상기 역류방지 가이드(328)는 상기 분사챔버(322) 내부의 상기 혼합공간(321)에 형성되며, 상기 분사챔버(322)의 측면에서 공급되는 상기 제1유체 및 상기 제2유체를 하부방향으로 유도함으로써 역류를 방지한다.On the other hand, the mixed injection unit 320 in the present invention may further include a separate backflow prevention guide 328. The backflow prevention guide 328 is formed in the mixing space 321 inside the injection chamber 322, and the first fluid and the second fluid supplied from the side of the injection chamber 322 in the downward direction. Induction prevents backflow.

구체적으로 상기 역류방지 가이드(328)는 도시된 바와 같이 상기 혼합공간(321) 내부에서 상기 제1주입부(323) 또는 상기 제2주입부(324) 중 적어도 어느 하나의 상부에 인접하게 배치되며, 기 설정된 길이를 가지고 돌출 형성된다.Specifically, the backflow prevention guide 328 is disposed adjacent to the upper portion of at least one of the first injection portion 323 or the second injection portion 324 in the mixing space 321 as shown. It is protruded to have a predetermined length.

이때, 상기 역류방지 가이드(328) 상기 제1주입부(323) 또는 상기 제2주입부(324)의 상부에서 하향 경사를 가지며 돌출 형성되어 역류가 발생하는 것을 방지한다.In this case, the backflow prevention guide 328 is formed to protrude downwardly from the upper portion of the first injection portion 323 or the second injection portion 324 to prevent backflow from occurring.

본 실시에에서 상기 역류방지 가이드(328)는 상기 제1주입부(323) 및 상기 제2주입부(324)의 상부에 각각 독립적으로 구비되며, 횡 방향을 따라 길게 형성된다.In the present embodiment, the non-return guide 328 is provided on the upper portions of the first injection portion 323 and the second injection portion 324, respectively, and is formed long in the transverse direction.

여기서, 도시된 바와 같이 상기 제1주입부(323) 및 상기 제2주입부(324)는 서로 마주보는 형태로 배치되며, 각각 복수 개로 횡 방향을 따라 이격되어 배치된다.As illustrated, the first injection unit 323 and the second injection unit 324 are disposed to face each other, and are spaced apart from each other in a lateral direction.

이에 따라 상기 제1주입라인(330) 및 상기 제2주입라인(340)으로부터 공급되는 상기 제1유체 및 상기 제2유체가 상기 제1주입부(323)와 상기 제2주입부(324)의 유로를 따라 분기되어 상기 분사챔버(322) 내부로 공급된다.Accordingly, the first fluid and the second fluid supplied from the first injection line 330 and the second injection line 340 of the first injection part 323 and the second injection part 324. Branched along the flow path is supplied into the injection chamber 322.

그리고, 상기 역류방지 가이드(328)는 이와 같이 공급되는 상기 제1유체 및 상기 제2유체가 상기 분사챔버(322) 내부에서 유입된 후 하부방향으로 유도하며 역류가 발생하는 것을 방지한다.In addition, the backflow prevention guide 328 guides the first fluid and the second fluid supplied in the downward direction after being introduced into the injection chamber 322 and prevents backflow from occurring.

이와 같이 본 발명에 따른 상기 정화모듈(300)이 구성되며, 상기 세정모듈(200)에서 세정된 상기 세정대상물(20)을 2차적으로 세척하여 상기 세정액(30) 및 불순물을 제거한다.As described above, the purification module 300 according to the present invention is configured, and the cleaning object 20 cleaned by the cleaning module 200 is secondarily removed to remove the cleaning liquid 30 and impurities.

한편, 상기 건조모듈(400)은 상기 이송모듈(100)의 경로상에 구비되어 상기 정화모듈(300)을 경유한 상기 세정대상물(20)을 건조한다.On the other hand, the drying module 400 is provided on the path of the transfer module 100 to dry the cleaning object 20 via the purification module 300.

구체적으로 상기 건조모듈(400)은 별도의 챔버 형태로 형성되며, 내부에 건조수단을 구비하여 상기 세정대상물(20)을 건조한다.Specifically, the drying module 400 is formed in a separate chamber shape, and has a drying means therein to dry the cleaning object 20.

이때, 상기 세정대상물(20)은 상기 정화모듈(300)을 경유하며 상기 혼합액(40)에 의해 세척된 상태이며, 이에 따라 상기 건조모듈(400)을 통해 수분을 제거할 수 있다.At this time, the cleaning object 20 is in a state of being washed by the mixed liquid 40 via the purification module 300, and thus can remove moisture through the drying module 400.

본 발명에서 상기 건조모듈(400)은 적어도 하나 이상이 연속하여 배치될 수 있으며, 다양한 건조수단을 통해 상기 세정대상물(20)을 건조한다.In the present invention, the drying module 400 may be disposed at least one or more continuously, drying the cleaning object 20 through various drying means.

구체적으로 상기 건조모듈(400)은, 이송되는 상기 세정대상물(20)을 내부에 수용하는 챔버 형태의 건조챔버(410) 및 상기 건조챔버(410) 내부에서 상기 세정대상물(20)을 건조시키는 건조수단(420)을 포함한다.In detail, the drying module 400 includes a drying chamber 410 having a chamber shape accommodating the cleaning object 20 to be transported therein and drying the drying object 20 inside the drying chamber 410. The means 420 is included.

상기 건조챔버(410)의 경우 상술한 정화챔버(310) 또는 상기 세정챔버(210)와 유사하게 형성되며, 상기 이송모듈(100)상에 구비되어 이송되는 상기 세정대상물(20)을 내부에 수용할 수 있도록 형성된다.The drying chamber 410 is formed similarly to the above-described purification chamber 310 or the cleaning chamber 210, and accommodates the cleaning object 20 provided on the transfer module 100 and transferred therein. It is formed to be.

그리고 상기 건조수단(420)은 상기 건조챔버(410) 내부에 적어도 하나 이상으로 구성되어 상기 세정대상물(20)을 건조시키는 구성으로써, Hot air 또는 Hot Plate 등 다양한 형태가 적용되며, 이를 이용하여 수분을 제거한다.And the drying means 420 is composed of at least one inside the drying chamber 410 is configured to dry the cleaning object 20, various forms such as hot air or Hot Plate is applied, by using this Remove it.

본 실시예에서는 도시된 바와 같이 상기 건조모듈(400)이 2개로 구성되어 연속 배치되며, 각각 서로 다른 형태의 건조수단(420)을 가진다.In this embodiment, as shown, the drying module 400 is composed of two consecutively arranged, each having a different type of drying means 420.

먼저, 첫 번째 건조모듈(400)의 경우 상기 건조수단(420)이 Hot Air를 분사하는 형태로 구성되어 상기 건조모듈(400)에서 1차적으로 수분을 제거하고, 두 번째 건조모듈(400)의 경우 상기 건조수단(420)이 별도의 Hot Plate로 구성되어 잔여 수분을 제거한다.First, in the case of the first drying module 400, the drying means 420 is configured to inject hot air to remove moisture primarily from the drying module 400, the second drying module 400 In this case, the drying means 420 is configured as a separate hot plate to remove residual moisture.

즉, 본 발명에 따른 상기 건조모듈(400)은 다양한 형태의 사익 건조수단(420)을 사용하여 상기 세정대상물(20)을 건조할 수 있으며, 복수 개가 다단으로 구성되어 연속적으로 건조를 수행할 수도 있다.That is, the drying module 400 according to the present invention may dry the cleaning object 20 by using the drier drying means 420 of various forms, and a plurality of the drying modules 400 may be dried in succession. have.

이와 같이 본 발명에 따른 Flux 크리너 시스템은 상기 세정모듈(200)에 구비된 복수 개의 상기 분사노즐(222) 각각을 상기 세정대상물(20)의 배치에 대응하도록 배치하고, 각각에서 균일한 압력으로 상기 세정액(30)을 분사함으로써 Flux등의 불순물을 빠른 시간 내에 제거할 수 있다.As described above, the Flux cleaner system according to the present invention arranges each of the plurality of injection nozzles 222 provided in the cleaning module 200 to correspond to the arrangement of the cleaning object 20, and at the same pressure, By spraying the cleaning liquid 30, impurities such as flux can be removed quickly.

특히 종래에는 상기 세정모듈(200)에서 상기 세정대상물(20) 각각에 균일한 압력으로 상기 세정액(30)의 분사가 어려워 세정액(30)이 담긴 욕조 등을 이용하여 상기 세정대상물(20)을 세정하였으며, 이에 따라 세정시간이 오래 걸리는 문제가 있었다.In particular, it is difficult to spray the cleaning liquid 30 at a uniform pressure to each of the cleaning objects 20 in the cleaning module 200, so that the cleaning object 20 is cleaned using a bath or the like containing the cleaning liquid 30. As a result, there was a problem that takes a long time cleaning.

하지만 본 발명과 같이 상기 세정대상물(20)에 균일한 압력으로 각각 상기 세정액(30)을 분사함으로써 세정시간을 현저히 단축시킬 수 있는 이점이 있다.However, there is an advantage that the cleaning time can be significantly shortened by spraying the cleaning solution 30 at a uniform pressure on the cleaning object 20 as in the present invention.

이어서, 본 발명에 따른 Flux 크리너에서 상기 세정모듈(200)이 복수 개로 구성된 구성에 대해 살펴보면 다음과 같다.Subsequently, the configuration of the cleaning module 200 in plural in the Flux cleaner according to the present invention will be described.

도시된 바와 같이 본 발명에 따른 상기 세정모듈(200)은 복수 개로 구성되어 상기 이송모듈(100)을 따라 연속하여 배치되며, 다단으로 상기 세정대상물(20)에 상기 세정액(30)을 분사한다.As shown, the cleaning module 200 according to the present invention is composed of a plurality of continuously arranged along the transfer module 100, and sprays the cleaning liquid 30 to the cleaning object 20 in multiple stages.

이때, 상기 세정모듈(200)은 상기 정화모듈(300)의 정화시간보다 상대적으로 긴 시간 동안 상기 세정대상물(20)을 세정하며, 상기 정화모듈(300)의 정화시간과 상기 세정모듈(200)의 세정시간 차이에 대응하여 상기 세정모듈(200)의 개수가 정해지고, 각각이 균일한 시간 동안 동작하는 것을 특징으로 한다.In this case, the cleaning module 200 cleans the cleaning object 20 for a relatively longer time than the purification time of the purification module 300, and the cleaning time of the purification module 300 and the cleaning module 200. In response to the difference in the cleaning time of the number of the cleaning module 200 is determined, each characterized in that it operates for a uniform time.

구체적으로, 본 발명에 따른 상기 세정모듈(200)은 1차적으로 상기 세정대상물(20)을 세정하는 구성으로써, 상기 정화모듈(300)보다 상대적으로 긴 시간 동안 구동한다.Specifically, the cleaning module 200 according to the present invention primarily cleans the cleaning object 20, and operates for a relatively longer time than the cleaning module 300.

이에 따라, 상기 세정모듈(200)과 상기 정화모듈(300)의 구동 시간 차이에 대응하여 상기 세정모듈(200)이 상대적으로 더 많이 구비되는 경우, 각각의 구동시간은 동일하게 유지하며, 상기 세정모듈(200)의 경유 개수를 증가시킬 수 있다.Accordingly, when the cleaning module 200 is provided with a relatively larger number in response to the difference in driving time between the cleaning module 200 and the purification module 300, each driving time is kept the same and the cleaning is performed. The number of diesel passages of the module 200 may be increased.

즉, 상기 세정모듈(200)을 경유한 상기 세정대상물(20)이 상기 정화모듈(300) 내부에서 정화시간 이후에도 머물지 않고 지속적으로 이동할 수 있다.That is, the cleaning object 20 via the cleaning module 200 may continuously move in the purification module 300 without remaining after the purification time.

예를 들어 세정대상물(20)의 세정 시 상기 세정모듈(200)에서 30분 동안 세정을 진행한 후 상기 정화모듈(300)에서 10분동안 세척을 진행해야 하는 경우, 상기 세정모듈(200)을 하나만 구비하는 것이 아니라, 상기 이송모듈(100)을 따라 3개를 구비하고, 상기 세정모듈(200)을 1개만 구비하여 연속 배치한다.For example, when the cleaning object 200 needs to be cleaned for 30 minutes in the cleaning module 200 after cleaning for 30 minutes, the cleaning module 200 may be cleaned. It is not provided with only one, provided with three along the transfer module 100, and provided with only one cleaning module 200 is arranged continuously.

그리고, 상기 세정대상물(20)은 각각에서 10분씩 머물며 세정을 진행함으로써, 상기 세정대상물(20)을 연속하여 세정할 수 있다.In addition, the cleaning objects 20 may be continuously cleaned by staying at each of the 10 minutes for cleaning.

이와 같이 상기 세정모듈(200)이 복수 개로 구성되어 상기 정화모듈(300)의 정화시간과의 차이에 대응하는 개수로 이루어짐으로써, 상기 세정대상물(20)을 연속하여 세정하며, 시간낭비를 최소화시킬 수 있다.Thus, the cleaning module 200 is composed of a plurality of the number corresponding to the difference with the purification time of the purification module 300, thereby continuously cleaning the cleaning target 20, to minimize time waste Can be.

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms in addition to the above-described embodiments without departing from the spirit or scope thereof has ordinary skill in the art. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments should be regarded as illustrative rather than restrictive, and thus, the present invention is not limited to the above description and may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.

100: 이송모듈
110: 이송프레임
120: 로더(Loader)
130: 언로더(Unloader)
200: 세정모듈
210: 세정챔버
220: 세정유닛
230: 저항체
240: 조절유닛
300: 정화모듈.
310: 정화챔버
320: 혼합분사유닛
400: 건조모듈
10: 바디프레임
20: 세정대상물
30: 세정액
40: 혼합액
100: transfer module
110: transfer frame
120: loader
130: Unloader
200: cleaning module
210: cleaning chamber
220: cleaning unit
230: resistor
240: control unit
300: purification module.
310: purification chamber
320: mixed injection unit
400: drying module
10: body frame
20: cleaning object
30: cleaning liquid
40: Mixed solution

Claims (8)

기 설정된 패턴으로 배치된 복수 개의 세정대상물을 이송시키는 이송모듈;
상기 세정대상물에 대응하여 복수 개의 분사노즐이 구비되며 각각의 상기 분사노즐에서 균일하게 세정액을 분사해 불순물을 제거하는 세정모듈;
상기 세정모듈과 연속하여 배치되며, 상기 세정대상물에 별도의 혼합액을 분사하여 상기 세정액 및 상기 불순물을 제거하는 정화모듈; 및
상기 세정모듈 및 상기 정화모듈을 경유한 상기 세정대상물을 건조하는 건조모듈; 을 포함하며,
상기 세정모듈은,
상기 이송모듈의 이송경로상에 배치되어 상기 세정대상물을 내부에 수용하는 세정챔버, 복수 개의 상기 분사노즐을 가지며 내부에 상기 세정액이 유동하는 유동공간이 형성되고, 상기 유동공간을 통해 상기 분사노즐 각각으로 상기 세정액을 균등하게 전달하는 균등분사유닛 및 구형으로 상기 균등분사유닛 내부에 복수 개가 구비되며 인접한 복수 개 사이에 공극을 형성하여 상기 세정액의 유동을 교란해 난류유동을 발생킴으로써 상기 분사노즐에 상기 세정액이 고르게 분산되도록 하는 저항체를 포함하고,
상기 세정모듈은 상기 세정대상물의 배치 패턴에 대응하여 복수 개의 상기 분사노즐이 배치되며, 각각의 분사노즐이 균일한 압력으로 상기 세정액을 분사하여 독립적으로 상기 세정대상물을 세정하는 것을 특징으로 하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
A transfer module for transferring a plurality of cleaning objects arranged in a preset pattern;
A cleaning module provided with a plurality of injection nozzles corresponding to the cleaning object and removing impurities by uniformly injecting a cleaning liquid from each of the injection nozzles;
A purging module disposed in series with the cleaning module to remove the cleaning solution and the impurities by injecting a separate mixture into the cleaning object; And
A drying module for drying the cleaning object via the cleaning module and the purification module; Including;
The cleaning module,
A cleaning chamber disposed on a transfer path of the transfer module to accommodate the cleaning object therein, a flow space having a plurality of injection nozzles therein and having a flow of the cleaning liquid therein, each of the injection nozzles through the flow space A plurality of uniform injection units and even spheres are provided in the uniform injection unit to uniformly deliver the cleaning solution, and a gap is formed between a plurality of adjacent units to disturb the flow of the cleaning solution to generate turbulent flow to the injection nozzle. It includes a resistor for dispersing the cleaning liquid evenly,
In the cleaning module, a plurality of injection nozzles are disposed in correspondence with the arrangement pattern of the cleaning object, and each cleaning nozzle sprays the cleaning liquid at a uniform pressure to independently clean the cleaning object. Flux cleaner system for independent cleaning of cleaning objects by spraying.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 세정모듈은,
복수 개로 구성되어 상기 이송모듈을 따라 연속하여 배치되며, 다단으로 상기 세정대상물에 상기 세정액을 분사하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
The method of claim 1,
The cleaning module,
Flux cleaner system which is composed of a plurality of consecutively arranged along the transfer module, and capable of independent cleaning of the cleaning object by using the cleaning liquid equal injection spraying the cleaning liquid to the cleaning object in multiple stages.
제4항에 있어서,
상기 세정모듈은,
상기 정화모듈의 정화시간보다 상대적으로 긴 시간 동안 상기 세정대상물을 세정하며, 상기 정화모듈의 정화시간과 상기 세정모듈의 세정시간 차이에 대응하여 상기 세정모듈의 개수가 정해지고, 각각이 균일한 시간 동안 동작하는 것을 특징으로 하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
The method of claim 4, wherein
The cleaning module,
The cleaning object is cleaned for a relatively longer time than the purifying time of the purifying module, and the number of the purging modules is determined in correspondence to the difference between the purifying time of the purifying module and the purging time of the cleaning module, and each of the uniform time is uniform. Flux cleaner system capable of independent cleaning of the cleaning object using the cleaning solution evenly sprayed, characterized in that during operation.
제1항에 있어서,
상기 정화모듈은,
상기 이송모듈의 경로상에 구비되어 상기 세정대상물이 수용되는 정화챔버; 및
내부에 혼합공간을 가지며, 별도로 공급되는 복수 개의 유체를 혼합한 상기 혼합액을 상기 세정대상물에 분사하는 혼합분사유닛;
을 포함하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
The method of claim 1,
The purification module,
A purging chamber provided on a path of the transfer module to accommodate the cleaning object; And
A mixing spraying unit having a mixing space therein and spraying the mixed liquid mixed with a plurality of fluids supplied separately to the cleaning object;
Flux cleaner system capable of independent cleaning of the cleaning object by using the cleaning solution equal injection spraying.
제6항에 있어서,
상기 정화모듈은,
유체를 공급받아 하부에 형성된 유출구를 통해 분사하는 혼합분사유닛;
상기 혼합분사유닛에 청정건조공기(CDA) 주입을 위한 제1주입라인;
상기 혼합분사유닛에 탈이온수(DI Water)와 마이크로 버블이 혼합된 혼합 유체의 주입을 위한 제2주입라인; 및
상기 혼합분사유닛에 스팀 주입을 위한 제3주입라인;
을 더 포함하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
The method of claim 6,
The purification module,
A mixing spray unit which receives the fluid and sprays it through an outlet formed in a lower portion thereof;
A first injection line for injecting clean dry air (CDA) into the mixed injection unit;
A second injection line for injecting a mixed fluid in which DI water and micro bubbles are mixed in the mixed injection unit; And
A third injection line for injecting steam into the mixed injection unit;
Flux cleaner system capable of independent cleaning of the cleaning object using a cleaning solution equal injection further comprising.
제7항에 있어서,
상기 혼합분사유닛은,
내부에 주입되는 상기 청정건조공기(CDA)와 상기 혼합 유체의 역류를 방지하는 역류방지 가이드를 더 포함하는 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템.
The method of claim 7, wherein
The mixed injection unit,
Flux cleaner system capable of independent cleaning of the object to be cleaned using an even spray cleaning solution further comprises a backflow prevention guide for preventing the backflow of the clean dry air (CDA) and the mixed fluid injected therein.
KR1020180025200A 2018-03-02 2018-03-02 Flux Cleaner System KR102042590B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180025200A KR102042590B1 (en) 2018-03-02 2018-03-02 Flux Cleaner System
CN201910156627.9A CN110216094B (en) 2018-03-02 2019-03-01 Flux cleaning system capable of independently cleaning object

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180025200A KR102042590B1 (en) 2018-03-02 2018-03-02 Flux Cleaner System

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190104731A KR20190104731A (en) 2019-09-11
KR102042590B1 true KR102042590B1 (en) 2019-11-08

Family

ID=67822382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180025200A KR102042590B1 (en) 2018-03-02 2018-03-02 Flux Cleaner System

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102042590B1 (en)
CN (1) CN110216094B (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3652216B2 (en) 1999-04-30 2005-05-25 オリンパス株式会社 Chemical spray tube
KR101426267B1 (en) 2012-10-17 2014-08-05 청진테크 주식회사 Device for injecting multi phase fluid
KR101698557B1 (en) * 2015-03-04 2017-02-01 김현태 Spot Cleaning System
KR101819613B1 (en) 2016-02-12 2018-01-24 (주)선우하이테크 Device for spraying fluid

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001062351A (en) * 1999-08-26 2001-03-13 Maruyasu Industries Co Ltd Liquid injection nozzle
KR20070077997A (en) * 2006-01-25 2007-07-30 삼성전자주식회사 Cleaning device and cleaning method using the same
KR20080051551A (en) * 2006-12-06 2008-06-11 엘지디스플레이 주식회사 Wet etching apparatus
CN101318308A (en) * 2007-06-08 2008-12-10 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Chemical mechanical grinding apparatus
CN202097045U (en) * 2011-06-09 2012-01-04 攀钢集团有限公司 Ejection device and nozzles thereof
CN202277980U (en) * 2011-10-28 2012-06-20 京东方科技集团股份有限公司 Cleaning device for semiconductor substrate
KR20160066382A (en) * 2014-12-02 2016-06-10 주식회사 듀라소닉 Ultrasonic cleaning system
CN204817277U (en) * 2015-01-09 2015-12-02 深圳市盛信康科技有限公司 Trigger cleaning head is washed to 96 needles of ability automatic balance pressure and flow

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3652216B2 (en) 1999-04-30 2005-05-25 オリンパス株式会社 Chemical spray tube
KR101426267B1 (en) 2012-10-17 2014-08-05 청진테크 주식회사 Device for injecting multi phase fluid
KR101698557B1 (en) * 2015-03-04 2017-02-01 김현태 Spot Cleaning System
KR101819613B1 (en) 2016-02-12 2018-01-24 (주)선우하이테크 Device for spraying fluid

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190104731A (en) 2019-09-11
CN110216094B (en) 2022-02-18
CN110216094A (en) 2019-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6918406B2 (en) Chemical supply apparatus
CN103447256B (en) The equipment of clean substrate and method
JPH11510965A (en) Apparatus for processing substrates in a fluid container
JPH0415615B2 (en)
US20080236639A1 (en) Substrate treating apparatus
JP6707412B2 (en) Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and storage medium
KR101055465B1 (en) Substrate Processing Method and Substrate Processing Apparatus
KR102042590B1 (en) Flux Cleaner System
JP3680907B2 (en) Substrate processing equipment
KR20180045653A (en) Substrate treating apparatus, process fluid treating apparatus and ozone decomposition method
KR20140049378A (en) Device for injecting multi phase fluid
KR101210263B1 (en) Wafer-guide and wafer-cleaning apparatus having the same
KR20100116436A (en) Apparatus and method for treating substrate
KR20080005942U (en) Two-fluid supply module for cleaning substrate and cleaning device using the same
KR100729612B1 (en) Dyeing device for pattern wood
CN115039207A (en) Substrate processing apparatus
KR100616248B1 (en) Two-fluid jet module for cleaning substrate and cleaning device using thereof
KR102022954B1 (en) Substrate treating facility and chemical supply apparatus
KR200232176Y1 (en) Pneumohydraulic dying machine
JP2003299715A (en) Heating and sterilizing apparatus capable of preventing heating irregularity
JPH07115079A (en) Wet type treatment apparatus
KR20240022004A (en) Unit for supplying liquid and apparatus for treating a substrate
KR200346489Y1 (en) Dyeing device of tube high tension dyeing machine
JPS588785Y2 (en) Chemical tank adjustment device in progressive cocoon boiling machine
JPH0817782A (en) Substrate treatment device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant