KR101943244B1 - 소성 세라믹 성형체의 소수성 함침 방법 - Google Patents
소성 세라믹 성형체의 소수성 함침 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101943244B1 KR101943244B1 KR1020177016754A KR20177016754A KR101943244B1 KR 101943244 B1 KR101943244 B1 KR 101943244B1 KR 1020177016754 A KR1020177016754 A KR 1020177016754A KR 20177016754 A KR20177016754 A KR 20177016754A KR 101943244 B1 KR101943244 B1 KR 101943244B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- moiety
- monovalent
- moieties
- hydrocarbon moiety
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title abstract description 17
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 52
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims abstract description 31
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 12
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- HXOGQBSDPSMHJK-UHFFFAOYSA-N triethoxy(6-methylheptyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCC(C)C HXOGQBSDPSMHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 46
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 20
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 14
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 7
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 7
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 7
- 239000012875 nonionic emulsifier Substances 0.000 description 7
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical class OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004890 Hydrophobing Agent Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M Stearyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Chemical group 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 1H-imidazole Chemical group C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-O 2,3-dimethylimidazolium ion Chemical compound CC1=[NH+]C=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDBXDQUZWTFOV-UHFFFAOYSA-N 2-docosyl-1,3-dimethylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC=1N(C)C=C[N+]=1C CZDBXDQUZWTFOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPFIOKIBTGVELT-UHFFFAOYSA-N C(CCCCC(C)C)[Si](OCC)(OCC)OCC.CC(C[Si](OCC)(OCC)OCC)CC(C)(C)C Chemical compound C(CCCCC(C)C)[Si](OCC)(OCC)OCC.CC(C[Si](OCC)(OCC)OCC)CC(C)(C)C WPFIOKIBTGVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M Cetrimide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- KZOWNALBTMILAP-JBMRGDGGSA-N ancitabine hydrochloride Chemical compound Cl.N=C1C=CN2[C@@H]3O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@@H]3OC2=N1 KZOWNALBTMILAP-JBMRGDGGSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M benzododecinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZYLTTOTIRRHQA-UHFFFAOYSA-N decyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](C)(OCC)OCC NZYLTTOTIRRHQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(OCC)OCC YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000004664 distearyldimethylammonium chloride (DHTDMAC) Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- CDIPRYKTRRRSEM-UHFFFAOYSA-M docosyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CDIPRYKTRRRSEM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PGQAXGHQYGXVDC-UHFFFAOYSA-N dodecyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.CCCCCCCCCCCCN(C)C PGQAXGHQYGXVDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PELGKMTVNFFDDL-UHFFFAOYSA-N dodecyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](C)(OC)OC PELGKMTVNFFDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGMDYZVGIYQLCM-UHFFFAOYSA-N hexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](OC)OC OGMDYZVGIYQLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001206 natural gum Polymers 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005625 siliconate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003626 triacylglycerols Chemical class 0.000 description 1
- NQDBQECHMHQTEA-UHFFFAOYSA-N tributoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC NQDBQECHMHQTEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHEOLHWDNNLCNQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2,2,4-trimethylpentyl)silane Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)(C)CC(C)C DHEOLHWDNNLCNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSYCPWEBZRZNJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2,4,4-trimethylpentyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)CC(C)(C)C UWSYCPWEBZRZNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 description 1
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/82—Coating or impregnation with organic materials
- C04B41/84—Compounds having one or more carbon-to-metal of carbon-to-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
- C04B41/4535—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied as a solution, emulsion, dispersion or suspension
- C04B41/4539—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied as a solution, emulsion, dispersion or suspension as a emulsion, dispersion or suspension
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/49—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes
- C04B41/4905—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon
- C04B41/4922—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon applied to the substrate as monomers, i.e. as organosilanes RnSiX4-n, e.g. alkyltrialkoxysilane, dialkyldialkoxysilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/00586—Roofing materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
본 발명은 (A) 하기 화학식 I의 실란 및/또는 최대 5개의 규소 원자를 갖는 이의 부분 가수분해물, (B) 하기 화학식 II의 10개 이상의 단위를 포함하는 실록산, 경우에 따라, (C) 산, 경우에 따라, (D) 유화제, (E) 물, 및 경우에 따라, (F) 추가 물질을 포함하는 수성 조성물에 의한 소성 점토 성형체의 처리를 통해 소성 점토 성형체, 특히 기와의 소수화 함침 방법에 관한 것이다:
[화학식 I]
RaR1Si(OR2)3 -a
[화학식 II]
R3 bR4 c(OR5)dSiO(4-b-c-d)/2
상기 식에서, 라디칼 및 지수는 제1항에 제시된 의미를 갖는다.
[화학식 I]
RaR1Si(OR2)3 -a
[화학식 II]
R3 bR4 c(OR5)dSiO(4-b-c-d)/2
상기 식에서, 라디칼 및 지수는 제1항에 제시된 의미를 갖는다.
Description
본 발명은 유기규소 화합물의 수성 분산액을 사용한 소성 점토 성형체, 특히 기와의 소수화 함침 방법에 관한 것이다.
광물 건축재의 소수화 함침 방법은 오랜 역사를 갖는다. 이와 관련하여 예를 들어 EP-B1 242 798을 참조할 수 있다. 유기규소 화합물은 탁월한 내수 및 오염방지 함침 효과로 인해 주로 건물 보호에 사용된다. 수년 동안 이 분야에 광범위하게 사용된 재료는 실리콘에이트, 실리콘 수지, 단량체 실란 및 소중합체 실록산이다. 활성 성분은 통상 저 점도 담체, 예컨대 물 중에 용해 또는 분산된다. 하지만, 기존의 소수화제는 종종 광범위하게 다양한 기와, 구체적으로는 화장토화(engobed) 및 고 알칼리 함량 기와에 있어 불충분한 효과를 나타내며, 바람직하지 못한 국소 변색을 초래한다.
본 발명은
(A) 하기 화학식 I의 실란 및/또는 5개 이하의 규소 원자를 갖는 이의 부분 가수분해물
[화학식 I]
RaR1Si(OR2)3 -a
(상기 식에서,
R은 1∼5개의 탄소 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R1은 6∼22개의 탄소 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R2는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 1가 탄화수소 모이어티를 나타내고,
a는 0 또는 1이다),
(B) 하기 화학식 II의 10개 이상의 단위를 포함하는 실록산
[화학식 II]
R3 bR4 c(OR5)dSiO(4-b-c-d)/2
(상기 식에서,
R3은 동일하거나 상이할 수 있고, 1가의, SiC-결합된, 질소 함유 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 비치환되거나 또는 경우에 따라 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R5는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 1가 탄화수소 모이어티를 나타내고,
b는 0, 1, 2 또는 3이고,
c는 0, 1, 2 또는 3이고,
d는 0, 1, 2 또는 3이고,
단, b+c+d ≤ 3이다),
경우에 따라, (C) 산,
경우에 따라, (D) 유화제,
(E) 물, 및
경우에 따라, (F) 다른 물질
을 포함하는 수성 조성물에 의한 소성 점토 성형체의 처리를 통해 소성 점토 성형체의 소수화 함침 방법을 제공한다.
모이어티 R의 예는 알킬 모이어티, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 1-n-부틸, 2-n-부틸, 이소부틸 및 tert-부틸 모이어티, 및 알케닐 모이어티, 예컨대 비닐, 1-프로페닐 및 2-프로페닐 모이어티이다.
1∼5개의 탄소 원자를 갖는 알킬 모이어티가 모이어티 R에 바람직하고, 특히 바람직한 것은 메틸 모이어티이다.
모이어티 R1의 예는 알킬 모이어티, 예컨대 헥실 모이어티, 예컨대 n-헥실 모이어티; 헵틸 모이어티, 예컨대 n-헵틸 모이어티; 옥틸 모이어티, 예컨대 n-옥틸 모이어티 및 이소옥틸 모이어티, 예컨대 2,2,4-트리메틸펜틸 모이어티; 노닐 모이어티, 예를 들어 n-노닐 모이어티; 데실 모이어티, 예컨대 n-데실 모이어티; 도데실 모이어티, 예컨대 n-도데실 모이어티; 테트라데실 모이어티, 예컨대 n-테트라데실 모이어티; 헥사데실 모이어티, 예컨대 n-헥사데실 모이어티; 옥타데실 모이어티, 예컨대 n-옥타데실 모이어티; 시클로알킬 모이어티, 예컨대 시클로헥실, 시클로헵틸 및 메틸시클로헥실 모이어티이다.
모이어티 R1에 대해 6∼16개의 탄소 원자를 갖는 알킬 모이어티가 바람직하고, 8∼12개의 탄소 원자를 갖는 알킬 모이어티, 특히 이소옥틸 모이어티가 특히 바람직하다.
모이어티 R2의 경우, 1∼4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 모이어티가 바람직하고, 메틸 또는 에틸 모이어티가 특히 바람직하다.
본 발명에 사용되는 조성물 중에서 실란 (A)의 예는 헥실트리에톡시실란, 헥실메틸디에톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, n-옥틸트리부톡시실란, 이소옥틸트리메톡시실란, 이소옥틸트리에톡시-실란, n-데실트리에톡시실란, 도데실메틸디메톡시실란, 테트라데실트리메톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 옥타데실메틸디메톡시실란, 옥타데실메틸디에톡시실란 및 옥타데실트리에톡시실란이다.
하기 실란 (A): n-헥실트리에톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란 또는 이소옥틸트리에톡시실란 및/또는 5개 이하의 Si 원자를 갖는 이의 부분 가수분해물이 바람직하고, 이소옥틸트리에톡시실란 및/또는 이의 부분 가수분해물이 특히 바람직하며, 여기서 특히 바람직한 이소옥틸트리에톡시실란 이성질체는 2,2,4-트리메틸펜틸트리에톡시실란이다.
부분 가수분해물은, 화학식 I의 실란에서 OR2 모이어티 중 일부가 물 또는 수증기와의 반응을 통해 분해되어 규소-결합된 OH 기가 생성됨으로써 대부분 생성된다. 이는 물의 제거로 차례로 응축되어 실록산 결합을 형성하여, 이에 따라 OR2 기와 함께 OH 기도 포함할 수 있는 소중합체를 생성할 수 있다. 화학식 I의 실란의 부분 가수분해물은 또한 화학식 I의 실란에서 불순물로서 존재할 수 있다.
모이어티 R3의 예는 화학식 H2N(CH2)3-, H2N(CH2)2NH(CH2)3-, H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3-, H3CNH(CH2)3-, C2H5NH(CH2)3-, C3H7NH(CH2)3-, C4H9NH(CH2)3-, C5H11NH(CH2)3-, C6H13NH(CH2)3-, C7H15NH(CH2)3-, H2N(CH2)4-, H2N-CH2-CH(CH3)-CH2-, H2N(CH2)5-, 시클로-C5H9NH(CH2)3-, 시클로-C6H11NH(CH2)3-, 페닐-NH(CH2)3-, (CH3)2N(CH2)3-, (C2H5)2N(CH2)3-, (C3H7)2N(CH2)3-, (C4H9)2N(CH2)3-, (C5H11)2N(CH2)3-, (C6H13)2N(CH2)3-, (C7H15)2N(CH2)3-, H2N(CH2)-, H2N(CH2)2NH(CH2)-, H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)-, CH3NH(CH2)-, C2H5NH(CH2)-, C3H7NH(CH2)-, C4H9NH(CH2)-, C5H11NH(CH2)-, C6H13NH(CH2)-, C7H15NH(CH2)-, 시클로-C5H9NH(CH2)-, 시클로-C6H11NH(CH2)-, 페닐-NH(CH2)-, (CH3)2N(CH2)-, (C2H5)2N(CH2)-, (C3H7)2N(CH2)-, (C4H9)2N(CH2)-, (C5H11)2N(CH2)-, (C6H13)2N(CH2)-, (C7H15)2N(CH2)-, (CH3O)3Si(CH2)3NH(CH2)3-, (C2H5O)3Si(CH2)3NH(CH2)3-, (CH3O)2(CH3)Si(CH2)3NH(CH2)3- 및 (C2H5O)2(CH3)Si(CH2)3NH(CH2)3-의 모이어티, 및 또한 1차 아미노기에 반응성인 이중 결합을 포함하거나 또는 에폭시기를 포함하는 화합물과 전술된 1차 아미노기의 반응 생성물이다.
모이어티 R3은 바람직하게는 H2N(CH2)3-, H2N(CH2)2NH(CH2)3- 또는 시클로-C6H11NH(CH2)3 모이어티, 특히 H2N(CH2)2NH(CH2)3 모이어티이다.
모이어티 R4의 예는 알킬 모이어티, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 1-n-부틸, 2-n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸 및 tert-펜틸 모이어티; 헥실 모이어티, 예컨대 n-헥실 모이어티; 헵틸 모이어티, 예컨대 n-헵틸 모이어티; 옥틸 모이어티, 예컨대 n-옥틸 모이어티 및 이소옥틸 모이어티, 예컨대 2,2,4-트리메틸펜틸 모이어티; 노닐 모이어티, 예컨대 n-노닐 모이어티; 데실 모이어티, 예컨대 n-데실 모이어티; 도데실 모이어티, 예컨대 n-도데실 모이어티; 데트라데실 모이어티, 예컨대 n-테트라데실 모이어티, 헥사데실 모이어티, 예컨대 n-헥사데실 모이어티, 옥타데실 모이어티, 예컨대 n-옥타데실 모이어티; 시클로알킬 모이어티, 예컨대 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 메틸시클로헥실 모이어티; 알케닐 모이어티, 예컨대 비닐, 1-프로페닐 및 2-프로페닐 모이어티; 아릴 모이어티, 예컨대 페닐, 나프틸, 안트릴 및 페난트릴 모이어티; 알카릴 모이어티, 예컨대 o-, m-, p-톨릴 모이어티; 크실릴 모이어티 및 에틸페닐모이어티; 및 아르알킬 모이어티, 예컨대 벤질 모이어티 및 α- 및 β-페닐에틸 모이어티이다.
모이어티 R4에 대해 1∼18개의 탄소 원자를 갖는 비치환된 알킬 모이어티가 바람직하고, 메틸 모이어티, n-헥실 모이어티, n-옥틸 모이어티 또는 이소옥틸 모이어티, 특히 메틸 모이어티가 특히 바람직하다.
모이어티 R5의 경우, 1∼4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 모이어티가 바람직하며, 메틸 또는 에틸 모이어티가 특히 바람직하다.
본 발명에 사용되는 실록산 (B)는 임의의 바람직한 것으로 공지된 선형, 환형 또는 분지형 실록산일 수 있다.
실록산 (B)는 화학식 II의 단위로 구성된 것이 바람직하다.
실록산 (B)는
(B1) 화학식 II의 단위로 이루어진 실리콘 수지로서, b가 0이고, 오르가노폴리실록산 수지에서 화학식 II의 모든 단위의 50% 미만에서 c가 2인 것, 및
(B2) 화학식 II의 단위로 이루어진 실록산으로서, 하나 이상의 단위에서 b가 0이 아니고, 오르가노폴리실록산에서 화학식 II의 모든 단위의 50% 이상에서 b+c가 2인 것
으로 이루어진 군에서 선택된 것이 특히 바람직하다.
실리콘 수지 (B1)은 화학식 II의 단위로 이루어진 실리콘 수지로서, 상기 수지에서 단위의 0∼30%, 특히 바람직하게는 0∼5%에서 c가 2인 것이 바람직하다.
성분 (B1)은 b=0인 화학식 II의 반복 단위로 구성된 오르가노폴리실록산 수지가 특히 바람직하다:
[화학식 II']
R4 c(OR5)dSiO(4-c-d)/2
상기 식에서,
R4, R5, c 및 d의 정의는 상기 언급된 바와 같고, 단
c는 화학식 II'의 모든 반복 단위의 30% 이상에서 1 값을 갖고 또한 화학식 II'의 모든 반복 단위의 100%에서 1 값을 가질 수 있고,
화학식 II'의 모든 반복 단위에 걸쳐 c의 평균값은 0.9∼1.49이고, 화학식 II'의 반복 단위에서 c의 특히 바람직한 값은 c=1 및 c=2이고,
화학식 II'의 모든 반복 단위에 걸쳐 d의 평균값은 0.1∼1.8이고, 화학식 II'의 반복 단위로 이루어진 실리콘 수지 (B1)에서 단위 -OR5가 히드록시 기를 나타내는 정도는 5 중량% 이하이다.
오르가노폴리실록산 수지 (B1)은 고체 또는 액체일 수 있다. 오르가노폴리실록산 수지 (B1)은 25℃에서 1000∼400,000 mPas의 점도로, 주위 분위기의 압력, 즉 900∼1100 hPa에서 액체인 것이 바람직하다. 겔 투과 크로마토그래피로 측정된 상기 수지의 중량 평균 몰 질량(폴리스티렌 기준을 기초로 함)은 바람직하게는 200∼200,000 g/몰, 특히 1000∼20,000 g/몰이다.
실록산 (B2)는 바람직하게는 화학식 II의 단위로 이루어진 실록산으로서, 분자에서 단위의 60∼100%, 바람직하게는 80∼100%에서 b+c가 2인 것이다.
실록산 (B2)의 바람직한 예는 공지된 방식, 예를 들어 알콕시 기 및/또는 히드록시 기를 포함하고 질소를 포함하지 않는 오르가노폴리실록산, 특히 바람직하게는 히드록시-말단화된 폴리디메틸실록산, 및 1가의, SiC-결합된, 질소 함유 탄화수소 모이어티, 예컨대 아미노알킬 기를 갖는 실란의 평형 및/또는 축합을 통해 생성될 수 있는 생성물이다. 여기서 사용되는 OH-말단화된 폴리디메틸실록산은 바람직하게는 몰 질량 Mn(수 평균)이 500∼1,000,000 g/몰, 특히 1,000∼100,000 g/몰, 특히 2,000∼10,000 g/몰인 실록산이다.
본 발명의 경우, 수 평균 몰 질량 Mn은, 60℃, 유량 1.2 ml/분에서 THF 중 폴리스티렌 표준에 대해 크기별 배제 크로마토그래피(SEC) 및 주입 부피 100 ㎕로 Waters Corp. USA로부터 설정된 Styragel HR3-HR4-HR5-HR5 컬럼에서 RI 검출(굴절률 검출기)에 의해 측정된다.
1가의, SiC-결합된, 질소 함유 탄화수소 모이어티를 갖고 여기서 사용되는 바람직한 실란은 H2N(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)3-Si(OC2H5)3, H2N(CH2)3-Si(OCH3)2CH3, H2N(CH2)3-Si(OC2H5)2CH3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OC2H5)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OC2H5)2CH3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OH)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OH)2CH3, H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3-Si(OC2H5)3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OCH3)3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OC2H5)3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OC2H5)2CH3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OH)3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OH)2CH3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OCH3)3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OC2H5)3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OC2H5)2CH3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OH)3, 페닐-NH(CH2)3-Si(OH)2CH3, HN((CH2)3-Si(OCH3)3)2, HN((CH2)3-Si(OC2H5)3)2HN((CH2)3-Si(OCH3)2CH3)2, HN((CH2)3-Si(OC2H5)2CH3)2, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OCH3)3, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OC2H5)3, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OCH3)2CH3, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OC2H5)2CH3, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OH)3, 시클로-C6H11NH(CH2)-Si(OH)2CH3, 페닐-NH(CH2)-Si(OCH3)3, 페닐-NH(CH2)-Si(OC2H5)3, 페닐-NH(CH2)-Si(OCH3)2CH3, 페닐-NH(CH2)-Si(OC2H5)2CH3, 페닐-NH(CH2)-Si(OH)3 또는 페닐-NH(CH2)-Si(OH)2CH3이고, 여기서 H2N(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)3-Si(OC2H5)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OC2H5)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OCH3)3, 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OC2H5)3 및 시클로-C6H11NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3이 바람직하고, 여기서 H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)3, H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OC2H5)3 또는 H2N(CH2)2NH(CH2)3-Si(OCH3)2CH3이 특히 바람직하다
25℃에서 실록산 (B2)의 점도는 바람직하게는 10∼10,000 mm2/s, 특히 바람직하게는 15∼500 mm2/s이다.
실록산 (B2)의 질소 함량은 바람직하게는 0.5∼10 중량%, 특히 바람직하게는 1∼6 중량%이다.
본 발명의 경우, 페이스트가 아닌 액체의 점도는 Schott의 AVS 점도계(Ubbelohde 점도계; 점도 측정의 상세한 설명은 DIN 51562, 파트 1에서 찾아볼 수 있음)를 사용하여 25℃에서 측정된다.
실록산 (B2)는 60 중량% 이상의 디메틸실록산 단위로 이루어지고 쇄 말단 또는 측쇄일 수 있는 Si-결합된 아미노에틸아미노프로필 기를 갖는 하나 이상의 실록산 단위를 갖는 실록산인 것이 특히 바람직하다.
본 발명에 사용된 조성물의 성분 (B)는 실록산 (B2)인 것이 바람직하다.
본 발명에 사용된 조성물에 존재하는 성분 (B)의 함량은 각 경우에 성분 (A)의 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 1∼80 중량부, 특히 바람직하게는 5∼40 중량부이다.
경우에 따라 사용된 산 (C)의 예는 무기산, 예컨대 황산, 염산 및 인산, 및 또한 유기산, 예컨대 1∼10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산이다.
경우에 따라 사용된 산 (C)는 유기산이 바람직하고, 2∼6개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산, 특히 아세트산 또는 프로피온산이 특히 바람직하다.
본 발명에 사용되는 조성물이 산 (C)를 포함하는 경우, 여기서 함량은 각 경우에 성분 (A)의 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0.2∼20 중량부, 특히 바람직하게는 1∼10 중량부이다.
산 (C)는, 실록산 (B2)가 본 발명에 사용된 조성물에서 성분 (B)로서 사용되는 경우 바람직하게 사용된다.
사용된 유화제 (D)는 실록산 분산물 생성에 지금까지 사용된 임의의 유화제일 수 있다. 사용되는 유화제 (D)는 음이온성, 비이온성, 양이온성 및 양쪽성 계면활성제 또는 이의 혼합물일 수 있다. 대안적으로, 가수분해도가 75%∼95%인, 유화 특성을 갖는 중합체 화합물, 예컨대 폴리비닐 알콜, 특히 폴리비닐 알콜을 사용하는 것도 가능하다.
경우에 따라 사용되는 성분 (D)의 경우 비이온성 유화제, 또는 비이온성 유화제와 이온성 유화제의 혼합물이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 비이온성 유화제 (D)의 예는 소르비탄 지방산 에스테르, 에톡시화된 소르비탄 지방산 에스테르, 에톡시화된 지방산, 10∼20개의 탄소 원자를 갖는 에톡시화된 선형 또는 분지형 알콜, 에톡시화된 알킬페놀, 펜타에리트리톨 지방산 에스테르, 글리세롤 에스테르 및 알킬폴리글리코시드이다.
비이온성 유화제 (D)는 소르비탄 지방산 에스테르, 에톡시화된 소르비탄 지방산 에스테르, 에톡시화된 지방산, 10∼20개의 탄소 원자를 갖는 에톡시화된 선형 또는 분지형 알콜 또는 에톡시화된 트리글리세리드인 것이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 조성물은 에톡시화된 알킬페놀을 포함하지 않는 것이 바람직하며, 그 이유는 이것이 환경 친화적이지 않은 것으로 공지되어 있기 때문이다.
비이온성 유화제가 성분 (D)로서 사용되는 경우, 단 하나의 유형의 비이온성 유화제를 사용하거나 또는 복수의 비이온성 유화제의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 하나 이상의 비이온성 유화제 (D)의 HLB 값은 바람직하게는 12 이상, 특히 14 이상이다.
성분 (D)로서, 하나 이상의 유화제가 12 이상의 HLB 값을 갖는 비이온성 유화제의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 유화제 혼합물 (D) 중에서 12 이상의 HLB 값을 갖는 유화제 (D)의 비율은 바람직하게는 30 중량% 이상이다.
HLB 값은 유화제에서 친수성 및 소수성 기 사이의 균형을 나타낸다. HLB 값의 정의는 잘 공지되어 있고, 또한 그의 측정 방법이며, 이는 예를 들어 문헌[Journal of Colloid and Interface Science 298 (2006) 441-450]에서, 및 또한 본원에 인용된 문헌에서 기술된다.
사용될 수 있는 음이온성 유화제 (D)의 예는 알킬설포네이트, 알킬설페이트 및 알킬포스페이트이다.
양이온성 유화제 (D)의 예는 10개 이상의 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환 또는 비치환된 탄화수소 모이어티를 보유하는 모든 공지된 4차 암모늄 화합물, 예를 들면 도데실디메틸암모늄 클로라이드, 테트라데실트리메틸암모늄 브로마이드, 스테아릴트리메틸암모늄 클로라이드, 디스테아릴디메틸암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 베헤닐트리메틸-암모늄 브로마이드, 도데실벤질디메틸암모늄 클로라이드 및 벤질트리메틸암모늄 클로라이드이다.
양이온성 유화제가 성분 (D)로서 사용되는 경우, 아릴- 또는 알킬-트리메틸암모늄 염, 예컨대 스테아릴트리메틸암모늄 클로라이드 또는 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 특히 벤질트리알킬암모늄 염, 특히 트리메틸벤질암모늄 클로라이드 또는 트리메틸벤질암모늄메토설페이트가 바람직하다.
다른 예는 10개 이상의 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환 또는 비치환된 탄화수소 모이어티를 보유하는 모든 공지된 4차 이미다졸륨 화합물, 예컨대 1-메틸-2-스테아릴-3-스테아릴아미도에틸-이미다졸륨 메토설페이트, 1-메틸-2-노르스테아릴-3-스테아릴아미도-에틸이미다졸륨 메토설페이트, 1-메틸-2-올레일-3-올레일아미도에틸이미다졸륨 메토설페이트, 1-메틸-2-스테아릴-3-메틸이미다졸륨 메토설페이트, 1-메틸-2-베헤닐-3-메틸이미다졸륨 메토설페이트 및 1-메틸-2-도데실-3-메틸이미다졸륨 메토설페이트이다.
성분 (D)가 본 발명에 사용되는 조성물의 생성에 사용되는 경우, 여기서 함량은 각 경우에 성분 (A)의 100 중량부를 기준으로 바람직하게는 0.1∼15 중량부, 특히 바람직하게는 0.3∼8 중량부이다.
유화제 (D)는, 실리콘 수지 (B1)이 본 발명에 사용되는 조성물에서 성분 (B)로서 사용되는 경우 바람직하게 사용된다. 실록산 (B2)가 본 발명에 사용되는 조성물에서 성분 (B)로서 사용되는 경우 유화제 (D)의 사용을 생략하는 것이 바람직하다.
성분 (E)로서 사용되는 물은 임의의 바람직한 유형의 물, 예컨대 천연 발생수, 예컨대 빗물, 지하수, 용수, 강수 및 해수, 화학 처리수, 예컨대 탈염수, 증류수 또는 (반복) 재증류수, 식수 또는 광천수일 수 있다.
본 발명에 사용되는 조성물에 존재하는 성분 (E)의 함량은 각 경우에 전체 조성물을 기준으로 바람직하게는 50∼99.99 중량%, 특히 바람직하게는 80∼99.9 중량%이다. 본 발명의 공정에는 물 (E)가 92∼99.9 중량%인 상당히 희석된 조성물이 특히 바람직하다.
본 발명에 경우에 따라 사용되는 다른 성분 (F)는 수성 분산액 중에 지금까지 사용된 임의의 추가 물질, 예컨대 증점제, 성분 (A) 및 (B)와 상이한 유기규소 화합물, pH 조정 물질, 향료, 염료, 안료, 예컨대 산화철, 알콜, 부동액, 예컨대 글리콜 및 글리콜 에테르 또는 방부제일 수 있다.
경우에 따라 사용되는 증점제 (F)의 예는 폴리아크릴산, 폴리아크릴레이트, 셀룰로스 에테르, 예컨대 카르복시메틸셀룰로스 및 히드록시에틸셀룰로스, 천연 검, 예컨대 크산탄 검 및 폴리우레탄이다.
경우에 따라 사용되는 유기규소 화합물 (F)의 예는 테트라에톡시실란, 트리메틸메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란 및 아미노프로필메틸디메톡시실란이다.
아미노실란과 함께, pH를 조정하기 위해 경우에 따라 사용되는 물질 (F)의 예는 아민, 예컨대 모노에탄올아민, 또는 알칼리 금속 히드록시드이다. 완충제 시스템은 또한 장시간에 걸쳐 pH가 일정하도록 보장하는데 필요한 경우에 또한 각 경우에 유리산과 함께, 원하는 pH에 의해 요구되는 바와 같이 사용될 수 있고, 이의 예는 아세트산의 염, 인산의 염, 및 시트르산의 염이다.
바람직한 구체예에서, 본 발명의 조성물은 성분(F)로서 바람직하게는 0.00001∼1 중량%, 특히 바람직하게는 0.0001∼0.5 중량%의 함량으로 에탄올 및/또는 메탄올을 포함한다. 언급된 알콜 함량은 본 발명에 사용되는 조성물의 제조 동안 및/또는 이의 저장 동안 주로 형성된다.
특히 바람직한 구체예에서, 본 발명의 조성물은 알콜 이외에 성분(F)를 포함하지 않는다.
본 발명에 사용되는 조성물은 바람직하게는
(A) 화학식 I의 실란,
(B1) 화학식 II의 단위로 이루어진 실리콘 수지로서, b가 0이고, 오르가노폴리실록산 수지에서 화학식 II의 모든 단위의 50% 미만에서 c가 2인 것,
(D) 유화제,
(E) 물, 및
경우에 따라, (F) 다른 물질
을 포함하는 것이다.
본 발명의 또다른 바람직한 구체예에서, 사용된 조성물은
(A) 화학식 I의 실란,
(B2) 화학식 II의 단위로 이루어진 실록산으로서, 하나 이상의 단위에서 b가 0이 아니고, 오르가노폴리실록산에서 화학식 II의 모든 단위의 50% 이상에서 b+c가 2인 것,
(C) 산,
(E) 물, 및
경우에 따라, (F) 다른 물질
을 포함하는 것이다.
본 발명에 사용된 조성물은 성분 (A) 내지 (F) 이외의 성분, 및 또한 이의 반응 생성물을 포함하지 않는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용된 성분은 각 경우에 상기 성분 중 한 유형 또는 그 외에 대응 성분 중 둘 이상의 유형의 혼합물일 수 있다.
본 발명에 사용된 조성물은 바람직하게는 분산물, 예컨대 에멀션 및 현탁액, 특히 바람직하게는 에멀션이다.
본 발명에 사용된 수성 조성물은 자체 기술 분야에 공지된 공정에 의해 제조될 수 있다. 통상의 제조 공정은 바람직하게는 1∼50℃인 온도에서 임의의 순서로 모든 구성성분들을 간단히 혼합시키고, 경우에 따라 후속 균질화시킨다.
본 발명의 공정의 바람직한 구체예에서, 조성물은 제1 단계에서, 적당한 믹서, 예컨대 플래시 또는 탱크에서 성분 (A), (B), 경우에 따라 (C) 및 경우에 따라 (D)를 균질하게 혼합시킨 후, 60∼140℃, 바람직하게는 80∼130℃의 온도로, 0.5∼4시간 동안 가열하고, 제2 단계에서, 제1 단계에서 수득한 혼합물을 물 (E), 경우에 따라 (D) 및 경우에 따라 (F)로 유화시킴으로써 생성되는 것이다.
제2 단계에서 수득한 에멀션은 경우에 따라 추가의 물로 희석될 수 있고, 또한 여기에 추가의 물질 (F)를 첨가할 수도 있다.
본 발명에 사용된 분산액은 바람직하게는 유백색의, 백색 내지 베이지색 액체이다.
본 발명에 사용되는 조성물의 고체 함량, 즉 비휘발성 화합물의 함량(예, ASTM D-5095에 따라 측정됨)은 바람직하게는 0.006∼40 중량%, 특히 바람직하게는 0.06∼18 중량%이다.
본 발명에 사용된 조성물의 점도는 전술된 테스트 방법에 따라 25℃에서 각 경우에 측정된 바와 같이 바람직하게는 0.5∼10,000 mm2/s, 특히 1∼1,000 mm2/s이다.
본 발명의 목적의 경우, 용어 "소성 점토 성형체"는 500℃ 초과의 온도 및 주위 분위기의 압력, 즉 900∼1100 hPa에서 점토 함유 재료의 소성을 통해 수득할 수 있는 임의의 성형체를 의미하고, 여기서 점토 함유 재료는 점토와 함께 다른 구성성분, 예컨대 모래 및 골재를 포함할 수 있다.
본 발명에 사용된 소성 점토 성형체는 산업용 점토계 세라믹 재료, 특히 기와, 파사드 벽돌/타일, 파사드 요소, 다른 타일, 또는 용기(vessel), 특히 기와 또는 파사드 타일이 바람직하다.
본 발명에 사용된 소성 점토 성형체는 예컨대 화장토로 비코팅 또는 코팅될 수 있다.
특히, 본 발명에 사용된 소성 점토 성형체는 화장토화된 기와이다.
화장토는 오랜 역사를 갖고 있고 이와 관련하여 세라믹 산물의 착색 또는 코팅에 작용을 하는 저점도 액체 점토-광물 조성물의 일반적인 용어로 의도된다. 예를 들어, 이 재료는 미끄러울 수 있고; 화장토는 세라믹 산물을 위한 보호 층을 형성하지 않는다는 점에서 유약과 다르다.
본 발명의 처리에서, 소성 점토 성형체는 조성물이 성형체에 부분적으로 또는 완전하게 침투하는 경우 수성 조성물과 접촉된다.
본 발명의 공정에서, 지금까지 공지된 유사한 분배 방법에 의해, 예컨대 스프레딩, 스프레잉, 닥터링, 롤러 방법, 캐스팅, 트로웰링(troweling), 침지 또는 롤링을 통해 성형체의 표면에 조성물을 도포한다.
본 발명의 공정에서, 조성물은 일반적으로 성형체의 모세관에 침투되고 거기서 건조가 진행된다.
성형체의 물 흡수는 본 발명의 소수화에 의해 극적으로 감소되며; 이는 열 전도율을 감소시키고, 또한 서리의 효과를 통한 건축재의 파괴 및 응결 순환, 또는 염을 방지한다.
본 발명의 공정에 사용되는 수성 조성물의 양은, 처리하고자 하는 소성 점토 체면적 m2 당 성분 (A), (B) 및 경우에 따라 (C), 및 또한 이들의 임의의 반응 생성물의 전체 양이 바람직하게는 0.01∼7.00 g, 특히 바람직하게는 0.03∼3.00 g이 되도록 한다.
본 발명의 공정은 바람직하게는 0∼100℃ 범위, 특히 바람직하게는 10∼90℃ 범위의 온도에서 수행된다.
본 발명의 공정은 바람직하게는 주위 압력, 즉 900∼1100 hPa에서 수행된다.
본 발명의 공정은 점토 성형체의 소성 직후 또는 점토 성형체의 제조 후 임의의 바람직한 시점에 수행된다. 놀랍게도, 어느 정도 숙성이 이미 실시된 소성 점토 성형체 상에 본 발명의 소수화 함침을 수행하는 것도 가능하다.
본 발명의 공정에서, 처리된, 소성 점토 성형체는 물 및 다른 휘발성 성분의 증발을 허용하는 조건 하에서 저장되는 것이 바람직하다.
본 발명의 공정은 효율적이고 저렴하며 물의 효과로부터 소성 점토 성형체의 장기간의 내구성 보호를 제공하는 장점을 갖는다.
본 발명에 사용된 조성물은, 성분 (A), (B), 경우에 따라 (C) 및 경우에 따라 (D)가 의도된 응용예에 공간적으로 그리고 연대순으로 가까운 경우에만 물로 희석되어 본 발명의 최종 조성물을 형성하는 농축물을 생성하는 데 사용될 수 있는 장점을 갖는다.
이는 수송 비용 및 저장 비용을 절약한다. 더하여 상기 농축물은 저장에 있어 매우 안정적인 장점을 갖는다.
수성 조성물의 사용은 환경 친화적이며 광범위하게 희석할 수 있다는 장점을 갖는다.
본 발명의 공정의 또다른 장점은 상당히 효과적이고 불필요한 위치 변색을 방지하는 방식으로 소성 점토 성형체를 함침시킨다는 점이다.
본 발명에 사용된 수성 조성물은 저비용으로 생성되고 취급이 용이하다는 장점을 갖는다.
본 발명의 공정은 수성 조성물이 매우 우수하고 견고한 소수화 함침 효과 및 소성 점토 성형체에의 매우 우수한 침투 성능을 나타낸다는 장점을 갖는다.
하기 실시예에서 부 및 백분율과 관련된 모든 데이타는 달리 언급되지 않는 한 중량을 기준으로 한다. 달리 언급되지 않는 한, 하기 실시예는 주위 분위기의 압력, 즉 약 1000 hPa, 및 실온, 즉 약 20℃, 또는 추가 가열 또는 냉각 없이 실온에서 반응물을 배합하는 경우 보편적인 온도에서 수행된다.
합성예 1
150 g의 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란을, 교반하면서, 평균 몰 질량 Mn 약 4000 g/몰을 갖는, 4.0 g의 메탄올 중 0.2 g의 수산화칼륨 및 500 g의 OH-말단화된 폴리디메틸실록산의 혼합물에, 교반기, 적하 깔대기 및 환류 응축기가 구비된 1-리터 3-구 플라스크에서 첨가하고, 생성된 혼합물을 환류 하에 6시간 동안 비점으로 가열하였다. 그리고나서 30℃로 냉각시키고 2.5 ml의 10% 염산과 혼합시켰다. 최종적으로, 메탄올을 140℃로 가열함으로써 증류 제거하고, 생성된 오르가노폴리실록산을 여과에 의해 염화칼륨으로부터 제거하였다. 2.9 중량%의 질소를 포함하는 생성된 오르가노폴리실록산의 점도는, 25℃에서 50 mm2/s이다.
발명예
1
합성예 1로부터의 생성물 15.4 g, 2,4,4-트리메틸펜틸트리에톡시실란(이소옥틸트리에톡시실란) 80.8 g 및 프로피온산 3.8 g을 실온에서 혼합하고 2시간 동안 120℃에서 환류 하에 교반하였다.
그리고나서 스파출라로 수동 교반하여 예비혼합물을 물에 혼입함으로써 생성물 예비혼합물로부터 에멀션을 생성하였다. 생성된 에멀션은 30일 이상 동안 소수화제로서 사용하기에 적당하다. 에멀션이 크림화된 경우, 사용 전에 간단한 재혼합화가 요구된다.
상기 예비혼합물의 다음과 같은 함량을 가진 수성 에멀션을 생성하였다: 1.50 중량% (에멀션 E1), 1.25 중량% (에멀션 E2), 1.00 중량% (에멀션 E3), 0.75 중량% (에멀션 E4) 및 0.50 중량% (에멀션 E5).
소수화 효과를 측정하기 위해, Koramic GmbH D-94315 Straubing로부터의 2개의 흑색-화장토화된 UNIVERSO 14 기와를, 도포 전 짧게 재혼합시킨 상기 생성된 에멀션 중 하나에 각 경우에 60초 동안 침지시켰다. 그리고나서 타일을 실온 및 50% 습도에서 3주 동안 건조시키고 이의 중량을 측정하였다.
그리고나서 생성된 기와를 10 cm 깊이의 수중에 7일 동안 침지하고, 규칙적인 간격으로 중량의 증가에 의해 물 흡수량을 측정하였다. 동일한 에멀션으로 처리한 후 2개의 기와 각각에서 얻은 결과를 평균내었다.
기와의 화장토화된 측면 상의 소수화제의 침투 깊이를 측정하기 위해, 물 흡수의 측정 후 24시간, 50℃에서 오븐 건조하였고, 그 후 파괴하였다. 그리고나서 물을 파괴된 에지에 도포하였다. 물은 소수화된 표면 층의 영역에서 상기 파괴된 에지로 침투되지 않았다.
물이 침투된 경우 기와의 어두운 변색이 일어나는 반면, 표면 부근에서 소수화된 층은 이의 색상을 유지하였다. 따라서, 간단한 측정에 의해 이 층의 두께를 결정할 수 있다. 동일한 에멀션에 의한 처리 후 2개의 기와 각각에서 얻은 결과를 평균내었다. 소수화된 층의 두께는 여기서 이의 내구성의 중요한 척도를 제공한다.
표면 상에 불필요한 국소 변색을 시각적 평가로 평가하였다.
하기 표 1에 결과를 제시한다.
미처리 기와 상에 이용된 테스트 방법은 테스트 전 에멀션 E1 내지 E5로 처리된 타일에 이용된 것과 동일하였다.
예외 없이, 소수화된 기와의 외관은 완전히 만족스러웠다.
발명예
2
즉시 사용가능한 희석된 에멀션이 도포 전 30일 동안 저장된다는 것을 제외하고는 발명예 1에 기술된 작업 방식을 반복하였다. 하기 표 2에 결과를 제시한다.
비교예
1(표준 소수화제)
54% 칼륨 메틸 실리콘에이트 용액(Wacker Chemie AG(독일 무니히 소재)로부터 SILRES® BS 16으로서 구매할 수 있음)을, 1.50 중량%, 1.00 중량%, 및 0.50 중량%의 활성 성분 농도로 물을 첨가함으로써 희석하였다. 여기서 희석은 스파출라의 보조로 교반함으로써 간단한 혼입을 통해 실현될 수 있다.
소수화 효과, 침투 깊이 및 바람직하지 않은 국소 변색을 발명예 1에 상기 기술된 바와 같이 측정된다. 여기서 다시, Koramic으로부터의 흑색-화장토 UNIVERSO 14 기와를 사용한다. 하기 표 3에 결과를 제시한다.
활성 성분 함량과 관계없이, 완전히 만족스러운 소수화를 실현하는 것은 가능하지 않았다. 더 높은 농도는 적당한 결과를 유도하고, 0.50 중량%의 낮은 농도에서는, 이후 실질적으로 식별가능한 소수화 효과가 없었다.
더하여, 소수화 에멀션의 농도와 관계없이, 기와의 처리는 흑색-화장토 표면 상에 심각한 바람직하지 않은 국소 변색을 초래하였다.
비교예
2 (구입 가능한 제품):
Baysilone WA는 벽돌 및 기와의 소수화에 추천되는 Momentive Performance Materials(미국 오하이오주 43215 콜럼버스)의 소수화 에멀션이다.
구입 가능한 에멀션의 활성 성분 함량은 60 중량%이다. 이를 1.50 중량%, 1.25 중량%, 1.00 중량%, 0.75 중량% 및 0.50 중량%의 활성 성분 농도로 물의 첨가에 의해 희석하였다. 여기서 희석은 스파출라의 보조로 교반함으로써 간단한 혼입을 통해 실현될 수 있다.
소수화 효과, 침투 깊이 및 바람직하지 않은 국소 변색은 발명예 1에서 상기 기술된 바와 같이 측정되었다. 여기서 다시, Koramic의 흑색-화장토 UNIVERSO 14 기와를 사용하였다. 하기 표 4에 결과를 제시한다.
1.50 중량%의 비교적 높은 활성 성분 함량을 갖는 에멀션으로 기와를 처리하였을 때만 우수한 소수화를 얻었다. 적당한 농도는 적당한 결과를 유도하였고, 0.75 중량% 미만의 농도에서는 실질적으로 식별가능한 소수화 효과가 없었다.
더하여, 소수화 에멀션의 농도와 관계없이, 기와의 처리는 화장토 표면 상에 심각한 바람직하지 않은 국소 변색을 초래하였다.
발명의 효과
본 발명에 사용된 수성 조성물은 저비용으로 생성되고 취급이 용이하다는 장점을 갖는다. 본 발명의 공정은 수성 조성물이 매우 우수하고 견고한 소수화 함침 효과 및 소성 점토 성형체에의 매우 우수한 침투 성능을 나타낸다는 장점을 갖는다.
Claims (10)
- (A) 하기 화학식 I의 실란; 5개 이하의 규소 원자를 갖는 하기 화학식 I의 실란의 부분 가수분해물; 또는 둘 다,
(B) (B2) 하기 화학식 II의 단위로 이루어진 실록산,
(C) 산,
경우에 따라, (D) 유화제, 및
(E) 물
을 포함하는 수성 조성물에 의한 소성 점토 성형체의 처리를 통한 소성 점토 성형체의 소수화 함침 방법:
[화학식 I]
RaR1Si(OR2)3-a
(상기 식에서,
R은 1∼5개의 탄소 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R1은 6∼22개의 탄소 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R2는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 1가 탄화수소 모이어티를 나타내고,
a는 0 또는 1이다)
[화학식 II]
R3 bR4 c(OR5)dSiO(4-b-c-d)/2
(상기 식에서,
R3은 동일하거나 상이할 수 있고, 1가의, SiC-결합된, 질소 함유 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 비치환되거나 또는 경우에 따라 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 1가의, SiC-결합된 탄화수소 모이어티를 나타내고,
R5는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 1가 탄화수소 모이어티를 나타내고,
b는 0, 1, 2 또는 3이고,
c는 0, 1, 2 또는 3이고,
d는 0, 1, 2 또는 3이고,
단, b+c+d ≤ 3이고, 하나 이상의 단위에서, b가 0이 아니고, 유기폴리실록산에서 화학식 II의 모든 단위의 50% 이상에서, b+c가 2이다) - 제1항에 있어서, 실란 (A)는 n-헥실트리에톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란 또는 이소옥틸트리에톡시실란; 5개 이하의 Si 원자를 갖는 n-헥실트리에톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란 또는 이소옥틸트리에톡시실란의 부분 가수분해물; 또는 둘 다인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 조성물은, 제1 단계에 있어서, 믹서에서 성분 (A), (B2), (C) 및 경우에 따라 (D)를 균질하게 혼합시킨 후, 60∼140℃의 온도로 0.5∼4시간 동안 가열하고, 제2 단계에 있어서, 제1 단계에서 수득한 혼합물을 물 (E), 및 경우에 따라 (D)로 유화시킴으로써 생성되는 것임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 소성 점토 성형체는 기와, 파사드 벽돌/타일, 파사드 제품, 타일, 또는 용기(vessel)인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 사용되는 수성 조성물의 양은, 처리하고자 하는 소성 점토 체면적 m2 당 성분 (A), (B) 및 경우에 따라 (C), 및 또한 이들의 임의의 반응 생성물의 전체 양이 0.01∼7.00 g이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 0∼100℃ 범위의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102014223846.3 | 2014-11-21 | ||
| DE102014223846.3A DE102014223846A1 (de) | 2014-11-21 | 2014-11-21 | Verfahren zur hydrophobierenden Imprägnierung von gebrannten Tonformkörpern |
| PCT/EP2015/076251 WO2016078976A1 (de) | 2014-11-21 | 2015-11-10 | Verfahren zur hydrophobierenden imprägnierung von gebrannten tonformkörpern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170086598A KR20170086598A (ko) | 2017-07-26 |
| KR101943244B1 true KR101943244B1 (ko) | 2019-01-28 |
Family
ID=54548151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020177016754A KR101943244B1 (ko) | 2014-11-21 | 2015-11-10 | 소성 세라믹 성형체의 소수성 함침 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10882960B2 (ko) |
| EP (1) | EP3221282A1 (ko) |
| JP (1) | JP6490812B2 (ko) |
| KR (1) | KR101943244B1 (ko) |
| CN (1) | CN107001161B (ko) |
| DE (1) | DE102014223846A1 (ko) |
| WO (1) | WO2016078976A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11674000B2 (en) | 2018-08-24 | 2023-06-13 | Wacker Chemie Ag | Process for preparing branched organopolysiloxanes |
| KR102187447B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2020-12-07 | 대동산업 주식회사 | 도자타일용 고유동성 과립분말의 제조방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013538255A (ja) | 2010-07-28 | 2013-10-10 | ダウ コーニング コーポレーション | 有機ケイ素疎水化剤 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3613384C1 (de) | 1986-04-21 | 1988-01-07 | Wacker Chemie Gmbh | Waessrige Emulsionen von Organopolysiloxan und Verwendung solcher Emulsionen |
| DE4241727A1 (de) * | 1992-12-10 | 1994-06-16 | Wacker Chemie Gmbh | In Wasser selbstdispergierende, Organopolysiloxan anhaltende Zusammensetzungen |
| DE19634500A1 (de) * | 1996-08-26 | 1998-03-05 | Wacker Chemie Gmbh | Zusammensetzungen für die wasser- und ölabweisende Behandlung saugfähiger Materialien |
| DE19752659A1 (de) * | 1997-11-27 | 1999-06-24 | Wacker Chemie Gmbh | Organosiliciumverbindungenhaltige hydrophobierende Pulver enthaltende Baustoffmassen |
| GB9726636D0 (en) | 1997-12-17 | 1998-02-18 | Dow Corning | Method for preparing hydrophobic clay |
| JP2004251100A (ja) | 2002-12-26 | 2004-09-09 | Kansai Paint Co Ltd | 磁器タイル壁面の塗装工法 |
| JP2005000742A (ja) | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Clion Co Ltd | Ａｌｃパネルの撥水処理方法 |
| DE102005004871A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Hochviskose wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen, deren kondensierten Oligomeren, Organopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung zur Oerflächenbehandlung von anorganischen Materialien |
| DE102005022100A1 (de) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Dispersionen von vernetzten Organopolysiloxanen |
| JP5158935B2 (ja) | 2007-07-09 | 2013-03-06 | 旭化成ワッカーシリコーン株式会社 | 土木建築用吸水防止剤組成物 |
| DE102011007006A1 (de) * | 2011-04-07 | 2012-10-11 | Wacker Chemie Ag | Wässrige Dispersionen von Organosiliciumverbindungen |
-
2014
- 2014-11-21 DE DE102014223846.3A patent/DE102014223846A1/de not_active Withdrawn
-
2015
- 2015-11-10 WO PCT/EP2015/076251 patent/WO2016078976A1/de active Application Filing
- 2015-11-10 KR KR1020177016754A patent/KR101943244B1/ko active IP Right Grant
- 2015-11-10 US US15/526,685 patent/US10882960B2/en active Active
- 2015-11-10 CN CN201580062895.4A patent/CN107001161B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-11-10 EP EP15795139.3A patent/EP3221282A1/de not_active Withdrawn
- 2015-11-10 JP JP2017527351A patent/JP6490812B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013538255A (ja) | 2010-07-28 | 2013-10-10 | ダウ コーニング コーポレーション | 有機ケイ素疎水化剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN107001161B (zh) | 2020-07-31 |
| KR20170086598A (ko) | 2017-07-26 |
| JP2018503579A (ja) | 2018-02-08 |
| US10882960B2 (en) | 2021-01-05 |
| JP6490812B2 (ja) | 2019-03-27 |
| WO2016078976A1 (de) | 2016-05-26 |
| US20170321015A1 (en) | 2017-11-09 |
| CN107001161A (zh) | 2017-08-01 |
| EP3221282A1 (de) | 2017-09-27 |
| DE102014223846A1 (de) | 2016-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8449666B2 (en) | Aqueous dispersions of organosilicon compounds | |
| US8907011B2 (en) | Aqueous dispersions of organosilicon compounds | |
| AU709998B2 (en) | Emulsions of organosilicon compounds for imparting water repellency to building materials | |
| JP5720227B2 (ja) | 木材の処理方法 | |
| JP6087929B2 (ja) | コンクリート用撥水剤 | |
| RU2634780C2 (ru) | Водоотталкивающие полиорганосилоксановые материалы | |
| KR970005892B1 (ko) | 무기질건재의 함침용 조성물 | |
| KR101943244B1 (ko) | 소성 세라믹 성형체의 소수성 함침 방법 | |
| JPH09221374A (ja) | 鉱物性建材の被覆及び撥水性含浸法及び鉱物性建材の建材被覆剤 | |
| JP6149788B2 (ja) | 皮膜形成性シリコーンエマルション組成物及び皮膜 | |
| WO2014019878A1 (de) | Nicht-filmbildende formulierungen auf basis von organosiliciumverbindungen | |
| RU2389734C1 (ru) | Способ получения аминооксиалкиленсодержащего олигоалкоксисилоксана и самоэмульгирующиеся композиции на его основе | |
| WO2021126175A1 (en) | Aqueous dispersions of organosilicon compounds | |
| KR102647253B1 (ko) | 자기 분산성 혼합물 실리콘 첨가제 조성물, 이의 에멀젼 및 이의 용도 | |
| US20080085941A1 (en) | Particle Dispersion | |
| JP5703984B2 (ja) | 木材の処理方法及び該処理方法で処理された木材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |