KR101902599B1 - 트리아지닐-치환된 옥신돌의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 탄산염, 수산화물, 인산염, 또는 다수의 상기 화합물들의 혼합물의 존재 하에서 화학식 1의 옥신돌을 화학식 2의 트리아진과 반응시킴에 의한 하기 화학식 3의 트리아지닐-치환된 옥신돌 및 그의 염의 제조 방법, 화학식 3의 화합물 및 그의 화학식 3"의 염, 및 식물 보호제의 제조에 있어서의 상기 두 화합물의 용도에 관한 것이다.
<화학식 3>

Description

트리아지닐-치환된 옥신돌의 제조 방법 {METHOD FOR PRODUCING TRIAZINYL-SUBSTITUTED OXINDOLES}
본 출원은 트리아지닐-치환된 옥신돌의 개선된 제조 방법, 및 농업 분야에서의 정밀 화학 물질 및 활성 성분의 합성을 위한 중간체로서의 그의 용도에 관한 것이다.
3번 위치에서 치환된 옥신돌은 일련의 천연 물질 및 제약상 효과적인 물질 중에서 중요한 구조적 요소이다. 이러한 화합물들 중 몇몇은 다양한 병원균에 대해 생물학적 활성을 나타내고, 예를 들어 항암 성질 또는 항-HIV 성질을 나타낸다(문헌 [Ding et al., J. Med. Chem. 2006, 49, 3432]; [Jiang et al., Bioorg. Med. Chem. Lett. 2006, 16, 2105]).
3번 위치에서 헤테로방향족이도록 치환된 옥신돌의 추가의 부분군은 3-트리아지닐옥신돌(3-(1,3,5-트리아진-2-일)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온이다. "3-트리아지닐옥신돌"이라는 관용명으로 지칭되는 이러한 화합물의 제조 방법은 본 발명의 특허대상이다.
방향족, 헤테로방향족 또는 지방족 탄소 주쇄에 결합된 수소는 역시 방향족, 헤테로방향족 또는 지방족일 수 있는 관능성 치환기에 의해 치환될 수 있다는 것이 공지되어 있다.
이와 관련해서, 옥신돌의 3번 위치에서의 수소의 치환을 위한 반응 조건은 치환기의 본질에 따라 달라진다는 점이 흥미롭다. 따라서, 지방족, 방향족 및 헤테로방향족 라디칼의 치환을 위한 반응 조건이 서로 독립적으로 연구 및 개발되어 왔다.
3번 위치에서의 옥신돌의 치환을 위한 표준 반응은 수소가 지방족 치환기로써 치환됨을 포함한다(문헌 [Science of Synthesis, 10(2000), p.600]).
팔라듐의 존재 하에서의 방향족 치환기에 의한 치환은 테일러(Taylor) 등(문헌 [J. Am. Chem. Soc., 2009, 131, 9900-9901]), 및 또한 알트만(Altman) 등(문헌 [J. Am. Chem. Soc. 2008, 130(29), 9613-9620]) 및 또한 더빈(Durbin) 등(문헌 [Org. Lett., 2008, 10(7), 1413-1415])에 의해 기술되어 있다.
수소가 헤테로방향족 6-고리 치환기에 의해 치환된, 치환된 옥신돌의 합성도 역시 기술되어 있다. 예를 들어, 본원에서는, 치환된 피리다진에 의한, N-메틸-옥신돌의 3번 위치에서의 치환(문헌 [Shen et al., Org. Lett., 2006, 8, 1447-1450]), 치환된 3-(퀴나졸린-4-일)옥신돌의 제조(US 6265411), 고체상에서의, 치환된 퀴나졸린에 의한 옥신돌의 3번 위치에서의 치환(문헌 [Hennequin et al., Tetrahedron Lett., 1999, 40, 3881-3884]), 피리딘 또는 피리딘 N-산화물에 의한 치환(예를 들어 US 2009/291982, WO 2007/89193, WO 2005/27823, WO 2003/82853), 치환된 3-(피리미딘-4-일)옥신돌의 제조(WO 2006/136606, WO 2003/82853, US 2007/281949) 또는 치환된 3-(2H-피라졸로[3,4-d]피리미딘-4-일)옥신돌의 제조(US 2007/281949)가 언급된다.
반응식 1에 따라, "적합한" 염기의 존재 하에서, 화학식 1의 임의로 치환된 옥신돌의 3번 위치의 수소 원자를, 적합한 이탈기 X를 갖는 화학식 2의 임의로 치환된 트리아진으로써 치환함으로써, 3-트리아지닐옥신돌을 수득할 수 있다.
<반응식 1>
3-트리아지닐옥신돌의 합성
Figure 112013065097544-pct00001
(1) = 옥신돌
(2) = 이탈기로서 X를 갖는 트리아진
B = 염기
이와 관련해서, 수소의 치환에 있어 중요한 옥신돌의 탈양성자화 단계를 치환기 R3의 선택을 통해 표적화된 방식으로 통제할 수 있다는 것이 공지되어 있다.
전술된 종래 기술에서 개시된 반응들의 공통적인 특징은, 사용된 옥신돌을 우선 강염기로써 탈양성자화시키고, 이어서 전형적으로 염소 화합물인 헤테로시클릭 성분을 첨가한다는 것이다.
탈양성자화를 위해, 종래 기술에서는, 강한 수-민감성 염기, 예컨대 나트륨 헥사메틸디실라잔 또는 리튬 디이소프로필아미드(LDA), 수소화나트륨 또는 수소화리튬이 사용된다.
불리하게도, 염기 수소화나트륨 및 수소화리튬을 사용하면 동몰량의 수소 원소가 형성된다. 더욱이, 이러한 염기와 관련해서 사용되는 용매는 사용 전에 힘들게 건조되어야 한다.
퀴놀린 N-옥시드를 산성 무수물의 존재 하에서 사용하는, WO 2005/061519에 기술된 퀴놀린과 옥신돌의 커플링과 유사한, 화학식 2의 트리아진과의 유사한 커플링은 공지되어 있지 않다.
반응식 2는 치환된 3-트리아지닐옥신돌을 제조하기 위한 공지된 공정을 요약한다. 이것은 트리아진 고리 상에 질소 치환기를 가짐을 특징으로 한다. 이러한 합성은 US 2004/116388, WO 2002/083654 및 WO 2001/025220에 개시되어 있다.
<반응식 2>
N-치환된 3-트리아지닐옥신돌의 합성
Figure 112013065097544-pct00002
반응식 2에 따른 반응에서는, 치환된 4-클로로-N-페닐-1,3,5-트리아진-2-아민이 트리아진-함유 성분으로서 사용되었다. DMF/THF에서 사용된 옥신돌을 수소화나트륨으로써 탈양성화시킨 후, 트리아진 성분을 첨가하고, 이어서 80℃에서 반응 혼합물을 교반함으로써, 반응을 수행하였다.
불리하게도, 이러한 공지된 합성 공정에서 달성된 수율은 단지 2.5%이거나, 질소 상에서 치환되지 않은 옥신돌(R2 = H)에 대해서는 7%이고, N-메틸-옥신돌(R2 = Me)에 대해서는 29%이다.
상기 공정들의 단점은, 매우 낮은 수율 뿐만 아니라, 또한 산업적으로 취급하기 어려운 동몰량의 수소 원소의 형성을 초래하는 수소화나트륨과 같은 강염기를 사용한다는 것이다. 따라서, 상기 공정은 산업적 규모를 위한 실행가능한 해법이 아니다.
치환된 3-트리아지닐옥신돌의 제조에 대한, 380번 화합물에 대해 US 2004/116388에 기술된 공정에서는, 단지 0.4 당량의 트리아진 성분이 1당량의 옥신돌 성분에 대해 사용된다. 옥신돌 성분을 기준으로, 이는 단지 40%의 최대 이론적 수율을 초래할 수 있다. 과량의 옥신돌을 사용함으로써 수율을 증가시킬 수 있다. 옥신돌 성분은, 치환 패턴에 따라, 약간 더 가치있는 출발 물질일 수 있기 때문에, 2.5 배 과량의 옥신돌을 사용하는 이러한 반응 절차는 산업적 규모에서는 불리한 것으로 간주되어야 한다.
지방족, 방향족 및 헤테로방향족 치환기에 의한 옥신돌의 3번 위치에서의 수소의 치환을 위한 반응 조건은 각각의 경우에 서로 독립적으로 설정되어야 한다고 이미 지시되어 있는데, 왜냐하면 도입될 치환기의 유형은 반응에 크게 영향을 미칠 수 있기 때문이다.
이는 다시 추가의 분지화, 즉 이러한 치환기의 추가의 치환, 특히 헤테로방향족 치환기의 추가의 치환에도 적용되는 것처럼 보인다.
따라서, 종래 기술에서는 트리아진 고리 상에 알킬 또는 알콕시 치환기를 갖는 3-트리아지닐옥신돌의 산업적으로 적합한 합성은 기술되어 있지 않다.
트리아진 고리 상에 알킬 또는 알콕시 치환기를 갖는 3-트리아지닐옥신돌의 합성에 있어서 지금까지 공지된 제조 공정을 사용하는 것은 산업적 규모에서 만족스러운 결과를 달성하지 못한다.
비교를 위해, 문헌 US 2004/116388에 기술된 조건을, 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진과, 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 반응(실시예 1의 변형양태 F) 또는 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 반응(실시예 2의 변형양태 B)에서 사용하였다.
이와 관련해서, 달성되는 수율은, 각각의 경우에 옥신돌 성분을 기준으로, 단지 39%(실시예 1의 변형양태 F) 또는 단지 34%(실시예 2의 변형양태 B)라는 것이 밝혀졌다. 이러한 조건을 산업적으로 유리한 비의 출발 물질들의 반응, 즉 1당량의 옥신돌 성분과 1.2 당량의 트리아진 성분의 반응에서 사용하는 경우에, 달성되는 수율은 39%(실시예 1의 변형양태 G) 또는 30%(실시예 2의 변형양태 C)이다.
문헌 [Organic Letters(2010) 2306-2309]에서, 표 4에 기술된 아릴화 반응에서, 각각의 경우에 사용되는 출발 물질은 3-페닐옥신돌, 즉 3번 위치에서 페닐 치환기를 갖는 옥신돌이다. 이러한 3-페닐옥신돌을 3번 위치에서 탄산세슘의 존재 하에서 전자를 적게 갖는 클로로벤젠 유도체 및 5-할로옥사졸을 사용하여 아릴화시킨다.
공지된 바와 같이, 수소 치환기가 페닐 치환기로써 치환됨으로써, 메틸기 또는 메틸렌기의 산성도가 통상적으로 크게 증가한다. 이로써 메틸기 또는 메틸렌기 상의 나머지 수소 치환기(들)의 pKa 값이 수십배 감소한다.
일련의 문헌들에서, 물 또는 디메틸 술폭시드와 같은 유기 용매에서의 유기 또는 무기 화합물의 pKa 값을 기술하는, 상응하는 예를 찾을 수 있다. 유기 용매에서의 pKa 값을 직접 측정하거나 기타 방법을 사용하여 추정하였다. 예를 들어, 문헌 [Acc. Chem. Res. 1988, 21, 456]의 표 II에서, 4-메틸피리딘의 경우에 pKa 값은 35이고(DMSO에 대해 추정), 4-벤질피리딘의 경우에 pKa 값은 26.7이다(DMSO에서). 역시, 문헌 [Acc. Chem. Res. 1988, 21, 456]의 표 II에서, (메틸술파닐)벤젠의 경우에 pKa 값은 42이고(DMSO에 대해 추정), (벤질술파닐)벤젠의 경우에 pKa 값은 30.8이고(DMSO에서), 디페닐메틸 페닐술파이드의 경우에 pKa 값은 26.8이다(DMSO에서). 옥신돌의 경우에, 문헌 [Acc. Chem. Res. 1988, 21, 456]의 표 II에서, pKa 값은 18.2이다(DMSO에서).
주어진 예를 통해, 수소 치환기를 페닐 치환기로써 치환한 결과로 메틸기 또는 메틸렌기의 산성도가 수십배 증가한다는 것이 매우 명백해졌다.
본 출원의 예에서, 사용된 출발 물질은 단지 3번 위치에서 두 개의 수소 원자를 갖는 옥신돌 뿐이었다. 이와 대조적으로, 문헌 [Organic Letters(2010) 2306-2309]에서는 3-페닐옥신돌이 출발 물질로서 사용된다. 따라서 출발 물질들은 산성도가 상이하다. 3번 위치에서 두 개의 수소 원자를 갖는 옥신돌은 문헌 [Organic Letters(2010) 2306-2309]에서 표 4의 반응에서 사용되는 3-페닐옥신돌보다 덜 산성이다.
따라서, 3번 위치에서 치환되지 않은 옥신돌 상에서의 아릴화 반응에 대해 기술하는 문헌의 예에서, 수소화나트륨과 같은 강염기가 사용된다는 것은 놀라운 일이 아니다. 비-수성 용매에서의 산성도를 몇십배 감소시키는 3번 위치에서의 치환기를 갖는 옥신돌의 경우에는 탈양성자화에 탄산세슘 같은 비교적 약한 염기를 사용할 수 있다는 사실은 해당 분야의 숙련자에 의해 예측되었고 문헌 [Organic Letters(2010) 2306-2309]에서 확정되었다.
그러나, 본 발명의 교시에 따라, 이러한 예측과는 달리, 심지어는 탄산칼륨 또는 수산화나트륨과 같은 비교적 약한 염기를 사용하더라도 우수한 수율로서, 3번 위치에서 치환되지 않은 옥신돌(3번 위치에서 두 개의 수소를 갖는 옥신돌) 상에서의 아릴화가 가능하다는 것은 해당 분야의 숙련자에게 놀라운 일이다.
문헌 [Organic Letters(2010) 2306](Supplement page S-12 General Procedure)에서, 역시 클로로트리아진을 사용하는 경우에, 전자를 적게 갖는 클로로벤젠 유도체 및 5-할로옥사졸을 사용한 3-아릴옥신돌의 아릴화(문헌 [Organic Letters(2010) 2306]의 표 4)에 대해 기술된 조건의 적용가능성을 시험하기 위해서, 탄산세슘의 존재 하에서 N,N-디메틸포름아미드에서 3-페닐-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진과 반응시켰다(실시예 10을 참고). 반응은 심지어는 실온에서도 매우 빠르게 진행되기 때문에, 승온 및 오랜 반응 시간은 필요 없었다. 반응 혼합물 내에 존재하는 생성물을 칼럼 크로마토그래피를 사용하여 정제하였다. 그러나 2D-NMR을 사용하여 구조를 결정해 본 결과, 수득된 생성물은 3번 위치에서 아릴화된 원하는 생성물(3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-3-페닐-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온)이 아니라 O-아릴화 생성물(2-[(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)옥시]-3-페닐-1H-인돌)임이 입증되었다.
이후에, 다시 비교를 위해, 문헌 [Organic Letters(2010) 2306](Supplement page S-12 General Procedure)에 기술된 아릴화 조건을, 역시 클로로트리아진을 사용하여, 그리고 특히 3번 위치에서 치환되지 않은 옥신돌의 아릴화에 적용하였다. 이를 위해, 탄산세슘의 존재 하에서 N,N-디메틸포름아미드에서 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-옥신돌-2-온을 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진과 반응시켰다(실시예 1의 변형양태 H). 그러나, 3번 위치에서 아릴화된 표제 화합물은 단지 22%의 수율로서 반응 생성물로서 수득된다. 주요 생성물로서, 폴리아릴화 생성물이 단리된 고체 및 또한 농축된 모액에서 수득되었다. 또한 HPLC 분석을 통해, 출발 물질로서 사용된 옥신돌은 완전히 충분히 반응하지는 않은 것으로 밝혀졌다.
따라서, 문헌 [Organic Letters(2010) 2306](Supplement page S-12 General Procedure)에 기술된 공정은, 적어도 아릴화제로서 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진을 사용하는 경우에, 3-트리아지닐옥신돌을 산업적 규모로 제조하는데에 적합하지 않다.
이러한 배경에 반하여, 본 발명의 목적은, 공지된 공정에 비해 단순화되고 개선된 총 수율을 제공하는, 3-트리아지닐옥신돌을 산업적 규모로 제조하는 것을 허용하는 개선된 공정을 제공하는 것이다.
놀랍게도, 본 발명에 이르러, 비교적 약한 염기인 탄산칼륨 또는 탄산나트륨, 및 또한 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화바륨 또는 tert-알킬암모늄 히드록시드, 및 또한 인산칼륨(K3PO4), K2HPO4 또는 인산나트륨 또는 전술된 염기들 중 둘 이상으로 이루어진 혼합물이 상기 목적을 달성하는데 적합하다는 것이 밝혀졌다.
명시된 염기들은 특히 물의 존재하에서 분해될 수 없고 또한 동몰량의 수소를 형성하지 않고 이와 동시에 현저하게 개선된 총 수율을 제공하기 때문에 산업적 규모에서 사용하기에 적합하다는 이점을 갖는다.
따라서, 용매에서 하기 화학식 1의 옥신돌을 하기 화학식 2의 트리아진과 반응시키고, 이 반응을
- 탄산칼륨 또는 탄산나트륨,
- 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화바륨 또는 tert-알킬암모늄 히드록시드,
- 인산칼륨(K3PO4), 인산수소칼륨(K2HPO4) 또는 인산나트륨 또는
- 전술된 염기들 중 둘 이상을 포함하는 혼합물
의 존재 하에서 수행함을 포함하는, 하기 화학식 3의 화합물의 제조 방법에 의해 상기 목적이 달성된다:
<화학식 1>
Figure 112013065097544-pct00003
<화학식 2>
Figure 112013065097544-pct00004
<화학식 3>
Figure 112013065097544-pct00005
상기 식에서,
R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및
아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2는 수소,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 니트로, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오 및 또한 COORa (여기서 Ra는 (C1-C4)-알킬임) 및 -CONRb'Rb " 또는 -CONHRb " (여기서 Rb' 및 Rb "는 각각 서로 독립적으로 (C1-C4)-알킬이고, 각각의 경우에 N 원자 상의 두 개의 치환기들은 함께 치환되지 않거나 치환된 고리를 임의로 형성함)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 벤질이고,
R3은 수소이고,
R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
수소,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
X는 이탈기로서, Cl, Br, I, 알콕시, 알킬술포닐, (알킬술포닐)옥시, 할로알킬술포닐, 페닐술포닐 또는 톨루엔-4-술포닐이다.
본 출원에서 어디서든 "옥신돌"이 언급되는 경우에, 이는 하기 화학식 1에 포함되는 화합물들 중 하나를 언급하는 것이다. 출발 물질로서 사용되는 화학식 1의 옥신돌은 공지되어 있거나 해당 분야의 숙련자에게 공지된 공정에 의해 제조될 수 있다:
<화학식 1>
Figure 112013065097544-pct00006
상기 식에서, 라디칼 R1a 내지 R1d, R2 및 R3은 상기에서 정의된 바와 같다.
본 출원에서 어디서든 "트리아진" 또는 "트리아진 성분"이 언급되는 경우에, 이는 하기 화학식 2에 포함되는 화합물들 중 하나를 언급하는 것이다. 역시 출발 물질로서 사용되는 화학식 2의 트리아진도 역시 공지되어 있거나 해당 분야에 숙련자에게 공지된 공정에 의해 제조될 수 있다:
<화학식 2>
Figure 112013065097544-pct00007
상기 식에서, R4, R5 및 X는 상기에서 정의되는 바와 같다.
본 발명에 따른 화합물과 관련해서, 상기 및 하기에서 사용되는 명칭은 요약해서 설명된다. 이는 해당 분야의 숙련자에게 잘 알려져 있고 특히 하기에서 설명되는 의미를 갖는다.
"할로겐"이라는 명칭은, 예를 들어, 플루오린, 염소, 브로민 또는 아이오딘을 의미한다. 이러한 명칭이 라디칼에 대해 사용되는 경우에, "할로겐"은, 예를 들어, 플루오린, 염소, 브로민 또는 아이오딘 원자를 의미한다.
알킬은 직쇄형 또는 분지형의 개방 쇄(open-chain) 구조의 포화 탄화수소 라디칼을 의미한다.
"(C1-C4)알킬"이라는 표현은 탄소 원자에 대해 언급된 범위에 상응하는 1 내지 4 개의 탄소 원자를 갖는 알킬을 줄여 쓴 것이고, 즉 이는 라디칼 메틸, 에틸, 1-프로필, 2-프로필, 1-부틸, 2-부틸, 2-메틸프로필 또는 tert-부틸을 포함한다. 따라서, 보다 넓게 언급된 범위의 탄소 원자를 갖는 일반적인 알킬 라디칼, 예를 들어 "(C1-C6)알킬"은 또한 보다 많은 개수의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 라디칼, 즉 상기 예에 따르면 5개 및 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼을 포함한다.
시클로알킬은 바람직하게는 3 내지 8 개의 고리 탄소 원자를 갖는 카르보시클릭 포화 고리 시스템, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸 또는 시클로헥실을 의미한다. 임의로 치환된 시클로알킬의 경우에, 치환기를 갖는 시클릭 시스템이 포함되고, 이 경우에는 시클로알킬 라디칼 상에 이중결합을 갖는 치환기, 예를 들어 메틸리덴과 같은 알킬리덴기도 포함된다.
임의로 치환된 시클로알킬의 경우에, 폴리시클릭 지방족 시스템, 예컨대, 예를 들어, 비시클로[1.1.0]부탄-1-일, 비시클로[1.1.0]부탄-2-일, 비시클로[2.1.0]펜탄-1-일, 비시클로[2.1.0]펜탄-2-일, 비시클로[2.1.0]펜탄-5-일, 비시클로[2.2.1]헵트-2-일(노르보르닐), 아다만탄-1-일 및 아다만탄-2-일도 포함된다.
치환된 시클로알킬의 경우에, 스피로시클릭 지방족 시스템, 예컨대, 예를 들어, 스피로[2.2]펜트-1-일, 스피로[2.3]헥스-1-일, 스피로[2.3]헥스-4-일, 3-스피로[2.3]헥스-5-일도 포함된다.
아릴은 바람직하게는 6 내지 14 개, 특히 6 내지 10 개의 고리 탄소 원자를 갖는 모노-, 비- 또는 폴리시클릭 방향족 시스템, 예를 들어 페닐, 나프틸, 안트릴, 페난트레닐 등, 바람직하게는 페닐을 의미한다.
"임의로 치환된 아릴"라는 용어에는 폴리시클릭 시스템, 예컨대 테트라히드로나프틸, 인데닐, 인다닐, 플루오레닐, 비페닐릴도 포함되고, 여기서 결합 부위는 방향족 시스템 상에 존재한다.
분류학의 관점에서 보자면, 아릴도 통상적으로 "임의로 치환된 페닐"이라는 용어에 포함된다.
알콕시는 산소 원자를 통해 결합된 알킬 라디칼을 의미하고, 알케닐옥시는 산소 원자를 통해 결합된 알케닐 라디칼을 의미하고, 알키닐옥시는 산소를 통해 결합된 알키닐 라디칼을 의미하고, 시클로알킬옥시는 산소 원자를 통해 결합된 시클로알킬 라디칼을 의미하고, 시클로알케닐옥시는 산소 원자를 통해 결합된 시클로알케닐 라디칼을 의미한다.
알킬티오는 황 원자를 통해 결합된 알킬 라디칼을 의미하고, 알케닐티오는 황 원자를 통해 결합된 알케닐 라디칼을 의미하고, 알키닐티오는 황 원자를 통해 결합된 알키닐 라디칼을 의미하고, 시클로알킬티오는 황 원자를 통해 결합된 시클로알킬 라디칼을 의미하고, 시클로알케닐티오는 황 원자를 통해 결합된 시클로알케닐 라디칼을 의미한다.
할로알킬, 할로알케닐 및 할로알키닐은 각각 동일하거나 상이한 할로겐 원자에 의해 부분적으로 또는 완전히 치환된 알킬, 알케닐 또는 알키닐, 예를 들어 모노할로알킬, 예컨대 CH2CH2Cl, CH2CH2F, CHClCH3, CHFCH3, CH2Cl, CH2F; 퍼할로알킬, 예컨대 CCl3 또는 CF3 또는 CF2CF3; 폴리할로알킬, 예컨대 CHF2, CH2F, CH2CHFCl, CHCl2, CF2CF2H, CH2CF3를 의미하고; 할로알콕시는 예를 들어 OCF3, OCHF2, OCH2F, OCF2CF3, OCH2CF3 및 OCH2CH2Cl이고, 이는 할로알케닐 및 할로겐에 의해 치환된 기타 라디칼에도 적용된다.
달리 정의되지 않은 한, "하나 이상의 라디칼로 치환된"이라는 정의는, 서로 독립적으로, 본체로서의 하나의 사이클 상의 둘 이상의 라디칼들이 하나 이상의 고리를 형성할 수 있는, 하나 이상의 동일하거나 상이한 라디칼을 의미한다.
치환된 라디칼, 예컨대 치환된 알킬, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴, 페닐, 벤질, 헤테로시클릴 및 헤테로아릴 라디칼은, 예를 들어, 치환되지 않은 본체로부터 유도된 치환된 라디칼을 의미하고, 여기서 치환기는, 예를 들어, 하나 이상, 바람직하게는 1, 2 또는 3 개의, 할로겐, 알콕시, 알킬티오, 히드록시, 아미노, 니트로, 카르복시 또는 카르복시기와 동등한 기, 시아노, 이소시아노, 아지도, 알콕시카르보닐, 알킬카르보닐, 포르밀, 카르바모일, 모노- 및 디알킬아미노카르보닐, 치환된 아미노, 예컨대 아실아미노, 모노- 및 디알킬아미노, 트리알킬실릴 및 임의로 치환된 시클로알킬, 임의로 치환된 아릴, 임의로 치환된 헤테로시클릴(마지막으로 언급된 각각의 시클릭 기는 헤테로원자 또는 명시된 알킬 라디칼의 경우에서와 같이 2가 관능기를 통해 결합될 수 있음), 및 알킬술피닐(알킬술피닐기의 거울상이성질체 둘 다를 포함), 알킬술포닐, 알킬포스피닐, 알킬포스포닐의 군으로부터의 라디칼이고, 시클릭 라디칼(= "시클릭 본체")의 경우에, 또한 알킬, 할로알킬, 알킬티오알킬, 알콕시알킬, 임의로 치환된 모노- 및 디알킬아미노알킬 및 히드록시알킬이다.
"치환된 라디칼"이라는 용어, 예컨대 치환된 알킬 등에는, 명시된 포화 탄화수소-함유 라디칼 뿐만 아니라, 상응하는 불포화 지방족 및 방향족 라디칼, 예컨대 임의로 치환된 알케닐, 알키닐, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 알케닐티오, 알키닐티오, 알케닐옥시카르보닐, 알키닐옥시카르보닐, 알케닐카르보닐, 알키닐카르보닐, 모노- 및 디알케닐아미노카르보닐, 모노- 및 디알키닐아미노카르보닐, 모노- 및 디알케닐아미노, 모노- 및 디알키닐아미노, 트리알케닐실릴, 트리알키닐실릴, 임의로 치환된 시클로알케닐, 임의로 치환된 시클로알키닐, 페닐, 페녹시 등도 치환기로서 포함된다. 고리 내에 지방족 잔기를 갖는 치환된 시클릭 라디칼의 경우에, 이중결합을 통해 고리에 결합된 치환기를 갖는, 예를 들어 알킬리덴기, 예컨대 메틸리덴 또는 에틸리덴 또는 옥소기, 이미노기 또는 치환된 이미노기로 치환된 시클릭 시스템도 포함된다.
각각의 경우에 치환되지 않거나 치환된 라디칼은 분지형 또는 비분지형일 수 있다. 따라서, 예를 들어, "C4-알킬"이라고 지칭된 라디칼은, 비분지형 부틸 라디칼 뿐만 아니라, tert-부틸을 포함하는 모든 추가의 C4 이성질체를 포함한다.
둘 이상의 라디칼들이 하나 이상의 고리를 형성하는 경우에, 이것들은 카르보시클릭, 헤테로시클릭, 포화, 부분 포화, 불포화, 예를 들어 또한 방향족이거나 임의로 추가로 치환될 수 있다. 융합된 고리는 바람직하게는 5-원 또는 6-원 고리이고, 벤조-축합된 사이클이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 공정의 핵심은 물의 존재 하에서 분해되지 않고 더욱이 반응 동안에 수소(H2)를 방출하지 않음을 특징으로 하는 염기의 존재 하에서 화학식 1 및 화학식 2의 출발 물질들의 반응이다.
몇몇 매우 강한 내지 중간 강도의 염기, 예컨대, 예를 들어, 수소화나트륨(NaH)은 물과 반응하여 분해되고, 따라서 산업적 응용분야에서 사용하기에 적합하지 않다. 이러한 단점을 갖는 염기는 실험실 규모에서만 안전하게 취급될 수 있을 뿐이다. 따라서 산업적 응용분야에서는 NaH와 같은 강염기는 적합하지 않다.
본 발명에 따른 반응에서, 사용되는 염기는
- 탄산칼륨 또는 탄산나트륨, 및 또한
- 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화바륨 또는 tert-알킬암모늄 히드록시드, 및 또한
- 인산칼륨(K3PO4), K2HPO4 또는 인산나트륨, 또는
- 전술된 염기들 중 둘 이상의 혼합물이다.
강염기, 예컨대, 예를 들어 수소화나트륨에 비해, 명시된 탄산염, 수산화물 및 인산염은 사용 시 동몰량의 수소를 형성하지 않고 명시된 보다 약한 염기들은 물의 존재 하에서 분해되지 않기 때문에 산업적으로 보다 적합하다는 본질적인 이점을 갖는다.
특히 바람직한 염기는 탄산칼륨, 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 또는 두 가지의 탄산염들 중 하나 이상, 즉 탄산칼륨과 탄산나트륨, 및 또한 두 가지의 수산화물들 중 하나 이상, 즉 수산화칼륨과 수산화나트륨으로 이루어진 2성분 이상의 화합물이다.
따라서 네 가지의 특히 바람직한 2-성분 혼합물은 탄산칼륨과 수산화칼륨, 탄산칼륨과 수산화나트륨, 탄산나트륨과 수산화칼륨, 및 또한 탄산칼륨과 수산화나트륨으로 이루어진 혼합물에 관한 것이다.
또한, 각각의 경우에 반응을 위해 특히 바람직한 것으로 명시된 염기들 중 둘 초과를 포함하는 추가의 혼합물이 당연히 고려될 수 있다.
본 발명에 따라 사용되는 염기는 물을 포함하고/하거나 물을 생성하거나 방출할 수 있지만, 화학식 2의 트리아진은 물의 존재 하에서 약간 가수분해되기 때문에, 본 발명에 따라 사용되는 염기가 목적을 달성하는데 매우 적합한 것으로 밝혀진 것은 놀라운 것으로 간주되어야 한다.
본 발명에 따른 공정의 바람직한 실시양태에서, 화학식 3 및 화학식 1의 화합물의 라디칼 R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린 및 염소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 및
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬
로 이루어진 군으로부터 선택된다.
특히 바람직한 실시양태에서, 화학식 3 및 화학식 1의 화합물의 라디칼 R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 플루오린, 염소 및 트리플루오로메틸(CF3), 트리플루오로메톡시(O-CF3) 및 메톡시(O-Me)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
매우 특히 바람직한 실시양태에서, 라디칼 R1a은 플루오린 또는 염소이고, 즉 화학식 3 및 화학식 1의 화합물은 7번 위치에서 플루오린에 의해 치환되거나(7-플루오린) 또는 염소에 의해 치환된다(7-클로로).
역시 5번 위치에서 플루오린에 의해 치환된(5-플루오린), 즉 라디칼 R1c가 플루오린인 화학식 3 및 화학식 1의 화합물이 매우 특히 바람직하다(실시예 5를 참고).
더욱이, 7번 위치에서 플루오린에 의해 치환되고(7-플루오로), 이와 동시에 5번 위치에서 플루오린에 의해 치환된(5-플루오로), 즉 라디칼 R1a 및 R1c가 플루오린인 화학식 3 및 화학식 1의 화합물도 매우 특히 바람직하다(실시예 3을 참고).
추가의 특히 바람직한 실시양태에서, 화학식 3 및 화학식 1의 라디칼 R2는
- 수소이거나, 각각의 경우에
- 치환되지 않은 메틸, 에틸 및 벤질이다.
매우 특히 바람직한 실시양태에서, 화학식 3 및 화학식 1의 화합물의 1번 위치에서의 질소는 치환되지 않고, 즉 라디칼 R2는 수소이다.
본 발명의 범주 내에서, 화학식 3의 생성물(여기서 R3은 H임)을 제공할 수 있는 반응 혼합물에 산 또는 산 혼합물, 특히 염산, 황산, 아세트산 또는 포름산을 기술적으로 적절한 농도로 첨가함으로써 산성으로 만들고, 이어서 유기 용매를 완전히 또는 부분적으로 증발 제거하고, 잔사를 여과하는 것이 바람직하다. 이렇게 수득된 고체 생성물을 적합한 용매로써 세척할 수 있다.
더욱이, 화학식 3의 생성물(여기서 R3은 H임)을 제공할 수 있는 반응 혼합물에 기술적으로 적절한 농도의 염산 또는 황산, 아세트산 또는 포름산을 첨가함으로써 산성으로 만들고, 또한 추가의 유기 용매를 첨가하고 잔사를 여과하는 것이 특히 바람직하다. 이렇게 수득된 고체 생성물을 적합한 용매로써 세척할 수 있다.
반응 혼합물의 원치않는 발포를 감소시키기 위해서, 산성화 전 또는 산성화 동안에, 적합한 양의 소포제를 화학식 3의 생성물을 포함하는 반응 혼합물에 첨가하는 것은 본 발명의 범주에 포함된다.
특히 바람직한 실시양태에서, 화학식 2 및 화학식 3의 라디칼 R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에 치환되지 않은 (C1-C4)-알킬 및 치환되지 않은 (C1-C4)-알콕시이다.
라디칼 R4 및 R5가, 서로 독립적으로, 각각의 경우에 메톡시, 에톡시, 메틸, 에틸인 화학식 2 및 화학식 3의 화합물이 매우 특히 바람직하다.
특히 바람직한 실시양태에서, 이탈기 X는 염소이다.
중요한 측면은 반응이 수행되는 용매의 선택에 관한 것이다. 반응을
- 극성 용매, 또는
- 비극성 용매, 또는
- 극성 용매 또는 비극성 용매의 혼합물에서 수행할 수 있다.
사용될 수 있는 비극성 용매는
- 할로알칸, 특히 디클로로메탄 또는 디클로로에탄;
- 또는 방향족류, 특히 톨루엔, 크실렌 또는 클로로벤젠이다.
사용될 수 있는 극성 유기 용매는
- 케톤, 특히 아세톤, 부탄온, 2-메틸부탄온;
- 니트릴, 특히 아세토니트릴, 부티로니트릴, 이소부틸니트릴;
- 아미드, 특히 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 포름아미드, N-메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈;
- 술폭시드 및 술폰, 예를 들어 디메틸 술폭시드, 디메틸 술폰, 술폴란;
- 에테르, 특히 디옥산, 2-메틸테트라히드로푸란, 메틸 시클로펜틸 에테르, tert-부틸 메틸 에테르 또는 테트라히드로푸란; 또는
- 에스테르, 특히 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트 또는 이소프로필 아세테이트이다.
명시된 극성 유기 용매를 단독으로 또는 기타 용매와의 혼합물로서, 바람직하게는 추가의 극성 유기 용매와의 혼합물로서 또는 물과의 혼합물로서 사용할 수 있다. 이와 관련해서, 유일한 용매로서의 물에서 반응을 수행하는 것이 배제되지는 않는다.
용매로서 물을 사용하지 않고서 공정을 수행하는 것이 특히 바람직하다.
화학식 3의 화합물의 제조를 위한 본 발명에 따른 공정은, 적합한 용매에서 옥신돌(1당량)은 트리아진 성분 및 염기와 반응한다는 사실에 근거를 두고 있다. 이와 관련해서, 트리아진 성분은 바람직하게는 과량으로 사용된다(1.1 내지 1.4 당량, 바람직하게는 1.1 내지 1.25 당량).
염기는 동몰량 또는 과량으로 사용된다. R2가 H이면, 염기는 2 내지 3 당량, 바람직하게는 2.2 내지 2.6 당량으로 사용된다.
모든 반응물들을 반응 혼합물에 순수한 형태로 또는 서로 예비혼합한 형태로 또는 용매 또는 용매 혼합물에 용해 또는 현탁시킨 형태로 첨가할 수 있다.
우수한 생성물 수율을 위해, 우선 옥신돌과 염기(총량 또는 부분량)와 적합한 용매에서 반응시키고, 이어서 트리아진 성분, 및 적당하다면, 추가량의 동일한 염기 또는 상이한 염기 또는 상이한 염기들의 혼합물을 하나 이상의 부분으로 나누어 첨가하는 것이 유리할 수 있다고 밝혀졌다.
또 다른 첨가의 변형양태는 초기에 옥신돌 및 트리아진 성분을 적합한 용매에 혼입시키고, 염기 또는 상이한 염기들의 혼합물을 나누어 첨가하는 것이다.
반응물들의 첨가를 24시간 이하, 바람직하게는 6시간 이하, 특히 3분 내지 6시간에 걸쳐 하나 이상의 부분으로 나누어 수행할 수 있다.
반응 온도는 -20℃ 내지 150℃의 범위, 바람직하게는 -10℃ 내지 90℃의 범위이다.
적당하다면, 반응을 압력 하에서 수행할 수 있다.
반응 과정에서, 반응물들을 보다 잘 혼합하기 위해서, 추가의 용매를 첨가할 수 있다.
사용되는 반응 조건에 따라, 모든 반응물들을 첨가한 후의 후-교반 시간은 48 시간 이하의 범위, 바람직하게는 3분 내지 24시간의 범위이다.
원하는 화학식 3의 생성물의 후처리 및 단리를, 다양한 방식으로, 예를 들어 어떤 용매를 사용하는지 또는 생성물이 고체인지 또는 액체인지에 상관없이, 수행할 수 있다.
본 발명은 또한 예를 들어 상기에서 기술된 본 발명에 따른 공정에 의해 수득될 수 있는 하기 화학식 3의 화합물 및 그의 하기 화학식 3"의 염을 제공한다:
<화학식 3>
Figure 112013065097544-pct00008
<화학식 3">
Figure 112013065097544-pct00009
상기 식에서, 각각의 경우에
R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및
아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2는 수소,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 니트로, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오 및 또한 COORa (여기서 Ra는 (C1-C4)-알킬임) 및 -CONRb'Rb " 또는 -CONHRb " (여기서 Rb' 및 Rb "는 각각 서로 독립적으로 (C1-C4)-알킬이고, 각각의 경우에 N 원자 상의 두 개의 치환기들은 함께 치환되지 않거나 치환된 고리를 임의로 형성함)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 벤질이고,
R3은 수소이고,
R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
수소,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
화학식 3"의 염에서,
M은 Li, Na, K, N(Rc)4(여기서 Rc는 H 또는 C1-C6-알킬임), Cs, Ba, Mg, Ca 및 Zn이고, 반대이온 M+의 개수는 전체적으로 중성인 화학식 3"의 화합물이 형성되도록 특정 전하에 의해 결정된다.
적용가능하다면, 모든 입체이성질체, 호변이성질체 및 또한 다형 형태, 및 또는 그의 염도 화학식 3 및 화학식 3"에 포함된다.
R3이 H 또는 메틸인 화학식 3의 화합물이 특히 바람직하다.
R3이 H인 화학식 3의 화합물이 가장 바람직하다.
본 발명에 따른 공정에 의해 제조된 화학식 3 및 화학식 3"의 화합물 및 또한 화학식 3의 화합물은 농업 분야에서의 정밀 화학 물질 및 활성 성분의 제조를 위한 중간체로서 적합하다.
화학식 3 및 화학식 3"의 화합물은 트리아지닐-치환된 옥신돌이다. 하기 반응식 3에서, 트리아지닐-치환된 옥신돌은 화학식 5-1에 의해 나타내어진다.
반응식 3은 신규한 다단계 합성 공정을 보여주며, 이에 따르면, 전체 5-단계 반응에서 화학식 7-1의 3-(알킬술파닐)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온으로부터 출발하여, 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드를 제조할 수 있고, 그의 제초 활성(WO 2007/031208 A2를 참고) 및 살진균 활성(WO 2006/008159A1을 참고)은 이미 비교적 오래 전부터 공지되어 있다.
<반응식 3>
작물 보호에 적합한, 특히 화학식 4-1의 제초성 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제조를 위한 다단계 공정
Figure 112013065097544-pct00010
화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제조를 위한 다단계 공정은 하기 부분 단계들로 이루어진다:
- 화학식 7-1의 치환된 또는 치환되지 않은 3-(알킬술파닐)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 환원시켜 화학식 6-1의 치환된 또는 치환되지 않은 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 형성하는 단계. 이러한 공정은 산업적 규모로 수행될 수 있고 출원번호가 EP 10162381.7인 특허출원에 기술되어 있다.
- 화학식 6-1의 치환된 또는 치환되지 않은 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 아릴화시켜 화학식 5-1의 트리아지닐-치환된 옥신돌을 형성하는 단계. 이러한 공정은 산업적 규모로 수행될 수 있고 본 특허출원에 기술되어 있다.
- 화학식 5-1의 트리아지닐-치환된 옥신돌을 술포닐화시켜 화학식 2-1의 N-술포닐-치환된 3-트리아지닐옥신돌을 형성하는 단계. 이러한 공정은 산업적 규모로 수행될 수 있고 출원번호가 EP 111598751인 특허출원에 기술되어 있다.
- 화학식 2-1의 N-술포닐-치환된 3-트리아지닐옥신돌을 산화적 고리-개방 반응시켜 화학식 1-1의 2-(트리아지닐카르보닐)술폰아닐리드를 형성하는 단계. 이러한 공정은 산업적 규모로 수행될 수 있고 출원번호가 DE 102011086382.6인 특허출원에 기술되어 있다.
- 화학식 1-1의 2-(트리아지닐카르보닐)술폰아닐리드를 알킬화시켜 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드를 형성하는 단계. 이러한 공정은 출원번호가 WO 2006/008159인 특허출원에 기술되어 있다.
반응식 3에 나타내어진 신규한 다단계 공정은 옥신돌 화합물을 출발 물질 및/또는 중간체로서 사용한다는 점에서, 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드 및 화학식 1-1의 2-(트리아지닐카르보닐)술폰아닐리드의 제조를 위한 이전에 공지된 공정과 상이하다. 이는, 이전에 공지된 공정과 비교해볼 때, 공정을 산업적 규모로 수행할 수 있고, 이와 동시에 높은 수율을 달성할 수 있다는 이점이 있다.
반응식 3에 요약된 공정의 실행가능성은 하기에 상세하게 개시되어 있다. 반응식 3에서 전체 5-단계 공정의 첫 번째 반응 단계와 관련있는 환원 단계를 하기에서 독립적인 예비 단계 B)로서 수행한다. 따라서 하기에서 상세하게 기술된 공정 A)는 아릴화, 술포닐화, 산화 및 알킬화 단계를 포함한다.
A) 하기 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제조 공정
<화학식 4-1>
Figure 112013065097544-pct00011
상기 식에서,
R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및
아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2 "는 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C3-C7)-시클로알킬이고,
R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
수소,
치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
R8은 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-알킬,
각각 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-시클로알킬, (C1-C6)-알케닐 또는 (C1-C6)-알콕실알킬이다.
이 공정에서는 하기 화학식 6-1의 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 첫 번째 단계에서 아릴화를 통해 반응시켜 하기 화학식 5-1의 트리아지닐-치환된 옥신돌을 형성하고, 화학식 5-1의 아릴화 생성물을 두 번째 단계에서 술포닐화를 통해 반응시켜 하기 화학식 2-1의 N-술포닐-치환된 3-트리아지닐옥신돌을 형성하고, 화학식 2-1의 술포닐화 생성물을 세 번째 단계에서 산화적 고리-개방 반응을 통해 반응시켜 하기 화학식 1-1의 2-(트리아지닐카르보닐)술폰아닐리드를 형성하고, 화학식 1-1의 산화 생성물을 네 번째 단계에서 알킬화를 통해 반응시켜 하기 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드를 형성하며,
여기서 사용되는 알킬화제는
- X-R8(여기서 X는 염소, 브로민 또는 아이오딘이고, R8은 상기에서 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같음), 또는
- (R8)2SO4(여기서 R8은 상기에서 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같음)이다:
<화학식 6-1>
Figure 112013065097544-pct00012
상기 식에서,
R1a 내지 R1d는 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같고,
R3은 수소이고,
R7은 수소이다.
<화학식 5-1>
Figure 112013065097544-pct00013
상기 식에서,
R1a 내지 R1d 및 R4 및 R5는 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같고, R3 및 R7은 화학식 5-1에 대해 정의된 바와 같다.
<화학식 2-1>
Figure 112013065097544-pct00014
상기 식에서,
R1a 내지 R1d, R2" 및 또한 R4 및 R5는 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같고, R3은 화학식 5-1에 대해 정의된 바와 같다.
<화학식 1-1>
Figure 112013065097544-pct00015
상기 식에서,
R1a 내지 R1d, R2" 및 또한 R4 및 R5는 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같다.
<화학식 4-1>
Figure 112013065097544-pct00016
상기 식에서,
R1a 내지 R1d, R2", R4, R5 및 R8은 상기에서 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같다.
술포닐화를
- 1번 위치에서 치환된 이미다졸 염기, 또는
- 1번 위치에서 치환된 하나 이상의 이미다졸 염기를 포함하는 염기 혼합물
의 존재 하에서 수행한다.
특히 바람직한 이미다졸 염기는 1-메틸-1H-이미다졸, 1-부틸-1H-이미다졸 또는 1-벤질-1H-이미다졸이고, 이것들은 개별적으로 또는 혼합물로서 사용될 수 있고, 1-메틸-1H-이미다졸을 사용하는 것이 매우 특히 바람직하다.
B) 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제조 공정
이러한 공정에서는 출발 물질로서 사용되는 하기 화학식 6-1의 화합물을 화학식 4-1의 화합물의 제조 공정 이전의 공정 단계에서 제조하는데, 이러한 단계에서는, 하기 화학식 7-1의 3-(알킬술파닐)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온으로부터 출발하여, 이것을 환원을 통해 전환시켜 화학식 6-1의 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 형성한다:
<화학식 7-1>
Figure 112013065097544-pct00017
상기 식에서,
R1a 내지 R1d는 화학식 4-1에 대해 정의된 바와 같고,
R3은 수소이고,
R7은 수소이고,
R6는 치환되지 않거나 치환된 (C1-C14)-알킬, (C3-C7)-시클로알킬, 벤질 또는 CH2-C(O)O-(C1-C6)-알킬이다.
<화학식 6-1>
Figure 112013065097544-pct00018
상기 식에서, R1a 내지 R1d, R3 및 R7는 화학식 7-1에 대해 정의된 바와 같다.
환원 동안에,
a) 화학식 7-1의 화합물을 극성 용매에 용해 또는 현탁시키고,
b) 황-함유 염을 용액 또는 현탁액에 첨가하고,
c) 반응 혼합물을 극성 용매의 비등 온도 이하에 상응하는 온도에서 환류 가열한다.
특히 바람직한 황-함유 염은 아황산수소나트륨, 아황산나트륨, 나트륨 티오나이트, 나트륨 디티오나이트 및 티오황산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 나트륨염이다.
이미 언급된 바와 같이, 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제초 효과(WO 2007/031208 A2를 참고) 및 살진균 효과(WO 2006/008159A1을 참고)는 비교적 오래 전부터 공지되어 있다.
따라서, 반응식 3 및 공정 A) 및 B)는 화학식 3의 트리아지닐-치환된 옥신돌이 작물 보호제, 특히 제초제 및 살진균제의 제조를 위한 중간체로서 적합하다는 것을 보여준다.
따라서, 본 발명은 농업 분야에서의 활성 성분의 제조에 있어서의, 또는 농업 분야에서의 정밀 화학 물질 및 활성 성분, 특히 작물 보호제의 제조를 위한 중간체의 제조에 있어서의, 본 발명에 따라 제조된 화학식 3의 화합물 또는 그의 화학식 3"의 염의 용도를 제공한다.
N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드의 제조를 위한 중간체로서의, 화학식 3의 화합물 또는 그의 화학식 3"의 염의 용도가 가장 바람직하다.
<실시예>
하기 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 예시하지만, 본 발명의 특허대상을 이러한 실시예로만 제한하지는 않는다.
하기 실시예에서, 정량적 데이터는, 달리 구체적으로 정의되지 않는 한, 중량을 기준으로 한다(설명에서, 중량%와 중량 기준%는 이러한 이유로 유사하게 사용되었음). 측정 단위, 물리적 변수 등의 경우에, 통상적인 약어가 사용되며, 예를 들어 h는 시간(들)이고, m.p.는 융점이고, ℓ는 리터이고, ㎖는 밀리리터이고, g는 그램이고, min은 분(들)이고, "진공 중에서"는 "진공에서" 및 "감압 하에서"이고, "이론값"은 "이론에 따른% 수율"이다.
실시예 1:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00019
변형양태 A:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(100 g)을 초기 충전물로서 N,N-디메틸아세트아미드 600 ㎖에 혼입시키고, 물/메탄올로써 냉각시키면서 약 0℃로 냉각시킨다. 물 600 ㎖ 중 수산화칼륨(43.2 g) 및 탄산칼륨(143 g)의 용액을 첨가하고, 혼합물을 잠시 후-교반한다. 이어서, 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(140.8 g)을 첨가하고, 각각의 경우에 물 100 ㎖ 및 N,N-디메틸아세트아미드를 후-헹굼에 사용한다. 냉각욕을 제거하고, 혼합물을 약 30℃까지 가열한다. 이것을 실온에서 18시간 동안 교반한다. 톨루엔 150 ㎖를 첨가한 후, 묽은 염산(약 700 ㎖)을 사용하여 pH를 3 내지 4로 조절하고, 이와 동시에 약간의 소포제(플루오웨트(Fluowet) PL 80)를 첨가한다. 고체를 흡입 여과하고, 각각의 경우에 물 250 ㎖로써 세 번 세척하고, 각각의 경우에 헵탄 250 ㎖로써 두 번 세척하고, 55℃에서 진공 중에서 건조시킨다. 이렇게 해서 96.6%의 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(187.5 g, 이론값의 95%).
Figure 112013065097544-pct00020
변형양태 B:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(50 g)을 초기 충전물로서 아세톤 400 ㎖에 혼입시키고, 수산화칼륨(21.5 g)을 첨가한다. 이어서, 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(70.06 g)을 첨가하고, 이어서 아세톤 100 ㎖로써 헹군다. 반응 혼합물을 1시간 동안 환류 교반하고, 가열욕을 제거하고, 수산화칼륨(21.5 g)을 나누어 첨가한다. 이어서 혼합물을 추가로 2시간 동안 환류 교반한다. 혼합물을 25℃로 냉각시키고, 10% 염산(140 ㎖)을 첨가하고, 혼합물을 물 250 ㎖로써 희석시키고 1시간 동안 후-교반한다. 고체를 흡입 여과하고, 각각의 경우에 물/아세톤(3:1) 100 ㎖로써 두 번 세척하고, 진공 중에서 50℃에서 건조시킨다. 이렇게 해서 96.2%의 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(80.09 g, 이론값의 81%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 C:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(12 g) 및 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(16.5 g)을 초기 충전물로서 실온에서 포름아미드 160 ㎖에 혼입시키고, 탄산칼륨(24.3 g)을 1시간 30분에 걸쳐 세 개의 동일한 부분으로 나누어 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 4 내지 5 시간 동안 후-교반한다. 혼합물을 물 500 ㎖에 첨가하고 묽은 염산을 사용하여 pH 3으로 조절한다. 고체를 흡입 여과하고 물로써 세척하고, 이어서 아세토니트릴로써 세척하고, 진공 중에서 건조시킨다. 이렇게 해서 98 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(93.0 g, 이론값의 80%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 D:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(60 g) 및 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(94.6 g)을 초기 충전물로서 THF 315 ㎖에 혼입시키고 5℃로 냉각시킨다. 얼음으로써 냉각시키면서, 물 105 ㎖ 중 수산화칼륨(58.1 g)의 용액을 0 내지 15℃의 내부 온도에서 2시간에 걸쳐 첨가하고, 혼합물을 4시간 동안 후-교반한다. 고체를 흡입 여과하고, 물(2 × 150 ㎖)로써 세척하고, 진공 중에서 건조시킨다. 이렇게 해서 98.2%의 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(21.1 g, 이론값의 91%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 E:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(30 g) 및 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(43.9 g)을 초기 충전물로서 60℃에서 아세토니트릴에 혼입시키고, 수산화나트륨(16.8 g)을 40분에 걸쳐 네 개의 동일한 부분으로 나누어 첨가한다. 혼합물을 이 온도에서 추가의 90분 동안 후-교반하고, 이어서 40℃로 냉각시킨다. 염산(20%, 42 g) 및 물(160 g)을 첨가한다. 추가의 30분 후, 그 결과의 현탁액을 여과하고, 여과 잔사를 아세토니트릴로써 세척한다. 진공 중에서 건조시킴으로써(50℃, 200 mbar 미만), 96.9%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(48.0 g; 이론값의 85%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 F:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(10 g; 1 당량)을 실온에서 질소 중에서 초기 충전물로서 THF 100 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 100 ㎖에 혼입시키고, 수소화나트륨(2.63 g; 광유 중 60%, 1 당량)을 첨가한다. 혼합물을 30분 동안 후-교반하고 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(4.72 g; 0.4 당량)을 한 번에 전부 첨가한다. 혼합물을 35℃에서 10분 동안 및 80℃에서 2시간 동안 후-교반한다. 혼합물을 냉각시키고 진공 중에서 증발 농축시킨다(욕 농도 50℃, 10 mbar). 물 200 ㎖를 잔사에 첨가하고, 염산을 사용하여 pH를 3 내지 4로 조절한다. 침전된 고체를 흡입 여과하고; 여과액은 HPLC에 따르면 생성물을 실질적으로 포함하지 않는다. 여과 잔사를 물(50 ㎖)로써 세척하고, 물로써 습윤해진 상태로 아세토니트릴 75 ㎖에서 교반하고, 흡입 여과하고, 아세토니트릴로써 후-세척하고, 진공 중에서 건조시킨다. 이렇게 해서 97 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(7.62 g; 사용된 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 기준으로 이론값의 39%, 또는 사용된 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진을 기준으로 이론값의 97%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 G:
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(10 g; 1 당량)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(14.1 g; 1.2 당량)을 실시예 1의 변형양태 F와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 97 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(7.65 g; 사용된 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 기준으로 이론값의 39%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 H(문헌 [Organic Letters(2010) 2306]의 표 4의 실시예(Supplement page S-12 General Procedure)와 유사한 절차)
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(2.5 g; 1 당량), 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(3.5 g; 1.2 당량) 및 탄산세슘(5.6 g; 1 당량)을 질소 중에서 초기 충전물로서 혼입시키고, N,N-디메틸포름아미드(물 함량 0.1% 미만) 95 ㎖를 첨가한다. 혼합물을 65℃로 가열하고 질소 중에서 5시간 동안 65℃에서 교반한다. HPLC 분석(210 ㎚에서 검출, 데이터는 면적%로 나타내어짐, 용매 신호는 적분되지 않음)을 통해, 16%의 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온, 19%의 표제 화합물(3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온), 57%의 주요 부성분(또는 둘 이상의 주요 부성분들의 혼합물) 및 추가의 적은 부성분의 존재를 알게 된다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고 포화 암모늄 클로라이드 용액 200 ㎖에 첨가한다. 두 개의 투명한 상들이 형성될 때까지 에틸 아세테이트를 첨가하고(총 2900 ㎖), 상들을 분리하고, 유기상을 물(2 × 150 ㎖) 및 염화나트륨 용액 150 ㎖로써 세척하고, 황산마그네슘 상에서 건조시킨다. 용매를 진공 중에서 제거하고, 그 동안에 고체가 침전된다. 고체를 여과하고 약간의 에틸 아세테이트로써 세척한다. 이렇게 해서 HPLC 분석(210 ㎚에서 검출, 데이터는 면적%로 나타내어짐)에 따르면 56%(이론값의 22%)의 표제 화합물 및 43%의 부성분으로 이루어진 혼합물 1.92 g을 수득한다. 혼합물의 LC-MS를 통해, 아마도 디아릴화 생성물인, 표제 화합물(M+H = 291) 및 질량이 429인 부성분(M+H = 430)의 존재를 알게 되었다. 실시예 1의 변형양태 A에서와 같이 제조된 표준 물질을 반응 혼합물에 소량 첨가하고(spiking), UV 흡수도를 비교하고, 또한 혼합물의 NMR 분광법을 수행함으로써, 생성물 혼합물 내에 존재하는 표제 화합물의 정체를 확인할 수 있다.
여과액을 진공 중에서 증발 농축시킴으로써, 잔사 3.6 g을 수득하고, 이것은 여전히 DMF를 함유한다. 잔사의 HPLC 분석(210 ㎚에서 검출, 데이터는 면적%로 나타내어짐, 용매 신호는 적분되지 않음)을 통해, 19%의 7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온, 1%의 표제 화합물, 68%의 두 가지의 주요 부성분들의 혼합물 및 추가의 적은 부성분의 존재를 알게 된다. 잔사의 LC-MS를 통해, 표제 화합물(M+H = 291.4), 및 아마도 디아릴화 생성물인, 질량이 429인 두 가지의 부성분(M+H = 430, 19% 및 49%)의 존재를 알게 된다.
<실시예 2>:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00021
변형양태 A:
1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(3.0 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(7.52 g)을 실시예 1의 변형양태 C와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 91 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(4.79 g, 이론값의 73%).
Figure 112013065097544-pct00022
변형양태 B:
1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(0.80 g; 1 당량)을 실온에서 질소 중에서 초기 충전물로서 THF 8 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 8 ㎖에 혼입시키고, 수소화나트륨(0.24 g; 광유 중 60%, 1 당량)을 첨가한다. 혼합물을 30분 동안 후-교반하고 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(0.42 g; 0.4 당량)을 한 번에 전부 첨가한다. 혼합물을 실온에서 2시간 동안 후-교반한다. 혼합물을 냉각시키고 진공 중에서 증발 농축시킨다(욕 온도 40℃). 물 25 ㎖를 잔사에 첨가하고, 염산을 사용하여 pH를 3 내지 4로 조절한다. 침전된 고체를 흡입 여과하고, 여과액은 HPLC에 따르면 생성물을 실질적으로 포함하지 않는다. 여과 잔사를 물로써 세척하고, 물로써 습윤해진 상태로 아세토니트릴 10 ㎖에서 교반하고, 흡입 여과한다. 이렇게 해서 90 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(0.61 g; 사용된 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 기준으로 이론값의 34%, 또는 사용된 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진을 기준으로 이론값의 84%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
변형양태 C:
1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(0.80 g; 1 당량)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(1.27 g; 1.2 당량)을 실시예 1의 변형양태 F와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 78 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(0.59 g, 사용된 1,3-디히드로-2H-인돌-2-온을 기준으로 이론값의 30%). 생성물의 NMR 신호는 변형양태 A에 따라 수득된 생성물의 신호와 일치한다.
실시예 3:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-5,7-디플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00023
5,7-디플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(1.69 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(2.13 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 93 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(2.82 g, 이론값의 85%).
Figure 112013065097544-pct00024
실시예 4:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-7-클로로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00025
7-클로로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(101.5 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(152 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 99 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(181.9 g, 이론값의 97%).
Figure 112013065097544-pct00026
실시예 5:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-5-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00027
5-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(10 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(15.5 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 92 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(19 g, 이론값의 91%).
Figure 112013065097544-pct00028
실시예 6:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-7-메톡시-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00029
7-메톡시-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(1.24 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(1.84 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 87 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(1.04 g, 이론값의 43%).
Figure 112013065097544-pct00030
실시예 7:
3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-5-메톡시-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00031
5-메톡시-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(1.59 g)과 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(1.97 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 92 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(1.39 g, 이론값의 53%).
Figure 112013065097544-pct00032
실시예 8:
7-플루오로-3-(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00033
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(3.05 g)과 2-클로로-4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진(6.59 g)을 실시예 1의 변형양태 A와 유사하게 반응시킨다. 이렇게 해서 85 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(4.73 g, 이론값의 73%).
Figure 112013065097544-pct00034
실시예 9:
3-(4,6-디에톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온의 제조
Figure 112013065097544-pct00035
7-플루오로-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(1.0 g)을 초기 충전물로서 N,N-디메틸아세트아미드 10 ㎖에 혼입시킨다. 물 10 ㎖ 중 탄산칼륨(1.8 g) 및 수산화칼륨(0.3 g)의 용액을 첨가하고, 혼합물을 잠시 후-교반한다. 이어서, N,N-디메틸아세트아미드 10 ㎖ 중 2-클로로-4,6-디에톡시-1,3,5-트리아진(3.0 g, 약 50% 순도)의 용액, 및 물 10 ㎖를 첨가한다. 고체를 투명한 황색 용액으로부터 분리한다. 혼합물을 실온에서 교반하고, 2시간 및 18시간 후 추가의 2-클로로-4,6-디에톡시-1,3,5-트리아진(1 g, 약 50% 순도)을 두 개의 부분으로 나누어 첨가한다. 혼합물을 30℃에서 추가의 3시간 동안 교반하고, 톨루엔 10 ㎖와 섞고, 염산(10%)을 사용하여 pH 1 내지 2로 조절하고, 30분 동안 후-교반한다. 고체를 흡입 여과하고, 물 및 헵탄으로써 교대로 두 번 세척하고, 건조시킨다. 이렇게 해서 99 면적%의 HPLC 순도를 갖는 고체로서의 표제 화합물을 수득한다(1.53 g, 이론값의 72%).
Figure 112013065097544-pct00036
실시예 10:
2-[(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)옥시]-3-페닐-1H-인돌(문헌 [Organic Letters(2010) 2306]의 표 4의 실시예(Supplement page S-12 General Procedure)와 유사한 절차)
Figure 112013065097544-pct00037
3-페닐-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온(0.25 g; 1 당량), 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진(0.20 g; 1 당량) 및 탄산세슘(0.37 g, 1 당량)을 초기 충전물로서 혼입시키고, N,N-디메틸포름아미드(물 함량 0.1% 미만) 20 ㎖를 첨가한다. 혼합물을 23℃에서 90 분 동안 교반한다. HPLC 분석(210 ㎚에서 검출, 데이터는 면적%로 나타내어짐, 용매 신호는 적분되지 않음)을 통해, 3%의 3-페닐-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온, 1.5%의 2-클로로-4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진, 68%의 주요 생성물 및 적은 부성분을 알게 된다. 혼합물을 물 100 ㎖에 첨가하고, 묽은 염산을 사용하여 pH 4로 조절한다. 침전된 고체를 여과하고 물로써 세척한다. 이렇게 해서 HPLC 분석(210 ㎚에서 검출, 데이터는 면적%로 나타내어짐)에 따르면 71%의 주요 생성물(0.37 g, 이론값의 66%)로 이루어진 혼합물을 수득한다. 혼합물 100 ㎎을 칼럼 크로마토그래피(용출액은 에틸 아세테이트 및 n-헵탄 1:1)를 통해 정제하고, 생성물 분획들을 합한 것을 진공 중에서 증발 농축시킨다. 이렇게 해서 93 면적%의 HPLC 순도를 갖는 무색 고체로서의 반응 생성물을 수득한다. 2D-NMR을 사용하여 구조를 결정해 본 결과, 이것은 3번 위치에서 아릴화된 생성물(3-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-3-페닐-1,3-디히드로-2H-인돌-2-온)이 아니라 O-아릴화된 생성물(2-[(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)옥시]-3-페닐-1H-인돌)임을 알게 되었다.
Figure 112013065097544-pct00038

Claims (18)

  1. 용매에서 하기 화학식 1의 옥신돌을 하기 화학식 2의 트리아진과 반응시키고, 이 반응을
    - 탄산칼륨 또는 탄산나트륨,
    - 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화바륨 또는 tert-알킬암모늄 히드록시드,
    - 인산칼륨(K3PO4), 인산수소칼륨(K2HPO4) 또는 인산나트륨 또는
    - 전술된 염기들 중 둘 이상을 포함하는 혼합물
    의 존재 하에서 수행함을 포함하는, 하기 화학식 3의 화합물의 제조 방법:
    <화학식 1>
    Figure 112018052016502-pct00039

    <화학식 2>
    Figure 112018052016502-pct00040

    <화학식 3>
    Figure 112018052016502-pct00041

    상기 식에서,
    R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및 또한
    아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
    로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    R2는 수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 니트로, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오 및 또한 COORa (여기서 Ra는 (C1-C4)-알킬임) 및 -CONRb'Rb" 또는 -CONHRb" (여기서 Rb' 및 Rb"는 각각 서로 독립적으로 (C1-C4)-알킬이고, 각각의 경우에 N 원자 상의 두 개의 치환기들은 함께 치환되지 않거나 치환된 고리를 임의로 형성하며, 여기서 치환기는 할로겐, 알콕시, 알킬티오, 히드록시, 아미노, 니트로 및 카르복시로 이루어진 군으로부터 선택됨)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 벤질이고,
    R3은 수소이고,
    R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
    수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
    X는 이탈기로서, Cl, Br, I, 알콕시, 알킬술포닐, (알킬술포닐)옥시, 할로알킬술포닐, 페닐술포닐 또는 톨루엔-4-술포닐이다.
  2. 제1항에 있어서, R1a 내지 R1d가, 서로 독립적으로,
    수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린 및 염소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 및
    치환되지 않거나 플루오린 및 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬
    로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, R1a 내지 R1d가, 서로 독립적으로, 플루오린, 염소, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시 및 메톡시로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, R1a가 플루오린 또는 염소인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, R2가
    - 수소이거나, 각각의 경우에서
    - 치환되지 않은 메틸, 에틸 및 벤질
    인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, R2가 수소인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, R4 및 R5가, 서로 독립적으로,
    - 치환되지 않은 (C1-C4)-알킬, 및
    - 치환되지 않은 (C1-C4)-알콕시
    인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, X가 염소인 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 출발 물질의 반응을
    - 극성 용매, 또는
    - 비극성 용매, 또는
    - 극성 용매 또는 비극성 용매의 혼합물
    에서 수행하는 것인, 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  10. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 반응을 제1항에서 언급된 염기의 존재 하에서 무수 조건 하에 수행하는 것인, 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  11. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 1.1 내지 1.4 당량의 화학식 2의 트리아진을 1 당량의 화학식 1의 옥신돌에 첨가하는 것인, 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  12. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 출발 물질을 한 번에 전부 첨가하거나 24시간 이하의 기간에 걸쳐 동일하게 나누어 첨가하는 것인, 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  13. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 출발 물질의 반응을 -20℃ 내지 150℃의 범위의 온도에서 수행하는 것인, 화학식 3의 화합물의 제조 방법.
  14. 하기 화학식 3의 화합물 또는 그의 하기 화학식 3"의 염:
    <화학식 3>
    Figure 112018052016502-pct00042

    <화학식 3">
    Figure 112018052016502-pct00043

    상기 식에서,
    R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및 또한
    아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
    로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    R2는 수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 니트로, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오 및 또한 COORa (여기서 Ra는 (C1-C4)-알킬임) 및 -CONRb'Rb" 또는 -CONHRb" (여기서 Rb' 및 Rb"는 각각 서로 독립적으로 (C1-C4)-알킬이고, 각각의 경우에 N 원자 상의 두 개의 치환기들은 함께 치환되지 않거나 치환된 고리를 임의로 형성하며, 여기서 치환기는 할로겐, 알콕시, 알킬티오, 히드록시, 아미노, 니트로 및 카르복시로 이루어진 군으로부터 선택됨)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 벤질이고,
    R3은 수소이고,
    R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
    수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
    화학식 3"의 염에서,
    M은 Li, Na, K, N(Rc)4 (여기서 Rc는 H 또는 C1-C6-알킬임), Cs, Ba, Mg, Ca 및 Zn이고, 반대이온 M+의 개수는 전체적으로 중성인 화학식 3"의 화합물이 형성되도록 특정 전하에 의해 결정된다.
  15. 제14항에 따른 화학식 3의 화합물 또는 그의 화학식 3"의 염을 작물에 적용하여 작물을 보호하는 방법.
  16. 제14항에 따른 화학식 3의 화합물 또는 그의 화학식 3"의 염을 사용하여 제초제 또는 제초제를 제조하기 위한 중간체를 제조하는 방법으로서, 여기서 제초제는 하기 화학식 4-1의 N-알킬-N-[2-(1,3,5-트리아진-2-일카르보닐)페닐]알칸술폰아미드이고, 제초제를 제조하기 위한 중간체는 하기 화학식 2-1의 N-술포닐-치환된 3-트리아지닐옥신돌 및 하기 화학식 1-1의 2-(트리아지닐카르보닐)술폰아닐리드인 방법.
    <화학식 4-1>
    Figure 112018052016502-pct00049

    <화학식 2-1>
    Figure 112018052016502-pct00050

    <화학식 1-1>
    Figure 112018052016502-pct00051

    상기 식에서,
    R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및
    아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 갖는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
    로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    R2"는 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-알킬, 또는
    치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C3-C7)-시클로알킬이고,
    R3은 H이고,
    R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
    수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    분지형 또는 비분지형이고 치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
    R8은 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-알킬,
    각각 치환되지 않거나 플루오린으로 완전히 또는 부분적으로 치환된 (C1-C6)-시클로알킬, (C1-C6)-알케닐 또는 (C1-C6)-알콕실알킬이다.
  17. 하기 화학식 3의 화합물 또는 그의 하기 화학식 3"의 염의 R2 기의 술포닐화를 포함하는, N-술포닐-치환된 3-트리아지닐옥스인돌을 제조하는 방법.
    <화학식 3>
    Figure 112018052016502-pct00045

    <화학식 3">
    Figure 112018052016502-pct00046

    상기 식에서, R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및 또한
    아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 포함하는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
    로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    R2는 수소이고,
    R3은 수소이고,
    R4 및 R5는, 서로 독립적으로, 각각의 경우에
    수소,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시이고,
    화학식 3"의 염에서,
    M은 Li, Na, K, N(Rc)4 (여기서 Rc는 H 또는 C1-C6-알킬임), Cs, Ba, Mg, Ca 및 Zn이고, 반대이온 M+의 개수는 전체적으로 중성인 화학식 3"의 화합물이 형성되도록 특정 전하에 의해 결정된다.
  18. 하기 화학식 3의 화합물 또는 그의 하기 화학식 3"의 염의 R2 기의 술포닐화를 포함하는 방법.
    <화학식 3>
    Figure 112018052016502-pct00047

    <화학식 3">
    Figure 112018052016502-pct00048

    상기 식에서, R1a 내지 R1d는, 서로 독립적으로, 수소, 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, 및 또한
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C8)-시클로알킬,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알콕시,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C1-C6)-알킬티오,
    치환되지 않거나 플루오린, 염소, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 (C3-C7)-시클로알킬티오, 및 또한
    아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이 치환되지 않거나 플루오린, 염소, 브로민, 아이오딘, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시 또는 (C3-C7)-시클로알킬 또는 (C1-C4)-알킬티오로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 치환된 것인, 페닐 또는 1-나프틸 또는 2-나프틸, 또는 서로 독립적으로 O 또는 N으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 2 개의 헤테로원자를 포함하는 5-원 또는 6-원 헤테로방향족 고리
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