KR101871176B1 - 기체상 산화에 의한 염소 제조를 위한 촉매 및 방법 - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 42
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims abstract description 35
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 30
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 26
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000011149 active material Substances 0.000 claims description 17
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 11
- PCBMYXLJUKBODW-UHFFFAOYSA-N [Ru].ClOCl Chemical compound [Ru].ClOCl PCBMYXLJUKBODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- -1 ruthenium halide Chemical class 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 3
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);trichloride;hydrate Chemical compound O.Cl[Ru](Cl)Cl BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- VDRDGQXTSLSKKY-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ru+3] VDRDGQXTSLSKKY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001637 plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 2
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/54—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
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Abstract
본 발명은 촉매가 지지체로서 하소된 이산화주석과 적어도 하나의 할로겐 함유 루테늄 화합물을 포함하는, 산소를 사용한 염화수소의 촉매적 기체상 산화에 의한 염소의 제조를 위한 촉매 및 그의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 촉매가 지지체로서 이산화주석과 적어도 하나의 할로겐- 및/또는 산소를 함유하는 루테늄 화합물을 포함하는, 염화수소를 산소로 촉매적 기체상(gas phase) 산화하여 염소를 제조하는 공지된 방법에서 출발한다. 본 발명은 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전 이산화주석의 하소(calcination), 그의 촉매 조성물 및 그의 용도에 관한 것이다.
1868년에 디콘(Deacon)에 의해 개발된, 발열 평형 반응에서 산소를 사용한 촉매적 염화수소 산화 방법이 공업용 염소 화학의 시초였다.
그러나, 디콘 공정은 클로르알칼리 전기분해에 의해 상당히 가려졌다. 사실상 모든 염소가 염화나트륨 수용액의 전기분해에 의해 생산되었다(Ullmann Encyclopedia of Industrial Chemistry, seventh release, 2006). 하지만, 세계적인 염소 수요가 수산화나트륨 용액에 대한 수요보다 더 빠르게 성장하고 있기 때문에 디콘 공정의 매력이 최근에 증가하고 있다. 이러한 전개에는 수산화나트륨 용액의 제조와 별개인 염화수소의 산화에 의한 염소 제조방법이 유리하다. 또한, 염화수소는 포스겐화 반응, 예를 들어 이소시아네이트의 제조에서 부산물로서 다량으로 얻어진다.
염화수소의 염소로의 산화는 평형 반응이다. 평형 위치는 온도가 증가함에 따라 이동하여 목적하는 최종 생성물을 저하시킨다. 따라서, 반응을 상대적으로 저온에서 진행하는 최대 활성을 갖는 촉매를 사용하는 것이 유리하다.
이 분야의 최근 현황처럼, 루테늄계 촉매가 HCl 산화에 사용된다. 촉매적으로 활성인 성분으로서 루테늄을 사용한 염화수소 산화를 위한 최초의 촉매는 일찌기 1965년에 DE 1 567 788에서 기술되었으며, 여기에서는 예를 들어 이산화규소와 산화알루미늄 상에 지지된 RuCl3로부터 출발하였다. DE-A 197 48 299, DE-A 197 34 412 및 EP 0 936 184 A2에는 활성 조성물로서 작용하는 산화루테늄 또는 혼합된 산화루테늄과 지지체 물질로서, 예를 들어 이산화티탄, 이산화지르코늄 등의 다양한 산화물을 갖는 다른 Ru계 촉매가 기술되어 있다.
또한, WO 2007/134772 A1과 WO 2007/134721 A1은 이산화주석 상에 지지되고 그의 활성이 이전의 종래기술 중에서 분명히 두드러지는 루테늄계 촉매 시스템을 기술하고 있다.
그러나, WO 2007/134772 A1과 WO 2007/134721 A1에 기술된 촉매 시스템의 단점은 HCl 기체상 산화의 반응 조건 하에서 주석이 지지체 물질에서 아마도 휘발성 화합물 SnCl4의 형태로 방출된다는 점이다. 주석의 손실이 늘어감에 따라 기계적 안정성이 점차 감소되므로 이것은 촉매의 수명에 특히 부정적이다. 또다른 요인은 방출된 염화주석이 생성물로부터 분리되어야 한다는 점이다. 따라서, 주석의 방출과 관련하여 WO 2007/134772 A1과 WO 2007/134721 A1에서 공지된 촉매의 화학적 안정성을 증가시키면서 그의 우수한 활성을 손상하지 않는 방법이 필요하다.
따라서, 본 발명의 목적은 주석의 방출과 관련하여 WO 2007/134772 A1과 WO 2007/134721 A1에서 공지된 촉매의 우수한 활성을 손상하지 않으면서 화학적 안정성을 증가시키는 것이다. 본 목적은 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 이산화주석을 함유하는 지지체 성분의 하소에 의해 얻어진다.
놀라웁게도, 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 이산화주석을 함유하는 지지체의 제어된 하소가 HCl 기체상 산화의 반응 조건 하에서 촉매의 화학적 안정성과 활성을 모두 증가시킬 수 있다는 것을 발견하였다.
본 발명은, 지지체 물질을 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 산화 기체, 특히 공기의 존재 하에서 적어도 450 ℃의 온도에서 하소하는 것을 특징으로 하는, 지지체로서 적어도 이산화주석과 촉매적으로 활성인 물질로서 적어도 하나의 루테늄 함유 화합물을 포함하는 촉매 조성물을 제공한다.
바람직한 구체예에서, 이산화주석은 촉매적으로 활성인 성분의 지지체로서 사용되며, 이산화주석은 주석석(cassiterite) 구조이다.
본 발명은 또한 촉매적으로 활성인 물질을 적용하기 전에 지지체 물질을 산화 기체, 특히 공기의 존재 하, 적어도 450 ℃의 온도에서 하소하는 것을 특징으로 하는, 촉매가 지지체 물질로서 적어도 이산화주석과 촉매적으로 활성인 물질로서 적어도 하나의 루테늄 함유 화합물을 포함하는, 고체 촉매 상에서 산소로 염화수소의 촉매적 기체상 산화에 의해 염소를 제조하는 방법을 추가로 제공한다.
본 발명에 따르면, 사용된 촉매적으로 활성인 성분은 적어도 하나의 루테늄 함유 화합물이다. 이것은 특히 할로겐화루테늄, 수산화루테늄, 산화루테눔, 루테늄 옥시할라이드 및/또는 금속 형태 루테늄이다.
루테늄 화합물이 할로겐 및/또는 산소 함유 루테늄 화합물인 촉매 조성물이 바람직하다.
사용된 촉매적으로 활성인 성분은 바람직하게 할로겐을 함유하는 루테늄 화합물이다. 이것은, 예를 들어 할로겐이 루테늄 원자와의 분극 공유결합에 대해 이온성인 화합물이다.
바람직한 할로겐 함유 루테늄 화합물에서 할로겐은 바람직하게 염소, 브롬 및 요오드로 구성되는 군에서 선택된다. 염소가 특히 바람직하다.
할로겐 함유 루테늄 화합물은 할로겐과 루테늄만으로 구성되는 화합물들이다. 그러나, 바람직하게 산소와 할로겐, 특히 염소 또는 염화물을 함유하는 것들이다. 특히 바람직하게, 촉매적으로 활성인 루테늄 화합물이 염화루테늄, 루테늄 옥시클로라이드 및 염화루테늄과 산화루테늄의 혼합물 및 특히 루테늄 옥시클로라이드 화합물로 구성되는 군에서 선택된 촉매 조성물이다.
촉매적으로 활성인 종으로 적어도 하나의 루테늄 옥시클로라이드 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 본 발명의 내용에서 루테늄 옥시클로라이드 화합물은 산소와 염소가 모두 루테늄과의 분극된 공유 결합에 대해 이온성인 화합물이다. 따라서, 이러한 화합물은 RuOxCly의 일반적인 화학식을 갖는다. 바람직하게, 이러한 종류의 다양한 루테늄 옥시클로라이드 화합물은 서로 함께 촉매 내에 존재할 수 있다. 정의된 특히 바람직한 루테늄 옥시클로라이드 화합물의 예는 특히 다음 조성물을 포함한다: Ru2Cl4, RuOCl2, Ru2OCl5 및 Ru2OCl6.
특히 바람직한 방법에 있어서, 할로겐을 함유하는 루테늄 화합물은 화학식 RuClxOy(여기에서, x는 0.8 내지 1.5의 수이고 y는 0.7 내지 1.6의 수이다)에 상응하는 혼합된 화합물이다.
본 발명의 내용에서 촉매적으로 활성인 루테늄 옥시클로라이드 화합물은, 먼저 적어도 하나의 할로겐 함유 루테늄 화합물의 용액 또는 현탁액, 특히 수용액 또는 수성 현탁액을 하소된 이산화주석을 함유하는 지지체에 적용하고 용매를 제거하는 것을 포함하는 방법에 의해 바람직하게 얻어질 수 있다.
다른 가능한 방법은 루테늄 화합물을 지지체에 적용하기 전 또는 후에 수산화루테늄 같은 염소화되지 않은 루테늄 화합물의 염소화(chlorination)를 포함한다.
바람직한 방법은 RuCl3 수용액을 지지체에 적용하는 것을 포함한다.
촉매적으로 활성인 물질의 적용 전 지지체 물질의 하소 과정 온도는 바람직하게 적어도 700 ℃, 더욱 바람직하게 700 ℃ 내지 1100 ℃이다. 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전 지지체 물질을 하소하는 지속기간은 바람직하게 0.5 h 내지 10 h, 더욱 바람직하게 1 h 내지 6 h이다. 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전 지지체 물질 하소에서 산화 기체는 바람직하게 10 부피% 내지 50 부피%, 더욱 바람직하게 15 내지 25 부피% 범위의 산소를 함유한다.
촉매적으로 활성인 물질의 적용 전 지지체 물질의 하소가 과도하게 높은 온도(예를 들어, > 1500 ℃)에서 일어나거나 적합한 온도에서 너무 장기간 수행되면, 화학적 안정성도 증가하지만 소결이 BET 표면적의 점진적 감소와, 이와 관련하여 어떤 환경 하에서, 형성된 촉매 활성의 점진적 감소를 유발한다.
적어도 부분적으로 바람직한 루테늄 옥시클로라이드 화합물로 전환시키기 위해서 일반적으로 루테늄 화합물을 적용한 후에 적절하게 산소 또는 공기 존재 하에 건조 단계를 수행한다. 바람직한 루테늄 옥시클로라이드 화합물의 산화루테늄으로의 전환을 방지하기 위해, 바람직하게 280 ℃ 미만, 특히 적어도 80 ℃에서, 더욱 바람직하게 적어도 100 ℃에서 건조하여야 한다. 건조시간은 바람직하게 10 분 내지 6 h이다. 촉매는 표준 압력 또는 바람직하게 감압 하에서 건조할 수 있다.
바람직한 방법은 촉매가 이산화주석을 함유하는 지지체를 로딩하여 얻어질 수 있고, 이것을 활성 물질의 적용 전에 할로겐을 함유하는 루테늄 화합물과 하소한 다음, 적어도 200 ℃, 바람직하게 적어도 240 ℃, 더욱 바람직하게 적어도 250 ℃ 내지 650 ℃의 온도에서, 특히 산소 함유 분위기, 더욱 바람직하게 공기 하에서 하소하는 것을 특징으로 한다. 하소시간은 바람직하게 30분 내지 24시간이다.
특히 바람직한 방법에서, 전체 촉매 조성물에 대한 촉매적으로 활성인 루테늄 화합물에서 루테늄의 비율은, 특히 하소 후에 0.5 내지 5 중량%, 바람직하게 1.0 내지 4 중량%, 더욱 바람직하게 1.5 내지 3 중량%이다.
적용된 촉매적으로 활성인 종이 어떤 산소도 함유하지 않는 할로겐-루테늄 화합물이 된다면 산소가 없는 고온에서 건조할 수도 있다.
촉매는 적어도 하나의 할로겐 함유 루테늄 화합물의 수용액 또는 수성 현탁액을 하소된 이산화주석 함유 지지체 성분에 적용하고, 280 ℃ 미만에서 건조한 다음, 루테늄 옥시클로라이드로의 실질적 전환이 발생하는 과정에서 염화수소의 기체상 산화 조건 하에서 활성화하는 것을 포함하는 방법에 의해 바람직하게 얻어질 수 있다. 산소 존재 하의 건조기간이 길수록 더많은 옥시클로라이드가 형성된다.
특히 바람직한 변형에서, 산소 함유 루테늄 화합물을 지지체에 적용한다. 이것은 산소가 루테늄 원자와의 분극 공유결합에 대해 이온성인 화합물이다. 이 화합물은 적어도 하나의 할로겐화물 함유 루테늄 화합물의 수용액 또는 수성 현탁액을 하소된 이산화주석에 적용하고 알칼리 화합물에 의해 침전시켜 수산화루테늄을 얻고, 임의로 침전물을 하소하여 제조된다.
산소를 함유하는 루테늄 화합물을 직접 형성하기 위해 알칼리 조건 하에서 침전을 수행할 수 있다. 또한, 환원 조건 하에서 금속 루테늄의 1차 형성으로 이것을 수행하고, 이어서 산소 공급으로 하소하여 산소를 함유하는 루테늄 화합물을 형성할 수 있다.
바람직한 방법은 RuCl3 수용액을 하소된 이산화주석 함유 지지체 성분에 함침(impregnation), 소킹(soaking) 등에 의해 적용하는 것을 포함한다.
할로겐화물 함유 루테늄 화합물의 적용은 일반적으로 침전 단계 및 건조 또는 하소 단계로 이어지며, 이것은 적절하게 산소 또는 공기 존재 하, 650 ℃ 이하의 온도에서 수행된다.
더욱 바람직하게, 촉매성분, 즉 루테늄 함유 화합물은, 예를 들어 지지체를 용액 중에 존재하는 적합한 출발 화합물 또는 액체나 콜로이드 형태의 출발 화합물로 습식 및 습윤 함침, 침전과 공침 방법, 및 이온교환 및 기체상 코팅(CVD, PVD)하여 지지체에 적용될 수 있다.
염화수소 산화를 위한 본 발명 촉매는 낮은 온도에서의 고활성 및 고안정성이 뛰어나다.
바람직하게, 이미 위에서 언급한 바와 같이, 신규한 촉매 조성물은 디콘 방법으로 알려진 촉매 공정에서 사용된다. 이 방법에서 염화수소는 발열 평형반응에서 산소에 의해 염소로 산화되고, 수증기를 형성한다. 반응 온도는 전형적으로 180 내지 500 ℃, 더욱 바람직하게 200 내지 450 ℃, 특히 바람직하게 250 내지 420 ℃이고; 일반적인 반응 압력은 1 내지 25 bar, 바람직하게 1.2 내지 20 bar, 더욱 바람직하게 1.5 내지 17 bar, 가장 바람직하게 2 내지 15 bar이다. 이 반응은 평형반응이기 때문에 촉매가 여전히 충분한 활성을 가지는 최소 온도에서 작업하는 것이 적절하다. 또한 염화수소에 대하여 초화학량론적 양(superstoichiometric amounts)으로 산소를 사용하는 것이 적절하다. 예를 들어, 2 내지 4배 산소 과량이 전형적이다. 선택성 상실에 대한 어떠한 위험도 없으므로 상대적으로 고압에서 표준 압력과 비례하여 더 긴 잔류시간으로 상응하여 작업하는 것이 경제적으로 유리하다.
적합한 촉매는, 루테늄 화합물 이외에 다른 금속 또는 귀금속, 예를 들어 금, 팔라듐, 백금, 오스뮴, 이리듐, 은, 구리, 크롬 또는 레늄의 화합물을 함유할 수 있다.
촉매적 염화수소 산화는 바람직하게 단열 또는 등온 또는 거의 등온으로 뱃치방식(batchwise)으로 수행할 수 있으나, 바람직하게 연속적으로 유동층 또는 고정층 방법, 바람직하게 고정층 방법으로, 더욱 바람직하게 180 내지 500 ℃, 바람직하게 200 내지 450 ℃, 더욱 바람직하게 250 내지 420 ℃의 반응기 온도 및 1 내지 25 bar (1000 내지 25 000 hPa), 바람직하게 1.2 내지 20 bar, 더욱 바람직하게 1.5 내지 17 bar, 특히 바람직하게 2.0 내지 15 bar의 압력에서 단열적으로 수행할 수 있다.
촉매적 염화수소 산화가 수행되는 전형적인 반응장치는 고정층 또는 유동층 반응기이다. 촉매적 염화수소 산화는 또한 바람직하게 다수의 단계로 수행될 수 있다.
단열성, 등온 또는 거의 등온성 공정 체제에서, 바람직하게 단열성 공정 체제에서 다수, 특히 2 내지 10, 바람직하게 2 내지 6개의, 중간 냉각과 연속적으로 연결된 반응기를 사용할 수 있다. 염화수소는 제1 반응기의 상류쪽 산소와 함께 완전히 첨가되거나 다른 반응기에 분포시킬 수 있다. 이러한 개별 반응기의 직렬 연결은 또한 하나의 장치로 결합될 수 있다.
본 방법에 적합한 장치의 바람직한 다른 구체예는 촉매 활성이 흐름 방향으로 발생하는 구조화 촉매층을 사용하는 것이다. 이러한 촉매층의 구조화는 활성 물질을 사용한 촉매 지지체의 상이한 함침 또는 불활성 물질을 사용한 촉매의 상이한 희석에 의해 얻어질 수 있다. 사용된 불활성 물질은, 예를 들어 이산화티탄, 이산화지르코늄 또는 이들의 혼합물, 산화알루미늄, 스테아타이트(steatite), 세라믹, 유리, 흑연 또는 스테인레스 스틸의 고리, 실린더 또는 구형(sphere)일 수 있다. 성형된 촉매체의 바람직한 사용의 경우에 불활성 물질은 바람직하게 유사한 외부 치수를 가져야 한다.
적합한 성형 촉매체는 원하는 형태를 갖는 성형체를 포함하며, 바람직하게 정제, 고리, 실린더, 별, 수레바퀴 또는 구형이며, 특히 바람직하게 고리, 실린더, 구형 또는 별 압출물의 형태이다. 바람직하게는 구형이다. 성형된 촉매체의 크기, 예를 들어 구형의 경우에 직경 또는 최대 단면폭은 평균적으로 특히 0.3 내지 7 mm, 매우 바람직하게 0.8 내지 5 mm이다.
선택적으로 상기한 미분된(성형된) 촉매체에 대하여, 지지체는 또한, 예를 들어 서로 방사상으로 연결되지 않은 평행 채널을 갖는 "통상적인" 지지체뿐만 아니라 지지체 물질의 모놀리스(monolith)일 수 있으며; 또한 모놀리스를 형성하기 위해 지지체 내에 3차원 커넥션을 갖는 폼, 스펀지 등, 및 직교류(crossflow) 채널을 갖는 지지체를 포함한다.
모놀리스 지지체는 허니콤(honeycomb) 구조 또는 개방 또는 폐쇄된 교차형 채널 구조를 가질 수 있다. 모놀리스 지지체의 바람직한 셀 밀도는 100 내지 900 cpsi(cells per square inch), 더욱 바람직하게 200 내지 600 cpsi이다.
본 발명의 내용에 있어서 모놀리스는, 예를 들어 문헌["Monoliths in multiphase catalytic processes - aspects and prospects", F. Kapteijn, J.J. Heiszwolf, T.A. Nijhuis and J.A. Moulijn, Cattech 3, 1999, p. 24]에 개시되어 있다.
적합한 추가 지지체 물질 또는 지지체용 결합제는 특히, 예를 들어 이산화규소, 흑연, 루틸(rutile) 또는 아나타제(anatase) 구조를 갖는 이산화티탄, 이산화지르코늄, 산화알루미늄 또는 이들의 혼합물이며, 바람직하게 이산화티탄, 산화지르코늄, 산화알루미늄 또는 이들의 혼합물이며, 더욱 바람직하게 γ- 또는 δ-산화알루미늄 또는 이들의 혼합물이다. 바람직한 결합제는 산화알루미늄 또는 산화지르코늄이다. 결합제의 비율은 최종 촉매에 대하여 1 내지 30중량%, 바람직하게 2 내지 25중량%, 매우 바람직하게 5 내지 20중량%일 수 있다. 결합제는 성형된 촉매체의 기계적 안정성(강도)을 증가시킨다.
본 발명의 특히 바람직한 변형에서, 촉매적으로 활성인 성분은 본질적으로 결합제의 표면이 아니라, 실질적인 지지체 물질, 예를 들어 이산화주석의 표면에 존재한다.
촉매의 추가 도핑에 있어서, 적합한 프로모터는 알칼리 금속 또는 금속 화합물, 예를 들어 리튬, 소듐, 포타슘, 루비듐 및 세슘, 바람직하게 리튬, 소듐 및 포타슘, 더욱 바람직하게 포타슘, 알칼리 토금속, 예를 들어 마그네슘, 칼슘, 스트론튬 및 바륨, 바람직하게 마그네슘 및 칼슘, 더욱 바람직하게 마그네슘, 희토류 금속, 예를 들어 스칸디움, 이트륨, 란탄, 세륨, 프라세오디뮴(praseodymium) 및 네오디뮴, 바람직하게 스칸디움, 이트륨, 란탄 및 세륨, 더욱 바람직하게 란탄 및 세륨, 또는 이들의 혼합물이다.
프로모터는 비제한적으로 함침 및 CVD 공정으로 촉매에 적용될 수 있고, 예를 들어 금속 화합물, 특히 염화물 및/또는 질산염의 함침이 바람직하고, 특히 바람직하게는 촉매 주성분과의 복합 적용이다.
단일 경로의 HCl 산화에서 염화수소의 전환률은 15 내지 90%, 바람직하게 40 내지 90%, 더욱 바람직하게 70 내지 90%로 바람직하게 한정될 수 있다. 전환되지 않은 염화수소는 분리 후 촉매적 염화수소 산화에 전부 또는 부분적으로 재활용될 수 있다. 반응기 유입구에서 산소 대 염화수소의 부피비는 바람직하게 1:2 내지 20:1, 바람직하게 2:1 내지 8:1, 더욱 바람직하게 2:1 내지 5:1이다.
촉매적 염화수소 산화의 반응열은 고압 스팀 생성에 유리하게 사용될 수 있다. 이 스팀은 포스겐화 반응기 및/또는 증류 컬럼, 특히 이소시아네이트 증류 컬럼의 작동에 사용될 수 있다.
추가 공정에서, 형성된 염소를 분리한다. 분리 공정은 일반적으로 여러 단계를 포함하며, 구체적으로 촉매적 염화수소 산화의 생성물 기체 스트림으로부터 전환되지 않은 염화수소의 분리 및 임의의 재활용, 기본적으로 염소 및 산소를 포함하는 생성된 스트림의 건조, 및 건조된 스트림으로부터 염소의 분리를 포함한다.
전환되지 않은 염화수소와 형성된 스팀은 냉각에 의해 염화수소 산화의 생성물 기체 스트림으로부터 수성 염화수소산을 응축시켜서 분리할 수 있다. 또한 염화수소는 묽은 염화수소산 또는 물에 흡수될 수 있다.
본 발명은 또한 산소를 사용한 염화수소의 촉매적 기체상 산화의 촉매를 위한 하소된 이산화주석의 촉매 지지체로서의 용도를 제공한다.
본 발명은 또한 신규한 촉매 조성물의, 특히 산화반응을 위한 촉매, 더욱 바람직하게 산소를 사용한 염화수소의 촉매적 기체상 산화의 촉매로서의 용도를 제공한다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 예시하였다:
실시예
다음 실시예에 의한 필수적 인덱스와 결과는 최종 실시예 이후의 표에 요약하였다.
실시예 1 (본 발명): SnO2의 하소
5 g의 상업적 SnO2(Cfm Oskar Tropitzsch e. K. (CFM), 뱃치 631, 500 메쉬)를 1000 ℃에서 공기 하에 2시간 동안 하소하였다. 하소된 SnO2를 둥근바닥 플라스크에서 1.5 g의 물에 용해된 상업적인 0.2577 g의 염화루테늄 n-수화물 용액에 현탁하고 실온에서 60분 동안 교반하였다. 과용액을 60 ℃에서 밤새 농축하였다. 이어서, 얻어진 고체를 250 ℃, 공기 기류 중에서 16시간 동안 하소하여 하소된 SnO2 상에 지지된 염화루테늄 촉매를 얻었다. 지지된 루테늄의 양은 2.01 중량%에 해당하였다.
실시예 2 (본 발명)
염화루테늄의 적용 전에 SnO2 지지체를 500 ℃, 공기 중에서 4시간 동안 하소한 것을 제외하고, 5 g의 실시예 1에 상응하는 촉매를 제조하였다.
실시예 3 (비교 실시예)
염화루테늄의 적용 전에 SnO2 지지체를 하소하지 않은 것을 제외하고, 5 g의 실시예 1에 상응하는 촉매를 제조하였다.
촉매 시험 실시예 4 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
1 촉매의 용도
80 ml/분(표준 조건, STP) 염화수소와 80 ml/분(STP) 산소의 기체 혼합물을 300 ℃에서 석영 반응튜브(내부 직경 10 mm) 중의 고정층에서 0.2 g의 실시예 1에 따른 가루 촉매에 통과시켰다. 석영 반응튜브를 전기적으로 가열된 유동성 모래층으로 가열하였다. 30분 후에 생성물 기체 기류를 16 중량% 요오드화칼륨 용액에 15분 동안 통과시켰다. 첨가된 염소의 양을 측정하기 위해 형성된 요오드를 0.1 N 표준 티오설페이트 용액으로 역적정하였다. 1.96 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
촉매 시험 실시예 5 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
2 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 2에 따른 가루 촉매를 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 1.66 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
촉매 시험 실시예 6 (비교 실시예)
HCl
산화에서
실시예
3 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 3에 따른 가루 촉매를 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 1.44 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
실시예 7 (본 발명)
다른 상업적인 SnO2 분말(나노-SnO2; 제조업체: Sigma-Aldrich)을 사용한 것을 제외하고, 5 g의 실시예 1에 상응하는 촉매를 제조하였다. 1000 ℃에서 2시간 동안 하소한 후, 9.3 m2/g의 BET 표면적이 측정되었다.
실시예 8 (비교 실시예)
다른 상업적인 SnO2 분말(나노-SnO2; 제조업체: Sigma-Aldrich)을 사용한 것을 제외하고, 5 g의 실시예 3에 상응하는 촉매를 제조하였고, 20 m2/g의 BET 표면적이 얻어졌다.
촉매 시험 실시예 9 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
7 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 7에 따른 가루 촉매를 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 3.8 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
촉매 시험 실시예 10 (비교 실시예)
HCl
산화에서
실시예
8 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 8에 따른 가루 촉매를 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 2.3 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
실시예 11 (본 발명)
하소된
SnO
2
성형체
상에서 염화루테늄의 지지
평균 직경이 1.5 mm인 Al2O3를 15중량%의 비율로 갖는 100 g의 구형 SnO2 성형체(상업적 SnO2, 제조업체: Alfa-Aesar, Saint-Gobain사 성형)를 915 ℃에서 4시간 동안 하소한 다음, 16.7 g의 H2O에 용해된 5.2535 g의 상업적 염화루테늄 n-수화물 용액으로 함침하였다. 1시간 동안 정치한 후, 촉매를 공기 기류 중에서 약 60 ℃에서 6시간 이내로 건조하였다. 다음으로, 촉매를 250 ℃에서 16시간 동안 하소하였다. 이렇게 하여 2중량%의 루테늄을 가지는 것으로 계산된 촉매를 얻었다.
실시예 12 (비교 실시예)
하소되지
않은
SnO
2
성형체
상에서 염화루테늄의 지지
지지체를 하소되지 않은 형태로 사용한 것을 제외하고, 실시예 11에 따라 100 g의 촉매를 제조하였다.
촉매 시험 실시예 13 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
11 촉매의 용도
25 g의 실시예 11에 따른 촉매를 오일조로 가열된 니켈 고정층 반응기(직경 22 mm, 길이 800 mm)에서 75 g의 불활성 물질(유리 구슬)과 함께 준비하였다. 이렇게 하여 약 150 mm의 고정층을 얻었다. 고정층을 350 ℃로 가열된 열 캐리어로 가열하였다. 4 bar의 압력에서 40.5 l/h (STP) 염화수소, 157.5 l/h (STP) 산소 및 252 l/h (STP) 질소의 기체 혼합물을 고정층 반응기로 통과시켰다. 정해진 반응시간(예를 들어, 30분) 후에 생성물 기체 기류를 5분 동안 16% 요오드화칼륨 용액에 통과시켰다. 첨가된 염소의 양을 측정하기 위해 형성된 요오드를 0.1 N 표준 티오설페이트 용액으로 역적정하였다. 여기에서 계산된 전환율은 92.8%였다. 240분의 실행 시간 후에 응축된 반응 샘플을 ICP-OES (Inductively Coupled Plasma - 방출 분광법(Optical Emission Spectrometry), 장비: Varian Vista-PRO, 제조업자의 지시서에 따른 방법)에 의해 Sn 함량을 분석하였다. 분석값은 88 ppm이었다.
촉매 시험 실시예 14 (비교 실시예)
HCl
산화에서
실시예
12 촉매의 용도
25 g의 실시예 12에 따른 촉매를 촉매 시험 실시예 13과 유사하게 시험하였다. 전환율은 89.4%이고 Sn 함량은 359 ppm이었다.
실시예 15 (본 발명)
하소된
SnO
2
성형체
상에서 염화루테늄의 지지
결합제로서 평균 직경이 1.5 mm인 Al2O3를 15중량%의 비율로 갖는 50 g의 구형 SnO2 성형체(제조사: Saint-Gobain, 공급원: Sigma-Aldrich의 상업적 나노-SnO2)를 성형 후에 550 ℃에서 2시간 동안 하소하였다. 이렇게 하여 BET 표면적이 53 m2/g인 지지체를 얻었다. 이어서, 지지체를 7.08 g의 H2O에 용해된 2.575 g의 상업적 염화루테늄 n-수화물 용액으로 함침하였다. 1시간 동안 정치한 후, 촉매를 약 60 ℃의 공기 기류에서 6시간 이내로 건조하였다. 다음으로, 촉매를 250 ℃에서 16시간 동안 하소하였다. 이렇게 하여 2중량%의 루테늄을 가지는 것으로 계산된 촉매를 얻었다.
실시예 16 (본 발명)
하소된
SnO
2
성형체
상에서 염화루테늄의 지지
지지체를 1000 ℃에서 2시간 동안 하소한 후 사용한 것을 제외하고, 50 g의 촉매를 실시예 15에 따라 제조하였다. 이렇게 하여 BET 표면적이 25 m2/g인 지지체를 얻었다.
촉매 시험 실시예 17 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
15 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 15에 따른 촉매를 분말로 분쇄하여 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 2.15 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
촉매 시험 실시예 18 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
16 촉매의 용도
0.2 g의 실시예 16에 따른 촉매를 분말로 분쇄하여 촉매 시험 실시예 4에 따라 시험하였다. 2.4 kgCl2/kgCAT·h의 염소 형성률이 측정되었다.
촉매 시험 실시예 19 (본 발명)
HCl
산화에서
실시예
16 촉매의 용도
부피 유량률(volume flow rates)이 40.5 l/h (STP)의 HCl, 315.0 l/h (STP)의 O2 및 94.5 l/h (STP)의 N2인 것을 제외하고, 25 g의 실시예 16에 따른 촉매를 촉매 시험 실시예 13과 유사하게 시험하였다. 응축물(실행 시간 300분 후의 샘플) 중의 주석 분석을 ICP-OES (Inductively Coupled Plasma - 방출 분광법, 장비: Varian Vista-PRO, 제조업자의 지시서에 따른 방법)로 수행하였다. 응축물 샘플은 91 ppm의 Sn을 함유하였다.
제시된 실시예의 필수 인덱스와 결과를 다음 표에 요약하였다.
n.c. = 하소되지 않음, STY = 공시 수득량(염소 형성률)
결론: 촉매 시험 실시예 4-6에서는 분말 형태로 사용된 이산화주석의 500 ℃에서의 하소가 HCl 산화에서 이것으로 제조된 촉매 활성의 상승을 유도하였고, 1000 ℃에서의 하소는 상당한 상승을 유도한 것으로 나타났다. 촉매 시험 실시예 9와 10에서는 분말 형태로 사용된 이산화주석의 본 발명 하소가 하소 과정에서 BET 표면적이 감소하였음에도 불구하고 HCl 산화에서 이것으로 제조된 촉매 활성에서 상당한 상승을 유발하는 것으로 나타났다. 촉매 시험 실시예 13과 14에서는 사용된 이산화주석 성형체의 본 발명 하소가 HCl 산화에서 지지체의 화학적 안정성에서 상당한 상승(주석 산출량의 감소)을 유발하는 것으로 나타났다. 촉매 시험 실시예 17 - 18에서는 선택된 하소 조건 하에서 BET 표면적은 감소하였지만 활성은 증가할 수 있는 것으로 나타났다. 또한, 촉매 시험 실시예 19에서 보이는 바와 같이, 실시예 16에 따른 촉매는 매우 낮은 주석 산출량을 나타내었다.
높은 주석 산출량은 문제를 수반할 수 있으며 촉매의 기계적 안정성은 >= 2년의 산업적으로 바람직한 실행 시간을 제공한다. 일반적으로 주석 산출량이 낮을수록 비용과 분리하는 불편이 적어진다.
최근 동향에서는 높은 분산의 귀금속 성분이 바람직한 것으로 알려져 있다. 이것은 일반적으로 BET 표면적이 크고 때때로 복잡한 적용방법을 갖는 지지체에 의해 얻어진다. 이런 측면에서, 본 발명의 하소에 의한 지지체의 BET 표면적 감소에도 불구하고 HCl 산화에서 이것으로 제조된 촉매의 활성이 증가하는 것은 특히 놀라운 일이다.
Claims (17)
- 지지체 물질로서 적어도 이산화주석 및 촉매적으로 활성인 물질로서 적어도 하나의 루테늄 함유 화합물을 포함하고, 상기 지지체 물질은 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 산화 기체의 존재 하에서 적어도 450℃의 온도로 하소된 것이며, 상기 이산화주석의 90%를 초과하는 양이 주석석(cassiterite) 구조인 것을 특징으로 하는, 촉매적 기체상 산화에 의한 염소 제조 용도의 촉매 조성물.
- 제1항에 있어서, 루테늄 화합물이 할로겐- 및/또는 산소 함유 루테늄 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 루테늄 화합물 내의 할로겐이 염소, 브롬 및 요오드로 구성되는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매적으로 활성인 루테늄 화합물이 염화루테늄, 루테늄 옥시클로라이드 및 염화루테늄과 산화루테늄의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제4항에 있어서, 촉매적으로 활성인 루테늄 화합물이 화학식 RuClxOy(여기에서, x는 0.8 내지 1.5의 수이고 y는 0.7 내지 1.6의 수이다)에 상응하는 혼합 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 지지체 물질을 하소하는 과정의 온도가 적어도 500℃인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 지지체 물질의 하소가 0.5 내지 10시간 동안 지속되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 지지체 물질의 하소에서 산화 기체가 10 부피% 내지 50 부피% 범위의 산소 함량을 가지는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매가 적어도 80℃에서의 건조를 포함하여 용매를 제거하는 방법으로 얻어질 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 촉매 조성물이 할로겐 함유 루테늄 화합물을 갖는 지지체 물질을 적어도 200℃의 온도에서 하소하여 얻어질 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 할로겐 함유 루테늄 화합물의 루테늄 비율이, 전체 촉매 조성물에 대하여 0.5 내지 5중량%인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 삭제
- 고체 촉매 상에서 산소를 사용한 염화수소의 촉매적 기체상(gas phase) 산화에 의해 염소를 제조하는 방법으로서,
촉매가 지지체 물질로서 적어도 이산화주석 및 촉매적으로 활성인 물질로서 적어도 하나의 루테늄 함유 화합물을 포함하며,
사용된 촉매가 제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 따른 조성물인 것을 특징으로 하는 방법. - 제13항에 있어서, 염화수소의 기체상 산화가 염화수소와 산소를 포함하는 기체를 180 내지 500℃의 온도에서 통과하는 것을 포함하고, 형성된 염소를 반응의 물 및 전환되지 않은 산소와 염화수소로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제13항에 있어서, 기체상 산화가 1 내지 25 bar의 압력에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제13항에 있어서, 기체상 산화가 단열 또는 등온으로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 산소를 사용한 염화수소의 촉매적 기체상 산화에서, 촉매로서 이산화주석을 포함하는 하소된 촉매 지지체를 사용하는 방법으로서, 상기 촉매 지지체는 촉매적으로 활성인 물질의 적용 전에 산화 기체의 존재 하에서 적어도 450℃의 온도로 하소된 것이며, 상기 이산화주석의 90%를 초과하는 양이 주석석(cassiterite) 구조인 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010039735A DE102010039735A1 (de) | 2010-08-25 | 2010-08-25 | Katalysator und Verfahren zur Herstellung von Chlor durch Gasphasenoxidation |
DE102010039735.0 | 2010-08-25 | ||
PCT/EP2011/064370 WO2012025483A2 (de) | 2010-08-25 | 2011-08-22 | Katalysator und verfahren zur herstellung von chlor durch gasphasenoxidation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130100282A KR20130100282A (ko) | 2013-09-10 |
KR101871176B1 true KR101871176B1 (ko) | 2018-06-27 |
Family
ID=44584160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020137006269A KR101871176B1 (ko) | 2010-08-25 | 2011-08-22 | 기체상 산화에 의한 염소 제조를 위한 촉매 및 방법 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9089838B2 (ko) |
EP (1) | EP2608879B1 (ko) |
JP (3) | JP2013536075A (ko) |
KR (1) | KR101871176B1 (ko) |
CN (2) | CN110548526A (ko) |
DE (1) | DE102010039735A1 (ko) |
ES (1) | ES2739501T3 (ko) |
HU (1) | HUE044637T2 (ko) |
PT (1) | PT2608879T (ko) |
WO (1) | WO2012025483A2 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR20190077008A (ko) | 2016-12-02 | 2019-07-02 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 염화 수소 산화에 의한 염소의 제조 방법 |
KR102214152B1 (ko) * | 2019-04-29 | 2021-02-09 | 포항공과대학교 산학협력단 | 선박평형수 처리시설의 부식방지를 위한 고선택성 M/Ru 염소 발생반응 촉매 |
EP3819259A1 (de) | 2019-11-06 | 2021-05-12 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur isocyanat- und polyurethan-herstellung mit verbesserter nachhaltigkeit |
KR20210086146A (ko) | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 한화솔루션 주식회사 | 염화수소 산화반응 공정용 성형촉매 및 이의 제조방법 |
KR20220105387A (ko) | 2021-01-20 | 2022-07-27 | 한화솔루션 주식회사 | 염화수소 산화반응을 통한 염소의 고수율 제조방법 |
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EP4234491A1 (de) | 2022-02-24 | 2023-08-30 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur gasifikation polymerer wertstoffmaterialien für die emissionsarme bereitstellung von für die herstellung von phosgen nutzbarem kohlenmonoxid |
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EP4345094A1 (de) | 2022-09-30 | 2024-04-03 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur phosgen-herstellung mit rückführung von kohlendioxid aus wertstoffrecycling |
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CN101448572A (zh) * | 2006-05-23 | 2009-06-03 | 拜尔材料科学股份公司 | 通过气相氧化生产氯的方法 |
DE102006024543A1 (de) * | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Herstellung von Chlor durch Gasphasenoxidation |
JP4935604B2 (ja) * | 2006-11-27 | 2012-05-23 | 住友化学株式会社 | 担持酸化ルテニウムの製造方法 |
DE102007020142A1 (de) | 2007-04-26 | 2008-10-30 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Rückgewinnung von Ruthenium aus einem rutheniumhaltigen geträgerten Katalysatormaterial |
DE102007020143A1 (de) * | 2007-04-26 | 2008-10-30 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Erhöhung der Langzeitstabilität und Aktivität von Ruthenium-Katalysatoren |
DE102007020096A1 (de) | 2007-04-26 | 2008-10-30 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Oxidation von Kohlenmonoxid in einem HCI enthaltenden Gasstrom |
DE102008015406A1 (de) * | 2008-03-22 | 2009-09-24 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Regeneration eines mit Schwefel in Form von Schwefelverbindungen vergifteten, Ruthenium oder Rutheniumverbindungen enthaltenden Katalysators |
US8475755B2 (en) * | 2009-08-21 | 2013-07-02 | Sub-Chemie Inc. | Oxidation catalyst and method for destruction of CO, VOC and halogenated VOC |
CN101659440A (zh) * | 2009-09-25 | 2010-03-03 | 上海大学 | 二氧化锡纳米线的制备方法 |
CA2793179C (en) * | 2010-03-16 | 2015-07-14 | Thomas R. Berkelman | Conjugates of 1,4,7-triaza-cyclononanes, dinuclear metal complexes of such conjugates, and methods of use for both 1,4,7-triaza-cyclononanes and conjugates |
-
2010
- 2010-08-25 DE DE102010039735A patent/DE102010039735A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-08-22 US US13/818,527 patent/US9089838B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-22 PT PT11754633T patent/PT2608879T/pt unknown
- 2011-08-22 HU HUE11754633 patent/HUE044637T2/hu unknown
- 2011-08-22 EP EP11754633.3A patent/EP2608879B1/de not_active Not-in-force
- 2011-08-22 WO PCT/EP2011/064370 patent/WO2012025483A2/de active Application Filing
- 2011-08-22 CN CN201910851581.2A patent/CN110548526A/zh active Pending
- 2011-08-22 CN CN2011800412805A patent/CN103167906A/zh active Pending
- 2011-08-22 ES ES11754633T patent/ES2739501T3/es active Active
- 2011-08-22 KR KR1020137006269A patent/KR101871176B1/ko active IP Right Grant
- 2011-08-22 JP JP2013525270A patent/JP2013536075A/ja active Pending
-
2016
- 2016-03-30 JP JP2016068365A patent/JP6615670B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-06-25 JP JP2018120075A patent/JP2018167268A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2608879B1 (de) | 2019-05-15 |
DE102010039735A1 (de) | 2012-03-01 |
CN110548526A (zh) | 2019-12-10 |
PT2608879T (pt) | 2019-07-31 |
HUE044637T2 (hu) | 2019-11-28 |
WO2012025483A2 (de) | 2012-03-01 |
US9089838B2 (en) | 2015-07-28 |
JP2018167268A (ja) | 2018-11-01 |
US20130216470A1 (en) | 2013-08-22 |
ES2739501T3 (es) | 2020-01-31 |
WO2012025483A3 (de) | 2012-04-19 |
KR20130100282A (ko) | 2013-09-10 |
EP2608879A2 (de) | 2013-07-03 |
JP6615670B2 (ja) | 2019-12-04 |
JP2016165724A (ja) | 2016-09-15 |
CN103167906A (zh) | 2013-06-19 |
JP2013536075A (ja) | 2013-09-19 |
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---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
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