KR101859480B1 - 택트타임 지연 발생원인 추적방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 택트타임 지연 발생시 이의 원인을 정확하게 찾아낼 수 있는 택트타임 지연 발생원인 추적방법에 관한 것으로, 순차적으로 공정을 수행하는 n개의 공정장비들(n은 1보다 큰 자연수) 각각으로부터 택트타임 이력정보를 수집하는 A단계; 상기 n개의 공정장비들 중 어느 하나를 기준 공정장비로 설정하고, 상기 기준 공정장비로부터 수집된 택트타임 이력정보를 확인하는 B단계; 상기 기준 공정장비에서의 택트타임 지연이 발생하였는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 D단계가 수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 상기 B단계가 재수행되도록 하는 C단계; 상기 기준 공정장비의 바로 다음 공정을 수행하는 다음 공정장비에 대한 택트타임 이력정보를 확인하는 D단계; 상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 상기 D단계에서의 기준 공정장비가 상기 다음 공정장비로 치환된 상태에서 상기 D단계가 재수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 F단계가 수행되도록 하는 E단계; 및, 상기 택트타임 지연 발생을 제공한 원인이 상기 E단계에서 기준 공정장비로 설정된 공정장비에 존재하는 것으로 판단하고, 이와 같이 판단된 상기 기준 공정장비를 원인제공 공정장비로 설정하는 F단계를 포함함을 특징으로 한다.

Description

택트타임 지연 발생원인 추적방법{METHOD FOR TRACING FACTORS DELAYING TACT TIME}
본 발명은 표시패널의 제조공정 시스템의 알고리즘에 관한 것으로, 특히 택트타임 지연 발생시 이의 원인을 정확하게 찾아낼 수 있는 택트타임 지연 발생원인 추적방법에 대한 것이다.
공정효율이 정상적으로 유지되기 위해서는 각 공정장비가 자신의 정상적인 택트타임 범위내에서 작업을 완료해야만 한다. 그러나, 어느 하나의 공정장비에 어떤 문제가 발생되어 이 공정장비의 공정시간이 증가하게 되면 이 공정장비의 택트타임이 미리 설정된 임계치를 넘어서게 될 수 있다. 즉, 이 공정장비의 택트타임이 어느 순간 갑자기 임계치를 넘어서서 급격히 증가할 수 있다. 다시 말하여, 이 공정장비에 택트타임 지연이 발생할 수 있다. 상술된 바와 같이, 어느 하나의 공정장비에 택트타임 지연이 발생하면, 나머지 모든 공정장비들에도 택트타임 지연이 발생된다. 이러한 택트타임 지연은 곧 공정효율의 감소로 이어지는 바, 종래에는 공정효율의 감소를 발생시킨 공정장비를 정확하게 찾기가 상당히 어렵고 또한 많은 시간이 소요되었다.
본 발명은 상술된 어려움을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 각 공정장비의 택트타임 이력정보를 분석하여 최초의 택트타임의 지연을 발생시킨 공정장비를 정확하고 빠르게 찾아낼 수 있는 택트타임 지연 발생원인 추적방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상술된 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법은, 순차적으로 공정을 수행하는 n개의 공정장비들(n은 1보다 큰 자연수) 각각으로부터 택트타임 이력정보를 수집하는 A단계; 상기 n개의 공정장비들 중 어느 하나를 기준 공정장비로 설정하고, 상기 기준 공정장비로부터 수집된 택트타임 이력정보를 확인하는 B단계; 상기 기준 공정장비에서의 택트타임 지연이 발생하였는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 D단계가 수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 상기 B단계가 재수행되도록 하는 C단계; 상기 기준 공정장비의 바로 다음 공정을 수행하는 다음 공정장비에 대한 택트타임 이력정보를 확인하는 D단계; 상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 상기 D단계에서의 기준 공정장비가 상기 다음 공정장비로 치환된 상태에서 상기 D단계가 재수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 F단계가 수행되도록 하는 E단계; 및, 상기 택트타임 지연 발생을 제공한 원인이 상기 E단계에서 기준 공정장비로 설정된 공정장비에 존재하는 것으로 판단하고, 이와 같이 판단된 상기 기준 공정장비를 원인제공 공정장비로 설정하는 F단계를 포함함을 특징으로 한다.
상기 B단계에서, 상기 n개의 공정장비들 중 순서상 가장 앞선 공정을 수행하는 공정장비가 상기 기준 공정장비로 설정됨을 특징으로 한다.
상기 F단계는, 원인제공 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 상기 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정하고, 이 임계구간내에서의 사건들을 확인하는 단계를 더 수행함을 특징으로 한다.
상기 F단계에서 확인된 사건들 중 상기 원인제공 공정장비에 관련된 사건들만을 선택적으로 추출하는 G단계; 및, 상기 G단계로부터 추출된 사건들을 데이터화하는 H단계를 더 포함함을 특징으로 한다.
상기 E단계에서, 상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는 단계는, 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 상기 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정하는 E-1단계; 및, 상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이, 상기 임계구간내에서 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는 E-2단계를 포함함을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법은 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 본 발명은 각 공정장비의 택트타임 이력정보를 분석하여 최초로 문제의 근원지가 된 공정장비를 정확하게 가려낼 수 있다.
둘째, 본 발명은 문제 발생의 최초 원인이 된 공정장비의 문제 발생을 야기한 사건을 정확하게 찾아낼 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법 알고리즘을 갖는 표시패널 제조공정 시스템을 나타낸 블록도.
도 2는 도 1의 편광판설치부 및 탭공정부의 일부 공정순서 및 택트타임 이력정보들을 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법에 관한 알고리즘을 나타낸 도면.
도 4는 공정장비들에 대한 택트타임 이력정보를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 알고리즘을 표시패널 제조공정 시스템에 적용하였을 때의 효과를 설명하기 위한 도면.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법 알고리즘을 갖는 표시패널 제조공정 시스템을 나타낸 블록도이다.
본 발명에 따른 표시패널 제조공정 시스템은, 도 1에 도시된 바와 같이, 관리서버(100), 허브(101), ECS제어부(102), PLC제어부(103) 및 공정설비부(150)를 포함한다.
관리서버(100)는 공정설비부(150)로부터 각 설비장비에 대한 택트타임 이력정보들을 공급받고 공정 장비의 오동작에 관한 사건 정보들, 부품 교환에 관련된 사건 정보들을 관리한다.
ECS제어부(102)는 설비부에 대한 관리를 담당한다.
PLC제어부(103)는 공정설비부(150)에 구비된 설비장비의 동작을 제어한다.
공정설비부(150)는 표시패널에 대한 제조공정이 이루어지는 곳으로, 이를 위해 공정설비부(150)는 로더부(111), 세정부(112), 편광판설치부(113), 탭공정부(114), PCB조립부(115) 및 언로더부(111)를 구비한다. 여기서 이 표시패널은 액정표시장용 표시패널이 될 수 있다. 이 표시패널은 액정층을 사이에 두고 서로 합착된 상부 기판 및 하부 기판을 포함한다. 하부 기판은 서로 교차하는 다수의 게이트 라인들 및 다수의 데이터 라인들, 그리고 다수의 박막트랜지스터들을 포함한다. 그리고 상부 기판은 다수의 컬러필터들을 포함한다.
로더부(111)는 외부로부터 제공된 표시패널들을 순차적으로 세정부(112)로 제공한다.
세정부(112)는 로더부(111)로부터 제공된 표시패널을 세정한 후 이를 편광판설치부(113)로 전달한다.
편광판설치부(113)는 세정부(112)로부터 제공된 표시패널에 편광판들을 설치한 후 이를 탭공정부(114)로 전달한다.
탭공정부(114)는 편광판설치부(113)로부터 제공된 표시패널에 구동회로(게이트 드라이버 및 데이터 드라이버)를 설치한 후 이를 PCB조립부(115)로 전달한다. 이 탭공정부(114)는 TAB(Tape Automated Bonding) 방식으로 표시패널에 구동회로를 설치한다.
PCB조립부(115)는 탭공정부(114)로부터 제공된 표시패널에 각종 회로부품들이 실장된 인쇄회로기판(Printed Circuit Board)을 설치한 후 언로더부(111)로 전달한다.
언로더부(111)는 PCB조립부(115)로부터 제공된 표시패널을 다음 공정장비로 전달한다.
도 2는 도 1의 편광판설치부(113) 및 탭공정부(114)의 일부 공정순서 및 택트타임 이력정보들을 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 세정부(112)는 세정과 관련된 공정들을 순차적으로 수행하는 10개의 공정장비들을 포함하며, 편광판설치부(113)는 편광판 설치작업과 관련된 공정들을 순차적으로 수행하는 18개의 공정장비들을 포함하며, 탭공정부(114)는 탭공정과 관련된 공정을 순차적으로 수행하는 19개의 공정장비들을 포함하며, 그리고 PCB조립부(115)는 PCB조립과 관련된 공정들을 순차적으로 수행하는 16개의 공정장비들을 포함한다.
한편, 도 2의 A부에는 편광판설치부(113)에 포함된 18개의 공정장비들 중 일부가 나타나 있는 바, 이들은 각각 편광판이재기(211) 및 편광판흡착스테이지(212)를 포함한다. 편광판이재기(211)는 표시패널에 설치될 편광판을 취부하여 편광판흡착스테이지(212)로 공급한다. 편광판흡착스테이지(212)는 편광판이재기(211)로부터 제공된 편광판을 표시패널에 부착한다.
타이틀러(titler; 213)는 표시패널에 인쇄 된 2차원 코드와 OCR(Optical Character Recognition)문자를 인식한다.
또한, 도 2의 A부에는 탭공정부(114)에 포함된 19개의 공정장비들 중 일부가 나타나 있는 바, 이들은 각각 S-ACF부착 테이블(214), G-ACF부착 테이블(215) 및 G-가압 테이블(216)을 포함한다.
S-ACF부착 테이블(214)은 표시패널에 데이터 드라이버용 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film)을 부착한 후 G-ACF부착 테이블(215)로 전달한다. G-ACF부착 테이블(215)은 G-ACF부착 테이블(215)로부터 제공된 표시패널에 게이트 드라이버용 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film)을 부착한 후 G-가압 테이블(216)로 전달한다.
G-가압 테이블(216)은 G-ACF부착 테이블(215)로부터 제공된 표시패널의 게이트 드라이버를 가압한다.
이와 같이 상술된 각 공정장비는 표시패널에 대한 작업을 수행한 후 다음 공정장비로 전달한다. 이때, 각 공정장비의 한 개의 표시패널에 대한 작업시간을 택트타임(tact time)으로 정의한다. 예를 들어, 탭공정부(114)에 포함된 G-ACF부착 테이블(215)의 택트타임이 8초라면, 이 G-ACF부착 테이블(215)은 약 8초 정도에 n번째 표시패널에 대한 이방성 도전 필름 부착 작업을 완료하여 이를 G-가압 테이블(216)로 제공함과 아울러, S-ACF부착 테이블(214)로부터 n+1번째 표시패널을 공급받는다. 이 택트타임은 공정장비마다 다르게 설정될 수 있다.
도 2에는 편광판이재기(211), 편광판흡착스테이지(212), 타이틀러(213), S-ACF부착 테이블(214), G-ACF부착 테이블(215) 및 G-가압 테이블(216)에 대한 택트타임(Tact Time)을 보여주는 택트타임 이력정보가 도시되어 있다.
각 공정장비에 이상이 없다면 각 공정장비는 설정된 택트타임내에 각 표시패널에 대한 작업을 완료한다. 그러나, 어떠한 이상으로 인해 어느 하나의 공정장비에 문제가 발생하여 택트타임이 지연되면, 그 공정장비뿐만 아니라 이 공정장비가 위치한 공정라인내의 모든 공정장비들의 택트타임이 지연된다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, G-ACF부착 테이블(215) 공정장비에서 어느 순간 택트타임이 증가하여 그 값이 정상적인 택트타임 범위를 초과하게 되면, 이 G-ACF부착 테이블(215) 공정장비의 전단 및 후단에 위치한 모든 공정장비들의 택트타임이 증가한다. 즉, 이 G-ACF부착 테이블(215) 공정장비의 전단 및 후단에 위치한 모든 공정장비들에서 택트타임 지연이 발생된다.
이와 같이 어느 하나의 공정장비에서 택트타임 지연이 발생되면 그 공정장비뿐만 아니라 이 공정장비가 위치한 공정라인내의 모든 공정장비들에서 택트타임 지연이 발생되므로, 임의의 어느 하나의 공정장비로부터 수집된 하나의 택트타임 이력정보에 근거하여 최초로 택트타임 지연 문제를 발생시킨 공정장비를 정확하게 가려내기 어렵다.
이에 본 발명은 최초로 택트타임 지연 문제를 발생시킨 공정장비를 정확하게 찾아내는 알고리즘을 제안한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 택트타임 지연 발생원인 추적방법에 관한 알고리즘을 나타낸 도면이고, 도 4는 공정장비들에 대한 택트타임 이력정보를 나타낸 도면이다.
본 발명의 실시예에 따른 알고리즘은 S1단계(S1) 내지 S8단계들(S1 내지 S8)을 포함한다. 이 알고리즘은 상술된 관리서버(100)내에 구축된다. 따라서 관리서버(100)는 도 3에 도시된 알고리즘을 이용하여 최초로 택트타임 지연 문제를 발생시킨 공정장비를 정확하게 찾아낸다.
도 3의 S1단계(S1)에 도시된 바와 같이, 본 알고리즘은, 순차적으로 공정을 수행하는 n개의 공정장비들(n은 1보다 큰 자연수) 각각으로부터 택트타임 이력정보를 수집한다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 하나의 공정라인에 포함된 공정장비들의 개수가 4개라고 가정할 때, 본 알고리즘은 4개의 공정장비들 각각의 택트타임 이력정보를 수집한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 4개의 공정장비들은 제 1 내지 제 4 공정장비(PD4)들(PD1 내지 PD4)로 구분되는 바, 제 1 공정장비(PD1)부터 제 4 공정장비(PD4)까지 순차적으로 공정을 수행한다. 즉, 제 1 공정장비(PD1)가 가장 먼저 표시패널을 공급받아 해당 작업을 진행한 후 작업이 완료된 표시패널을 제 2 공정장비(PD2)로 전달한다. 이후, 제 2 공정장비(PD2)는 제 1 공정장비(PD1)로부터 표시패널을 제공받아 이 표시패널에 대한 해당 작업을 수행한 후 작업이 완료된 표시패널을 제 3 공정장비(PD3)로 전달한다. 이어서, 제 3 공정장비(PD3)는 제 2 공정장비(PD2)로부터 표시패널을 제공받아 이 표시패널에 대한 해당 작업을 수행한 후 작업이 완료된 표시패널을 제 4 공정장비(PD4)로 전달한다.
도 4에는 6개의 표시패널들이 순차적으로 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4)로 공급되어 처리되는 과정이 나타나 있는 바, 도 4의 각 택트타임 이력정보에 표시된 동그라미안의 번호는 표시패널의 번호를 의미한다. 예를 들어, 동그라미 안의 번호 1은 1번 표시패널을 의미한다. 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4)은 6개의 표시패널들을 1번부터 6번까지 순차적으로 처리한다. 즉, 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4)은 1번 표시패널에 대한 작업을 가장 먼저 수행하고, 뒤이어 반송되는 2번 내지 6번 표시패널에 대한 작업을 동일한 방식으로 순차적으로 수행한다.
본 알고리즘은 도 4에 도시된 바와 같은 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4) 각각의 택트타임 이력정보(T/T HD1 내지 T/T HD3)를 수집한다. 즉, 본 알고리즘은 각 공정장비로 표시패널이 입고될 때마다 그 입고되는 시간을 측정하는 바, k번째 표시패널이 해당 공정장비로 입고되는 시간과 그 다음의 k+1번째 표시패널이 이 해당 공정장비로 입고되는 시간간의 간격이 그 해당 공정장비의 택트타임이 된다. 이와 같은 방식으로 본 알고리즘은 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4) 각각의 택트타임을 실시간으로 측정하여 이 제 1 내지 제 4 공정장비들(PD1 내지 PD4) 각각에 대한 택트타임 이력정보를 생성한다. 도 4에는 4개의 택트타임 이력정보들이 도시되어 있는 바, 각 택트타임 이력정보(T/T HD1 내지 T/T HD4)의 X축은 시간(time)을 의미하며, Y축은 택트타임(tact time)을 의미한다. 한편, 각 공정장비의 택트타임 이력정보를 생성하는 일련의 과정은 본 알고리즘 대신 관리서버(100)가 수행할 수도 있다.
공정효율이 정상적으로 유지되기 위해서는 각 공정장비가 자신의 정상적인 택트타임 범위내에서 작업을 완료해야만 한다. 그러나, 어느 하나의 공정장비에 어떤 문제가 발생되어 이 공정장비의 공정시간이 증가하게 되면 이 공정장비의 택트타임이 미리 설정된 임계치(TH)를 넘어서게 될 수 있다. 즉, 이 공정장비의 택트타임이 어느 순간 갑자기 임계치(TH)를 넘어서서 급격히 증가할 수 있다. 다시 말하여, 이 공정장비에 택트타임 지연이 발생할 수 있다. 상술된 바와 같이, 어느 하나의 공정장비에 택트타임 지연이 발생하면, 나머지 모든 공정장비들에도 택트타임 지연이 발생된다. 예를 들어, 도 4의 제 1 공정장비(PD1)에 대한 택트타임 이력정보를 살펴보면, t1시점에서의 택트타임이 다른 시점들에서의 택트타임들보다도 가장 큼을 알 수 있다. 구체적으로, 이는 이 제 1 공정장비(PD1)가 1번 내지 4번 표시패널에 대한 공정을 정상적인 택트타임내에서 원활하게 처리하였지만, 5번 표시패널에 대한 공정을 정상적인 택트타임내에서 처리하지 못하였음을 의미한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제 2 공정장비(PD2)는 t2시점에서 최대 택트타임을 나타내며, 제 3 공정장비(PD3)는 t3시점에서 최대 택트타임을 나타내며, 그리고 제 4 공정장비(PD4)는 t4시점에서 최대 택트타임을 나타낸다.
본 발명의 알고리즘은 S1단계(S1)에 따라 상술된 바와 같이 제 1 내지 제 4 공정장비(PD4)들 각각에 대한 택트타임 이력정보를 실시간으로 수집한다.
이어서, 도 3에 나타난 바와 같이, 관리서버(100)는 S2단계(S2)에 따라 n개의 공정장비들 중 어느 하나를 기준 공정장비로 설정하고, 이 기준 공정장비로부터 수집된 택트타임 이력정보를 확인한다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 공정장비들이 4개로 구성된다고 가정하면, 본 알고리즘은 제 1 내지 제 4 공정장비(PD4)들 중 어느 하나를 기준 공정장비로 설정한다. 여기서, 하나의 실시예로서 본 알고리즘이 제 1 공정장비(PD1)들 순서상 가장 먼저 공정을 수행하는 제 1 공정장비(PD1)를 선택하고, 이 선택된 제 1 공정장비(PD1)를 기준 공정장비로 설정하는 것을 예로 들어 설명한다. 즉, 본 알고리즘은 제 1 공정장비(PD1)를 기준 공정장비로 설정하고, 제 1 공정장비(PD1)에 대한 택트타임 이력정보를 확인한다.
이후, 본 알고리즘은, 도 3의 S3단계(S3)에 도시된 바와 같이, 기준 공정장비에서의 택트타임 지연이 발생하였는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 S4단계(S4)가 수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 상기 S3단계(S3)가 재수행되도록 한다. 이러한 S3단계(S3)에서의 동작을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
즉, 본 알고리즘은 기준 공정장비로 설정된 제 1 공정장비(PD1)에 택트타임 지연이 발생하였는지를 판단한다. 다시 말하여, 본 알고리즘은 제 1 공정장비(PD1)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 1 공정장비(PD1)에 택트타임 지연이 발생하였는지를 판단한다. 만약 이 제 1 공정장비(PD1)에 택트타임 지연이 발생하지 않았을 경우, 본 알고리즘은 다시 S2단계(S2)를 재수행한다. 이때 S2단계(S2)가 재수행 될 때 기준 공정장비로서 최초 선택된 공정장비가 재선택 될 수도 있으며, 또한 이러한 기준 공정장비로서 최초 선택된 공정장비가 아닌 다른 공정장비가 선택될 수도 있다. 여기서는 하나의 실시예로서 최초 선택된 공정장비가 기준 공정장비로 재선택되는 것을 예로 들어 설명한다. 즉, S2단계(S2)가 재수행될 때 최초 선택된 제 1 공정장비(PD1)가 다시 기준 공정장비로 설정되고, 이 제 1 공정장비(PD1)에 대한 택트타임 이력정보가 실시간으로 모니터링된다.
한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 제 1 공정장비(PD1)의 택트타임 이력정보로부터 t1시점에 임계치(TH)를 넘어선 최대 택트타임이 검출되면 제 1 공정장비(PD1)에 택트타임 지연이 발생된 것으로 판단된다. 그러면, S3단계(S3)에서의 물음에 대한 답이 참이 되어 본 알고리즘은 그 다음 단계인 S4단계(S4)를 수행한다.
즉, 본 알고리즘은, 도 3의 S4단계(S4)에 도시된 바와 같이, 기준 공정장비의 바로 다음 공정을 수행하는 다음 공정장비에 대한 택트타임 이력정보를 확인한다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 공정장비들이 4개로 구성된다고 가정하면, 본 알고리즘은 앞서 기준 공정장비로 설정된 제 1 공정장비(PD1)의 바로 다음 단계의 작업을 수행하는 제 2 공정장비(PD2)에 대한 택트타임 이력정보를 확인한다.
이어서, 본 알고리즘은, 도 3의 S5단계(S5)에 도시된 바와 같이, 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻고, 그리고 이 물음에 대한 답이 참일 경우 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비가 다음 공정장비로 치환된 상태에서 S4단계(S4)가 재수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 다음 단계인 S6단계(S6)가 수행되도록 한다. 이러한 S5단계(S5)에서의 동작을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
즉, 본 알고리즘은 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 판단한다. 다시 말하여, 본 알고리즘은 기준 공정장비에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점을 산출하고, 그리고 다음 공정장비에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점을 산출한다. 그리고 각 산출된 시점간의 시간상 순서를 비교하여 어느 것이 더 앞서 있는지를 판단한다.
예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 4개의 공정장비들이 존재한다면, 본 알고리즘은 앞서 기준장비로 설정된 제 1 공정장비(PD1)와 이의 바로 다음 작업을 수행하는 제 2 공정장비(PD2)를 선택한다. 그리고, 제 1 공정장비(PD1)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 1 공정장비(PD1)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t1)을 산출하고, 제 2 공정장비(PD2)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 2 공정장비(PD2)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t2)을 산출한다. 그리고 t2시점이 t1시점보다 시간상 앞서 있는지를 판단한다.
이때, S5단계(S5)에서, 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는 단계는 S5-1단계 및 S5-2단계를 포함할 수 있다.
즉, S5-1단계에 따라 본 알고리즘은 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 이 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정한다. 그리고, S5-2단계에 따라 본 알고리즘은 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이, 임계구간내에서 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는다.
예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 기준 공정장비인 제 1 공정장비(PD1)의 최대 택트타임에 해당하는 시점은 t1이고, 그리고 이 최대 택트타임의 바로 이전 택트타임에 해당하는 시점은 t01이다. 따라서, 제 1 공정장비(PD1)에 의해 설정된 임계구간(Pc1)은 t01시점과 t1시점간의 구간에 해당한다. T01시점은 k번째 표시패널(즉, 4번째 표시패널)에 대응되는 택트타임의 시점이고, t1시점은 k+1번째 표시패널(즉, 5번째 표시패널)에 대응되는 택트타임의 시점이다. 이 임계구간(Pc1)은 t01시점과 t1시점을 포함할 수 있다. 본 알고리즘은 S5-2단계를 통해, t2시점이 t1시점보다 시간상 앞서 있는지를 판단함과 아울러, 부가적으로 이 t2시점이 이 임계구간(Pc1)내에 위치하는지를 더 판단한다. 본 알고리즘은 이 S5-2단계에 대한 물음(다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이, 상기 임계구간내에서 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지에 대한 물음)에 대한 답이 참일 때 S4단계(S4)를 재수행할 수도 있다. 또는 본 알고리즘은 S5-1단계 및 S5-2단계에 관계없이 이 S5단계(S5)에서의 물음(다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지에 대한 물음)에 대한 답이 참일 때 S4단계(S4)를 재수행할 수도 있다.
단, 이 S4단계(S4)가 재수행 될 때마다 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비가 다음 공정장비로 치환되며, 이에 따라 다음 공정장비는 S4단계(S4)에서의 다음 공정장비의 바로 다음에 위치한 다음 공정장비가 된다. 예를 들어, S4단계(S4)에 최초로 수행될 때, 이 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비는 제 1 공정장비(PD1)로, 그리고 다음 공정장비는 제 2 공정장비(PD2)로 설정된다. 그러나, 이 S4단계(S4)가 S5단계(S5)로부터의 결과에 근거하여 두 번째로 수행될 때, 이 두 번째로 수행되는 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비는 기준 공정장비(제 1 공정장비(PD1))에서 다음 공정장비(제 2 공정장비(PD2))로 치환되며, 이에 따라 상기 다음 공정장비(제 2 공정장비(PD2))의 바로 다음 공정장비는 제 3 공정장비(PD3)가 된다. 즉, 두 번째로 수행되는 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비는 제 2 공정장비(PD2)로, 다음 공정장비는 제 3 공정장비(PD3)로 설정된다. 마찬가지 방식으로 세 번째로 수행되는 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비는 제 3 공정장비(PD3)로, 다음 공정장비는 제 4 공정장비(PD4)로 설정된다. 이를 일반화하면, i번째(i는 자연수) 수행되는 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비는 제 i 공정장비로, 다음 공정장비는 제 i+1 공정장비로 설정된다.
이와 같이 S4단계(S4)가 두 번째로 재수행되면, 본 알고리즘은 상술된 바와 같이 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 판단한다.
예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 4개의 공정장비들이 존재한다면, 본 알고리즘은 기준장비로 설정된 제 2 공정장비(PD2)와 이의 바로 다음 작업을 수행하는 제 3 공정장비(PD3)를 선택한다. 그리고, 제 2 공정장비(PD2)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 2 공정장비(PD2)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t2)을 산출하고, 제 3 공정장비(PD3)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 3 공정장비(PD3)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t3)을 산출한다. 그리고 t3시점이 t2시점보다 시간상 앞서 있는지를 판단한다. 도 4에 도시된 바와 같이 t3시점이 t2시점보다 시간상 앞서 있을 경우, S5단계(S5)에서의 물음에 대한 답이 또 다시 참이 된다. 이때, 상술된 바와 같이, 이 S5단계(S5)는 S5-1단계 및 S5-2단계를 포함할 수 있다. 이 경우 제 2 공정장비(PD2)에 의해 설정된 임계구간(Pc2)은 t02시점과 t2시점간의 구간에 해당한다.
이와 같이 S5단계(S5)에서의 물음에 대한 답이 다시 참이 되면, S4단계(S4)가 세 번째로 재수행된다.
예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 4개의 공정장비들이 존재한다면, 본 알고리즘은 기준장비로 설정된 제 3 공정장비(PD3)와 이의 바로 다음 작업을 수행하는 제 4 공정장비(PD4)를 선택한다. 그리고, 제 3 공정장비(PD3)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 3 공정장비(PD3)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t3)을 산출하고, 제 4 공정장비(PD4)에 대한 택트타임 이력정보에 근거하여 이 제 4 공정장비(PD4)의 최대 택트타임에 해당하는 시점(t4)을 산출한다. 그리고 t4시점이 t3시점보다 시간상 앞서 있는지를 판단한다. 도 4에 도시된 바와 같이 t4시점이 t3시점보다 시간상 뒤에 있을 경우, S5단계(S5)에서의 물음에 대한 답이 거짓이 된다. 그러면, 도 3의 S6단계(S6)가 수행된다.
본 알고리즘은 S6단계(S6)를 통해, 택트타임 지연 발생을 제공한 원인이 상기 S5단계(S5)에서 기준 공정장비로 설정된 공정장비에 존재하는 것으로 판단한다. 그리고 이와 같이 판단된 기준 공정장비를 원인제공 공정장비로 설정한다. 즉, S5단계(S5)에서의 물음에 대한 답이 거짓으로 판단되었을 때 이 S5단계(S5)에서의 기준 공정장비는 제 3 공정장비(PD3)였으며, 그리고 다음 공정장비는 제 4 공정장비(PD4)였다. 따라서 기준 공정장비에 해당하는 제 3 공정장비(PD3)가 최초로 문제를 발생시킨 원인제공 공정장비로 판단된다.
이와 같이 본 발명에 따른 알고리즘은 각 공정장비의 택트타임 이력정보를 분석하여 최초로 문제의 근원지가 된 공정장비를 정확하게 가려낼 수 있다.
한편, 본 알고리즘은 S6단계(S6)에서 다음과 같은 동작을 더 수행할 수 있다. 즉, 본 알고리즘은 원인제공 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 이 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정하고, 이 임계구간내에서의 사건들을 확인하는 단계를 더 수행할 수 있다. 이 임계구간은 앞서 설명된 임계구간과 동일한 것으로, 원인제공 공정장비인 제 3 공정장비(PD3)에 의해 설정된 임계구간(Pc3)은, 도 4에 도시된 바와 같이, t03시점과 t3시점 사이의 구간이다. 이 임계구간(Pc3)은 t03시점과 t3시점을 포함할 수 있다.
이 임계구간(Pc3)내에 포함된 사건들은 공정장비의 오동작에 관한 사건정보들, 공정장비의 부품 교환에 관련된 사건 정보들 등을 포함할 수 있는 바, 이러한 사건들은 로그 파일로 관리서버(100)내에 저장된다.
한편, 이 원인제공 공정설비에 의해 설정된 임계구간(Pc3)내의 시간 동안에는 원인제공 공정장비뿐만 아니라 다른 공정장비들에 관련된 사건들도 포함되어 있다.
따라서, 본 알고리즘은 S7단계(S7)를 통해, 상술된 임계구간(Pc3)내에 발생된 사건들 중 원인제공 공정장비에 관련된 사건들만을 선택적으로 추출한다. 이후, S8단계(S8)를 통해, 본 알고리즘은 이 추출된 사건들을 데이터화하여 관리서버(100)내에 저장한다. 따라서, 작업자는 관리서버(100)를 통해 문제 발생의 최초 원인이 된 공정장비뿐만 아니라 그 공정장비의 문제 발생을 야기한 사건을 정확하게 찾아낼 수 있다. 따라서 택트타임 지연의 원인을 파악하는 시간을 상당히 줄일 수 있다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 알고리즘을 표시패널 제조공정 시스템에 적용하였을 때의 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 종래에는 택트타임 지연의 원인을 파악하는데 1일정도의 시간이 소요되었으나, 본 발명의 알고리즘을 적용할 경우 약 10분만에 택트타임 지연의 원인을 정확하게 찾아낼 수 있다.
한편, 도 3에 관련된 알고리즘은 기준 공정장비로부터 오름차순식(공정장비들의 작업 진행 순서)으로 공정장비들의 택트타임 이력정보를 확인하는 방법을 제시하고 있으나, 반대로 내림차순식(공정장비들의 작업 진행 순서에 대한 역순)으로 공정장비들의 택트타임 이력정보를 확인하는 방법도 가능하다. 예를 들어, S2단계(S2)에서는 마지막 공정을 수행하는 제 4 공정장비(PD4)를 기준 공정장비로 설정하고, S4단계(S4)에서 기준 공정장비의 바로 전 공정을 수행하는 전 공정장비에 대한 택트타임 이력정보를 확인할 수 있다. 그러면, S5단계(S5)에서는 상기 전 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 상기 S4단계(S4)에서의 기준 공정장비가 상기 전 공정장비로 치환된 상태에서 상기 S4단계(S4)가 재수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 F단계가 수행되도록 한다. 그리고, F단계는 택트타임 지연 발생을 제공한 원인이 상기 전 공정장비에 존재하는 것으로 판단하고, 이와 같이 판단된 상기 기준 공정장비를 원인제공 공정장비로 설정한다.
이와 같이 본 발명에서는 택트타임의 지연 발생시, 제 j 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 제 j+1 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞설 때, 이 제 j 공정장비를 원인제공 공정설비로 판단한다. 이는 제 j 공정장비가 최초로 택트타임 지연을 발생시킨 원인이 될 때, 이 제 j 공정장비보다 앞선 공정을 수행하는 공정장비들 및 이후의 공정을 수행하는 공정장비들의 최대 택트타임에 해당하는 시점들이 제 j 공정장비를 기점으로 증가하기 때문이다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
S#: S#단계

Claims (5)

  1. 순차적으로 공정을 수행하는 n개의 공정장비들(n은 1보다 큰 자연수) 각각으로부터 택트타임 이력정보를 수집하는 A단계;
    상기 n개의 공정장비들 중 어느 하나를 기준 공정장비로 설정하고, 상기 기준 공정장비로부터 수집된 택트타임 이력정보를 확인하는 B단계;
    상기 기준 공정장비에서의 택트타임 지연이 발생하였는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 D단계가 수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 상기 B단계가 재수행되도록 하는 C단계;
    상기 기준 공정장비의 바로 다음 공정을 수행하는 다음 공정장비에 대한 택트타임 이력정보를 확인하는 D단계;
    상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻고, 이 물음에 대한 답이 참일 경우 상기 D단계에서의 기준 공정장비가 상기 다음 공정장비로 치환된 상태에서 상기 D단계가 재수행되도록 하는 반면, 이 물음에 대한 답이 거짓일 경우 F단계가 수행되도록 하는 E단계;
    상기 택트타임 지연 발생을 제공한 원인이 상기 E단계에서 기준 공정장비로 설정된 공정장비에 존재하는 것으로 판단하고, 이와 같이 판단된 상기 기준 공정장비를 원인제공 공정장비로 설정하고, 상기 원인제공 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 상기 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정하고, 이 임계구간내에서의 사건들을 확인하는 F단계;
    상기 F단계에서 확인된 사건들 중 상기 원인제공 공정장비에 관련된 사건들만을 선택적으로 추출하는 G단계; 및,
    상기 G단계로부터 추출된 사건들을 데이터화하는 H단계를 포함함을 특징으로 하는 택트타임 지연 발생원인 추적방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 B단계에서, 상기 n개의 공정장비들 중 순서상 가장 앞선 공정을 수행하는 공정장비가 상기 기준 공정장비로 설정됨을 특징으로 하는 택트타임 지연 발생원인 추적방법.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 E단계에서, 상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는 단계는,
    상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점과 상기 최대 택트타임의 바로 전의 택트타임에 해당하는 시점 사이의 구간을 임계구간으로 설정하는 E-1단계; 및,
    상기 다음 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점이, 상기 임계구간내에서 상기 기준 공정장비의 최대 택트타임에 해당하는 시점보다 앞서있는지를 묻는 E-2단계를 포함함을 특징으로 하는 택트타임 지연 발생원인 추적방법.
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