KR101808498B1 - 서랍 인출 가이드용 판금 프로파일의 제조 방법, 이에 의해 제조된 판금 프로파일 및 이에 의해 제조된 서랍 인출 가이드 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 평평한 면(3, 43, 44, 45)으로부터, 측방향으로, 특히 수직으로 돌출해 있고 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 종방향(4)으로 연장되는 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)를 가지는 서랍 인출 가이드(2)용, 특히 강으로 이루어진, 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 제조 방법에 관한 것으로, 제 1 방법 단계에서, 측방향으로, 특히 수직으로 돌출해 있고 판금 빌릿(6)의 종방향(4)으로 연장되는 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)를, 판금 빌릿(6)의 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45)으로부터 압출시키고, 적어도 하나의 추가 방법 단계에서, 바람직하게 10 ~ 15 개의 추가 방법 단계들에서, 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)는 함께 스퀴즈되고, 즉 웨브는 폭(7)이 감소되고 높이(8)가 증가된다. 본 발명은 또한 이런 식으로 제조된 판금 프로파일 및 이러한 프로파일을 포함하는 서랍 인출 가이드에 관한 것이다.
Description
본 발명은, 판금 프로파일의 평평한 면으로부터 측방향으로, 특히 수직으로 돌출해 있고 판금 프로파일의 종방향으로 연장해 있는 적어도 하나의 웨브(web)를 가지는 서랍 인출 가이드용, 특히 강으로 이루어진, 판금 프로파일의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 방법에 의해 제조된 판금 프로파일, 및 상기 방법에 의해 제조된 적어도 하나의 판금을 포함하는 서랍 인출 가이드에 관한 것이다.
이러한 제조 방법은, -명확히 서랍 인출 가이드용 판금 프로파일의 제조에 관한 것은 아닐지라도- DE 100 39 768 A1의 주제인 용어 "간극 프로파일링" 에 의해 공지되어 있고, 그 방법은 판금 피스의 평면을 향하고 있지 않고 초기 가공물의 두께보다 작은 두께의 적어도 하나의 플랜지를 판금 피스들의 가장자리로 성형하도록 판금 피스의 가장자리와 맞물리는 성형 롤을 사용하는 것을 포함한다. 그런 방식으로 제조된 플랜지는 그러면 추후에 초기 판금에 대해 추가로 변형될 수 있다(DE 103 05 542 A1과 비교).
종래 기술에서 공지된 방법이 가지고 있는 단점은, 플랜지가 한편으로는 판금의 가장자리로 단지 성형될 수 있고 다른 한편으로는 초기 판금과 비교해 보다 작은 두께를 가진다는 점이다. 그것은, 이 방법이 일련의 적용 분야들, 예를 들어 서랍 인출 가이드들에 부적합하다는 것을 의미한다.
본 발명의 목적은 전술한 단점을 회피하고 종래 기술에 비해 개선된 방법뿐만 아니라 이 방법에 의해 제조된 판금 프로파일과 적어도 하나의 이러한 판금 프로파일을 포함하는 서랍 인출 가이드를 제공하는 것이다.
그 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따르면,
- 제 1 방법 단계는, 측방향으로, 특히 수직으로 돌출해 있고 세장형(elongate) 판금 부분의 종방향으로 연장되는 적어도 하나의 웨브를, 세장형 판금 프로파일의 적어도 하나의 평평한 면 밖으로 스퀴즈(squeezing)하는 것을 포함하고,
- 적어도 하나의 웨브는 적어도 하나의 추가 방법 단계에서, 바람직하게 10~ 15 개의 추가 방법 단계들에서 함께 스퀴즈되고, 환언하면 웨브는 그것의 폭이 감소되고 그것의 높이가 증가되도록 제공된다.
종래 기술과 비교해, 본원의 방법에 의해, 세장형 판금 부분의 평평한 면의 임의의 구역에서, 환언하면 가장자리 구역 이외에서도, 적어도 하나의 웨브를 제조할 수 있고, 동시에 - 추가 방법 단계들에서 적어도 하나의 웨브가 얼마나 함께 스퀴즈되는지에 따라서 - 임의의 원하는 치수의 웨브를 제조할 수 있고, 환언하면 웨브의 특정한 사용 목적에 맞게 웨브의 폭과 높이의 파라미터들을 맞출 수 있다.
본 발명의 유리한 실시예들은 첨부된 청구범위에서 정의되어 있고 하기 도면들의 설명과 관련하여 본 발명의 추가 세부사항 및 장점들과 함께 이하 보다 충분히 설명된다.
도 1은 본 발명에 따른 제조 방법의 실시예의 개략적 전체 사시도를 보여준다.
도 2의 a) 내지 k)는, 도 1에 나타낸 단면 평면 Ⅰ 내지 단면 평면 ⅩⅠ의 일련의 개략적으로 도시된 단면도들을 보여주고, 세장형 판금 부분은 도 2의 b), d), f), h) 및 j)의 단면도들에서 생략되어 있다.
도 3a 내지 도 3e는 도 1에 나타낸 단면 평면들 Ⅱ, Ⅳ, Ⅵ, Ⅷ 및 Ⅹ의 개략적 확대 단면도들을 보여준다.
도 4는 서랍 인출 가이드의 가능한 실시예의 개략적으로 도시된 단면을 보여준다.
도 5a 및 도 5b는 서랍 인출 가이드에서 카커스(carcass) 레일로서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 판금 프로파일의 실시예를 보여주고, 도 5a는 사시도를 보여주고 도 5b는 단면도를 보여준다.
도 6a 및 도 6b는 서랍 인출 가이드에서 중심 레일로서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 판금 프로파일의 추가 실시예를 보여주고, 도 6a는 전체 사시도를 보여주고 도 6b는 그것의 일부의 확대도를 보여준다.
도 7a 및 도 7b는 바람직한 실시예에 따른 방법에서 사용되는 프로파일링 롤을 보여준다.
도 2의 a) 내지 k)는, 도 1에 나타낸 단면 평면 Ⅰ 내지 단면 평면 ⅩⅠ의 일련의 개략적으로 도시된 단면도들을 보여주고, 세장형 판금 부분은 도 2의 b), d), f), h) 및 j)의 단면도들에서 생략되어 있다.
도 3a 내지 도 3e는 도 1에 나타낸 단면 평면들 Ⅱ, Ⅳ, Ⅵ, Ⅷ 및 Ⅹ의 개략적 확대 단면도들을 보여준다.
도 4는 서랍 인출 가이드의 가능한 실시예의 개략적으로 도시된 단면을 보여준다.
도 5a 및 도 5b는 서랍 인출 가이드에서 카커스(carcass) 레일로서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 판금 프로파일의 실시예를 보여주고, 도 5a는 사시도를 보여주고 도 5b는 단면도를 보여준다.
도 6a 및 도 6b는 서랍 인출 가이드에서 중심 레일로서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 판금 프로파일의 추가 실시예를 보여주고, 도 6a는 전체 사시도를 보여주고 도 6b는 그것의 일부의 확대도를 보여준다.
도 7a 및 도 7b는 바람직한 실시예에 따른 방법에서 사용되는 프로파일링 롤을 보여준다.
도 1은 본 발명에 따른 제조 방법의 실시예의 사시도를 개략적으로 보여준다. 평평한 면(3)을 포함하는 세장형 판금 부분(6)은 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13 및 14)의 형태인 성형 장치들을 써서 5 개의 방법 단계들에 의해 가공된다. 이와 관련하여, 프로파일링 롤들에 의한 가공과 관련한 본 기술분야의 당업자는 또한 용어 "패스들(passes)"을 사용한다. 도시된 경우에서 세장형 판금 부분(6)은 결국 5 개의 연속 패스들로 가공된다. 그 상황에서 세장형 판금 부분(6)은 그것의 종방향(4)을 따라 성형 장치들(10, 11, 12, 13 및 14)을 통하여 이동된다. 이동 방향은 화살표에 의해 식별된다.
도시된 실시예에서, 세장형 판금 부분(6)은 명백히 단 하나의 평평한 면(3)을 포함하지만, 바람직한 실시예들에서는 이미 부분적으로 성형된 세장형 판금 부분이 성형 장치들로 공급되고 그리고/또는 가공 작동 후 세장형 판금 부분이 추가 성형, 바람직하게 벤딩되는 것이 또한 가능하다.
방법을 수행하는데 적어도 하나의 제 1 방법 단계 및 적어도 하나의 추가 방법 단계가 요구된다. 도시된 실시예에서, 이미 기술한 대로, 5 개의 방법 단계들이 나타나 있다. 바람직하게, 제 1 방법 단계 이외에, 10 개 ~ 15 개의 추가 방법 단계들이 일어난다. 하지만, 간략함을 위해, 바람직한 실시예가 여기에서 도시되지는 않는다.
도 2의 a) 내지 k) 및 도 3a 내지 도 3e는 개별 방법 단계들을 도시하는 역할을 하고, 그 도면들은 각각 도 1 에 나타낸 구조로부터 쇄선에 의해 표시된 주어진 단면을 보여준다.
우선, 바람직하게 사용되는 성형 장치들(10, 11, 12, 13, 14)의 기본 구조가 또한 간략히 고려될 것이고: 그 성형 장치들(10, 11, 12, 13, 14) 각각은 제 1 프로파일링 롤(15)과 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)을 가지는 프로파일링 롤 세트를 포함한다. 그 프로파일링 롤들(15, 16, 17) 각각은, 주연면(15, 26, 27)을 각각 가지고 2 개의 추가 프로파일링 롤들의 경우에 도면부호(28, 29)로 나타낸 2 개의 말단면들을 가지는, 실질적으로, 실린더의 형태이다. 예를 들어 서로에 대한 프로파일링 롤들(15, 16, 17)의 상대 공간 배열과 같은 추가 세부사항은 도 3a 내지 도 3e 의 설명 중 보다 충분히 검토될 것이다.
도 2의 a) 내지 k)의 시퀀스는 도 1에 나타낸 방법 단계들을 도시하는 역할을 하고, 도면들은 로마 숫자 Ⅰ 내지 ⅩⅠ에 의해 식별되는 도 1의 단면 평면들과 알파벳순으로 대응하고, 여기에 간략함을 위해 판금 프로파일(6)이 도 2의 b), d), f), h) 및 j)에서 생략되었음이 부연될 것이다. 그 5 개의 단면도들은 도 3a 내지 도 3e를 참조하여 보다 충분히 설명된다.
방법의 출발점은 적어도 하나의 평평한 면(3)을 가지는 세장형 판금 부분(6)이다 (도 2의 a) 참조). 제 1 방법 단계에서, 측방향으로, 이 경우에 수직으로 돌출한 웨브(5)는 세장형 판금 부분(6)의 평평한 면(3) 밖으로 스퀴즈된다. 그것이 발생하는 방법은 도 3a를 참조하여 상세히 설명될 것이다. 세장형 판금 부분(6)이 성형 장치(10)에 대해 이동한다는 사실 때문에, 그 웨브(5)는 세장형 판금 부분(6)의 종방향(4)으로 연장된다(도 1 참조).
제 1 방법 단계 후, 웨브(5)는 제 1 방법 단계에서 사용된 성형 공구들의 구성에 의존하는 정해진 형상을 갖는다. 도시된 실시예에서 (도 2의 c) 참조), 웨브(5)는 - 단면으로 고려했을 때 - 정해진 폭(7)과 정해진 높이(8)의 실질적으로 직사각형 형상을 갖는다.
그 웨브(5)의 치수들은 이하 추가 방법 단계들에서, 보다 구체적으로 함께 스퀴즈되는 웨브(5)에 의해 변경될 수 있고, 환언하면 그것의 폭(7)이 감소되고 그것의 높이(8)가 증가될 수 있다 (도 2의 e), g), i) 및 k) 참조). 웨브(5)가 달성하려는 용도에 따라, 그것은 원칙적으로 이용될 추가 방법 단계들의 개수에 따라 임의의 원하는 치수들을 가질 수 있다.
유리하게도, 방법 단계들 중, 재료 절개부들(9)을 구획함으로써 세장형 판금 부분(6)의 평평한 면(3)으로 판금 재료의 복귀 흐름이 억제된다.
일반적으로, 방법은 주위 온도에서, 환언하면 전형적으로 15℃ ~ 25℃의 온도에서 수행된다는 점이 또한 지적되어야 한다. 세장형 판금 부분은 예를 들어 1m/분 ~ 300m/분의 속도로 프로파일링 롤들(15, 16, 17)의 활성 구동에 의해 전진되도록 또한 바람직하게 제공된다. 그 점에 있어서, 연속 작동 모드 및 시작-정지 모드 둘 다 생각할 수 있다.
이하, 도 1에서의 평면들(Ⅱ, Ⅳ, Ⅵ, Ⅷ 및 Ⅹ)을 따르는 단면들을 자세히 보여주는 도 3a 내지 도 3e로 되돌아간다. 이미 기술한 대로, 5 개의 도시된 패스들에서 사용된 성형 장치들(10, 11, 12, 13, 14)의 기본 구조는 각각의 경우에 동일하다. 그 성형 장치들(10, 11, 12, 13, 14) 각각은 제 1 프로파일링 롤(15) 및 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)을 구비한 프로파일링 롤 세트를 포함하고, 제 1 프로파일링 롤(15)과 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 세장형 판금 부분(6)의 재료 두께에 실질적으로 대응하는 간극 폭의 제 1 간극(18)이 배치된다. 제 2 간극(19)은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 제공된다.
제 1 프로파일링 롤(15)의 주연면(20)에서 (도 1 참조) 제 1 프로파일링 롤(15)은 폭(22)의 환형 벌지(21)를 가지고 있다. 제 1 프로파일링 롤(15) 상의 환형 벌지(21)와 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이 제 2 간극(19)이 상호 대향하게 배열된다.
4 개의 도시된 제 1 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13)에서 (도 3a 내지 도 3d 참조), 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전축선들(23, 24)은 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전축선(25)에 평행하게 배향된다. 따라서, 제 1 간극(18)은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 주연면들(26, 27)과 제 1 프로파일링 롤(15)의 주연면(20) 사이에 제공되고 제 2 간극(19)은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 말단면들(28, 29) 사이에 있다 (또한 도 1 참조).
이와 비교해, 도 3e에 나타낸 프로파일링 롤 세트(14)에서, 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전축선들(23, 24)은 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전축선(25)에 수직으로 배향되고 동시에 서로 평행하게 배향된다. 따라서, 제 1 간극(18)은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 말단면들(28, 29)과 제 1 프로파일링 롤(15)의 주연면(20) 사이에 있다 (또한 도 1 참조). 제 2 간극(19)은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 주연면들(26, 27) 사이에 있다.
세장형 판금 부분(6)의 평평한 면(3)에 대한 프로파일링 롤들(16, 17)의 배열은 보다 큰 가공 표면적이 작동되도록 규정하므로, 마지막에 기술한 프로파일링 롤들(15, 16, 17)의 서로에 대한 배열은 적어도 마지막 방법 단계에서 바람직하게 사용된다. 그런 식으로, 스퀴즈-프로파일된 웨브(5)에 인접한 세장형 판금 부분(6)의 표면들은 맨 끝의 방법 단계(들)에서 평활하게 될 수 있다.
바람직한 실시예에서, 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 대신에, 채널 형상의 리세스(52)를 가지는 단 하나의 프로파일링 롤(50)이 사용되고, 리세스의 폭은 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이 제 2 간극(19)의 간극 폭에 대응한다 (예를 들어 도 3a 참조). 그 상황은 도 7a 및 도 7b에 나타나 있고, 도 7a는 단면도를 나타내고 도 7b는 사시도를 나타낸다.
이하, 제 1 방법 단계 중 세장형 판금 부분(6) 밖으로 웨브(5)가 어떻게 스퀴즈되는지 상세히 설명된다. 그 목적으로 평평한 면(3)을 가지는 세장형 판금 부분(6)은 제 1 프로파일링 롤 세트(10)의 제 1 간극(18)을 통과한다(도 3a 참조). 그 상황에서, 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)에 의해, 웨브(5)는 세장형 판금 부분(6)의 평평한 면(3) 밖으로 스퀴즈되고 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 배열된 제 2 간극(19) 안으로 스퀴즈되고, 그 웨브(5)는 실질적으로 그것의 치수, 환언하면 그것의 폭(7)과 그것의 높이(8)가, 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)의 치수들에 대응한다.
세장형 판금 부분(6)의 평평한 면(3)으로 판금 재료의 복귀 흐름을 억제하는 위에서 이미 언급된 작용은, 예를 들어 환상 구성을 가질 수 있는 돌출부들(30, 31)에 의해 구획되는 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)에 의해 구현된다. 재료 절개부들(9)(도 2의 c) 참조)은 그 돌출부들(30, 31)에 의해 - 단면으로 고려했을 때 - 밖으로 스퀴즈된 웨브(5)의 우측 및 좌측에 만들어진다. 웨브(5)의 재료 부피가 거의 일정하게 유지된다면, 제조 단계들 중 판금 재료의 복귀 흐름은 억제되고, 이상적인 경우에는 완전히 방지된다.
제 1 방법 단계 중 형성된 웨브(5)의 치수들(7, 8)을 추가로 변경하기 위해서, 세장형 판금 부분(6)은, 추가 방법 단계들에서, 추가 프로파일링 롤 세트들(11, 12, 13, 14)을 통과하고, 그 프로파일링 롤 세트들(11, 12, 13, 14) 각각은 선행하는 프로파일링 롤 세트(10, 11, 12, 13) 각각에 대해 단계적으로 감소되는 제 2 간극(19)에 대한 폭을 가지고 있다. 그런 식으로, 웨브(5)는 확실히 함께 스퀴즈되고, 환언하면 웨브(5)의 폭(7)은 감소되고 동시에 그것의 높이(8)는 증가된다. 그것은 예로서 도 3a 내지 도 3e의 일련의 단계들에 의해 알 수 있다.
상세한 설명의 도입부에서 이미 기술한 대로, 예를 들어 강을 포함하는 판금 프로파일들은 본 발명에 따른 제조 방법에 의해 서랍 인출 가이드들을 위해 제조될 수 있다. 그 목적으로, 적어도 하나의 웨브(5)의 스퀴즈 형성 전 및/또는 후, 제 1 및 적어도 하나의 추가 방법 단계 중, 세장형 판금 부분은 추가 프로파일링 롤들에 의해 형상이 변형되고, 바람직하게 벤딩된다. 그 후, 마지막 방법 단계에서 소정의 길이의 판금 프로파일들은 연속 세장형 재료 부분으로부터 또는 작동의 시작-정지 모드에서 제조된 세장형 재료 부분으로부터 절단된다.
도 4는 본 발명에 따른 제조 방법의 실시예에 의해 제조된 2 개의 판금 프로파일들(32, 33)을 포함하는 가능한 서랍 인출 가이드(2)의 단면을 예로서 보여준다. 이러한 서랍 인출 가이드는 전형적으로 가구 카커스에 고정된 카커스 레일(32), 서랍에 고정된 서랍 레일(33), 및 카커스 레일(32)과 서랍 레일(33) 사이에 움직일 수 있게 장착된 중심 레일(34)을 가지고 있다. 레일들(32, 33, 34) 사이에, 서로에 대한 레일들(32, 33, 34)의 상대 운동을 허용하는 부하 전달 롤링체들(46, 47 및 48, 49)을 가지는 캐리지들이 전형적으로 배열된다.
도시된 실시예에서, 카커스 레일(32)과 또한 서랍 레일(33) 모두 웨브(35, 36) 를 각각 포함하고, 웨브들은 전술한 스퀴즈 성형 작동에 의해 제조될 수 있다. 카커스 레일(32)의 경우에, 중심 레일(34)과 카커스 레일(32) 사이에 배열된 롤링체(46)는 웨브(35) 상에서 주행한다. 서랍 레일(33)의 경우에 웨브(36)는 2 개의 롤링체들(48, 49)을 서로 이격시키고 동시에 롤링체(48)에 베어링 수단을 제공하는 역할을 한다.
도 5a 및 도 5b는 카커스 레일(37)의 추가 예를 나타내고, 도 5a는 카커스 레일(37)의 사시도를 나타내고 도 5b는 카커스 레일(37)의 단면도를 나타낸다. 카커스 레일(37)의 평평한 면(43)에, 설명한 스퀴즈 프로파일링 절차에 의해 형성될 수 있는 2 개의 웨브들(38, 39)이 배열된다. 이 경우에, 그것은 카커스 레일(37)을 보강하는 역할을 하는 보강 리브들을 나타낸다.
도 6a 및 도 6b는 예로서 서랍 인출 가이드의 중심 레일(40)을 나타내고, 도 6a는 전체 사시도를 나타내고 도 6b는 그것의 일부를 나타낸다. 단면도로 고려했을 때 도시된 중심 레일(40)은 실질적으로 U 형 프로파일을 포함하고, U 형 프로파일의 2 개의 측방향 상호 대향한 림들(limbs)에 2 개의 스퀴즈-프로파일된 웨브들(41, 42)이 각각 배열되고, 이 웨브들은 평평한 면들(44, 45)로부터 돌출해 있다. 중심 레일(40)과 서랍 레일(미도시) 사이에 배열되는 캐리지(미도시)의 롤링체들은 그 웨브들(41,42)에서 주행할 수 있고, 이 캐리지가 중심 레일(40)에서 들어올려지는 것이 방지되도록 인출 가이드의 사용 위치의 웨브들(41,42) 바로 아래에서 캐리지가 캐리지의 롤링체들과 결합된다. 그런 식으로, 중심 레일(40)이 동시에 또한 카커스 레일에서 들어올려지는 것이 방지된다면, 특히 완전히 인출된 서랍에서 발생하는 서랍에 대한 틸팅 유극(tilting play)이 방지될 수 있다.
끝으로, 용어 "롤링체"는 매우 넓게 해석되어야 하며 예를 들어 롤, 실린더형 롤러 또는 볼의 형태일 수 있음에 주목해야 한다. 그 경우에, 롤링체는 스핀들 베어링을 포함할 수 있고 또한 예를 들어 케이지에서 스핀들 없이 가이드될 수 있다.
1: 판금 프로파일, 2: 서랍 인출 가이드, 3: 평평한 면, 4: 종방향, 5: 웨브, 6: 세장형 판금 부분, 7: 웨브의 폭, 8: 웨브의 높이, 9: 재료 절개부, 10, 11, 12, 13, 14: 프로파일링 롤 세트, 15: 제 1 프로파일링 롤, 16, 17: 추가 프로파일링 롤, 18: 제 1 간극, 19: 제 2 간극, 20: 제 1 프로파일링 롤의 주연면, 21: 환형 벌지, 22: 폭, 23, 24: 추가 프로파일링 롤의 회전축선, 25: 제 1 프로파일링 롤의 회전축선, 26, 27: 추가 프로파일링 롤의 주연면, 28, 29: 추가 프로파일링 롤의 말단면, 30, 31: 돌출부, 32: 카커스 레일, 33: 서랍 레일, 34: 중심 레일, 35, 36: 웨브, 37: 카커스 레일, 38,39: 웨브, 40: 중심 레일, 41, 42: 웨브, 43, 44, 45: 평평한 면, 46, 47, 48, 49: 롤링체, 50: 프로파일링 롤, 52: 채널 형상의 리세스.
Claims (15)
- 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 평평한 면(3, 43, 44, 45)으로부터, 측방향으로 그리고 수직으로 돌출해 있고 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 종방향(4)으로 연장되는 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)를 가지는 서랍 인출 가이드(2)용 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)의 제조 방법으로서,
ⅰ) 제 1 방법 단계는, 측방향으로 그리고 수직으로 돌출해 있고 세장형(elongate) 판금 부분(6)의 종방향(4)으로 연장되는 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)를, 세장형 판금 프로파일(6)의 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45) 밖으로 스퀴즈하는 것을 포함하고, 그리고
ⅱ) 상기 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)는 적어도 하나의 추가 방법 단계에서 함께 스퀴즈되고, 환언하면 상기 웨브는 그것의 폭(7)이 감소되고 그것의 높이(8)가 증가되며,
상기 방법 단계들은 각각 프로파일링 롤 세트(10, 11, 12, 13, 14)에 의해 수행되고, 상기 프로파일링 롤 세트(10, 11, 12, 13, 14)는,
- 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15) 및 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)을 포함하고,
- 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)과 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에, 세장형 판금 부분(6)의 재료 두께에 실질적으로 대응하는 간극 폭의 제 1 간극(18)이 배열되고,
- 제 2 간극(19)은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 배열되고,
- 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)은 그것의 주연면(20)에 환형 벌지(21)를 가지고,
- 상기 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)와 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 배치된 제 2 간극(19)은 상호 대향하는 관계이고,
상기 제 1 방법 단계 동안, 측방향으로 그리고 수직으로 돌출되고 세장형 판금 부분(6)의 종방향(4)으로 연장하는 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)는, 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)에 의해 제 1 프로파일링 롤 세트(10)의 제 1 간극(18)을 통하여 세장형 판금 부분(6)의 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45)을 통과시킴으로써 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45) 밖으로 스퀴즈되고 제 2 간극(19) 안으로 스퀴즈되며, 상기 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)는 그것의 치수들(7,8)이 환형 벌지(21)의 치수들에 실질적으로 대응하며,
- 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13, 14) 중 적어도 하나에서,
적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전 축선들(23, 24)은 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전 축선(25)에 평행하게 배향되고, 제 1 간극(18)은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 주연면들(26, 27)과 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 주연면(20) 사이에 배열되고, 그리고 제 2 간극(19)은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 말단면들(28, 29) 사이에 배치되며, 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 말단면들(28, 29)은 상기 회전 축선들(23, 24)에 수직한 면으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 방법 단계 및/또는 적어도 하나의 추가 방법 단계 중, 세장형 판금 부분(6)의 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45)으로 판금 재료의 복귀 흐름은 재료 절개부들(9)을 구획함으로써 억제되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 방법은 주위 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
- 현 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13, 14) 중 적어도 하나에서,
적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전 축선들(23, 24)은 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전 축선(25)에 수직으로 배향되고, 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전 축선들(23, 24)은 서로 평행하게 배향되고, 제 1 간극(18)은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 말단면들(28, 29)과 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 주연면(20) 사이에 배치되고, 그리고 제 2 간극(19)은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 주연면들(26, 27) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 대신에, 현 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13, 14) 중 적어도 하나에서, 채널 형상의 리세스(52)를 가지는 프로파일링 롤(50)이 사용되고, 상기 리세스의 폭은 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17) 사이에 배치된 제 2 간극(19)의 간극 폭에 대응하는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
적어도 하나의 추가 방법 단계 중 적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)는, 선행하는 프로파일링 롤 세트(10, 11, 12, 13)에 비해 감소된 제 2 간극(19)의 간극 폭을 가지는 적어도 하나의 추가 프로파일링 롤 세트(11, 12, 13, 14)를 통하여 세장형 판금 부분(6)을 통과시킴으로써 함께 추가로 스퀴즈되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 환형 벌지(21)는 돌출부들(30, 31)에 의해 구획되고, 상기 돌출부들에 의해 제 1 방법 단계 및/또는 적어도 하나의 추가 방법 단계 중 세장형 판금 부분(6)의 적어도 하나의 평평한 면(3, 43, 44, 45)으로 판금 재료의 복귀 흐름이 억제되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 세장형 판금 부분(6)은 프로파일링 롤들(15, 16, 17)의 구동에 의해 전진되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
적어도 하나의 웨브(5, 35, 36, 38, 39, 41, 42)의 스퀴즈 전 및/또는 후에, 제 1 방법 단계 및 적어도 하나의 추가 방법 단계 중, 세장형 판금 부분(6)은 추가 프로파일링 롤들에 의해 형상이 변형되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 판금 프로파일(1, 32, 33, 37, 40)은 강(steel)으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 추가 방법 단계는 10 ~ 15 개의 추가 방법 단계들인 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13, 14) 중 적어도 제 1 프로파일링 롤 세트(10)에서 또는 2 개의 제 1 프로파일링 롤 세트들에서, 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전 축선들(23, 24)이 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전 축선(25)에 평행하게 배향되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 4 항에 있어서,
상기 현 프로파일링 롤 세트들(10, 11, 12, 13, 14) 중 적어도 마지막 프로파일링 롤 세트(14)에서 또는 제 3 프로파일링 롤 세트로부터, 적어도 2 개의 추가 프로파일링 롤들(16, 17)의 회전 축선들(23, 24)이 적어도 하나의 제 1 프로파일링 롤(15)의 회전 축선(25)에 수직으로 배향되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 세장형 판금 부분(6)은 1m/분 ~ 300m/분의 속도로 전진되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법. - 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
마지막 방법 단계에서 소정의 길이의 판금 프로파일들(1, 32, 33, 37, 40)은 연속적으로 또는 작동의 시작-정지 모드에서 제조된 세장형 재료 부분(6)과 분리되는 것을 특징으로 하는, 판금 프로파일의 제조 방법.
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