KR101775163B1 - 나노 임프린트용 몰드 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 나노 임프린트용 몰드 - Google Patents

나노 임프린트용 몰드 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 나노 임프린트용 몰드 Download PDF

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Abstract

본 발명은 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 관한 것으로서, 기판상에 다수의 격자패턴을 형성하고, 상기 격자패턴 상에 금속격자패턴을 형성하고, 상기 금속격자패턴상에 도금층을 형성하고, 상기 금속격자패턴 및 상기 도금층으로 이루어진 몰드를 상기 격자패턴과 분리하여 나노 임프린트용 몰드를 제작함으로써, 제조비용을 절감하고 공정의 효율성을 향상시키면서도 내구성 및 신뢰도가 향상된 나노 임프린트용 몰드를 제공할 수 있는 효과를 갖는다.

Description

나노 임프린트용 몰드 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 나노 임프린트용 몰드{Manufacturing method of mold for nano imprint and mold for nano imprint by using the same}
본 발명은 나노 임프린트용 몰드 제조기술 분야에 관한 것이다.
편광자 혹은 편광 소자란 자연광과 같은 비편광된 빛 중에서 특정한 진동 방향을 갖는 직선 편광을 끌어내는 광학 소자를 의미한다. 일반적으로, 입사되는 전자기파의 반 파장보다 금속 선 배열의 주기가 짧을 경우, 금속선과 평행한 편광 성분(s 파)은 반사되고 수직한 편광 성분(p 파)은 투과한다. 이 현상을 이용하면 편광 효율이 우수하고, 투과율이 높으며, 시야각이 넓은 평판 편광자(planar polarizer)를 제작할 수 있다. 이러한 소자를 선 격자 편광자 또는 와이어 그리드 편광자(wire grid polarizer)라고 한다.
최근 나노 임트린트(nano imprint)공정을 이용하여 상술한 와이어 그리드 편광자를 제조하는 기술이 제안되고 있다. 나노 임프린트 공정이란 몰드(mold)를 이용하여 임프린트 형태로 나노 스케일의 패턴을 성형하는 기술로서, 이러한 나노 임프린트 공정은 기존의 포토 리소그래피(photo-lithography) 공정에 비해 비교적 간단한 공정을 통해 격자패턴을 형성할 수 있다. 또한 나노 임프린트 공정은, 나노스케일의 폭을 갖는 몰드를 이용하여 격자패턴을 형성하는 경우, 포토 리소그래피 공정으로 구현이 불가능한 나노스케일의 격자패턴을 형성할 수 있기 때문에, 생산성 향상의 이점 및 제조비용 절감의 이점을 갖고 있다.
상술한 나노 임프린트 공정을 이용하여 격자패턴을 형성하기 위해서는 먼저 원하는 형태의 패턴을 갖는 몰드를 제작해야 한다. 이러한 몰드 중, 실리콘웨이퍼 또는 석영을 이용하여 제작된 몰드는 공정 중 파손이 되는 빈도가 높아 기계적인 특성 항샹을 위하여 한국공개특허 10-2007-0072949호에 개시된 바와 같은, 니켈을 전주 도금하여 몰드를 제작하는 기술이 제안되었다. 도 1a 내지 도 1c는 한국공개특허 10-2007-0072949호에 개시된 전주도금을 이용한 몰드 제조공정을 도시한 것이다. 도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 우선 도 1a에 도시된 바와 같이 기판(11)상에 격자패턴(13)을 형성하여 마스터몰드를 제조한다. 그리고 격자패턴(13)상에 전주도금을 위한 전도성 씨드층(seed layer, 14)을 형성한다. 이후 전주도금공정을 통해 전도성 씨드층(14)상에 금속층(15)을 형성하여 최종적으로 몰드를 제조하게 된다. 그러나, 이러한 전주도금을 이용한 몰드 제작방법은 전도성 씨드층(14) 형성이 어려운 문제점, 전주도금과정에서 몰드 내부에 포어(pore, 16)가 형성되어 몰드의 내구성 및 기계적 특성을 저하시키는 문제점, 제조한 몰드를 격자패턴(13)과 분리하는 과정에서 마스터몰드의 파손 확률이 높아지는 문제점이 존재하였다.
한국공개특허 제10-2007-0072949호(2007.07.10. 공개)
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 기판상에 다수의 격자패턴을 형성하고, 상기 격자패턴 상에 금속격자패턴을 형성하고, 상기 금속격자패턴상에 도금층을 형성하고, 상기 금속격자패턴 및 상기 도금층으로 이루어진 몰드를 상기 격자패턴과 분리하여 미세피치가 구현된 몰드를 제작함으로써, 제조비용을 절감하고 공정의 효율성을 향상시키면서도, 내구성 및 신뢰도가 향상된 나노 임프린트용 몰드를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법은, 기판상에 다수의 격자패턴을 형성하고, 상기 격자패턴 상에 금속격자패턴을 형성하고, 상기 금속격자패턴상에 도금층을 형성하고, 상기 금속격자패턴 및 상기 도금층으로 이루어진 몰드를 상기 격자패턴과 분리하는 것을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 격자패턴을 형성하는 것은, 상기 기판상에 자외선 경화수지를 도포하여 격자베이스층을 형성하고, 상기 격자베이스층을 임프린트 몰드로 가압하고, 상기 격자베이스층에 자외선을 조사하여 상기 격자베이스층을 경화하는 것을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 격자패턴을 형성하는 것은, 상기 기판상에 열경화수지를 도포하여 격자베이스층을 형성하고, 상기 격자베이스층을 가열된 임프린트 몰드로 가압하여 상기 격자베이스층을 경화하는 것을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 격자패턴의 폭은 20nm 내지 200nm 로 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 금속격자패턴을 형성하는 것은, 상기 격자패턴 상에 금속물질을 증착하여 금속격자베이스층을 형성하고, 상기 금속격자베이스층을 습식에칭하는 것을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 금속물질은 Ni 또는 Ni 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 금속물질은, 스퍼터링 방법, 화학기상증착법, 이배포레이션방법 중 적어도 어느 하나의 방법에 의해 상기 격자패턴 상에 증착될 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 도금층을 형성하는 것은, 전주도금방식에 의해 이루어질 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 몰드 제조방법에 있어서, 상기 도금층은 상기 금속격자패턴과 동일한 물질로 형성되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 Ni 또는 Ni 합금으로 이루어질 수 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 몰드는 상술한 방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따르면, 200nm이하의 미세피치를 갖는 금속재질의 몰드를 제조할 수 있게 되고, 특히 니켈로 이루어진 몰드를 제조할 수 있게 됨에 따라, 내구성 및 신뢰도가 향상된 나노 임프린트용 몰드를 제공할 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따르면, 간단한 전주도금 방식을 이용하여 내구성이 향상된 나노 임프린트용 몰드를 제조할 수 있게 되어, 별도의 복잡한 공정을 거치지 않음에 따른 제조공정 효율성 향상효과, 몰드의 제조비용 절감 효과를 갖는다.
도 1a 내지 도 1c는 종래기술에 따른 몰드 제조방법을 간략하게 나타낸 제조공정도이다.
도 2는 본 발명에 따른 나노 임프린트용 몰드 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 3a 내지 도 3h는 본 발명의 실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 제조방법을 나타낸 제조공정도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있는 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 동작 원리를 상세하게 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서, 각 용어의 의미는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 해석되어야 할 것이다. 도면 전체에 걸쳐 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용한다.
도 2는 본 발명에 따른 나노 임프린트용 몰드 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 나노 임프린트용 몰드 제조방법은 기판상에 격자패턴을 형성하고(S1), 격자패턴상에 금속격자패턴을 형성하고(S3), 금속격자패턴상에 도금층을 형성하고(S5), 금속격자패턴 및 도금층으로 이루어진 몰드를 격자패턴과 분리하는 것(S7)을 포함하여 이루어질 수 있다.
S1단계에서 사용되는 기판은 투명기판으로 이루어짐이 바람직하며, 그 재질로서 유리, Quartz, 아크릴, PC 및 PET 등 다양한 고분자로 구성된 플라스틱, 사파이어 등이 이용될 수 있으며 이외에도 다양한 물질이 이용될 수 있다. 한편 격자패턴은 돌출패턴 및 각 돌출패턴 사이에 형성된 홈을 포함하는 개념이며, 주기란 하나의 격자패턴과 이웃하는 격자패턴간의 거리를 의미한다. 이하에는 다수의 격자패턴을 형성하는 과정에 대하여 설명한다.
격자패턴을 형성하는 과정은 나노 임프린팅 공정에 의해 수행 가능하다. 즉 기판 상에 폴리머 수지를 도포하여 격자베이스층을 형성한다.
여기서 상술한 폴리머 수지 도포는 스핀코팅법, 다이코팅법, 롤코팅법, 딥코팅법, 캐스트법, 스크린 인쇄법, 전사법 등에 의해 수행될 수 있으며, 보다 바람직하게는 스핀코팅법, 다이코팅법, 롤코팅법 중 어느 하나의 방법을 통해 도포되는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 폴리머 수지로서 자외선 경화수지 또는 열 경화수지가 이용될 수 있다. 예컨대 자외선 경화수지가 이용된 경우, 격자베이스층을 형성한 후, 격자베이스층 상부에 홈과 돌출부를 가지는 임프린트 몰드를 정렬한다. 여기서, 임프린트 몰드의 복수개의 홈 및 돌출부는 서로 일정 간격 이격된 형태로 반복하여 형성된 형태를 갖는다. 또한, 임프린트 몰드의 홈은 격자패턴이 형성될 위치와 대응된다.
이후 임프린트 몰드의 홈 부분과 격자베이스층이 접촉되도록 가압한 뒤, 자외선를 조사하여 광경화를 수행한다. 이에 따라, 기판의 상부에는 임프린트 몰드의 홈과 대응되는 부분에 다수의 격자패턴이 형성된다. 이때 홈의 폭(W)는 20nm 내지 200nm의 범위에서 구현됨이 바람직하나 이에 한정되지는 않는다. 홈과 대응되는 부분에 형성되는 격자패턴의 폭이 20nm 내지 200nm의 범위를 갖도록 하기 위함이다. 다만 이는 하나의 예시일 뿐이며, 임프린트 몰드 홈의 폭 및 격자패턴의 폭은 차후 형성할 나노 임프린트용 몰드의 폭을 고려하여 선택될 수 있음은 당연하다.
한편, 상술한 실시예에서는 격자베이스층을 형성하는 폴리머 수지가 자외선 경화수지인 경우로 설명하였으나, 열 경화수지도 사용될 수 있으며, 이에 따라 격자베이스층을 가열된 임프린트 몰드로 가압함으로써 열경화를 수행하여 본 발명의 격자패턴을 형성할 수도 있다.
격자패턴을 형성한 후, 격자패턴상에 금속격자패턴을 형성하게 된다(S3).
여기서 금속격자패턴이란 격자패턴의 상부에 형성되는 패턴을 포괄하여 통칭하는 것으로 정의하며, 본 발명의 금속격자패턴 형성은 다음과 같이 이루어질 수 있다. 우선 격자패턴상에 스퍼터링법이나 화학기상증착법, 이배포레이션(Evaporation)등 현재 개발되어 상용화되었거나 향후 기술발전에 따라 구현 가능한 모든 증착방법을 통해 금속물질을 증착하여 금속격자베이스층을 형성한다. 이때 증착되는 금속물질은 전도성을 갖는 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 크롬(Cr) 구리(Cu) 또는 이들의 합금 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 니켈(Ni) 또는 니켈 합금이 이용되는 것이 바람직하다. 차후 형성될 나노 임프린트용 몰드의 내구성 및 이형성의 향상을 위함이다.
금속격자베이스층을 형성한 후, 에칭공정을 수행하여 격자패턴간의 이격된 공간을 에칭함으로써 금속격자패턴을 형성한다. 여기서 에칭되는 부분은 격자패턴간의 이격된 공간뿐만 아니라, 필요에 따라 격자패턴상에 형성된 금속격자베이스층의 일부도 에칭될 수 있다. 한편, 상술한 에칭공정으로서 습식에칭공정이 이용됨이 바람직하며, 이때 습식에칭 수행시간을 조절함으로써 금속격자패턴의 폭 및 두께를 조절할 수 있다. 이에 따라 형성된 본 발명의 금속격자패턴은, 미세 돌출패턴이 일정한 주기를 가지고 배열되는 구조를 구비하게 된다.
한편, 금속격자패턴은 그 단면 형상이 사각형, 삼각형, 반원형 등 다양한 구조를 갖도록 형성될 수 있으며, 삼각형, 사각형, 사인파 등의 형태로 형성될 수도 있다. 즉, 금속격자패턴은 단면의 구조에 관계없이 한쪽 방향으로 일정한 주기를 갖는 형태로 형성될 수 있다.
금속격자패턴을 형성한 후, 금속격자패턴상에 도금층을 형성하게 되며(S5), 도금층의 형성은 전주도금(Electro-forming)방식에 의해 이루어질 수 있다. 또한, 전주도금되는 물질은 상술한 금속격자패턴과 동일한 물질이 이용되는 것이 바람직하며, 특히 니켈(Ni) 또는 니켈 합금을 이용하는 것이 더욱 바람직하다.
니켈(Ni)를 이용하여 전주도금을 수행하는 경우, 금속격자패턴간의 간격이 좁아 니켈의 수평방향으로의 성장은 제한되며, 수직방향으로 성장하게 된다. 또한 그 성장형태는 방사형으로 성장하게 되어 최종적으로 일정 높이 성장시 금속격자패턴상에 형성되는 도금층이 서로 연결된다. 따라서, 최종적으로 도금층 하부에 금속격자패턴이 형성된 구조의 몰드를 얻을 수 있게 된다.
도금층을 형성한 후, 격자패턴과 상술한 도금층 및 금속격자패턴을 구비한 몰드를 기판 및 격자패턴과 분리함으로써(S7), 나노 임프린트용 몰드를 얻을 수 있게 된다.
상술한 방법에 의해 제조된 본 발명의 나노 임프린트용 몰드는 200nm 이하의 미세피치로 구현되며, 특히 니켈을 이용하여 나노 임프린트용 몰드를 제작한 경우, 내구성 및 신뢰도가 향상되는 효과가 있다.
아울러, 나노 임프린트용 몰드의 이형성 향상에 따라 분리과정에서 발생 가능한 마스터몰드(기판 및 격자패턴)의 파손가능성을 낮출 수 있게 되어, 제조과정에서 형성한 기판상에 형성된 격자패턴을 나노 임프린트용 몰드 제조과정에서 재활용 할 수 있게 되어 제조비용을 더욱 절감할 수 있는 경제적인 이점도 추가적으로 구현된다.
또한 본 발명에 따르면, 간단한 전주도금 방식을 이용하여 내구성이 향상된 나노 임프린트용 몰드를 제조할 수 있게 되어, 별도의 복잡한 공정을 거치지 않음에 따른 제조공정 효율성 향상효과, 제조비용 절감 효과를 갖는다.
도 3a 내지 도 3h는 본 발명의 실시예에 따른 나노 임프린트용 제조방법을 나타낸 제조공정도이다.
도 2 내지 도 3h를 참조하면, 도 3a에 도시된 바와 같이 기판(110)상에 폴리머 수지를 도포하여 격자베이스층(130)을 형성한다.
이후 도 3b에 도시된 바와 같이 격자베이스층(130) 상부에 임프린트 몰드(210)를 정렬한다. 여기서 임프린트 몰드(210)는 도 2의 설명에서 상술한 바와 같이, 일정 간격으로 정렬된 다수의 돌출부(211)와 각 돌출부간에 형성된 다수의 홈을 갖는다. 여기서 홈의 폭(W)은 20nm 내지 200nm의 범위에서 구현됨이 바람직하나 이에 한정되지는 않음은 도 2의 설명에서 상술한 바와 같다.
그리고 도 3c에 도시된 바와 같이 격자베이스층(130)상부를 임프린트 몰드(210)로 가압한 후, 도 3d에 도시된 바와 같이 임프린트 몰드(210)를 분리하여 격자패턴(131)을 형성한다. 이때 임프린트 몰드(310)로 격자베이스층(130)을 가압한 후 분리하기 전에 격자베이스층(130)을 이루는 물질이 열 경화수지인 경우 열 경화과정이 수반되며, 자외선 경화수지인 경우 자외선(UV) 조사를 통한 광경화과정이 수반된다.
격자패턴을 형성한 후, 도 3e에 도시된 바와 같이 격자패턴(131)상에 금속물질을 증착하여 금속격자베이스층(140)을 형성한다. 이때 금속격자베이스층(140)은, 도 3e에 도시된 바와 같이 각 격자패턴(131) 사이에 공간을 모두 채우도록 형성될 수 있으며, 또는 도면에는 미도시 되었으나 각 격자패턴(131) 사이에 일정공간이 구비되도록 형성할 수도 있다. 격자패턴(131)간에 일정공간이 구비되도록 함으로써, 차후 진행될 습식에칭공정에서 금속격자베이스층(140)의 에칭을 원활하게 진행하기 위함이다.
여기서 격자패턴(131)상에 증착되는 금속물질은 스퍼터링법이나 화학기상증착법, 이배포레이션(evaporation)등 현재 개발되어 상용화되었거나 향후 기술발전에 따라 구현 가능한 모든 증착방법을 통해 증착될 수 있다. 또한 금속물질은 전도성을 갖는 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 크롬(Cr) 구리(Cu) 또는 이들의 합금 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있고, 니켈(Ni) 또는 니켈 합금이 이용되는 것이 바람직함은 도 2의 설명에서 상술한 바와 같다.
금속격자베이스층(140)을 형성한 후, 습식에칭공정을 통해 각 격자패턴(131) 사이의 공간(A)을 에칭하여 도 3f에 도시된 바와 같이 금속격자패턴(150)을 형성한다. 이때 습식에칭을 수행하는 시간을 조절하여 금속격자패턴(150)의 폭 및 두께를 조절할 수 있음은 도 2의 설명에서 상술한 바와 같다.
금속격자패턴(150)을 형성한 후, 금속격자패턴(150)상에 도금층을 형성한다. 이때 도금층 형성에 이용되는 물질은 금속격자패턴(150)을 이루는 물질과 동일한 물질이 이용됨이 바람직하며, 보다 바람직하게는 니켈(Ni) 또는 니켈 합금이 이용됨은 도 2의 설명에서 상술한 바와 같다. 전주도금 수행시 금속격자패턴(150)간의 간격이 좁아 도금층의 수평방향으로의 성장은 제한되며, 수직방향으로 성장하게 된다. 또한 그 성장형태는 방사형으로 성장하게 되어 최종적으로 일정 높이 성장시 도 3g에 도시된 바와 같이 금속격자패턴(150)상에 서로 연결된 형태의 도금층(170)이 형성된다. 이에 따라, 최종적으로 도금층(170) 하부에 금속격자패턴(150)이 형성된 구조의 몰드(300)를 얻을 수 있게 됨은 도 2의 설명에서 상술한 바와 같다.
격자패턴(131)상에 몰드(300)를 형성한 후, 기판(110) 및 격자패턴(131)을 분리하면 도 3h에 도시된 바와 같은 나노 임프린트용 몰드(300)를 얻을 수 있게 된다.
이상으로 본 발명의 기술적 사상을 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 이와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용에만 국한되는 것은 아니며, 기술적 사상의 범주를 일탈함 없이 본 발명에 대해 다수의 적절한 변형 및 수정이 가능함을 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변형 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
110: 기판
130: 격자베이스층
131: 격자패턴
140: 금속격자베이스층
150: 금속격자패턴
170: 도금층
210: 임프린트 몰드
211: 임프린트 몰드 돌출부
300: 몰드

Claims (11)

  1. 기판상에 다수의 격자패턴을 형성하고,
    상기 격자패턴 상에 금속격자패턴을 형성하고,
    상기 금속격자패턴상에 도금층을 형성하고,
    상기 금속격자패턴 및 상기 도금층으로 이루어진 몰드를 상기 격자패턴과 분리하는 것을 포함하여 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 격자패턴을 형성하는 것은,
    상기 기판상에 자외선 경화수지를 도포하여 격자베이스층을 형성하고,
    상기 격자베이스층을 임프린트 몰드로 가압하고,
    상기 격자베이스층에 자외선을 조사하여 상기 격자베이스층을 경화하는 것을 포함하여 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 격자패턴을 형성하는 것은,
    상기 기판상에 열경화수지를 도포하여 격자베이스층을 형성하고,
    상기 격자베이스층을 가열된 임프린트 몰드로 가압하여 상기 격자베이스층을 경화하는 것을 포함하여 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 격자패턴의 폭은 20nm 내지 200nm 로 형성되는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 금속격자패턴을 형성하는 것은,
    상기 격자패턴 상에 금속물질을 증착하여 금속격자베이스층을 형성하고,
    상기 금속격자베이스층을 습식에칭하는 것을 포함하여 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 금속물질은,
    Ni 또는 Ni합금으로 이루어진 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 금속물질은,
    스퍼터링 방법, 화학기상증착법, 이배포레이션방법 중 적어도 어느 하나의 방법에 의해 상기 격자패턴 상에 증착되는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 도금층을 형성하는 것은,
    전주도금방식으로 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 도금층은,
    상기 금속격자패턴과 동일한 물질로 형성되는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 도금층은,
    Ni 또는 Ni 합금으로 이루어지는 나노 임프린트용 몰드 제조방법.
  11. 임프린트용 몰드에 있어서,
    청구항 1 내지 10 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 나노 임프린트용 몰드.
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