JP2007219367A - 成形部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第二のマスク4に球状の微粒子3を用いることで、簡易な工程でマスクの形成ができ、微粒子3の粒径で周期間隔を高精度に制御することが可能になるとともに、基材1と第二のマスク4の間に第一のマスク2を配設し、第二のマスク4より第一のマスク2との化学反応性が高い粒子ビームをエッチングに用いることで、アスペクト比の大きい微細周期構造を持つマスクを形成することが可能になるため、基材1が貴金属合金等の難エッチング材料でも、アスペクト比の大きい微細周期構造を有する成形部品を製造することができる。
【選択図】図1
Description
k≦λ/n2
の条件を満たす場合、凹凸は波長がλ以上の光に対しては回折格子として作用せず、光学素子はその凹凸の配列ピッチによって定まる波長以上の全ての光に対して、反射防止効果を有する。このような微細周期構造は、蛾の眼の表面に形成されているサブミクロンオーダの大きさの凹凸構造の反射率を測定することにより発見されたためモス・アイ(Moth eye)構造もしくはサブ波長構造と呼ばれている。
以下、本発明の実施の形態1について図面を用いて説明する。
k≦λ/n2
の条件を満たす場合、反射防止効果が得られる。したがって、例えば光学素子の屈折率が1.50であり、可視光に対する反射防止効果を得ようとした場合には、可視光の中心波長を600nmと考えると、
k≦600nm/1.5=400nm
となることから、400nm以下の粒径の微粒子であれば、どのような大きさの微粒子でも良い。ただし、微細周期構造の凹凸の高さについては、高さが低ければ低いほど、光線の入射方向での屈折率の変化が急激になるため、十分な反射防止効果が得られなくなる場合がある。したがって、微粒子3の粒径が小さい場合には、第一のマスク2との選択比が高いものを選択すれば良い。
以下、実施の形態2について図面を用いて説明する。
2 第一のマスク
3 微粒子
4 第二のマスク
5 高速原子ビーム(CF4)
6 高速原子ビーム(Ar)
7 微細周期構造形成済み基材
8 上金型
9 下金型
10 ガラス
11 ヒーター
12 光学素子
21 基材
22 電子線レジスト
23 電子線
24 金属
25 金属マスク
Claims (19)
- 基材表面に、第一のマスクを配設する工程と、第一のマスク上に微粒子からなる第二のマスクを配設する工程と、前記基材表面に対して加速された粒子ビームを照射し、基材をエッチングする工程と、からなることを特徴とする、微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子が粒径の揃った球状、または半球状、または錘体であることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 少なくとも基材上の第一のマスクおよび第二のマスクが消失するまで、加速された粒子ビームを照射し、基材をエッチングすることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 第一のマスクのエッチングが主に化学反応および物理スパッタの相乗により進行し、基材のエッチングが主に物理スパッタにより進行することを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子からなる第二のマスクを配設する工程において、スラリーに分散させた微粒子を基材上に塗布した後に、前記スラリーを除去することを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子からなる第二のマスクを基材上に塗布する方法として、スピンコート法、またはスプレーコート法、またはバーコート法、またはディップコート法を用いることを特徴とする、請求項6に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- スラリーが水または有機溶媒であることを特徴とする、請求項6に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 基材が光学素子、または光学素子を成型するための金型、または光学素子を成型するための金型表面のコーティング膜であることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 基材が貴金属、または貴金属合金、または貴金属を表面にコーティングした金型、または貴金属合金を表面にコーティングした金型であることを特徴とする、請求項9に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 基材がPt、Ir、またはPt、Irの少なくとも一方を含む合金、またはこれらを表面にコーティングした金型であることを特徴とする、請求項10に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子の粒径が、使用する波長を光学素子の屈折率で割った値以下であることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子の粒径が、100〜400nmであることを特徴とする、請求項12に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子がAu、Pt、Ir、Ag、Pd、Ru、Rh、Os、W、Ni、Ti、Ta、Cr、Cuまたはこれらのうち少なくとも一つを含む合金、のいずれかであることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 第一のマスクが、Si、SiO2、Si3N4、Spin On Glass、のいずれかであることを特徴とする、請求項14に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 粒子ビームのプロセスガスとして、SF6、CF4、CHF3、CH2F2、C2F6、C4F8、CCl4、BCl3、のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項14に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 粒子ビームが原子ビームであることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 粒子ビームがクラスターイオンビームであることを特徴とする、請求項1に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JPH1166654A (ja) * | 1997-08-18 | 1999-03-09 | Hitachi Ltd | 微細構造の作製法、微細構造、磁気センサ、磁気記録媒体および光磁気記録媒体 |
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