JP2007219367A5 - - Google Patents
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Claims (4)
- 基材表面に、第一のマスクを配設する工程と、第一のマスク上に微粒子からなる第二のマスクを配設する工程と、前記基材表面に対して加速された粒子ビームを照射し、基材をエッチングする工程と、からなり、前記粒子ビームに対する、前記第一のマスクと前記第二のマスクのエッチング選択比が、
- 第一のマスクのエッチングが主に化学反応および物理スパッタの相乗により進行し、基材のエッチングが主に物理スパッタにより進行することを特徴とする、請求項１に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子が粒径の揃った球状または半球状、あるいは錘体であることを特徴とする、請求項２に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
- 微粒子の粒径が、使用する波長を基材の屈折率で割った値以下であることを特徴とする、請求項３に記載の微細周期構造を有する成形部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006042147A JP4775024B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 成形部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006042147A JP4775024B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 成形部品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007219367A JP2007219367A (ja) | 2007-08-30 |
| JP2007219367A5 true JP2007219367A5 (ja) | 2009-04-09 |
| JP4775024B2 JP4775024B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=38496719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006042147A Expired - Fee Related JP4775024B2 (ja) | 2006-02-20 | 2006-02-20 | 成形部品の製造方法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP4775024B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5311944B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | 光学素子及びそれを有する光学系 |
| JP6428905B2 (ja) * | 2017-12-20 | 2018-11-28 | 王子ホールディングス株式会社 | 微細構造体および微細構造体の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1166654A (ja) * | 1997-08-18 | 1999-03-09 | Hitachi Ltd | 微細構造の作製法、微細構造、磁気センサ、磁気記録媒体および光磁気記録媒体 |
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2006
- 2006-02-20 JP JP2006042147A patent/JP4775024B2/ja not_active Expired - Fee Related
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