KR101759396B1 - 타임피스 세팅 스템의 운동을 검출하는 방법 및 센서 장치와 센서 장치를 포함하는 타임피스 - Google Patents

타임피스 세팅 스템의 운동을 검출하는 방법 및 센서 장치와 센서 장치를 포함하는 타임피스 Download PDF

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Abstract

본 발명은 길이방향 축을 따라 축방향으로 이동되고 및/또는 그 길이방향 축 둘레로 회전되도록 배열된 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법에 관한 것이다. 방법은 : (a) 광원 (5) 이 세팅 스템 (1) 의 일부를 조명하는 단계; (b) 광 검출기 (12) 가 세팅 스템 (1) 으로부터 반사된 또는 회절된 광 패턴 (9) 을 수신하는 단계; (c) 프로세서 (13) 가 제 1 시간 인스턴트에서 반사된 광 패턴을 나타내는 제 1 픽셀 패턴을 형성하는 단계; (d) 프로세서 (13) 가 추후의 제 2 시간 인스턴트에서 반사된 광 패턴을 나타내는 제 2 픽셀 패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 제 2 픽셀 패턴이 제 1 픽셀 패턴에 대하여 상이하거나 시프트된다면 세팅 스템 (1) 이 이동되었다고 결정하는 단계를 포함한다.

Description

타임피스 세팅 스템의 운동을 검출하는 방법 및 센서 장치와 센서 장치를 포함하는 타임피스{A METHOD AND SENSOR ARRANGEMENT FOR DETECTING A MOVEMENT OF A TIMEPIECE SETTING STEM AND A TIMEPIECE COMPRISING THE SENSOR ARRANGEMENT}
본 발명은 타임피스 크라운 스템의 운동 또는 위치 검출 분야에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 타임피스 세팅 스템의 운동을 광학적으로 검출하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 대응하는 센서 장치 (sensor arrangement) 에 관한 것이다.
일반적으로, 증분적 또는 절대적 인코딩 스킴들이 회전 디바이스, 이를 테면 전자시계의 볼륨 조절 손잡이 (volume-control knob) 또는 크라운의 각위치 (angular position) 를 측정하는데 이용될 수 있다. 많은 애플리케이션들에서, 이러한 회전 제어 엘리먼트들은 또한 디바이스의 다양한 기능들을 트리거링 또는 활성화하기 위하여 축방향으로 변위가능하다. 따라서, 또한 동일한 손잡이 또는 크라운의 축방향 위치를 측정할 필요가 있을 수도 있다. 시계 애플리케이션들에서, 크라운에 의해 그 말단부에서 보통 종단되는 세팅 스템의 축방향 위치는 예를 들어, 현재 시간 디스플레이, 날짜 세팅, 및 시간 세팅과 같은 그 시계의 모드들을 변경하는데 이용된다. 크라운이 날짜 세팅 모드에 들어가기 위해 하나의 이산 (discrete) 축방향 위치로 빼내지면, 크라운의 각회전 (angular rotation) 은 그때 하루 단위로 이동하는데 이용된다. 크라운이 2 개의 이산 축방향 스템들로 빼내지면, 크라운의 각회전은 그때 시간을 설정하는데 이용될 것이다.
회전 디바이스의 축방향 및/또는 각 운동들 및/또는 위치들을 결정 또는 측정하기 위해서는, 센서 장치가 일반적으로 회전 디바이스에 대한 코딩 패턴을 검출하기 위해 필요하다. 이러한 센서 장치는 높은 레졸루션의 각 및/또는 병진 운동 또는 위치 검출을 제공하고 센서 장치에서의 마모는 최소화되는 것이 바람직하다. 더욱이, 어셈블리하기에 단순하고 작은 공간을 차지하는 위치 또는 상대적 운동 검출 장치를 획득하는 것이 바람직할 것이다.
본 발명의 목적은 상기 기준들을 충족시키는 타임피스 세팅 스템의 위치 또는 상대적 운동 검출 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제 1 양태에 따르면, 청구항 제 1 항에 기재된 바와 같은 타임피스 세팅 스템의 운동을 검출하는 방법이 제공되어 있다.
제안된 새로운 솔루션은 상대적 운동들이 매우 정확하게 검출될 수 있다는 장점을 갖는다. 예를 들어, 크라운의 풀 회전 당 약 9600 개의 위치들의 상대적 각위치 검출 레졸루션이 본 솔루션으로 달성될 수도 있으며, 이는 다른 종류들의 스템들로 현재 달성될 수 있는 것보다 훨씬 더 많다. 운동들 중 적어도 일부는 광학적으로 검출되기 때문에, 시스템에서의 마모가 또한 최소화되고, 이런 이유로 세팅 스템의 수명이 그 결과 향상된다. 더욱이, 제안된 장치는 작은 공간을 차지하며, 이는 이용가능한 공간이 제한되는 시계에 있어서 매우 유리하다.
본 발명의 제 2 양태에 따르면, 청구항 제 14 항에 기재된 바와 같은 센서 장치가 제공되어 있다.
본 발명의 제 3 양태에 따르면, 센서 장치를 포함하는 타임피스가 제공되어 있다.
본 발명의 다른 양태들이 여기에 부속된 종속항들에 기재되어 있다.
본 발명의 다른 특징들 및 이점들은 첨부된 도면들을 참조하여 비제한적인 예시적인 실시형태의 다음의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1 은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 축방향 위치를 결정하고 세팅 스템 샤프트의 회전 운동들을 측정하기 위한 장치를 도시하는 블록 다이어그램.
도 2 는 본 발명에 대한 바람직한 실시형태에 따른 세팅 스템, 및 센서 장치에 대한 실제 구조를 도시하는 투시도.
본 발명의 실시형태가 이제 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명될 것이다. 상이한 도면들에 나타나는 동일하거나 또는 대응하는 기능적 및 구조적 엘리먼트들에는 동일한 참조 번호들이 할당된다.
도 1 은 전자시계의 세팅 스템 (1) 과 같은 회전 디바이스의 위치를 검출하는데 이용되는 장치의 블록 다이어그램을 단순화된 방식으로 도시한다. 도 2 는 이러한 기능적 장치에 대해 적용될 수 있는 구조의 투시도이다. 도 1 및 도 2 에는, 세팅 스템의 샤프트 (10) 가 예시된다. 손목시계에 적용될 때, 샤프트의 직경은 통상 0.5 내지 2mm 의 범위 내에 있다. 이 샤프트 (10) 의 하나의 단부, 이 예에서는 왼쪽 단부는 사용자가 샤프트 (10) 를 밀어넣거나 (push), 잡아당기거나 (pull) 또는 회전시킬 수 있는 예를 들어 크라운 또는 손잡이 (knob) 를 를 가질 수도 있다. 샤프트 (10) 는 그것의 표면 상에 반사 영역 (3) 을 갖는다. 이 반사 영역은 그저 약간 상이한 컬러들의 스폿 (spot) 들 또는 표면 형상 결함들과 같은 결함들을 갖는 비완전 샤프트 표면일 수도 있다. 반사 영역은 또한 이미지 또는 패턴을 포함할 수도 있다. 이 예에서, 반사 영역 (3) 은 샤프트의 전체 원주 둘레로 연장되고 소정의 폭을 갖는다. 이 폭은 예를 들어 1mm 와 1cm 사이일 수도 있다. 반사 영역 (3) 이 이미지를 포함한다면, 그것은 임의의 특정 타입의 이미지에 제한되지 않는다. 많은 상이한 종류들의 이미지들이 사용될 수 있다. 그러나 바람직하게는, 그것은 패턴을 포함하는데, 그 패턴은 에일리어싱 에러들을 회피하기 위하여 스스로 반복하지 않거나 또는 반복되는 패턴들을 포함하지 않는다.
도 1 및 도 2 는 또한, 광 빔 또는 광 선들을 샤프트로 및 보다 구체적으로는 반사 영역 (3) 으로 향하게 하도록 배열되는 광원 (5) 을 도시한다. 광원은 예를 들어, 발광 다이오드 (LED) 일 수도 있다. 동작 시에, 광원은 인터로게이팅 (interrogating) 광 신호 (7) 를 반사 영역 (3) 쪽으로 전송한다. 인터로게이팅 광 빔이 어느 정도까지는 반사하는 샤프트 표면을 히팅할 때, 반사된 광 빔 (9) 은 반사된 광 빔 (9) 을 검출하도록 배열되는 광 검출기라고도 지칭되는 광학 센서 (12) 쪽으로 되반사된다. 대안의 미예시된 실시형태에 따르면, 반사 영역 (3) 은 광 빔이 광학 센서 (12) 상에도 다시 보내지도록, 결함들이 또한 제공된 회절 영역 (diffraction area) 에 의해 대체될 수도 있다. 인터로게이팅 광 신호 (7) 를 수신하는 샤프트 상의 상이한 스폿들은, 특히 결함들이 위치하는 경우, 다르게 광을 센서에 반사한다는 것에 주목할 것이다. 그 후, 광학 센서 (12) 또는 신호 프로세서 (13) 는, 결함들의 치수들이 구체화되도록 하기 위하여 전체 픽셀을 커버할 정도로 충분히 크다는 것을 고려하면 (실제로는 항상 그렇다) 반사된 광 빔 (9) 으로부터 픽셀들의 어레이를 형성할 수 있다. 바람직한 실시형태에 따르면, 광학 센서 (12) 는 30*30 픽셀들에서 최대 100*100 픽셀들까지의 어레이로 피팅될 것이다. 형성된 픽셀들의 어레이는 상이한 강도의 픽셀들을 포함한다. 픽셀들 중 일부는 매우 어두울 수도 있는 한편, 픽셀들 중 일부는 매우 밝을 수도 있다. 픽셀들의 어레이는 그 후 이후 설명한 바와 같이 신호 프로세서 (13) 에 의해 추가 프로세싱된다.
광원 (5) 은 조명될 때, 인터로게이팅 신호를 끊임없이 방출한다. 광원은 계속해서 발광하는 대신에, 에너지를 절약하기 위하여, 간헐적으로, 예를 들면, 매 밀리초마다 한번 발광하도록 배열되는 것이 바람직하다. 상기 설명된 센서 장치는 초 당 100 회와 10000 회 사이로 이루어진 빈도 (frequency) 에 대응하는, 소정의 시간 간격을 두고 반사된 신호, 즉 광 빔 (9) 으로부터 픽셀 패턴들을 추출하도록 배열된다. 신호 프로세서 (13) 는 형성된 2 개의 연이은 픽셀 패턴들을 비교하도록 배열된다. 샘플링 프로세스를 단순화하기 위하여, 신호 프로세서 (13) 에 의해 사용된 샘플링 빈도는 광원 (5) 으로서 사용된 LED 의 플래시들의 빈도에 얼라이닝될 수도 있으며, 신호 프로세서는 또한 이 LED 를 동기화를 목적으로 제어한다. 그 결과, 샘플링은 LED 가 턴온될 때마다 일어난다. 그것은 프로세싱 전력을 절약하기 위하여, 모든 픽셀 패턴에서, 픽셀들의 서브세트에만, 예를 들어 어두운 픽셀들 중 일부에 집중하는 것이 유익할 수도 있다. 2 개의 연이은 반사된 광 빔들 (9) 로부터 생성된 2 개의 연이은 픽셀 패턴들로부터의 이들 픽셀들을 비교함으로써, 샤프트 (10) 의 각 운동 또는 상대적 각위치 및 또한 샤프트 (10) 의 회전 방향을 결정하는 것이 가능하다. 사실, 광학적 위치 결정은 기존의 광 마우스들에 대해 채용된 원리들과 동일한 원리들을 따른다.
증분적 운동 카운터 (14) 는 신호 프로세서에서 구현될 수도 있거나 또는 신호 프로세서 (13) 에 접속될 수도 있다. 최근의 픽셀 패턴이 예를 들어 이전의 픽셀 패턴에 대하여 제 1 방향으로 하나의 픽셀만큼 시프트된다는 것이 검출될 때마다 그 카운터에 1 의 값이 가산된다. 한편, 최근의 픽셀 패턴이 제 1 방향과는 반대인 제 2 방향으로 하나의 픽셀만큼 시프트되는 것으로 검출된다면 그 카운터에서 1 의 값이 감산된다. 따라서, 임의의 주어진 시간 인스턴트에서의 카운터 값은 제 1 픽셀 패턴이 생성되었을 때, 샤프트가 샤프트 (10) 의 원래의 위치에 대하여 어느 정도 회전되었는지를 간접적으로 나타낸다. 카운터 값과 샤프트 (10) 의 회전각 간에는 맵핑이 이루어질 수 있다. 각위치 검출 레졸루션은 샤프트 (10) 의 하나의 풀 회전 (360 도) 당 최대 약 9600 개의 각위치들인 것으로 정의될 수 있으며, 이는 보통 100 개 미만의 가능한 이산 각위치들로 설정되는 현재의 전자시계들 내에 배열된 레귤러 세팅 스템들에 대한 통상의 최대 레졸루션보다 적어도 100 배 더 크다. 따라서, 상대적 각위치 검출 장치는 증분적 위치 검출기로서 동작한다. 그러나, 제 2 패턴이 하나의 픽셀만큼 시프트될 때마다 카운터를 1 씩 증분 또는 감분시키는 대신에, 시프트의 양이 임의의 다른 소정의 수일 때에만 증분 또는 감분이 일어나도록 정의하는 것이 가능하다는 것에 주목할 것이다.
단지 산발적으로만 상대적 운동 측정들을 수행하도록 의도되는 본원 발명의 광학적 검출 장치는 통상적으로 가능한 많은 에너지를 절약하기 위해 대부분 슬립 모드에 있을 수 있다. 그 장치는 크라운의 축방향 운동이 검출될 때 측정들을 수행하기 위해 예를 들어 활성화 신호에 의해 웨이크 업될 수 있다. 축방향 운동은 이하 설명한 바와 같이 축방향 운동 검출 장치에 의해 검출될 수 있다. 대안적으로는, 운동 측정들의 활성화를 트리거링하는 것을 담당하는, 크라운 (11) 의 축방향 및/또는 각 운동을 검출하기 위한 특정 운동 검출기가 있을 수도 있다. 그것은 또한, 소정의 시간 인스턴트에 광학적 검출 장치를 슬립 모드에 들어가게 하는 것이 가능하다. 이것은 예를 들어, 크라운 (11) 의 운동 후, 그 크라운이 소정의 시간 주기 동안 부동인 것으로 검출하였을 때 행해질 수 있다.
도 1 및 도 2 에는, 샤프트를 적소에 축방향으로 래치하도록 배열되는 축방향 운동 블록킹 수단의 역할을 하는 축방향 위치 래칭 스프링 (15) 이 추가 도시되어 있다. 이 목적을 위해, 하나의 리세스 (17) 가 하나의 이산 축방향 위치에 대응하도록 리세스들 (17) 이 크라운 샤프트 상에 제공된다. 래칭 스프링 (15) 이 도 1 및 도 2 에 도시한 바와 같이 리세스들 중 하나에 놓여있는 축방향 위치에서, 샤프트 (10) 의 임의의 축방향 운동은 블록킹된다. 래칭 스프링 (15) 은 또한 다른 목적, 즉 샤프트 (10) 를 원하는 전위 (electrical potential) 로 설정하는 목적을 가질 수도 있다. 래칭 스프링 (15) 의 이 속성은, 회전 디바이스의 축방향 위치의 검출이 본 예에서와 같이 갈바닉으로 행해지는 경우에 필요하다. 래칭 스프링 (15) 이 회전 디바이스의 도전성 섹션들을 원하는 전위로 설정하기 위해 이용되지 않는다면, 전위를 설정하기 위한 전기 접촉 (electrical contact) 을 행하기 위해 별개의 추가적인 접촉이 필요할 것이다.
실제로, 도 1 에 의해 예시된 이 예에 따르면, 축방향 위치는 축방향 위치 검출 수단 또는 갈바닉 센서들 (19) 에 의해 갈바닉으로 검출된다. 이 예에는, 그 센서들이 3 개 있다. 이들 센서들 (19) 은 세팅 스템 (1) 의 샤프트 (10) 와 전자적으로 상호작용하도록 배열되며, 그들은 크라운 샤프트의 표면과의 기계 및 전기 접촉을 행하는 도전 브러시들을 포함할 수도 있다. 샤프트 (10) 의 표면은 상이한 도전율의 축방향으로 인코딩된 섹션들 (21) 을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 회전 디바이스 (1) 의 표면은 축방향 도전 섹션들 또는 절연 섹션들을 포함할 수도 있다. 실제로 각각의 섹션은 이들 도전율들 중 어느 하나를 정의하는 도 1 에 도시한 바와 같은 인코딩된 링일 수도 있다. 따라서, 인코딩된 링들은 논리 1들 및 0들의 표현을 포함하는 이진 패턴을 나타낼 수도 있다. 하나의 논리 상태, 이를 테면 논리 비트 1 은 제 1 도전성 재료에 의해 나타내질 수도 있는 반면, 다른 논리 상태, 이를 테면 논리 상태 0 은 제 2 절연 재료에 의해 나타내질 수도 있으며, 여기서 제 1 재료와 제 2 재료는 상이하다. 도전성 링들은 금속으로 이루어질 수도 있는 반면, 비도전성 링들은 플라스틱으로 이루어질 수도 있다. 다른 재료들, 이를 테면 상이한 페인트들 또는 염료들이 또한 대신 사용될 수도 있다. 갈바닉 센서들에 의해 검출된 값들은 수신된 측정 값들에 기초하여 축방향 위치를 결정하기 위해 신호 프로세서 (13) 로 전송된다. 따라서, 갈바닉 센서들은 회전 디바이스 (1) 의 표면 상에서 상이한 전기 도전성 영역들을 검출하도록 배열되며, 이들 결과들로부터, 절대적 축방향 위치가 결정될 수 있다.
도 1 에 예시된 예에서, 모든 인코딩된 섹션들 (21) 은 도전 섹션들이며, 크라운이 세팅 스템 (1) 을 종단할 방향인 왼쪽으로부터 카운트할 때, 처음 2 개의 링들은 센서들 (19) 과 접촉하고 있는 반면, 마지막의 최우측 링은 어떤 센서 (19) 와도 더 이상 접촉하고 있지 않다. 각각의 센서 (19) 는 개별의 인코딩된 링을 나타내는 대응하는 신호를 생성하도록 동작가능하기 때문에, 이 축방향 위치에서의 샤프트의 전체 논리 상태는 "110" 논리 상태로 묘사될 수 있는데, 이는 바람직하게는 세팅 스템 (1) 의 정지 위치 (rest position) 에 대응하며, 보통 T1 로 지칭된다. 샤프트 (10) 를 오른쪽으로 이동시키는 것은, 그러면 불안정한, 즉 샤프트 (10) 를 작동하는 종단 크라운 또는 손잡이에서 압력을 릴리즈하면 즉시 그것의 축방향 포지셔닝을 다시 T1 로 리셋할, 논리 상태 "111" 에 대응하는 밀어넣은 (pushed) 위치 (T0) - 예시되지 않는다 - 에 대응할 것이다. 그에 반해서, 샤프트 (10) 를 왼쪽으로 이동시키는 것은, 각각 중간으로부터 또는 오른쪽으로부터 리세스 (17) 에서의 래칭 스프링 (15) 의 포지셔닝 덕분에 안정된 2 개의 후속의 가능한 소위 "잡아당긴 (pulled)" 위치들 (도면들 상에는 어느 것도 예시되지 않는다) 을 산출할 것이다 :
- T2, 논리 상태 "100" 에 대응 및
- T3, 논리 상태 "000" 에 대응.
도 2 에는 광원 (5) 및 상대적으로 평탄한 광학 센서 (12) 가 직사각형 지지대의 단일 평면을 따라 신장되는 평탄한 PCB (인쇄 회로 기판) (23) 상에 위치하는 것으로 도시된다. 다른 구성 (예시되지 않음) 에서는, 광원 (5) 을 포함한 회로 엘리먼트들 대부분이 PCB (23) 의 제 1 부분 상에 장착되는 한편, 광학 센서 (12) 가 PCB (23) 의 제 2 부분 상에 장착되는 그러한 방식으로 PCB (23) 의 제 1 부분이 PCB (23) 의 제 2 부분에 대해 예를 들어 90 도의 각도로 배열되도록 "L" 형상을 도시할 수 있다. 즉, 광학 센서 (12) 의 전면은 PCB (23) 의 제 1 부분에 수직으로 장착된다. 이것은 샤프트에서 오는 반사된 광 패턴이 광학 센서의 전면에 대하여 90 도에 가까운 각도로 광학 센서에 도달할 것이라는 장점을 갖는다. 실제로, 픽셀 패턴들의 생성을 용이하게 하기 위해서는, 광학 센서에 도달할 때 0 에 가까운, 바람직하게는 이 방향에 대하여 10 도 미만 이내인 반사된 광 신호 (9) 의 입사각을 갖는 것이 유익하다. 원하는 각도는 광학 센서 (12) 를, PCB (23) 의 제 1 및 메인 부분에 대하여 원하는 대로 기울어지는 PCB (23) 의 제 2 부분 상에 장착함으로써 달성될 수도 있다. 대안적으로, 광학 센서 (12) 는 다른 수단에 의해 기울어질 수도 있다.
본 발명은 도면들 및 전술한 설명에서 상세히 예시 및 설명되었지만, 이러한 예시 및 설명은 한정적이 아닌 실례적 또는 예시적인 것으로 간주될 것이며, 본 발명은 개시된 실시형태에 제한되지 않는다. 다른 실시형태들 및 변화들이 이해되며, 도면들, 개시물 및 첨부된 청구항들의 검토에 기초하여, 청구된 발명을 수행할 때 당업자에 의해 달성될 수 있다. 예를 들어, 샤프트 (10) 의 축방향 위치를 또한 결정하기 위해 광학적 위치 검출 장치를 이용하는 것이 또한 가능할 것이다. 이 경우에, 도 1 및 도 2 상에 예시한 바와 같은 갈바닉 검출 장치는 더 이상 필요하지 않을 것이다. 그러나, 임의의 다른 적절한 무접촉 시스템 (용량성, 유도성,...) 이 이것을 위하여 또한 고려될 수 있다. 도면들에 별개의 물리적 엘리먼트들로서 도시된 일부 엘리먼트들은 또한 단일의 물리적 엘리먼트로서 배열될 수 있다는 것에 또한 주목할 것이다. 예를 들어, 광 검출기 (12), 신호 프로세서 (13) 및 카운터 (14) 의 기능성들은 하나의 단일의 엘리먼트로서 구성될 수 있다.
청구항들에서, 단어 "포함하는 것" 은 다른 엘리먼트들 또는 단계들을 배제하지 않으며, 정관사 "a" 또는 "an" 은 복수를 배제하지 않는다. 단지 상이한 특징들이 상호간 상이한 종속항들에 기재된다는 사실은 이들 특징들의 조합이 바람직하게 이용될 수 없다는 것을 나타내지 않는다. 청구항들에서의 임의의 참조 부호들은 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되지 않아야 한다.
1 : 세팅 스템
3 : 반사 영역
5 : 광원
10 : 샤프트
11 : 크라운
12 : 광학 센서
13 : 신호 프로세서
15 : 래칭 스프링
17 : 리세스들
19 : 갈바닉 센서들
23 : PCB

Claims (15)

  1. 길이방향 축을 따라 축방향으로 이동되고 상기 길이방향 축 둘레로 회전되도록 배열된 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법으로서,
    - 광원 (5) 이 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 일부를 조명하는 단계;
    - 광학 센서 (12) 가 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 으로부터 반사된 또는 회절된 광 빔 (9) 을 수신하는 단계;
    - 프로세서 (13) 가 제 1 시간 인스턴트에서 상기 반사된 광 빔 (9) 을 나타내는 제 1 픽셀 패턴을 형성하는 단계;
    - 상기 프로세서 (13) 가 추후의 제 2 시간 인스턴트에서 상기 반사된 광 빔을 나타내는 제 2 픽셀 패턴을 형성하는 단계; 및
    - 상기 제 2 픽셀 패턴이 상기 제 1 픽셀 패턴에 대하여 시프트된다면 상기 타임피스 세팅 스템이 이동되었다고 결정하는 단계를 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    검출된 상기 운동은 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 각 운동인, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 픽셀 패턴이 상기 제 1 픽셀 패턴에 대하여 어느 정도 시프트되는지를 결정함으로써 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동의 양을 결정하는 단계를 더 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 픽셀 패턴이 상기 제 1 픽셀 패턴에 대하여 하나의 픽셀만큼 제 1 방향으로 시프트된다면 카운터 값을 1 씩 증분시키고, 상기 제 2 픽셀 패턴이 상기 제 1 픽셀 패턴에 대하여 하나의 픽셀만큼 상기 제 1 방향과는 반대인 제 2 방향으로 시프트된다면 상기 카운터 값을 1 씩 감분시키는 단계를 더 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    임의의 시간 인스턴트에서의 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 각 운동의 양은 상기 카운터 값에 의해 주어지는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 축방향 운동을 갈바닉으로 검출하는 단계를 더 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 세팅 스템의 축방향 운동을 갈바닉으로 검출하는 단계는, 가변하는 전기 도전율을 갖는 인코딩 패턴으로 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 일부를 인코딩하는 단계로서, 상기 인코딩 패턴은 인코딩된 링들을 포함하는 이진 패턴인, 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 일부를 인코딩하는 단계, 및 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 소정의 축방향 위치에서의 상기 인코딩 패턴을 결정하기 위해 상기 인코딩 패턴을 도전 센서 엘리먼트들 (19) 과 접촉시키는 단계를 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 타임피스 세팅 스템 (1) 에 대한 100 개보다 더 많은 각위치들의 검출 레졸루션이 정의될 수 있는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 센서 (12) 에 도달할 때 상기 반사된 광 빔의 입사각은 +10 도와 -10 도 사이인, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 운동의 검출을 활성화하기 위한 운동 검출 활성화 신호를 수신하는 단계를 더 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 운동 검출 활성화 신호는 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 임의의 타입의 운동이 검출될 때 수신되는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 타임피스 세팅 스템 (1) 이 소정의 시간 주기 동안 부동인 것으로 검출되었을 때 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법을 비활성화하는 단계를 더 포함하는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 픽셀 패턴 및 상기 제 2 픽셀 패턴은 적어도 초당 100 회 형성되는, 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하는 방법.
  14. 타임피스 세팅 스템 (1) 의 운동을 검출하기 위한 센서 장치로서,
    - 축방향으로 이동되고 길이방향 축 둘레로 회전되도록 배열된 타임피스 세팅 스템 (1);
    - 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 의 일부를 조명하기 위한 광원 (5);
    - 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 으로부터 반사된 또는 회절된 광 빔 (9) 을 수신하기 위한 광학 센서 (12); 및
    - 상기 반사된 광 빔 (9) 을 프로세싱하기 위한 프로세서 (13) 를 포함하며,
    상기 프로세서 (13) 는 상기 반사된 광 빔을 표현하는 픽셀 패턴을 형성하고 제 1 시간 인스턴트에서 획득된 제 1 픽셀 패턴과 추후의 제 2 시간 인스턴트에서 획득된 제 2 픽셀 패턴을 비교하도록 구성되며, 상기 제 2 픽셀 패턴이 상기 제 1 픽셀 패턴에 대하여 시프트된다면, 상기 프로세서 (13) 는 상기 타임피스 세팅 스템 (1) 이 이동되었다고 결정하도록 배열되는, 센서 장치.
  15. 제 14 항에 기재된 센서 장치를 포함하는, 타임피스.
KR1020150147740A 2014-10-28 2015-10-23 타임피스 세팅 스템의 운동을 검출하는 방법 및 센서 장치와 센서 장치를 포함하는 타임피스 KR101759396B1 (ko)

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