KR101675151B1 - 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 이방체 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 이방체에 관한 것이다. 본 발명에 따른 중합성 액정 화합물은 보다 강하고 안정적인 역 파장 분산을 제공할 수 있어, 두께가 얇으면서도 광학적 물성이 우수한 광학 이방체의 제공을 가능케 한다.
Description
본 발명은 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 이방체에 관한 것이다.
위상 지연기(phase retarder)는, 예를 들어 액정표시장치의 광 시야각화 등을 실현하기 위해 사용되는 광학 필름이다. 위상 지연기의 위상차 값은 파장에 의존하하는데, 그 위상차 값의 파장 분산은 다음과 같이 크게 세 가지로 구분된다. 즉, 위상차 값의 파장 분산은 위상차 값이 단파장 측일수록 큰 파장 분산을 갖는 정 파장 분산, 위상차 값이 단파장 측으로부터 장파장 측에 걸쳐 거의 바뀌지 않는 플랫 파장 분산, 위상차 값이 단파장 측일수록 작은 파장 분산을 갖는 역 파장 분산으로 구분될 수 있다. 위상 지연기의 경우 역 파장 분산을 나타내는 것이 바람직한데, 넓은 파장 대역에서 소정의 위상차(λ/2 또는 λ/4 등)를 갖기 때문이다.
그러나 통상의 수지 필름으로 형성되는 위상 지연기는 대부분 정 파장 분산을 나타내기 때문에, 역 파장 분산을 제공할 수 있는 다양한 종류의 액정 조성물이 제안되고 있다. 통상적으로 액정 조성물은 막대형 액정 물질과 이 액정 물질의 장축에 대해 수직으로 배향하는 비액정성 물질을 포함한다. 그런데, 비액정성 물질의 혼합비가 낮을 경우 역 파장 분산이 유도되지 않고, 그 혼합비가 높을 경우 액정 조성물이 액정 특성을 잃게 된다. 또한, 역 파장 분산성과 복굴절은 상보적인 특성을 가지고 있어, 역 파장 분산성을 높이기 위해 비액정성 물질의 함량을 높이게 되면 복굴절은 상대적으로 감소하게 된다.
따라서, 강한 역 파장 분산을 유도할 수 있는 물질의 개발과 비액정성 물질의 함유량이 낮으면서도 역 파장 분산을 유도할 수 있는 화합물의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 보다 강하고 안정적인 역 파장 분산의 제공을 가능케 하는 중합성 액정 화합물을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물과 광학 이방체를 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물이 제공된다:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 -O-, -NR-, -S-, -CR2-, -CO-, -SO-, 또는 -SO2- 이고, 상기 R은 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 10의 아실기이고;
MG1 및 MG2는 서로 같거나 다른 메소제닉 그룹이고;
A1, A2, E1, 및 E2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
D1 및 D2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 지환족 그룹, 치환 또는 비치환된 방향족 그룹, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 방향족 그룹이고;
J1 및 J2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기이고;
L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소 또는 중합성기로서, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기이고;
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(E1-D1)- 또는 -(D2-E2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다.
여기서, 상기 MG1 및 MG2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되는 그룹일 수 있다:
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
Y1, Y2 및 Y3 는 각각 독립적으로 방향족 고리 또는 헤테로 방향족 고리이고;
Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 -C≡C- 또는 -CM1=CM2- 이고, 상기 M1 및 M2는 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
R은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
p 및 q은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고, p+q은 1 이상의 정수이다.
바람직하게는, 상기 화학식 2에서 방향족 고리 또는 헤테로 방향족 고리는 1가 또는 2가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리일 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1에서 2가의 연결기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR-, -NR-CO-, -NR-CO-NR-, -O(CH2)x-, -(CH2)xO-, -CH=CHCH2O-, -OCH2CH=CH-, -(CH2)xCOO-, -OCO(CH2)x-, -(CH2)xOCO-O-, -OCO-O-(CH2)x-, -SCH2--, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -(CH2)x-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=N-, -N=CH-, 또는 -N=N- 이고; 상기 R은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, 상기 x는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수일 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1의 D1 및 D2는 각각 독립적으로 벤젠 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헥센 고리, 나프탈렌 고리, 데카하이드로나프탈렌 고리, 테트라하이드로나프탈렌 고리, 또는 페난트렌 고리이고; 이들 고리는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 할로겐 원자 또는 시아노기로 치환될 수 있고; 이들 고리 중 -CH=는 -N= 으로, -CH2-는 -S- 또는 -O- 로 치환될 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1의 중합성기는 각각 독립적으로 수소기, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기 또는 에폭시기일 수 있다.
한편, 본 발명에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물과 광학 이방체가 제공된다.
본 발명에 따른 중합성 액정 화합물은 보다 강하고 안정적인 역 파장 분산을 제공할 수 있어, 두께가 얇으면서도 광학적 물성이 우수한 광학 이방체의 제공을 가능케 한다.
도 1 내지 도 7은 각각 본 발명의 구현 예에 따른 중합성 액정 화합물의 합성에 관한 scheme을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명의 구현 예들에 따른 중합성 액정 화합물, 이를 포함하는 액정 조성물 및 광학 이방체에 대하여 설명하기로 한다.
그에 앞서, 본 명세서 전체에서 명시적인 언급이 없는 한, 전문용어는 단지 특정 구현예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다.
그리고, 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다.
또한, 명세서에서 사용되는 '포함'의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 또는 성분의 부가를 제외시키는 것은 아니다.
한편, '중합성 액정 화합물'은 중합성 관능기를 가지는 액정 화합물로서, 상기 중합성 액정 화합물을 적어도 1종 함유하는 액정 조성물을 액정 상태로 배향시킨 후, 그 상태에서 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하면, 액정 분자의 배향 구조를 고정화한 중합물을 얻을 수 있다. 이렇게 얻어진 중합물은 굴절율, 유전율, 자화율, 탄성율, 열팽창율 등의 물리적 성질의 이방성을 가지고 있으므로, 예를 들어 위상차판, 편광판, 편광 프리즘, 휘도 향상 필름, 광 섬유의 피복재 등의 광학 이방체로서 응용 가능하다. 그리고, 이러한 중합물의 이방성 이외에도, 예를 들면 투명성, 강도, 도포성, 용해도, 결정화도, 내열성 등의 물성도 중요하다.
그리고, '비복굴절율'(specific birefringent index)이라 함은 광학 필름을 투과하는 투과광의 파장(λ)에 있어서의 위상차 값을 의미하는 것으로서, △n(λ)로 표시될 수 있다.
한편, 본 발명자들은 중합성 액정 화합물에 대한 연구를 거듭하는 과정에서, 하기 화학식 1과 같은 구조를 가지는 중합성 액정 화합물은 높은 복굴절율을 가질 뿐 아니라 우수한 배향성을 나타낼 수 있어, 두께가 얇으면서도 광학적 물성이 우수한 광학 이방체의 제공을 가능케 함을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.
이러한 본 발명의 일 구현 예에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물이 제공된다:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 -O-, -NR-, -S-, -CR2-, -CO-, -SO-, 또는 -SO2- 이고, 상기 R은 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 10의 아실기이고;
MG1 및 MG2는 서로 같거나 다른 메소제닉 그룹이고;
A1, A2, E1, 및 E2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
D1 및 D2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 지환족 그룹, 치환 또는 비치환된 방향족 그룹, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 방향족 그룹이고;
J1 및 J2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기이고;
L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소 또는 중합성기로서, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기이고;
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(E1-D1)- 또는 -(D2-E2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 1,5-디하이드로-s-인다센(1,5-dihydro-s-indacene) 유도체 구조를 갖는 것으로서, 보다 강하고 안정적인 역 파장 분산성의 발현을 가능케 한다.
상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 X1 및 X2는 각각 독립적으로 -O-, -NR-, -S-, -CR2-, -CO-, -SO-, 또는 -SO2- 일 수 있고, 이때 상기 R은 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 10의 아실기일 수 있다. 그 중 상기 X1 및 X2는 -O-, -NR-, 또는 -S- 인 것이 상기 효과의 발현에 보다 유리할 수 있다.
그리고, 상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 MG1 및 MG2는 서로 같거나 다른 메소제닉 그룹(mesogenic group)일 수 있다. 상기 메소제닉 그룹은 액정의 기본 단위로서, 액정에서 구조적인 정렬(structural order)을 유도할 수 있다.
특히, 상기 구현 예에 있어서, 상기 MG1 및 MG2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되는 그룹일 수 있다:
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
Y1, Y2 및 Y3 는 각각 독립적으로 방향족 고리 또는 헤테로 방향족 고리이고;
Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 -C≡C- 또는 -CM1=CM2- 로서, 상기 M1 및 M2는 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
R은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
p 및 q은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고, p+q은 1 이상의 정수이다.
여기서, 상기 헤테로 방향족 고리는 하나 이상의 CH기가 N에 의해 치환된 방향족 고리, 또는 하나 또는 둘의 인접하지 않은 CH2기가 O, S 또는 O와 S에 의해 치환된 방향족 고리일 수 있다.
그리고, 상기 방향족 고리와 헤테로 방향족 고리는 할로겐, 시아노, 니트로기, 또는 하나 이상의 수소 원자가 F 또는 Cl에 의해 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 7의 알킬, 알콕시 또는 알카노일기로 일치환되거나 다치환될 수 있다.
바람직하게는, 상기 화학식 2의 방향족 고리 또는 헤테로 방향족 고리는 1가 또는 2가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리일 수 있다. 비제한적인 예로, 상기 화학식 2에서 p=0 이고 q=1 일때, R이 수소이면 Y2 는 2가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리이고, Y3는 1가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리라고 할 수 있다. 또한, 상기 화학식 2에서 p=1 이고 q=0 일 때, R이 수소이면 Y1은 1가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리라고 할 수 있고, R이 알킬기이면 Y1은 2가의 벤젠 고리 또는 피리딘 고리라고 할 수 있다.
그리고, 비제한적인 예로, 상기 화학식 2로 표시되는 그룹은 -Z1-Y1-R, -Y2-Z2-Y3-R, -Z1-Y1-Y2-Z2-Y3-R, -(Z1-Y1)2-R, -(Y2-Z2-Y3)2-R 등일 수 있다.
한편, 상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 A1, A2, E1, 및 E2는 각각 독립적으로 단일 결합이거나 또는 2가의 연결기일 수 있다. 여기서, 상기 2가의 연결기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR-, -NR-CO-, -NR-CO-NR-, -O(CH2)x-, -(CH2)xO-, -CH=CHCH2O-, -OCH2CH=CH-, -(CH2)xCOO-, -OCO(CH2)x-, -(CH2)xOCO-O-, -OCO-O-(CH2)x-, -SCH2--, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -(CH2)x-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=N-, -N=CH-, 또는 -N=N- 이고; 상기 R은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, 상기 x는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수일 수 있다.
그리고, 상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 D1 및 D2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 지환족 그룹, 치환 또는 비치환된 방향족 그룹, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 방향족 그룹일 수 있다.
바람직하게는, 상기 D1 및 D2는 각각 독립적으로 벤젠 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헥센 고리, 나프탈렌 고리, 데카하이드로나프탈렌 고리, 테트라하이드로나프탈렌 고리, 또는 페난트렌 고리일 수 있다. 이때, 상기 고리들은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 할로겐 원자 또는 시아노기로 치환될 수 있다. 여기서, 상기 치환은 단일 치환 또는 2 이상의 복수 치환일 수 있다. 또한, 상기 고리를 이루는 탄소 중 일부는 헤테로 원자로 치환될 수 있다. 본 발명의 일 예에 따르면, 상기 고리들 중 -CH=는 -N= 으로, -CH2-는 -S- 또는 -O- 로 치환될 수 있다.
그리고, 상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 J1 및 J2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기, 바람직하게는 탄소수 2 내지 10의 알킬렌기 일 수 있다. 여기서, 상기 알킬렌기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다.
그리고, 상기 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소 또는 중합성기로서, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기일 수 있다. 여기서 상기 중합성기는 불포화 결합 또는 (메트)아크릴레이트기 등과 같이 가교 또는 중합 가능한 임의의 작용기로서, 비제한적인 예로 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기 또는 에폭시기일 수 있다.
그리고, 상기 일 구현 예에 있어서, 상기 화학식 1의 m 및 n은 각각 -(E1-D1)- 또는 -(D2-E2)- 의 반복 단위로서, 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수일 수 있다. 여기서, 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(E1-D1)- 또는 -(D2-E2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다. 예를 들어, 상기 m이 2인 경우, -(E1-D1)-(E1-D1)- 의 각 반복 단위에 포함되는 E1 또는 D1은 각각 전술한 범위에서 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다.
이와 같은 화학식 1의 중합성 액정 화합물은 비제한적인 예로 후술할 실시예들에 따른 RM-01 내지 RM-07로 표시되는 화합물일 수 있다. 다만, 본 발명에 따른 중합성 액정 화합물이 RM-01 내지 RM-07의 화합물로 한정되는 것은 아니며, 전술한 화학식 1의 범위에서 다양한 조합으로 구현될 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물은 공지의 반응들을 응용하여 제조될 수 있으며, 보다 상세한 제조 방법은 실시예 부분에서 상술한다.
한편, 본 발명의 다른 구현 예에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물이 제공된다.
상기 구현 예에 따른 중합성 액정 조성물은 화학식 1로 표시되는 화합물을 중합 개시제와 함께 용제에 용해시킨 용액으로서, 화학식 1로 표시되는 화합물은 단독 또는 2종 이상의 조합으로 포함될 수 있다.
여기서, 상기 중합 개시제로는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 라디칼 중합 개시제가 사용될 수 있다. 그리고, 상기 중합 개시제의 함량은 상기 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 효율적으로 이끌어낼 수 있는 통상적인 범위에서 결정될 수 있다. 비제한적인 예로, 상기 중합 개시제는 조성물 전체 중량을 기준으로 10 중량% 이하, 바람직하게는 0.5 내지 8 중량%로 포함될 수 있다.
그리고, 상기 용제는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌(mesitylene), n-부틸벤젠, 디에틸벤젠, 테트랄린(tetralin), 메톡시벤젠, 1,2-디메톡시벤젠, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 아세트산에틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸포름아미드, 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소, 디클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, t-부틸알코올, 디아세톤알코올, 글리세린, 모노아세틴, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 이들 용제 중에서도 비점이 60 내지 250 ℃인 것이 조성물의 도포시 균일한 막 두께를 형성하는데 유리하고, 용매의 잔류나 배향성의 저하를 최소화하는데 유리하다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라, 크산톤(Xanthone), 티오크산톤, 클로로티오크산톤, 페노티아진, 안트라센, 디페닐안트라센 등의 증감제가 더욱 포함될 수 있다.
또한, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라, 4급 암모늄염, 알킬아민옥사이드, 폴리아민 유도체, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 축합물, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 알킬치환 방향족 술폰산염, 알킬인산염, 퍼플루오로알킬술폰산염 등의 계면활성제; 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노알킬에테르류, 피로갈롤류, 티오페놀류, 2-나프틸아민류, 2-하이드록시나프탈렌류 등의 보존 안정제; 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 트리페닐포스파이트 등의 산화 방지제; 살리실산 에스테르계 화합물, 벤조페놀계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈착염계 화합물 등의 자외선 흡수제가 더욱 포함될 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물에는, 필요에 따라, 광학 이방성을 조절하거나 중합막의 강도를 향상시키기 위한 미립자화물이 더욱 포함될 수 있다. 상기 미립자화물은 헥토라이트, 몬모릴로나이트, 카올리나이트, ZnO, TiO2, CeO2, Al2O3, Fe2O3, ZrO2, MgF2, SiO2, SrCO3, Ba(OH)2, Ca(OH)2, Ga(OH)3, Al(OH)3, Mg(OH)2, Zr(OH)4 등의 무기 미립자화물; 카본 나노튜브, 풀러린, 덴드리머, 폴리비닐알코올, 폴리메타크릴레이트, 폴리이미드 등의 유기 미립자화물일 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 이외에, 임의의 액정 화합물을 더욱 포함할 수 있으며, 상기 임의의 액정 화합물은 중합성을 갖거나 갖지 않는 것일 수 있다. 여기서, 상기 임의의 액정 화합물로는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 액정 화합물, 광학 활성기를 가지는 화합물, 봉상 액정 화합물 등을 예로 들 수 있다. 이때, 상기 임의의 액정 화합물은 그들의 구조에 따라 적절한 양으로 혼합될 수 있는데, 바람직하게는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 전체 단량체 중량의 20 중량% 이상, 또는 50 중량% 이상으로 포함되도록 하는 것이, 전술한 목적의 달성 측면에서 유리할 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 구현 예에 따르면, 상기 화학식 1의 중합성 액정 화합물을 포함하는 광학 이방체가 제공된다.
특히, 상기 구현 예에 따른 광학 이방체는 전술한 중합성 액정 화합물을 포함함에 따라, 하기 식 I 및 식 II를 만족하여 역 파장 분산을 나타낼 수 있다.
(식 I)
△n(450 nm )/△n(550 nm )〈 1.0
(식 II)
△n(650 nm )/△n(550 nm ) 〉1.0
(상기 식 I 및 식 II에서, △n(λ)는 액정상 내의 파장 λ에서의 비복굴절율을 의미함)
상기 구현 예에 따른 광학 이방체는 전술한 중합성 액정 조성물을 지지 기판에 도포하고, 상기 중합성 액정 조성물 중의 액정 화합물을 배향시킨 상태로 탈용매하고, 이어서 에너지선을 조사하여 중합함으로써 얻을 수 있다.
여기서, 상기 지지 기판은 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 예로는 유리판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리메타크릴산메틸 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 셀룰로오스계 필름, 실리콘 필름 등이 이용될 수 있다. 그리고, 상기 지지 기판상에 폴리이미드 배향막 또는 폴리비닐알코올 배향막을 시행한 것이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 지지 기판에 조성물을 도포하는 방법으로는 공지의 방법이 이용될 수 있으며, 예를 들면 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 바 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법 등이 적용될 수 있다. 그리고, 상기 조성물에 의해 형성되는 막의 두께는 용도에 따라 달라질 수 있는데, 바람직하게는 0.01 내지 100 ㎛의 범위에서 선택될 수 있다.
한편, 상기 액정 화합물을 배향시키는 방법으로는, 비제한적인 예를 들면, 지지 기판상에 사전에 배향 처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 배향 처리를 실시하는 방법으로는, 각종 폴리이미드계 배향막 또는 폴리비닐알코올계 배향막을 포함하는 액정 배향측을 지지 기판상에 형성하고, 러빙 등의 처리를 행하는 방법을 들 수 있다. 또한, 지지 기판상의 조성물에 자장 또는 전장 등을 인가하는 방법 등도 들 수 있다.
그리고, 상기 중합성 액정 조성물을 중합시키는 방법은, 광, 열 또는 전자파를 이용하는 공지의 방법일 수 있다.
이와 같은 본 발명의 광학 이방체는 액정 표시장치의 위상차 필름, 편광 소자, 액정 배향막, 반사 방지막, 선택 방사막, 시야각 보상막 등에 사용될 수 있다. 그 밖에도, 상기 광학 이방체는 액정 렌즈, 디지털 페이퍼, 홀로그래픽 소자, 광편광 프리즘 등의 광학 소자로 사용될 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상세히 서술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.
실시예
1: 화합물
RM
-01의 합성
도 1에 나타낸 Scheme 1에 따라 상기 화합물 RM-01을 합성하였다.
(화합물 3의 합성)
화합물 1[Macromolecules, 2012, 45, 6923] 약 20g, 화합물 2[Tetrahedron letters, 2012, 53, 43, 5773] 약 18.8g, 그리고 Pd(PPh3)4 (tetrakis(triphenylphosphine)palladium) 약 404mg을 톨루엔 200ml와 디메틸포름아마이드 40 ml 혼합 용액에 녹인 후, 질소 분위기 하에서 약 12 시간 동안 환류 교반하였다. 상기 반응 용액을 상온으로 냉각한 후, 디클로로메탄(dichloromethane)으로 희석시키고 소금물로 씻어주었다, 디클로로메탄 층을 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. 디클로로메탄과 메탄올을 이용한 재결정을 통해 약 18.2g의 화합물 3을 얻었다.
(화합물 4의 합성)
화합물 3 약 18g과 NaI 약 9g을 아세토니트릴(acetonitrile) 약 200ml에 녹인 후, BF3?OEt2 (boron trifluoride etherate) 약 8.4g을 천천히 넣어주었다. 약 8 시간 후 NaHCO3 용액을 넣어주고 ether로 반응물을 분리해냈다. 반응 용액을 Na2S2O3 용액과 물로 씻어주고, MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. 반응액에 ethyl acetate를 넣어 고체를 얻어낸 후 필터하여 약 13.8g의 화합물 4를 얻었다.
(화합물 RM-01의 합성)
화합물 4 약 6.5g, 화합물 5(국제공개특허 WO2011068138) 약 10.1g, EDC (1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 약 10.1g, 및 dimethylaminopyridine 약 5.9g을 dichloromethane 약 100ml에 녹인 후, 하루 동안 교반하였다. 이것을 dichloromethane으로 희석시킨 후, 소금물로 씻어주고 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. Dichloromethane과 hexane을 이용한 크로마토그래피를 통해 약 11.4g의 화합물 RM-01을 얻었다.
수득된 화합물 RM-01에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.75(4H,d), 7.62(8H,m), 7.40(6H,m), 7.14(2H,s), 6.27(2H,d), 6.05(2H,dd), 5.59(2H,d), 4.5(2H,m), 4.13(4H,t), 3.97(4H,t), 1.62(24H,m), 1.10(22H,m).
그리고, 화합물 RM-01의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-01은 약 172℃ 내지 201℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
2: 화합물
RM
-02의 합성
도 2에 나타낸 Scheme 2에 따라 상기 화합물 RM-02를 합성하였다.
(화합물 6의 합성)
화합물 4 약 13g, 화합물 5 약 10g, EDC (1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 약 10g, 및 dimethylaminopyridine 약 5.9g을 dichloromethane 약 200ml에 녹인 후, 하루 동안 교반하였다. 이것을 dichloromethane으로 희석시킨 후, 소금물로 씻어주고 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. Dichloromethane과 hexane을 이용한 크로마토그래피를 통해 약 17.6g의 화합물 6을 얻었다.
(화합물 RM-02의 합성)
화합물 4 약 8g, 화합물 7 [(1s,4r)-4-propylcyclohexanecarboxylic acid] 약 1.6g, EDC (1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 약 1.8g, 및 dimethylaminopyridine 약 2g을 dichloromethane 약 80ml에 녹인 후, 하루 동안 교반하였다. 이것을 dichloromethane으로 희석시킨 후, 소금물로 씻어주고 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. Dichloromethane과 hexane을 이용한 크로마토그래피를 통해 약 8.5g의 화합물 RM-02를 얻었다.
수득된 화합물 RM-02에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.70(4H,m), 7.59(8H,m), 7.41(6H,m), 7.15(2H,s), 6.24(1H,d), 6.02(1H,dd), 5.54(1H,d), 4.44(1H,m), 4.14(2H,t), 3.92(2H,t), 1.61(16H,m), 1.31(5H,m), 1.13(14H,m), 0.90(3H,m), 0.81(2H,m).
그리고, 화합물 RM-02의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-02는 약 154℃ 내지 193℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
3: 화합물
RM
-03의 합성
도 3에 나타낸 Scheme 3에 따라 상기 화합물 RM-03을 합성하였다.
구체적으로, 화합물 4 약 8g, 화합물 8 [(1r,1's,4R,4'R)-4'-butyl-[1,1'-bi(cyclohexane)]-4-carboxylic acid] 약 2.5g, EDC (1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide) 약 1.8g, 및 dimethylaminopyridine 약 2g을 dichloromethane 약 80ml에 녹인 후, 하루 동안 교반하였다. 이것을 dichloromethane으로 희석시킨 후, 소금물로 씻어주고 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. Dichloromethane과 hexane을 이용한 크로마토그래피를 통해 약 9g의 화합물 RM-03을 얻었다.
수득된 화합물 RM-03에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.71(4H,m), 7.57(8H,m), 7.40(6H,m), 7.14(2H,s), 6.26(1H,d), 6.04(1H,dd), 5.56(1H,d), 4.47(1H,m), 4.13(2H,t), 3.97(2H,t), 1.62(20H,m), 1.22(23H,m), 0.85(9H,m).
그리고, 화합물 RM-03의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-03은 약 164℃ 내지 198℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
4: 화합물
RM
-04의 합성
도 4에 나타낸 Scheme 4에 따라 상기 화합물 RM-04를 합성하였다.
(화합물 10의 합성)
화합물 9 (중국 공개특허 CN 102286142) 약 20g, phenylacetylene 약 10.1g, 및 copper iodode 약 566mg을 diisopropylethylamine 100ml와 tetrahydrofuran 100ml의 혼합 용액에 녹인 후, 질소 분위기 하의 60℃에서 약 12 시간 동안 교반하였다. 이것을 dichloromethane으로 희석시키고 NH4Cl 용액과 소금물로 씻어주었다. 그리고 유기층을 MgSO4로 건조시키고 감압 증류하였다. Dichloromethane과 methanol을 이용한 재결정을 통해 약 17.6g의 화합물 10을 얻었다.
(화합물 11의 합성)
화합물 3 대신 화합물 10을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 4의 합성 방법에 따라 약 9g의 화합물 11을 얻었다.
(화합물 RM-04의 합성)
화합물 4 대신 화합물 11을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 RM-01의 합성 방법에 따라 약 13.2g의 화합물 RM-04를 얻었다.
수득된 화합물 RM-04에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.55(4H,m), 7.42(6H,m), 7.14(2H,s), 6.26(2H,d), 6.03(2H,dd), 5.55(2H,d), 4.3(2H,m), 4.11(4H,t), 3.98(4H,t), 1.66(24H,m), 1.12(22H,m).
그리고, 화합물 RM-04의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-04는 약 132℃ 내지 178℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
5: 화합물
RM
-05의 합성
도 5에 나타낸 Scheme 5에 따라 상기 화합물 RM-05를 합성하였다.
(화합물 12의 합성)
화합물 4 대신 화합물 11을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 6의 합성 방법에 따라 약 11g의 화합물 12를 얻었다.
(화합물 RM-05의 합성)
화합물 6 대신 화합물 12를 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 RM-02의 합성 방법에 따라 약 9.4g의 화합물 RM-05를 얻었다.
수득된 화합물 RM-05에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.56(4H,m), 7.40(6H,m), 7.16(2H,s), 6.26(1H,d), 6.03(1H,dd), 5.53(1H,d), 4.48(1H,m), 4.16(2H,t), 3.93(2H,t), 1.63(16H,m), 1.36(5H,m), 1.12(14H,m), 0.91(3H,t), 0.80(2H,m).
그리고, 화합물 RM-05의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-05는 약 144℃ 내지 181℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
6: 화합물
RM
-06의 합성
도 6에 나타낸 Scheme 6에 따라 상기 화합물 RM-06을 합성하였다.
(화합물 14의 합성)
화합물 9 대신 화합물 13[ACS Applied materials & interfaces, 2010, 2, 5, 1303]을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 10의 합성 방법에 따라 약 25.5g의 화합물 14를 얻었다.
(화합물 15의 합성)
화합물 3 대신 화합물 14를 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 4의 합성 방법에 따라 약 22g의 화합물 15를 얻었다.
(화합물 RM-06의 합성)
화합물 4 대신 화합물 15를 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 RM-01의 합성 방법에 따라 약 15.3g의 화합물 RM-06을 얻었다.
수득된 화합물 RM-06에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 7.55(4H,m), 7.42(8H,m), 6.24(2H,d), 6.01(2H,dd), 5.57(2H,d), 4.25(2H,m), 4.15(4H,t), 3.97(4H,t), 1.63(24H,m), 1.11(22H,m).
그리고, 화합물 RM-06의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-06는 약 145℃ 내지 182℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
실시예
7: 화합물
RM
-07의 합성
도 7에 나타낸 Scheme 7에 따라 상기 화합물 RM-07을 합성하였다.
(화합물 16의 합성)
화합물 9 대신 화합물 13[ACS Applied materials & interfaces, 2010, 2, 5, 1303]을 사용하고, phenylacetylene 대신 4-ethynyl-pyridine을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 10의 합성 방법에 따라 약 25g의 화합물 16을 얻었다.
(화합물 17의 합성)
화합물 3 대신 화합물 16를 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 4의 합성 방법에 따라 약 22g의 화합물 17을 얻었다.
(화합물 RM-07의 합성)
화합물 4 대신 화합물 17을 사용한 것을 제외하고, 전술한 화합물 RM-01의 합성 방법에 따라 약 11g의 화합물 RM-07을 얻었다.
수득된 화합물 RM-07에 대한 NMR 스펙트럼은 다음과 같다.
1H NMR (CDCl3, 표준물질 TMS) δ(ppm): 8.39(4H,d), 7.52(4H,m), 7.44(2H,s), 6.23(2H,d), 6.06(2H,dd), 5.51(2H,d), 4.26(2H,m), 4.13(4H,t), 3.95(4H,t), 1.61(24H,m), 1.14(22H,m).
그리고, 화합물 RM-07의 조직을 편광현미경으로 관찰하고 상전이온도를 측정하였다. 그 결과, 화합물 RM-07은 약 160℃ 내지 212℃의 온도 범위에서 네마틱 상을 형성한다는 것이 확인되었다.
제조예
1
전체 조성물의 중량을 기준으로, 상기 화합물 RM-01 5 중량%, 하기 RM257로 표시되는 화합물[2-methyl-1,4-phenylene bis(4-(3-(acryloyloxy)propoxy)benzoate), 제조사: XI'AN RUILIAN MODERN Co., Ltd] 15 중량%, 광개시제로 Irgacure 907(스위스의 Ciba-Geigy사 제조) 5 중량%, 및 톨루엔 75 중량%를 포함하는 중합성 액정 조성물을 제조하였다.
[화합물 RM257]
상기 액정 조성물을 롤 코팅 방법으로 노보넨계 광 배향물질이 코팅된 TAC(트리아세틸셀룰로오스) 필름 위에 코팅한 후, 약 80℃로 2분 동안 건조하여 액정 화합물이 배향되도록 하였다. 그 후, 상기 필름에 200mW/㎠의 고압 수은등을 광원으로 하는 비편광 UV를 조사하여 액정의 배향 상태를 고정시켜 위상차 필름을 제조하였다.
제조예 2 내지 17
하기 표 1에 나타낸 바와 같이, 화합물 RM-01의 함량을 조절하거나, 화합물 RM-01 대신 화합물 RM-02 내지 RM-07 중 어느 하나를 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 위상차 필름을 각각 제조하였다.
비교
제조예
화합물 RM-01 내지 RM-07을 사용하고 않고, 상기 화합물 RM257을 20 중량%로 사용한 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 위상차 필름을 제조하였다.
시험예
제조예 1 내지 17과 비교 제조예에 따른 각각의 위상차 필름에 대하여, 정량적인 위상차 값을 Axoscan(Axomatrix사 제조)을 이용하여 측정하였다. 이때 독립적으로 두께를 측정하고, 수득된 값으로부터 △n 값을 구했으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
액정 화합물 (중량%) |
△n | △n(450 nm )/ △n(550 nm ) |
△n(650 nm )/ △n(550 nm ) |
|||
450nm | 550nm | 650nm | ||||
제조예 1 | RM-01(5) + RM257(15) | 0.076 | 0.083 | 0.088 | 0.91 | 1.06 |
제조예 2 | RM-01(10) + RM257(10) | 0.069 | 0.079 | 0.086 | 0.87 | 1.09 |
제조예 3 | RM-01(15) + RM257(5) | 0.062 | 0.076 | 0.083 | 0.82 | 1.09 |
제조예 4 | RM-02(5) + RM257(15) | 0.070 | 0.085 | 0.093 | 0.89 | 1.09 |
제조예 5 | RM-02(10) + RM257(10) | 0.069 | 0.081 | 0.088 | 0.85 | 1.09 |
제조예 6 | RM-02(15) + RM257(5) | 0.065 | 0.080 | 0.088 | 0.81 | 1.10 |
제조예 7 | RM-03(5) + RM257(15) | 0.075 | 0.083 | 0.086 | 0.90 | 1.04 |
제조예 8 | RM-03(10) + RM257(10) | 0.069 | 0.080 | 0.083 | 0.86 | 1.04 |
제조예 9 | RM-03(15) + RM257(5) | 0.059 | 0.074 | 0.078 | 0.80 | 1.05 |
제조예 10 | RM-04(10) + RM257(10) | 0.072 | 0.079 | 0.082 | 0.91 | 1.04 |
제조예 11 | RM-04(15) + RM257(5) | 0.064 | 0.075 | 0.079 | 0.85 | 1.05 |
제조예 12 | RM-05(10) + RM257(10) | 0.070 | 0.078 | 0.085 | 0.89 | 1.09 |
제조예 13 | RM-05(15) + RM257(5) | 0.065 | 0.076 | 0.083 | 0.86 | 1.09 |
제조예 14 | RM-06(10) + RM257(10) | 0.067 | 0.081 | 0.086 | 0.83 | 1.06 |
제조예 15 | RM-06(15) + RM257(5) | 0.063 | 0.078 | 0.083 | 0.81 | 1.07 |
제조예 16 | RM-07(10) + RM257(10) | 0.070 | 0.081 | 0.087 | 0.86 | 1.08 |
제조예 17 | RM-07(15) + RM257(5) | 0.065 | 0.079 | 0.086 | 0.82 | 1.09 |
비교 제조예 | RM257(20) | 0.132 | 1.115 | 0.106 | 1.18 | 0.92 |
상기 표 1을 통해 알 수 있는 바와 같이, 상기 화합물 RM-01 내지 RM-07을 포함하는 위상차 필름은 상기 식 I 및 식 II에 따른 조건을 만족하여 안정적인 역 파장 분산을 나타내는 것으로 확인되었다.
Claims (10)
- 하기 화학식 1로 표시되는 중합성 액정 화합물:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 -O- 이고;
MG1 및 MG2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되는 그룹이고;
A1, A2, E1, 및 E2는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 2가의 연결기이고;
상기 2가의 연결기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR-, -NR-CO-, -NR-CO-NR-, -O(CH2)x-, -(CH2)xO-, -CH=CHCH2O-, -OCH2CH=CH-, -(CH2)xCOO-, -OCO(CH2)x-, -(CH2)xOCO-O-, -OCO-O-(CH2)x-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -(CH2)x-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=N-, -N=CH-, 또는 -N=N- 이고; 상기 R은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기이고, 상기 x는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수이고;
D1 및 D2는 각각 독립적으로 벤젠 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헥센 고리, 나프탈렌 고리, 데카하이드로나프탈렌 고리, 테트라하이드로나프탈렌 고리, 또는 페난트렌 고리이고; 이들 고리는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 할로겐 원자 또는 시아노기로 치환될 수 있고; 이들 고리 중 -CH=는 -N= 으로, -CH2-는 -S- 또는 -O- 로 치환될 수 있고;
J1 및 J2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기이고;
L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 또는 에폭시기로서, L1 및 L2 중 적어도 하나는 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기 또는 에폭시기이고;
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수로서; 상기 상기 m 또는 n이 2 이상이면, 둘 이상 반복되는 -(E1-D1)- 또는 -(D2-E2)- 의 각 반복 단위는 서로 동일하거나 다른 것으로 될 수 있다;
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
Y1, Y2 및 Y3 는 각각 독립적으로 방향족 고리 또는 헤테로 방향족 고리이고;
Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 -C≡C- 또는 -CM1=CM2- 이고, 상기 M1 및 M2는 각각 독립적으로 수소, 할로겐 원자, 시아노, 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
R은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고;
p 및 q은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고, p+q은 1 이상의 정수이다.
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- 제 1 항에 따른 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물.
- 제 1 항에 따른 화합물을 포함하는 광학 이방체.
- 제 8 항에 있어서,
하기 식 I 및 식 II를 만족하는 광학 이방체:
(식 I)
△n(450 nm )/△n(550 nm )〈 1.0
(식 II)
△n(650 nm )/△n(550 nm ) 〉1.0
상기 식 I 및 식 II에서, △n(λ)는 액정상 내의 파장 λ에서의 비복굴절율을 의미한다.
- 제 8 항에 따른 광학 이방체를 포함하는 액정 표시장치용 광학 소자.
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