KR101669774B1 - 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판 - Google Patents

압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판 Download PDF

Info

Publication number
KR101669774B1
KR101669774B1 KR1020157002391A KR20157002391A KR101669774B1 KR 101669774 B1 KR101669774 B1 KR 101669774B1 KR 1020157002391 A KR1020157002391 A KR 1020157002391A KR 20157002391 A KR20157002391 A KR 20157002391A KR 101669774 B1 KR101669774 B1 KR 101669774B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
copper foil
rolling
less
final
rolled
Prior art date
Application number
KR1020157002391A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150029726A (ko
Inventor
가이치로 나카무로
다쿠마 요시카와
Original Assignee
제이엑스금속주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제이엑스금속주식회사 filed Critical 제이엑스금속주식회사
Publication of KR20150029726A publication Critical patent/KR20150029726A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101669774B1 publication Critical patent/KR101669774B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B1/00Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
    • B21B1/40Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling foils which present special problems, e.g. because of thinness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B3/00Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412Transparent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0358Resin coated copper [RCC]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metal Rolling (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

수지와 양호하게 접착되고, 또한 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 우수한 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판을 제공한다. 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 이상 또한 900 이하인 압연 구리박으로, 구리박과 필름 두께 25 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 적층한 폭 3 ㎜ 이상 5 ㎜ 이하의 편면 구리 피복 적층판의 시료에 대하여, 폴리이미드 필름면을 내측으로 한 180°밀착 굽힘을 실시했을 때에, 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수가 3 회 이상인 압연 구리박.

Description

압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판 {ROLLED COPPER FOIL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND LAMINATE PLATE}
본 발명은, 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판에 관한 것으로, 특히 구리박을 에칭한 후의 잔부의 수지의 투명성이 요구되는 분야에 바람직한 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판에 관한 것이다.
최근, 전자 기기의 고기능화에 수반되어, 신호의 고주파화가 진행되고 있고, 그에 따라 신호 배선으로서 사용되는 플렉시블 프린트 배선판 (이하, FPC) 에도 고주파 대응이 요구되고 있다. 신호가 고주파화되면, 신호 전류는 배선의 표면 근방을 전파하기 때문에, FPC 의 배선 부재로서 사용되는 구리박의 표면이 거칠면 신호의 손실이 커진다. 그 때문에 고주파 대응의 구리박에는 표면의 평활성이 요구된다.
또, FPC 를 LCD 와 ACF 접합할 때에, FPC 의 베이스가 되는 수지층 (예를 들어, 폴리이미드) 너머에 CCD 카메라로 마커 위치를 확인하고, 접합 위치 맞춤을 실시한다. 이 때문에 수지층의 투명도가 낮으면 위치 맞춤을 할 수 없다.
FPC 의 수지층은, 구리박과 수지층을 접합한 후에 에칭에 의해 구리층을 제거한 것이다. 그 때문에 수지층 표면은, 구리박 표면의 요철을 전사한 레플리카로 되어 있다. 즉, 구리박 표면이 거칠면 수지층 표면도 거칠어져, 광을 난반사하기 때문에 투명도가 저하된다. 이 때문에, 수지층의 광 투과성을 개선하기 위해서는, 구리박의 수지층과의 접착면을 평활하게 할 필요가 있다.
일반적으로, 구리박의 수지층과의 접착면은, 접착 강도를 늘리기 위해서 조화 (粗化) 도금 처리된다. 구리박의 표면 조도에 비해 조화 처리의 도금 입자가 크기 때문에, 구리박 표면을 평활하게 하는 수단으로서 지금까지 주로 도금 조건의 개량이 실시되어 왔다.
이와 같은 기술로서, 예를 들어 특허문헌 1 에는, 구리박 표면에 크롬 및 아연의 이온 또는 산화물로부터 형성되고, 적어도 0.5 % 의 실란을 함유하는 수용액을 이용하여 처리되는 부착층을 갖는 구리박이 나타나 있다.
일본 공개특허공보 2012-39126호
그러나, 특허문헌 1 에 개시된 실증 샘플의 밀착 강도는 비교 샘플인 거친 구리박과 비교하면 접착 강도는 낮은 값에 그친다. 이와 같이, 조화 입자를 과도하게 미세화하면 수지층과의 밀착 강도가 저하되기 때문에, 조화 도금의 개량에 의한 평활화에는 한계가 있었다. 이 때문에, 수지층과 구리박의 밀착 강도의 확보와, 수지층의 시인성의 향상을 양립시키는 것이 곤란해졌다.
본 발명은, 종래와 동일한 조화 도금을 실시한 경우에도 평활한 표면을 가져 수지와 양호하게 접착되고, 또한 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 우수한 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은 예의 연구를 거듭한 결과, 조화 도금의 모재가 되는 압연 구리박의 표면을 소정의 수단으로 평활화하고, 광택도를 소정의 범위로 제어한 압연 구리박을 사용함으로써, 수지와의 양호한 밀착성을 얻기 위한 조화 처리를 실시해도, 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 양호해지는 것을 알아냈다.
이상의 지견을 기초로 하여 완성된 본 발명은 일 측면에 있어서, 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 이상 또한 900 이하인 압연 구리박으로, 상기 구리박과 필름 두께 25 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 적층한 폭 3 ㎜ 이상 5 ㎜ 이하의 편면 구리 피복 적층판의 시료에 대하여, 상기 폴리이미드 필름면을 내측으로 한 180°밀착 굽힘을 실시했을 때에, 상기 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수가 3 회 이상인 압연 구리박이다.
본 발명은 다른 일 측면에 있어서, 최종 냉간 압연 공정의 최종 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 17000 이하, 최종 압연 패스 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 15000 이하, 또한 그 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 10000 이하로 하고, 또한 최종 압연 공정에 있어서, 최종 압연 패스 직전에 압연 방향의 입사각 60 도 광택도가 500 보다 커지도록 조정한 후, 최종 압연 패스를 실시하는 본 발명에 기재된 압연 구리박의 제조 방법이다.
본 발명은 또 다른 일 측면에 있어서, 본 발명의 압연 구리박과 수지 기판을 적층하여 구성한 적층판이다.
본 발명에 의하면, 수지와 양호하게 접착되고, 또한 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 우수한 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판을 제공할 수 있다.
도 1 은, 실시예 2 의 구리박 표면의 SEM 이미지이다.
도 2 는, 비교예 2 의 구리박 표면의 SEM 이미지이다.
〔압연 구리박의 형태 및 제조 방법〕
본 발명에 있어서 사용하는 압연 구리박은, 수지 기판과 접착시켜 적층체를 제작하고, 에칭에 의해 부분적으로 구리박을 제거함으로써 사용되는 압연 구리박에 유용하다.
통상, 구리박의 수지 기판과 접착하는 면, 즉 조화면에는 적층 후의 구리박의 박리 강도를 향상시키는 것을 목적으로 하고, 탈지 후의 구리박의 표면에 울퉁불퉁한 형상의 전착을 실시하는 조화 처리가 실시된다. 이 조화 처리는 구리-코발트-니켈 합금 도금이나 구리-니켈-인 합금 도금 등에 의해 실시할 수 있다.
본 발명에 관련된 압연 구리박에는 Ag, Sn, In, Ti, Zn, Zr, Fe, P, Ni, Si, Te, Cr, Nb, V 등의 원소를 1 종 이상 함유하는 구리 합금박도 포함된다. 예를 들어, 상기 원소를 10 ∼ 2000 ppm 함유하는 구리 합금, 혹은 10 ∼ 500 ppm 함유하는 구리 합금이 포함된다. 상기 원소의 농도가 높아지면 (예를 들어 합계로 10 질량% 이상) 도전율이 저하되는 경우가 있다. 압연 구리박의 도전율은, 바람직하게는 50 % IACS 이상, 보다 바람직하게는 60 % IACS 이상, 더욱 바람직하게는 80 % IACS 이상이다. 또 구리박 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎛, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 35 ㎛ 이다.
본 발명의 압연 구리박은, 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 보다 크다. 이 때문에, 구리박 표면의 평활성이 양호해져, 수지와의 양호한 밀착성을 얻기 위한 조화 처리를 실시해도, 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 양호해진다. 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 이하이면, 수지와의 양호한 밀착성을 얻기 위한 조화 처리를 실시한 경우, 구리박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 양호한 투명성을 얻는 것이 곤란해진다.
또, 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 520 이상인 것이 바람직하고, 550 이상인 것이 더욱 바람직하다. 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 600 이상인 것이 보다 더 바람직하다. 구리박의 특성상, 60 도 광택도 (G) 에 대하여 상한에 제한은 없지만, 제조성 등을 고려하면 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 를 900 이하로 할 수 있다.
본 발명의 압연 구리박은, 구리박과 필름 두께 25 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 적층한 폭 3 ㎜ 이상 5 ㎜ 이하의 편면 구리 피복 적층판의 시료에 대하여, 폴리이미드 필름면을 내측으로 한 180° 밀착 굽힘을 실시했을 때에, 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수가 3 회 이상인 것이 바람직하고, 5 회 이상인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 조건을 만족하도록 굴곡성이 양호하면, LCD 모듈용 FPC 로서 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명의 압연 구리박의 제조 방법으로는, 먼저 용해로에서 원료를 용해시켜, 원하는 조성의 용탕을 얻는다. 그리고, 이 용탕을 잉곳에 주조한다. 그 후, 열간 압연, 냉간 압연 및 어닐링을 적절히 실시하고, 소정의 두께를 갖는 박으로 마무리한다. 열처리 후에는, 열처리시에 생성된 표면 산화막을 제거하기 위해서, 표면의 산세나 연마 등을 실시해도 된다. 최종 냉간 압연에서는, 열처리 후의 재료를 반복해서 압연기에 통판 (通板) (패스) 함으로써 소정의 두께로 마무리한다. 본 발명의 압연 구리박의 제조 방법에서는, 최종 냉간 압연 공정의 최종 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 17000 이하, 최종 압연 패스 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 15000 이하, 또한 그 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 10000 이하로 하고, 또한 최종 압연 공정에 있어서, 최종 압연 패스 직전에 압연 방향의 입사각 60 도 광택도가 500 보다 커지도록 조정한 후, 최종 압연 패스를 실시하는 것이 중요하다.
여기서, 유막 당량은 하기의 식으로 규정된다.
유막 당량 = {(압연유 점도 [cSt]) × (통판 속도 [mpm] + 롤 둘레 속도 [mpm])}/{(롤의 맞물림각 [rad]) × (재료의 항복 응력 [㎏/㎟])}
압연유 점도 [cSt] 는 40 ℃ 에서의 동점도이다.
유막 당량을 제어하기 위해서는, 저점도의 압연유를 사용하거나, 통판 속도를 늦추거나 하는 등, 공지된 방법을 이용하면 된다.
유막 당량을 제어함으로써, 재료 표면의 변형이 롤에 의해 구속되고, 압연에 의한 두께의 변화에 수반되는 표면 조도의 증가를 억제할 수 있다. 또, 최종 압연 패스 직전에 광택도를 높임으로써, 최종 패스 후의 광택도를 소기의 범위로 제어할 수 있다. 최종 패스 직전에 광택도가 낮으면, 최종 패스에서 재료 표면을 평활하게 해도 이전 패스까지 형성된 깊은 요철이 잔류하기 때문에, 소기의 표면 형상이 얻어지지 않는다.
또, 유막 당량이 작은 경우에는, 압연에 사용하는 압연 롤 표면의 요철이 재료 표면에 전사되기 쉽기 때문에, 압연 롤 표면도 평활한 것이 바람직하다. 이 때문에, 본 발명의 압연 구리박의 제조 방법에서 사용하는 압연 롤은, 롤의 회전축에 평행한 방향에서 측정했을 때의 평균 조도 (Ra) 가 0.1 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 압연 구리박을, 조화 처리면측으로부터 수지 기판에 첩합 (貼合) 하여 적층체를 제조할 수 있다. 수지 기판은 프린트 배선판 등에 적용 가능한 특성을 갖는 것이면 특별히 제한을 받지 않지만, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 등의 폴리에스테르 필름이나 폴리이미드 필름, 액정 폴리머 (LCP) 필름 등을 사용할 수 있다.
첩합 방법은, 폴리이미드 필름 등의 기재에 접착제를 개재하여, 또는 접착제를 사용하지 않고 고온 고압하에서 압연 구리박에 적층 접착하여, 또는 폴리이미드 전구체를 도포·건조·경화 등을 실시함으로써 적층판을 제조할 수 있다.
실시예
실시예 1 ∼ 11 및 비교예 1 ∼ 5 로서, 각 압연 구리박을 이하와 같이 준비하였다.
먼저, 표 1 에 기재된 조성의 구리 잉곳을 제조하고, 열간 압연을 실시한 후, 냉간 압연과 300 ∼ 800 ℃ 의 온도로 설정한 어닐링로에 있어서의 어닐링을 1 회 이상 반복하고, 그 후 냉간 압연하여 1 ∼ 2 ㎜ 두께의 압연판을 얻었다. 이 압연판을 300 ∼ 800 ℃ 의 온도로 설정한 어닐링로에서 어닐링하여 재결정시키고, 표 1 에 기재된 두께까지 최종 냉간 압연하였다. 이 때, 실시예 1 ∼ 11 에 대해서는 최종 냉간 압연 공정에 있어서, 최종 압연 패스에 있어서 유막 당량이 17000 이하, 최종 압연 패스 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 15000 이하, 또한 그 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 10000 이하가 되도록 압연 조건을 조정하고, 최종 압연 패스 직전에 압연 방향의 입사각 60 도 광택도가 표 1 에 기재된 값이 되도록 압연 조건을 조정하여 실시하였다. 표 1 에 있어서, 최종 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 「최종 패스 유막 당량」, 최종 압연 패스 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 「최종 1 패스 전 유막 당량」, 또한 그 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 「최종 2 패스 전 유막 당량」으로 기재하고 있다.
또, 비교예 1 ∼ 5 에 대해서는 표 1 에 기재된 조건으로 최종 냉간 압연을 실시하였다.
또, 이 때 사용한 압연 롤은, 롤의 회전축에 평행한 방향에서 측정했을 때의 평균 조도 (Ra) 가 0.08 ㎛ 였다.
조화 처리의 조건은 이하와 같이 설정하였다. 조화 처리의 조건은, 실용상 충분한 필 강도가 얻어지는 것으로 하고, 일반적으로 FPC 용도에서 사용되고 있는 것으로 하였다.
·도금욕 조성:Cu 15 g/ℓ, Co 8.5 g/ℓ, Ni 8.6 g/ℓ
·처리액 pH:2.5
·처리 온도:38 ℃
·전류 밀도:20 A/d㎡
·도금 시간:2.0 초
상기 서술한 바와 같이 하여 제작한 실시예 및 비교예의 각 샘플에 대하여, 각종 평가를 하기와 같이 실시하였다.
·광택도;
JIS Z8741 에 준거한 닛폰 전색 공업 주식회사 제조 광택도계 핸디 글로스 미터 PG-1 을 사용하고, 압연 방향의 입사각 60 도로 표면 처리 전의 구리박의 광택도를 구하였다.
·시인성 (수지 투명성);
수지 투명성의 평가는 헤이즈값을 이용하여 실시하였다. 여기서 헤이즈값 (%) 은, (확산 투과율)/(전체 광선 투과율) × 100 으로 산출되는 값이다.
각 샘플 구리박의 일방의 표면에, 조화 처리로서 이하의 조건으로 도금 처리를 실시하였다.
·도금욕 조성:Cu 15 g/ℓ, Co 8.5 g/ℓ, Ni 8.6 g/ℓ
·처리액 pH:2.5
·처리 온도:38 ℃
·전류 밀도:20 A/d㎡
·도금 시간:2.0 초
다음으로 조화 처리 구리박에 대하여, 라미네이트용 열경화성 접착제가 부착된 폴리이미드 필름 (두께 50 ㎛, 우베 흥산 제조 유피렉스) 의 양면에 조화 면측을 첩합하고, 구리박을 에칭 (염화 제 2 철 수용액) 으로 제거하여 샘플 필름을 제작하였다. JIS K7136 (2000) 에 준거한 무라카미 색채 기술 연구소 제조 헤이즈 미터 HM-150 을 사용하여, 샘플 필름의 헤이즈값을 측정하였다.
·필 강도 (접착 강도);
PC-TM-650 에 준거하여, 인장 시험기 오토 그래프 100 으로 상태 필 강도를 측정하고, 상기 상태 필 강도가 0.7 N/mm 이상을 적층 기판 용도에 사용할 수 있는 것 (판정 「○」) 으로 하고, 0.7 N/mm 미만인 것을 사용할 수 없는 것 (판정 「×」) 으로 하였다.
·굽힘성;
각 구리박과 필름 두께 25 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 적층한 폭 3 ㎜ 이상 5 ㎜ 이하의 편면 구리 피복 적층판의 시료를 제작하고, 폴리이미드 필름면을 내측으로 한 180°밀착 굽힘을 실시했을 때에, 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수를 측정하였다.
상기 각 시험의 조건 및 평가를 표 1 에 나타낸다.
Figure 112015009323591-pct00001
(평가 결과)
도 1 에 실시예 2 의 구리박 표면의 SEM 이미지를 나타낸다. 도 2 에 비교예 2 의 구리박 표면의 SEM 이미지를 나타낸다.
실시예 1 ∼ 11 은, 모두 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 보다 크고, 수지와의 밀착성, 수지의 시인성 및 굽힘성이 양호하였다.
비교예 1 ∼ 5 는, 모두 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 이하이고, 수지의 시인성이 불량했다. 또, 굽힘성이 불량한 것도 있었다.

Claims (6)

  1. 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 500 이상 또한 900 이하인 압연 구리박으로,
    상기 구리박과 필름 두께 25 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 적층한 폭 3 ㎜ 이상 5 ㎜ 이하의 편면 구리 피복 적층판의 시료에 대하여, 상기 폴리이미드 필름면을 내측으로 한 180°밀착 굽힘을 실시했을 때에, 상기 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수가 3 회 이상인 압연 구리박.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 압연 방향의 입사각 60 도 광택도 (G) 가 600 이상 또한 900 이하인 압연 구리박.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 구리박이 파단될 때까지의 굽힘 횟수가 5 회 이상인 압연 구리박.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    최종 냉간 압연 공정의 최종 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 17000 이하, 최종 압연 패스 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 15000 이하, 또한 그 직전의 압연 패스에 있어서의 유막 당량을 10000 이하로 하고, 또한 최종 압연 공정에 있어서, 최종 압연 패스 직전에 압연 방향의 입사각 60 도 광택도가 500 보다 커지도록 조정한 후, 최종 압연 패스를 실시하는 압연 구리박의 제조 방법.
  5. 재 4 항에 있어서,
    롤의 회전축에 평행한 방향에서 측정했을 때의 평균 조도 (Ra) 가 0.1 ㎛ 이하인 압연 롤을 이용하여 압연을 실시하는 압연 구리박의 제조 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 압연 구리박과 수지 기판을 적층하여 구성한 적층판.
KR1020157002391A 2012-06-29 2013-06-25 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판 KR101669774B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-147449 2012-06-29
JP2012147449A JP5261595B1 (ja) 2012-06-29 2012-06-29 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板
PCT/JP2013/067413 WO2014003019A1 (ja) 2012-06-29 2013-06-25 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150029726A KR20150029726A (ko) 2015-03-18
KR101669774B1 true KR101669774B1 (ko) 2016-10-27

Family

ID=49053007

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157002391A KR101669774B1 (ko) 2012-06-29 2013-06-25 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5261595B1 (ko)
KR (1) KR101669774B1 (ko)
CN (1) CN103636296B (ko)
TW (1) TWI600537B (ko)
WO (1) WO2014003019A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5475897B1 (ja) * 2012-05-11 2014-04-16 Jx日鉱日石金属株式会社 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法
JP6612168B2 (ja) * 2016-03-30 2019-11-27 Jx金属株式会社 銅箔、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器
JP6611751B2 (ja) * 2017-03-31 2019-11-27 Jx金属株式会社 リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池
JP6856688B2 (ja) * 2019-03-26 2021-04-07 Jx金属株式会社 フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器
CN110392485B (zh) * 2019-06-18 2022-04-12 淮安维嘉益集成科技有限公司 一种lp316l sta高阶摄像头模组fpc基板加工方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011136357A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Jx Nippon Mining & Metals Corp 銅箔及びそれを用いた銅張積層板
WO2012043462A1 (ja) * 2010-09-28 2012-04-05 Jx日鉱日石金属株式会社 圧延銅箔

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7749611B2 (en) 2002-12-05 2010-07-06 Gbc Metals, L.L.C. Peel strength enhancement of copper laminates
JP4401998B2 (ja) * 2005-03-31 2010-01-20 日鉱金属株式会社 銅張積層基板用高光沢圧延銅箔及びその製造方法
JP4522972B2 (ja) * 2005-04-28 2010-08-11 日鉱金属株式会社 銅張積層基板用高光沢圧延銅箔
JP4240506B2 (ja) * 2006-09-05 2009-03-18 三井金属鉱業株式会社 電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法
JP2008182222A (ja) * 2006-12-28 2008-08-07 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 可撓性プリント配線基板および半導体装置
JP4972115B2 (ja) * 2009-03-27 2012-07-11 Jx日鉱日石金属株式会社 圧延銅箔

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011136357A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Jx Nippon Mining & Metals Corp 銅箔及びそれを用いた銅張積層板
WO2012043462A1 (ja) * 2010-09-28 2012-04-05 Jx日鉱日石金属株式会社 圧延銅箔

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014003019A1 (ja) 2014-01-03
KR20150029726A (ko) 2015-03-18
TW201404585A (zh) 2014-02-01
CN103636296B (zh) 2017-06-06
JP2014011341A (ja) 2014-01-20
JP5261595B1 (ja) 2013-08-14
CN103636296A (zh) 2014-03-12
TWI600537B (zh) 2017-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5497808B2 (ja) 表面処理銅箔及びそれを用いた銅張積層板
KR101671130B1 (ko) 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판
KR101751622B1 (ko) 표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판, 프린트 배선판, 전자 기기, 그리고 프린트 배선판의 제조 방법
KR101704892B1 (ko) 표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판, 동박, 프린트 배선판, 전자 기기, 그리고 프린트 배선판의 제조 방법
KR101669774B1 (ko) 압연 구리박 및 그 제조 방법, 그리고 적층판
KR20160129916A (ko) 표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판, 동박, 프린트 배선판, 전자 기기, 그리고 프린트 배선판의 제조 방법
WO2013108415A1 (ja) 銅張積層板用表面処理銅箔及びそれを用いた銅張積層板
JP2014011451A (ja) 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板
JP6305001B2 (ja) 銅箔、銅張積層板及びフレキシブルプリント配線板
JP6170516B2 (ja) 圧延銅箔及びその製造方法、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器
JP6081883B2 (ja) 銅箔及びそれを用いた積層板、電子機器の製造方法、並びに、プリント配線板の製造方法
JP5922169B2 (ja) 電子機器の製造方法
JP2014148747A (ja) 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法
CN104942001A (zh) 铝箔轧制方法
JP2014218690A (ja) 銅箔及びその製造方法、並びに銅張積層板及びフレキシブルプリント配線板

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant