KR101595541B1 - 세라믹 제조용 세터와 이의 제조 방법 - Google Patents

세라믹 제조용 세터와 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세라믹 제조용 세터와 이의 제조 방법에 관한 것이다. 세라믹 제조용 세터의 제조 방법은, ⅰ) 알루미나(Al2O3)를 포함하는 제1 슬러리 및 지르코니아(ZrO2)를 포함하는 제2 슬러리를 제조하는 단계와, ⅱ) 제1 슬러리와 제2 슬러리를 각각 바탕 필름 위에 도포, 건조 후 바탕 필름을 제거하여 알루미나 테이프 및 지르코니아 테이프를 제조하는 단계와, ⅲ) 알루미나 테이프를 복수개 적층하여 알루미나 스택을 형성하고, 알루미나 스택 위에 지르코니아 테이프를 복수개 적층하여 지르코니아 스택을 형성하는 단계와, ⅳ) 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 가열 압착 후 동시 소성 및 탈지하여 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.
세라믹, 제조, 세터, 알루미나, 지지체, 지르코니아, 코팅층, 압착, 소성

Description

세라믹 제조용 세터와 이의 제조 방법 {SETTER FOR MANUFACTURING CERAMIC AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 세라믹 제조용 세터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 낮추며, 양면 모두를 사용할 수 있는 세라믹 제조용 세터 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
세라믹 제조용 세터(setter)는 세라믹 원재료를 소결 압착하여 세라믹 부품을 제조할 때 세라믹 원재료를 지지하는 역할을 한다. 이러한 세라믹 제조용 세터는 세라믹 원재료의 소결 온도 이상에서 파손되거나 변형이 일어나지 않아야 하며, 세라믹 원재료에 포함된 금속 산화물과 반응하지 않아야 한다.
예를 들어, 알루미나(Al2O3)로 제조된 세터의 경우, 고체산화물 연료전지의 전극 구성 물질인 Ni 산화물을 알루미나 세터 위에서 소결하면, 알루미나 세터와 Ni 산화물이 반응하여 니켈 알루미네이트(NiAl2O4)가 형성되고, Ni 성분이 알루미나 세터로 이동하여 연료전지 스택 제조시 제품 불량이 발생하게 된다.
따라서 알루미나 지지체 위에 Ni과의 반응성이 없는 지르코니아(ZrO2) 코팅 층을 형성한 세터가 제안되었다. 이 세터는 지르코니아로 제조된 세터와 동일한 효과(예를 들어, 녹는점이 매우 높고, 많은 금속과의 반응성이 적은 효과)를 발휘하면서 생산 원가를 줄일 수 있는 장점이 있다.
전술한 세터는, ① 가압 프레스법 또는 슬립 캐스팅법을 이용하여 알루미나 지지체를 성형한 다음 이를 소성 및 탈지하여 알루미나 지지체를 제조하고, ② 스프레이 코팅법을 이용하여 알루미나 지지체 위에 지르코니아를 도포한 다음 이를 소성 및 탈지하여 지르코니아 코팅층을 형성하며, ③ 세터의 표면을 가공 및 절단하는 과정을 거쳐 완성된다.
그런데 가압 프레스법과 슬립 캐스팅법은 생산성이 높지 못하며, 연속식 공정이 불가능하다. 스프레이 코팅법은 공정 단가가 매우 높고, 양면 코팅에 어려움이 있으며, 지르코니아 코팅층의 두께가 불균일하기 때문에 제조 후 정밀 가공이 요구되나, 정밀 가공 후에는 제조 수율이 저하되는 이중의 문제를 안고 있다. 더욱이 종래에는 두 번에 걸친 소성 및 탈지 공정으로 인해 제조 공정이 복잡해지고, 제조 비용이 상승하게 된다.
본 발명은 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 낮추며, 양면 사용이 가능한 세라믹 제조용 세터 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터의 제조 방법은, ⅰ) 알루미 나(Al2O3)를 포함하는 제1 슬러리 및 지르코니아(ZrO2)를 포함하는 제2 슬러리를 제조하는 단계와, ⅱ) 제1 슬러리와 제2 슬러리를 각각 바탕 필름 위에 도포, 건조 후 바탕 필름을 제거하여 알루미나 테이프 및 지르코니아 테이프를 제조하는 단계와, ⅲ) 알루미나 테이프를 복수개 적층하여 알루미나 스택을 형성하고, 알루미나 스택 위에 지르코니아 테이프를 복수개 적층하여 지르코니아 스택을 형성하는 단계와, ⅳ) 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 가열 압착 후 동시 소성 및 탈지하여 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.
제1 슬러리는 알루미나와 탈크가 혼합된 세라믹 파우더, 바인더, 해교제, 가소제, 및 용매를 포함할 수 있다. 알루미나는 세라믹 파우더에 대해 60중량% 내지 80중량%로 포함될 수 있다. 제1 슬러리는 기공제를 더 포함할 수 있다. 기공제는 세라믹 파우더에 대해 20중량% 내지 40중량%로 포함될 수 있다. 제1 슬러리는 3000cps 내지 7000cps의 점도를 가질 수 있다.
제2 슬러리는 지르코니아 파우더, 바인더, 해교제, 가소제, 및 용매를 포함할 수 있다. 제2 슬러리는 기공제를 더 포함할 수 있다. 기공제는 지르코니아 파우더에 대해 10중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다.
지르코니아 테이프는 40㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다.
가열 압착은 70℃ 내지 100℃에서 진행될 수 있고, 동시 소성은 1500℃ 내지 1600℃에서 진행될 수 있다. 지르코니아 스택을 알루미나 스택의 양면에 배치하여 지르코니아 코팅층을 알루미나 지지체의 양면에 형성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터는, 전술한 방법으로 제조된 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 포함한다.
알루미나 지지체는 1.5mm 내지 3mm의 두께를 가질 수 있고, 지르코니아 코팅층은 30㎛ 내지 200㎛의 두께를 가질 수 있다. 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층은 10% 내지 50%의 기공도를 가질 수 있다.
본 발명에 의한 세터의 제조 방법에 따르면, 소성 공정 수를 줄여 전체 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 절감할 수 있다. 또한, 지르코니아 코팅층의 표면 구조 및 세터의 기공도를 용이하게 제어할 수 있으므로, 세터의 사용 목적에 따라 다양한 종류의 세터를 제조할 수 있고, 테이프 캐스팅법의 특성상 연속식 제조가 가능하므로 세터의 대량 생산이 가능하다. 또한, 알루미나 지지체의 양면에 지르코니아 코팅층을 형성하므로 세터의 양면 모두를 사용할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 1을 참고하면, 세라믹 제조용 세터의 제조 방법은, 알루미나(Al2O3)를 포함하는 제1 슬러리 및 지르코니아(ZrO2)를 포함하는 제2 슬러리를 제조하는 제1 단계(S100)와, 제1 슬러리를 이용하여 알루미나 테이프를 제조하고 제2 슬러리를 이용하여 지르코니아 테이프를 제조하는 제2 단계(S200)와, 알루미나 테이프와 지르코니아 테이프를 이용하여 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 형성하는 제3 단계(S300)와, 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 가열 압착 후 동시 소성 및 탈지하여 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 형성하는 제4 단계(S400)를 포함한다.
제1 단계(S100)에서, 제1 슬러리는 테이프 캐스팅용 알루미나 슬러리이고, 제2 슬러리는 테이프 캐스팅용 지르코니아 슬러리이다.
제1 슬러리는 알루미나와 탈크가 혼합된 세라믹 파우더, 바인더, 가소제, 해교제, 및 용매를 포함한다. 이때 알루미나는 세라믹 파우더에 대해 60중량% 내지 80중량%로 포함되고, 탈크는 세라믹 파우더에 대해 20중량% 이하로 포함될 수 있다.
세라믹 파우더에 대한 알루미나의 함량이 60중량% 미만이면, 세라믹 제조용 세터의 기계적 강도가 낮아져 세라믹 소결시 고온에서 균열이 발생할 수 있다. 세라믹 파우더에 대한 알루미나의 함량이 80중량%를 초과하면, 제4 단계(S400)에서 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층의 수축에 차이가 생기므로 지르코니아 코팅층의 분리 현상이 나타나거나 균열이 발생할 수 있다. 또한, 세라믹 파우더에 대한 탈크의 함량이 20중량%를 초과하면, 알루미나 지지체의 소결이 어려워져 세라믹 제조용 세터의 기계적 강도가 낮아지고, 소결시 휘어지는 현상이 나타날 수 있다.
제1 슬러리는 기공 형성을 위한 기공제를 더 포함할 수 있다. 이 경우 알루미나 지지체는 기공제의 함량에 비례하는 다공성을 나타낸다. 기공제는 카본계 물질로 제조되며, 그라파이트, 카본 블랙, 전분, 및 에틸 셀룰로오스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 기공제는 세라믹 파우더에 대해 20중량% 내지 40중량%로 포함될 수 있다.
세라믹 파우더에 대한 기공제의 함량이 20중량% 미만이면, 알루미나 지지체가 과도하게 치밀화되어 세라믹 제조용 세터로 사용시 세라믹 소결 과정에서 탈지의 문제를 일으킬 수 있다. 세라믹 파우더에 대한 기공제의 함량이 40중량%를 초과하면, 알루미나 지지체의 기계적 강도가 낮아져 세라믹 제조용 세터로 장기 사용시 균열의 문제를 유발할 수 있다.
전술한 세라믹 분말과 기공제를 바인더, 가소제, 및 해교제가 녹아있는 용매에 혼합하고, 이 혼합물을 비드 밀링(bead milling) 공정으로 교반하여 제1 슬러리를 제조한다. 제1 슬러리는 테이프 캐스팅에 적합한 3000cps 내지 7000cps의 점도를 가질 수 있다.
제2 슬러리는 지르코니아 파우더, 바인더, 가소제, 해교제, 및 용매를 포함한다. 제2 슬러리 또한 기공 형성을 위한 기공제를 더 포함할 수 있다. 이 경우 지르코니아 코팅층은 기공제의 함량에 비례하는 다공성을 나타낸다. 기공제의 성분은 제1 슬러리와 동일하며, 지르코니아 파우더에 대해 10중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다.
지르코니아 파우더에 대한 기공제의 함량이 10중량% 미만이면, 제4 단계(S400)에서 지르코니아 코팅층이 과도하게 치밀화되어 세라믹 제조용 세터 사용시 바인더 탈지의 문제를 일으킬 수 있다. 지르코니아 파우더에 대한 기공제의 함량이 20중량%를 초과하면, 제4 단계(S400)에서 지르코니아 코팅층의 소결이 어렵게 되어 알루미나 지지체와의 층간 분리가 일어나거나 층 사이가 들뜨는 현상이 발생할 수 있다.
전술한 지르코니아 파우더와 기공제를 바인더, 가소제, 및 해교제가 녹아있는 용매에 혼합하고, 이 혼합물을 비드 밀링 공정으로 교반하여 제2 슬러리를 제조한다. 제2 슬러리는 테이프 캐스팅에 적합한 1000cps 내지 3000cps의 점도를 가질 수 있다.
도 2는 도 1에 도시한 제2 단계에서 사용되는 테이프 캐스팅 장치를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시한 테이프 캐스팅 장치의 부분 확대 단면도이다.
도 2와 도 3을 참고하면, 테이프 캐스팅 장치(100)는 바탕 필름(12)을 이송하는 한 쌍의 롤러(14)와, 슬러리를 제공받아 바탕 필름(12) 위에 도포하는 슬러리 챔버(16)와, 슬러리 챔버(16)에 부착되어 슬러리를 균일한 두께로 밀어내는 닥터 블레이드(18)와, 바탕 필름(12) 위에 도포된 슬러리를 건조시키는 건조 챔버(20) 등을 포함한다.
전술한 테이프 캐스팅 장치(100)를 이용하여 제1 슬러리를 바탕 필름(12) 위에 도포 후 건조시켜 알루미나 테이프 모재를 형성하고, 같은 방법으로 제2 슬러리 를 바탕 필름(12) 위에 도포 후 건조시켜 지르코니아 테이프 모재를 형성한다. 이어서 알루미나 테이프 모재와 지르코니아 테이프 모재를 원하는 크기로 절단 및 가공한 후 바탕 필름(12)을 제거하여 알루미나 테이프와 지르코니아 테이프를 완성한다.
이 과정에서 알루미나 테이프는 이후 알루미나 지지체가 되므로 전술한 3000cps 내지 7000cps의 고점도 슬러리로 제조되는 것이 유용하며, 200㎛ 내지 500㎛의 비교적 큰 두께로 형성될 수 있다. 지르코니아 테이프는 이후 알루미나 지지체와의 반응을 억제하기 위한 최소 두께인 40㎛ 이상의 두께를 가지는 한편, 지르코니아 코팅층의 균질성 유지를 위해 100㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다.
도 4는 도 1에 도시한 제3 단계에서 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 나타낸 개략 단면도이다.
도 4를 참고하면, 알루미나 테이프(22)를 복수개 적층하여 알루미나 스택(24)을 형성하고, 지르코니아 테이프(26)를 알루미나 스택(24) 위에 복수개 적층하여 지르코니아 스택(28)을 형성한다. 이때 지르코니아 스택(28)은 알루미나 스택(24)의 윗면과 아랫면 모두에 위치할 수 있으며, 이 경우 세라믹 제조용 세터의 양면 사용이 가능해진다.
알루미나 스택(24)은 추후 알루미나 지지체가 되고, 지르코니아 스택(28)은 추후 지르코니아 코팅층이 되므로, 원하는 알루미나 지지체의 두께 및 지르코니아 코팅층의 두께를 고려하여 알루미나 테이프(22)의 적층 수와 지르코니아 테이프(26)의 적층 수를 조절한다.
도 5는 도 1에 도시한 제4 단계에서 완성된 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 나타낸 개략 단면도이다.
도 5를 참고하면, 알루미나 스택(24, 도 4 참조)과 지르코니아 스택(28, 도 4 참조)을 가열 압착하여 원하는 모양으로 성형하고, 이를 원하는 크기로 절단한 다음, 가열 압착된 알루미나 스택(24)과 지르코니아 스택(28)을 동시 소성 후 탈지하여 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)을 포함하는 세라믹 제조용 세터(34)를 완성한다.
가열 압착은 70℃ 내지 100℃에서 진행될 수 있으며, 동시 소성은 1500℃ 내지 1600℃에서 진행될 수 있다. 가열 압착 온도가 전술한 범위를 벗어나면, 압착 불량이 발생하여 소성 후 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)이 분리되거나 늘어짐 또는 주름이 생기게 되어 소성 후 정밀한 두께 조절이 불가능해질 수 있다. 소성 온도가 1500℃ 미만이면, 지르코니아 코팅층(32)의 소결력 약화로 인해 표면 일부가 박리될 수 있다. 소성 온도가 1600℃를 초과하면, 알루미나 지지체(30)가 과도하게 치밀화되고 기공도가 낮아져 세라믹 제조용 세터(34)로 사용시 바인더 탈지의 문제를 유발할 수 있다.
완성된 세라믹 제조용 세터(34)에서 알루미나 지지체(30)는 1.5mm 내지 3mm의 두께를 가질 수 있으며, 지르코니아 코팅층(32)은 30㎛ 내지 200㎛의 두께를 가질 수 있다.
알루미나 지지체(30)의 두께가 1.5mm 미만이면, 세라믹 제조용 세터(34)의 기계적 강도가 낮아져 장기 사용시 균열이 발생할 수 있다. 알루미나 지지체(30)의 두께가 3mm를 초과하면, 세라믹 제조용 세터(34)로 사용시 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)의 열팽창율 차이가 커져 열팽창율 차이로 인한 스트레스로 인해 고온 세라믹 소결시 세라믹 제조용 세터(34)가 갈라지는 현상이 발생할 수 있다.
지르코니아 코팅층(32)의 두께가 30㎛ 미만이면 소성 과정에서 지르코니아 코팅층(32)이 갈라지는 현상이 나타날 수 있으며, 지르코니아 코팅층(32)의 두께가 200㎛를 초과하면 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)의 수축율 차이로 인한 스트레스가 증가하여 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)이 분리되는 문제가 발생할 수 있다.
알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)은 전술한 기공제의 함량에 따라 소정의 기공을 가진다. 이는 제조하고자 하는 세라믹 부품의 기공도에 맞추어 세라믹 제조용 세터(34)가 이와 동일한 기공도를 가져야 하기 때문이다. 즉, 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)의 기공도가 작을수록 세라믹 제조용 세터(34)는 치밀한 세라믹 부품을 만드는데 유용하며, 기공도가 클수록 다공성 세라믹 부품을 만드는데 유용하다. 이때 세라믹 제조용 세터(34)의 기공도는 지르코니아 코팅층(32)의 기공도보다는 알루미나 지지체(30)의 기공도에 크게 좌우된다.
알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32) 모두 10% 내지 50%의 기공도를 가질 수 있다. 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)의 기공도가 10% 미만이면, 세라믹 제조용 세터(34)를 이용하여 세라믹 원재료를 소결할 때 세라믹 원재료에 포함된 바인더 등의 유기 용매가 완전하게 제거되지 않으므로 세라믹 부 품의 수율이 저하될 수 있다. 한편, 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)의 기공도가 50%를 초과하면, 과도한 기공도로 인해 세라믹 제조용 세터(34)의 기계적 강도가 낮아져 장기간 사용시 균열이나 휘어짐이 발생할 수 있다.
도 6은 전술한 방법으로 제조된 세라믹 제조용 세터의 단면을 확대하여 나타낸 전자 현미경 사진이다. 도 6을 참고하면, 약 30㎛ 두께의 지르코니아 코팅층(32)이 알루미나 지지체(30)와 소결 후 잘 결합되어 있는 것을 확인할 수 있다.
도 7은 세라믹 제조용 세터 중 지르코니아 코팅층의 표면을 나타낸 전자 현미경 사진이다. 도 7을 참고하면, 세라믹 제조용 세터에 다공성 지르코니아 코팅층이 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.
도 8은 세라믹 제조용 세터의 기공도를 나타낸 그래프이다. 도 8에서 실시예 1은 제1 슬러리 제조시 세라믹 파우더에 대해 기공제를 25중량% 포함시켜 제조한 세라믹 제조용 세터이고, 실시예 2는 제2 슬러리 제조시 지르코니아 파우더에 대해 기공제를 10중량% 포함시켜 제조한 세터이다. 실시예 1의 세터는 대략 28%의 기공도를 나타내며, 실시예 2의 세터는 대략 41%의 기공도를 나타낸다.
이와 같이 제1, 2 슬러리의 기공제 함유 여부와 기공제의 함량에 따라 세라믹 제조용 세터(34)의 기공도를 용이하게 제어할 수 있다. 따라서 사용 목적에 따라 치밀한 구조의 세터와 다공성 세터를 다양하게 제조할 수 있다.
본 실시예에 의한 세터(34)의 제조 방법에 따르면, 알루미나 지지체(30)와 지르코니아 코팅층(32)을 별도로 소성하지 않고 동시 소성함에 따라, 소성 공정 수를 줄여 전체 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 절감할 수 있다. 또한, 지르코 니아 코팅층(32)의 표면 구조 및 세터(34)의 기공도를 용이하게 제어할 수 있으므로, 세터(34)의 사용 목적에 따라 다양한 종류의 세터(34)를 제조할 수 있고, 테이퍼 캐스팅법의 특성상 연속식 제조가 가능하므로 세터(34)의 대량 생산이 가능하다. 또한, 알루미나 지지체(30)의 양면에 지르코니아 코팅층(32)을 형성하므로 세터(34)의 양면 모두를 사용할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 2는 도 1에 도시한 제2 단계에서 사용되는 테이프 캐스팅 장치를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시한 테이프 캐스팅 장치의 부분 확대 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시한 제3 단계에서 알루미나 스택과 지르코니아 스택을 나타낸 개략 단면도이다.
도 5는 도 1에 도시한 제4 단계에서 완성된 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 나타낸 개략 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터의 단면을 확대하여 나타낸 전자 현미경 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터 중 지르코니아 코팅층의 표면을 나타낸 전자 현미경 사진이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 제조용 세터의 기공도를 나타낸 그래프이다.

Claims (12)

  1. 알루미나(Al2O3)를 포함하는 제1 슬러리 및 지르코니아(ZrO2)를 포함하는 제2 슬러리를 제조하는 단계;
    상기 제1 슬러리와 상기 제2 슬러리를 각각 바탕 필름 위에 도포, 건조 후 바탕 필름을 제거하여 알루미나 테이프 및 지르코니아 테이프를 제조하는 단계;
    상기 알루미나 테이프를 복수개 적층하여 알루미나 스택을 형성하고, 상기 알루미나 스택 위에 지르코니아 테이프를 복수개 적층하여 지르코니아 스택을 형성하는 단계; 및
    상기 알루미나 스택과 상기 지르코니아 스택을 가열 압착 후 동시 소성 및 탈지하여 알루미나 지지체와 지르코니아 코팅층을 형성하는 단계
    를 포함하는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 슬러리는 알루미나와 탈크가 혼합된 세라믹 파우더, 바인더, 해교제, 가소제, 및 용매를 포함하며, 상기 알루미나는 상기 세라믹 파우더에 대해 60중량% 내지 80중량%로 포함되는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 슬러리는 기공제를 더 포함하며, 상기 기공제는 상기 세라믹 파우더에 대해 20중량% 내지 40중량%로 포함되는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 슬러리는 3000cps 내지 7000cps의 점도를 가지는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 슬러리는 지르코니아 파우더, 바인더, 해교제, 가소제, 및 용매를 포함하는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제2 슬러리는 기공제를 더 포함하며, 상기 기공제는 상기 지르코니아 파우더에 대해 10중량% 내지 20중량%로 포함되는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 지르코니아 테이프는 40㎛ 내지 100㎛의 두께를 가지는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 가열 압착은 70℃ 내지 100℃에서 진행되고, 상기 동시 소성은 1500℃ 내지 1600℃에서 진행되는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 지르코니아 스택을 상기 알루미나 스택의 양면에 배치하여 상기 지르코니아 코팅층을 상기 알루미나 지지체의 양면에 형성하는 세라믹 제조용 세터의 제조 방법.
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