KR101536573B1 - 이중층의 투명 전도성 필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

제1 기판; 상기 제1 기판에 형성된 제1 임프린트(imprint) 접착층(adhesive layer)으로, 상기 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈(mesh-shaped groove)을 나타내고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하는 것인 제1 임프린트 접착층; 상기 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층; 상기 제1 임프린트 접착층 및 상기 제1 전도성 층에 형성된 점착층(tackifier layer); 상기 점착층에 형성된 제2 기판; 상기 제2 기판에 형성된 제2 임프린트 접착층으로, 상기 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 제2 임프린트 접착층이고, 상기 제1 메쉬 또는 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한(regular) 메쉬이고, 상기 다른 하나는 임의의(random) 메쉬이고; 그리고 상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층; 을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름이 제공된다. 라미네이션 동안, 어떠한 배열 정확도도 필요로 되지 않고, 그럼으로써 생산 효율이 크게 향상된다. 또한 이중층의 투명 전도성 필름의 제조방법이 제공된다.

Description

이중층의 투명 전도성 필름 및 이의 제조방법 {DOUBLE-LAYERED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 전도성 필름과 관련되며, 더욱 상세하게는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름 및 이의 제조방법과 관련된다.
투명 전도성 필름(transparent conductive film)은 높은 전도성 및 가시광선에서 좋은 투과성을 갖는 우수한 특성을 나타내는 전도성 필름으로, 따라서 광범위한 응용 전망을 갖는다. 현재, 투명 전도성 필름은 액정 디스플레이(crystal display), 터치 패널(touch panel), 전자파 차폐(electromagnetic shielding), 태양 전지의 투명 전극의 투명 표면 히터(heate) 및 연성의 발광 소자(flexible light-emitting device) 등의 분야에서 성공적으로 활용되고 있다.
종래의 투명 전도성 필름은 보통 노출(exposure), 개발(development), 에칭(etching), 세척(cleaning) 및 전도성 영역 및 투과성 영역이 상기 패턴을 따라 기판의 표면에 형성되는 것과 같은 기타 절차를 통해 패턴화되어야 한다. 또한 금속 메쉬(mesh)는 프린팅(printing)에 의해 기판 상의 특정 영역에 형성될 수 있다. 이중층의 전도성 필름에서 메쉬는 필름의 광학 성능에 필수적이다; 이것은 가시광선 및 높은 적외선 반사도를 위한 높은 투과율(transmittance)뿐만 아니라 좋은 전도성을 요구한다. 이중층의 전도성 필름을 설계 및 적층(lamination)하는 동안 메쉬 면적 사이의 색차(color difference)뿐만 아니라 바람직하지 않은 광학 현상을 피하기 위해 상부 및 하부의 메쉬를 배열하는 것이 필요하다. 따라서, 이중층의 전도성 필름의 배열 정확도는 대게 10μm로 상대적으로 높고, 그럼으로써 바람직하지 않은 광학 현상을 피할 수 있고, 높은 투과율이 보장될 수 있다. 생산에서 배열 정확도가 상대적으로 높기 때문에, 장치 및 작동 요구 역시 상대적으로 높은 수요를 갖는다.
본 발명의 목적은 높은 광 투과율을 갖고 배열 정확도를 감소시킬 수 있는 이중층의 투명 전도성 필름을 제공하기 위한 것이다.
본 발명은,
제1 기판;
상기 제1 기판에 형성된 제1 임프린트(imprint) 접착층(adhesive layer)으로, 상기 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈(mesh-shaped groove)을 나타내고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하는 것인 제1 임프린트 접착층;
상기 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
상기 제1 임프린트 접착층 및 상기 제1 전도성 층에 형성된 점착층(tackifier layer);
상기 점착층에 형성된 제2 기판;
상기 제2 기판에 형성된 제2 임프린트 접착층으로, 상기 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 제2 임프린트 접착층이고, 상기 제1 메쉬 또는 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한(regular) 메쉬이고, 상기 다른 하나는 임의의(random) 메쉬이고; 그리고
상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름이다.
일 실시예에서, 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 크다.
일 실시예에서, 상기 임의의 메쉬 셀은 불규칙한 사각형으로 형성된다.
일 실시예에서, 상기 일정한 메쉬 셀은 직사각형으로 형성된다.
일 실시예에서, 상기 임의의 메쉬는 불규칙한 다각형 메쉬이고, (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 크거나; 또는 (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 적다.
일 실시예에서, 상기 일정한 메쉬는 육각형 메쉬이다.
일 실시예에서, 상기 임의의 메쉬는 불규칙한 다각형 메쉬이고, 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인은 균일하게 분포되고, 두 노드(two node) 사이의 상기 그리드 라인(grid line)은 수평 X축으로 각도 θ 를 형성하고, 상기 각도 θ는 균일하게 분포되고, 상기 균일한 분포는 상기 임의의 그리드 각각의 통계 값 θ를 나타내고; 그리고 스테퍼 각도(stepper angle) 5o 에서 각각의 각도 간격(angle intervals) 내에 상기 그리드 라인이 속한 확률 p i 에 대한 통계를 수집하고, 이로써 0~180o 내의 36개의 각도 간격 p 1 , p 2 … p 36 을 얻고; p i 는 표준 편차가 산술 평균의 20% 이하를 만족시킨다.
또한 본 발명은,
제1 임프린트 접착층을 형성하기 위해 제1 기판의 표면에 임프린트 접착제를 코팅(coating)하고, 제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제1 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅(pattern imprinting)하고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
상기 제1 전도성 층에 점착층을 결합하고;
상기 점착층에 제2 기판을 결합하고, 제2 임프린트 접착층을 형성하기 위해 상기 제2 기판의 상기 점착층으로부터 멀리 떨어진 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제2 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고, 상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고, 다른 하나는 임의의 메쉬이고; 그리고
전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법이다.
또한 본 발명은,
기판;
상기 기판의 표면에 형성된 제1 임프린트 접착층으로, 상기 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하는 것인 제1 임프린트 접착층;
상기 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
상기 기판의 다른 표면에 형성된 제2 임프린트 접착층으로, 상기 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 제2 임프린트 접착층이고, 상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고, 다른 하나는 임의의 메쉬이고; 그리고
상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름이다.
또한 본 발명은,
제1 임프린트 접착층을 형성하기 위해 기판의 한 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 제1 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
제2 임프린트 접착층을 형성하기 위해 상기 기판의 상기 다른 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제2 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고, 상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고, 다른 하나는 임의의 메쉬이고; 그리고
전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법이다.
또한 본 발명은,
제1 메쉬 형태의 홈을 나타내는 기판, 제1 메쉬를 형성하는 상기 제1 메쉬 형태의 홈;
상기 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
상기 제1 전도성 층에 배치된 분리 층으로, 상기 분리 층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 분리 층이고, 상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고, 다른 하나는 임의의 메쉬이고; 그리고
상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름이다.
또한 본 발명은,
제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 기판의 표면에 패턴 임프린팅 하고, 상기 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
분리 층을 형성하기 위해 제1 전도성 층의 표면에 중합체(polymer)를 코팅하고;
제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 분리 층을 패턴 임프린팅 하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고, 상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고, 다른 하나는 임의의 메쉬이고; 그리고
전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법이다.
이중층의 투명 전도성 필름은 제1 전도성 층 및 제2 전도성 층을 포함한다. 제1 전도성 층은 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하고, 제1 매쉬 형태의 홈은 제1 전도성 층의 표면에 제1 메쉬를 형성한다. 제1 메쉬 및 제2 메쉬 중 하나는 일정한 메쉬이고; 다른 하나는 임의의 메쉬이다. 이중층의 전도성 필름의 설계 또는 적층 동안, 어떠한 배열 정확도도 필요로 하지 않는다. 그럼으로써 메쉬 면적 사이의 색차뿐만 아니라 바람직하지 않은 광학 현상 역시 피할 수 있다. 또한, 생산 공정에서 어떠한 배열 정확도도 요구되지 않음으로써, 생산 효율은 크게 향상된다.
도 1a는 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 1의 단면도(cross-sectional view)이다.
도 1b는 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 1의 제2 전도성 층의 평면도(plan view)이다.
도 2는 실시예 1의 제1 전도성 층의 평면도이다.
도 3은 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 2의 단면도이다.
도 3a는 실시예 2의 제2 전도성 층의 평면도이다.
도 3b는 실시예 2의 제1 전도성 층의 평면도이다.
도 4는 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 3의 단면도이다.
도 4a는 실시예 3의 제2 전도성 층의 평면도이다.
도 4b는 실시예 3의 제1 전도성 층의 평면도이다.
도 5는 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 1의 제조방법의 흐름도(flowchart)이다.
도 6은 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 2의 제조방법의 흐름도이다.
도 7은 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예 3의 제조방법의 흐름도이다.
본 발명의 이중층의 투명 전도성 필름의 실시예를 상세히 설명하기 위해 도면을 참조한다.
실시예 1
도 1a에 따른 실시예 1의 단면도는 이중층의 투명 전도성 필름 (100)이다. 아래에서 위로, 이중층의 투명 전도성 필름 (100)은 제1 기판 (110), 제1 임프린트 접착층 (120), 제1 전도성 층 (101), 점착층 (103), 제2 기판 (110’), 제2 임프린트 접착층 (120’) 및 제2 전도성 층 (102)를 포함한다.
제1 기판 (110)은 PET로 제조되고, 188μm의 두께를 가지고 있으며, 제1 기판 (110)은 투명하다.
제1 임프린트 접착층 (120)은 제1 기판 (110)에 형성된다. 제1 임프린트 접착층 (120)은 UV 임프린트 접착제로 제조된다. 제1 임프린트 접착층 (120)은 임프린팅에 의해 제1 메쉬 형태의 홈 (14)를 나타내는 것으로 깊이 3μm, 폭 2.2μm를 갖는다. 제1 메쉬 형태의 홈 (14)는 제1 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
제1 전도성 층 (101)은 제1 임프린트 접착층 (120)에 형성된다. 제1 전도성 층 (101)은 제1 메쉬 형태의 홈 (14)에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 은(silver)은 자가 연결(self-connected)되고, 전도성 면적을 형성한다. 은의 두께는 약 2 μm이고, 홈 14의 깊이보다 적다.
점착층 (103)은 제1 전도성 층 (101)에 결합된다.
제2 기판 (110')은 점착층 (103)에 형성되고, 제1 기판 (110)과 동일한 구조 및 물질을 갖는다.
제2 임프린트 접착층 (120')는 제2 기판 (110')에 형성된다. 제2 임프린트 접착층 (120')은 임프린팅에 의해 제2 메쉬 형태의 홈 (14')를 정의한다. 제2 메쉬 형태의 홈 (14')는 제2 메쉬를 형성하고, 이것은 일정한 메쉬이다.
제2 전도성 층 (102)는 제2 임프린트 접착층 (120')에 형성된다. 제2 전도성 층 (102)는 제2 메쉬 형태의 홈 (14')에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 제2 메쉬 형태의 홈 (14')에 채워진 은(silver)은 자가 연결되고 전도성 면적을 형성한다. 은의 두께는 약 2 μm이고, 홈 14의 깊이보다 적다.
제1 전도성 층 (101) 및 제2 전도성 층 (102)는 점착층 (103)에 의해 함께 결합된다. 따라서 이중층의 투명 전도성 필름 (100)을 형성한다.
도 1b에 따른 본 발명의 실시예의 단면도는 제2 전도성 층 (102)이다. 제2 메쉬 형태의 홈 (14')에 의해 형성된 제2 메쉬는 일정한 메쉬이다. 일정한 메쉬는 메쉬 셀 (12)의 대다수를 병렬로 배열하는 것에 의해 형성된다. 실시예의 도면에서, 임의의 지점은 메쉬 셀 (12)의 시작 노드(initial node) (12a)로 선택되고, 그리드 라인 (121)은 노드 (12a)에서 노드 (12b)에 걸쳐 있다; 또한 그리드 라인 (124)는 노드 (12a)에서 노드 (12d)에 도달하기 위해 그리드라인 (121)의 것과 다른 방향으로 걸쳐 있다; 그리드 라인 (122) 및 그리드 라인 (123)은 노드 (12b), (12d)에서 그리드 라인 (124), (121)과 다른 방향으로 걸쳐 있고, 노드 (12c)를 형성하기 위해 교차되어 있고, 그럼으로써 일정한 사각형 메쉬 셀 (12)이 형성된다. 유사하게, 각각의 노드가 선택되고, 제2 전도성 층 (102)의 메쉬를 형성하기 위해 공정이 되풀이된다. 즉, 그리드 라인 (121), (122), (123) 및 (124)는 협동적으로 메쉬 셀 (12)를 형성한다. 메쉬 셀 (12)를 형성하는 그리드 라인은 280μm의 길이를 갖는다. 메쉬 셀 (12)의 4개의 그리드 라인은 가운데 공간 면적(middle blank area) (13)을 둘러싸고, 이것은 반투명(translucent) 면적으로 사용되는 절연(insulating) 면적이다. 메쉬 셀 (12)에 대한 가운데 공간 면적 (13)의 면적 비율은 95%보다 크다. 즉, 제2 전도성 층 (102)의 총 면적에 대한 제2 전도성 층 (102)의 일정한 메쉬에서의 가운데 공간 면적의 면적 비율은 95%보다 크다. 그러한 비율은 전도성 필름의 높은 투과율을 허용할 수 있다.
도 2에 따른 실시예 1의 평면도는 제1 전도성 층 (101)이다. 제2 메쉬 형태의 홈 (14')에 의해 형성된 제1 메쉬는 임의의 메쉬이다. 임의의 메쉬는 메쉬 셀 (21)의 대다수를 배열하는 것에 의해 형성된다. 임의의 지점은 메쉬 셀 (21)의 시작 노드 (21a)로 선택되고, 그리드 라인 (211)은 노드 (21a)에서 노드 (21b)에 걸쳐 있다; 또한 그리드 라인 (214)는 노드 (21a)에서 노드 (21d)에 도달하기 위해 그리드라인 (211)의 것과 다른 방향으로 걸쳐 있다; 그리드 라인 (212) 및 그리드 라인 (213)은 노드 (21b), (21d)에서 그리드 라인 (214), (211)과 다른 방향으로 걸쳐 있고, 노드 (21c)를 형성하기 위해 교차되어 있고, 그럼으로써 불규칙한 사각형 메쉬 셀 (12)이 형성된다. 유사하게, 각각의 노드가 선택되고, 제2 전도성 층 (101)의 메쉬를 형성하기 위해 공정이 되풀이된다. 즉, 그리드 라인 (211), (212), (213) 및 (214)는 협동적으로 메쉬 셀 (21)를 형성한다. 메쉬 셀 (21)의 4개의 그리드 라인은 가운데 공간 면적(middle blank area) (22)을 둘러싸고, 이것은 반투명(translucent) 면적으로 사용되는 절연(insulating) 면적이다. 메쉬 셀 (21)에 대한 가운데 공간 면적 (22)의 면적 비율은 95%보다 크다. 즉, 제2 전도성 층 (101)의 총 면적에 대한 제2 전도성 층 (101)의 일정한 메쉬에서의 가운데 공간 면적의 면적 비율은 95%보다 크다. 메쉬 셀 (21)의 둘레는 제2 전도성 층 (102)의 메쉬 셀 (12)의 것과 같다. 다른 실시예에서, 불규칙한 사각형의 형성은 다음과 같을 수 있다: 첫째, 일정한 정사각형의 메쉬 셀이 설계되고, 그 후 스퀘어의 각각의 노드를 이동하고, 이동한 노드는 연결된 사각형이 불규칙한 사각형임을 보장한다. 노드를 이동하는 방법은 시작 노드로부터 거리 d로 중심 이동하는 초기 노드를 사용한 임의의 이동일 수 있다. 그리드 라인 (211), (212), (213) 및 (214)는 협동적으로 메쉬 셀 (21)을 형성한다.
도 5에 따른 실시예는 하기의 단계를 포함하는 이중층의 전도성 필름 (100)의 제조방법이다.
단계 S101, 임프린트 접착제는 제1 임프린트 접착층 (120)을 형성하기 위해 제1 기판 (110)의 표면에 코팅되고, 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈 (14)를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고, 제1 메쉬 형태의 홈 (14)는 제1 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
단계 S102, 제1 메쉬 형태의 홈 (14)는 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제1 전도성 층 (101)이 얻어진다.
전도성 물질은 은(silver)이다.
단계 S103, 점착층 (103)은 제1 전도성 층 (101)에 결합된다.
점착층 (103)은 제1 전도성 층 (101) 및 제2 전도성 층 (102) 사이에 더 잘 결합하기 위에 사용된다.
단계 S104, 제2 기판 (110')은 점착층 (103)에 결합되고, 임프린트 접착제는 제2 임프린트 접착층 (120')을 형성하기 위해 제2 기판 (110')의 표면에 코팅되고, 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈 (14')를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고, 제2 메쉬 형태의 홈 (14')는 제2 메쉬를 형성하고, 이것은 일정한 메쉬이다.
단계 S105, 제2메쉬 형태의 홈 (14)는 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제2 전도성 층 (102)이 얻어진다.
제1 전도성 층 (101)을 감지 층(sensing layer)으로 사용하고, 제2 전도성 층 (102)는 구동 층(driving layer)으로 사용하고, 두 층은 점착층 (103)을 통해 라미네이트(laminated)되고 결합된다. 제1 전도성 층 (101) 및 제 2 전도성 층 (102)의 라미네이션(lamination) 동안, 어떠한 배열 정확도도 필요로 되지 않는다. 그럼으로써 메쉬 면적 사이의 색차뿐만 아니라 바람직하지 않은 광학 현상을 피할 수 있으며, 생산 공정 및 장비 요구 사항이 상대적으로 낮다.
실시예 2
도 3은 이중층의 투명 전도성 필름 (200)의 실시예 2의 단면도이다. 아래에서 위로, 이중층의 투명 전도성 필름 (200)은 제1 전도성 층 (201), 제1 임프린트 접착층 (210), 기판 (203), 제2 임프린트 접착층 (210’) 및 제2 전도성 층 (202)를 포함한다.
기판 (203)은 두 전도성 층 사이에 배치된다. 기판 (203)은 PET로 제조되고, 188μm의 두께를 갖는다.
제1 임프린트 접착층 (210)은 기판 (203)의 아래쪽 표면에 형성된다. 제1 임프린트 접착층 (210)은 임프린팅에 의해 제1 메쉬 형태의 홈 (32)를 나타내는 것으로, 깊이 3μm, 폭 2.2μm이다. 제1 메쉬 형태의 홈 (32)는 제1 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
제1 전도성 층 (201)은 제1 임프린트 접착층 (210)에 형성된다. 제1 전도성 층 (201)은 제1 메쉬 형태의 홈 (32)에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 은의 두께는 약 2 μm이고, 홈 32의 깊이보다 적다. 임프린팅에 의해 제1 메쉬 형태의 홈 (32)가 전달(communicated)되기 때문에, 여기에 채워진 은은 전도성 면적을 형성한다.
제1 전도성 층 (201)은 제1 임프린트 접착층 (210)에 형성된다. 제1 전도성 층 (201)은 제1 메쉬 형태의 홈 (32)에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 은의 두께는 약 2 μm이고, 홈 32의 깊이보다 적다. 임프린팅에 의해 제1 메쉬 형태의 홈 (32)가 전달(communicated)되기 때문에, 여기에 채워진 은은 전도성 면적을 형성한다.
제2 임프린트 접착층 (210')은 기판 (203)의 위쪽 표면에 형성된다. 제2 임프린트 접착층 (210')은 임프린팅에 의해 제2 메쉬 형태의 홈 (32')를 정의한다. 제2 메쉬 형태의 홈 (32')는 제2 메쉬를 형성하고, 이것은 일정한 메쉬이다.
유사하게, 제2 전도성 층 (202)는 제2 임프린트 접착층 (210')에 형성된다. 제2 전도성 층 (202)는 제2 메쉬 형태의 홈 (32')에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 제2 메쉬 형태의 홈으로 채워진 은(silver)은 자가 연결되고, 전도성 면적을 형성한다.
도 3a는 본 발명의 실시예의 제2 전도성 층 (202)의 평면도를 보여준다. 제2 메쉬 형태의 홈 (32')에 의해 형성된 제2 메쉬는 일정한 메쉬이다. 일정한 메쉬는 메쉬 셀 (33)의 대다수를 정렬로 배열함으로써 형성된다. 메쉬 셀 (33)은 일정한 육각형 형상이다. 임의의 지점이 메쉬 셀 (33)의 초기 노드 (33A)로 선택되고, 그리드 라인 (331)은 노드 (33a) 에서 노드 (33b)에 걸쳐 있고; 그리드 라인 (332)는 노드 (33b) 에서 노드 (33c)에 걸쳐 있고, 그리드 라인 (333)은 노드 (33c) 에서 노드 (33d)에 걸쳐 있고, 그리드 라인 (334)는 노드 (33d) 에서 노드 (33e)에 걸쳐 있고, 그리드 라인 (335)는 노드 (33e)에서 노드 (33f)에 걸쳐 있고, 그리드 라인 (336)은 노드 (33f)에서 노드 (33e)에 걸쳐 있다. 그럼으로써 일정한 육각형 메쉬 셀 (33)이 형성된다. 메쉬 셀 (33)의 대다수가 일정한 매쉬를 형성할때까지 설명된 공정을 되풀이한다. 메쉬 셀 (33)은 가운데 공간 면적 (337)을 둘러싸고, 이것은 반투명 면적으로 사용되는 절연 면적이다. 메쉬 셀 (33)에 대한 가운데 공간 면적 (337)의 면적 비율은 96.2%보다 크다. 즉, 제2 전도성 층 (202)의 총 면적에 대한 제2 전도성 층 (202)의 일정한 메쉬에서의 가운데 공간 면적의 면적 비율은 96.2%보다 크다. 그러한 비율은 전도성 필름의 높은 투과율을 허용할 수 있다. 메쉬 셀 (33)은 280μm의 둘레를 갖는다.
도 3b는 본 발명의 실시예의 제1 전도성 층 (201)의 평면도이다. 제1 메쉬 형태의 홈에 의해 형성된 제1 메쉬는 임의의 메쉬이다. 임의의 메쉬는 메쉬 셀 (33')의 대다수를 정렬함으로써 형성된다. 메쉬 셀 (33')은 불규칙한 삼각형, 사각형 또는 오각형 등과 같이 불규칙한 다각형이다. 메쉬 셀 (33')의 대다수는 제1 전도성 층 (201)의 임의의 메쉬를 형성하고, 이의 그리드 라인은 직선 부분(segment)이다. (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 크다. 즉, 45° 이거나 또는 그 이하인 X 축으로 각도를 갖는 그리드 라인의 수는 45°보다 큰 X축으로 각도를 갖는 그리드 라인의 수보다 크다. 또는 (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 적다. 메쉬 셀 (33')의 네개의 그리드 라인으로 둘러싸인 공간(blank)은 절연 면적으로, 이것은 또한 반투명 면적의 역할을 하기도 한다.
도 6에 따른 실시예의 도식에서 이중층의 전도성 필름 (200)의 제조방법은 하기의 단계를 포함한다.
단계 S201, 임프린트 접착제는 제1 임프린트 접착층 (210)을 형성하기 위해 기판 (203)의 한 표면에 코팅되고, 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈 (32)를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고, 제1 메쉬 형태의 홈 (32)는 제1 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
단계 S202, 제1 메쉬 형태의 홈은 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제1 전도성 층 (201)이 얻어진다.
전도성 물질은 은(silver)이다.
단계 S203, 제2 임프린트 접착층 (210')을 형성하기 위해 기판 (203)의 다른 표면에 임프린트 접착제가 코팅되고, 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈 (32')를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고, 제2 메쉬 형태의 홈 (32')는 제2 메쉬를 형성하고, 이것은 일정한 메쉬이다.
단계 S204, 제2 메쉬 형태의 홈 (32')는 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제2 전도성 층 (202)이 얻어진다.
제1 전도성 층 (201)은 불규칙한 다각형의 메쉬 셀 (33')의 대다수를 포함한다. 메쉬 셀 (33')의 대다수는 임의의 메쉬를 형성한다. 제2 전도성 층 (202)는 육각형의 메쉬 셀 (33)의 대다수를 포함하고, 이것은 일정한 메쉬를 형성한다. 제2 전도성 층 (202)의 일정한 메쉬 셀 (33)의 형성 동안, 제1 전도성 층 (101) 및 제2 전도성 층 (102)의 라미네이션을 위해 어떠한 배열 정확도도 필요로 되지 않는다. 그럼으로써 메쉬 사이의 색차뿐만 아니라 바람직하지 않은 광학 현상을 피할 수 있고, 생산 공정 및 장비 요구 사항이 상대적으로 낮다.
실시예 3
도 4는 본 발명 실시예의 이중층의 투명 전도성 필름 (300)으로, 단면(single-side) 및 이중층 구조를 갖는다. 아래에서 위로, 이중층의 투명 전도성 필름 (300)은 기판 (41), 제1 전도성 층 (301), 분리 층 (303) 및 제2 전도성 층 (302)를 포함한다.
제1 전도성 층 (301)은 기판 (41)에 형성된다. 제1 전도성 층 (301)은 제1 메쉬 형태의 홈 (42)에 채워진 전도성 물질을 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 전도성 물질은 은이다. 은의 두께는 약 2μm로, 홈 (42)의 깊이보다 적다. 제1 메쉬 형태의 홈 (42)에 채워진 은은 자가 연결되고 제1 전도성 층 (301)을 형성한다.
분리 층 (303)은 제1 전도성 층 (301)에 배치된다. 분리 층 (303)은 UV 임프린트 접착제와 같은 중합체로 제조된다. 분리 층 (303)은 제2 메쉬 형태의 홈 (42')를 정의한다. 제2 메쉬 형태의 홈 (42')는 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
제2 전도성 층 (302)는 분리 층 (303)에 배치된다. 제2 전도성 층 (302)는 제2 메쉬 형태의 홈 (42')에 채워진 전도성 물질(은)을 포함한다. 은의 두께는 약 2μm로, 홈 (42')의 깊이보다 적다. 제1 메쉬 형태의 홈 (42')에 채워진 은은 자가 연결되고 제2 전도성 층 (302)을 형성한다.
도 4a는 본 발명 실시예의 제1 전도성 층 (301)의 평면도이다. 제1 메쉬 형태의 홈 (42)는 일정한 메쉬를 형성한다. 일정한 메쉬는 병렬 배열된 메쉬 셀 (45)의 대다수를 포함한다. 메쉬 셀 (45)는 마름모 형태이고, 이것은 X축으로 20° 각도를 형성하는 그리드 라인을 갖는다. 메쉬 셀 (45)는 가운데 공간 면적을 둘러싸고, 이것은 반투명 면적으로 사용되는 절연 면적이다. 제1 전도성 층 (301)은 가시광선에서 86.6%보다 큰 투과율을 갖는다.
도 4b는 본 발명 실시예의 제2 전도성 층 (302)의 평면도를 나타낸다. 제2 메쉬 형태의 홈 (42’)는 임의의 메쉬를 형성한다. 임의의 메쉬는 병렬 배열된 메쉬 셀 (45’)의 대다수를 포함한다. 메쉬 셀 (45’)는 불규칙한 다각형이고, 메쉬 셀 (45’)의 대다수는 임의의 메쉬를 형성하고, 이의 그리드 라인은 직선 부분(segment)이다. 임의의 메쉬는 균일하게 분포되고, 하기 조건을 만족한다: 그리드 라인은 오른쪽 수평 X축으로 각도 θ 를 형성하고, 각도 θ는 균일하게 분포되고, 균일한 분포는 임의의 그리드 각각의 통계 값 θ를 나타내고; 그리고 스테퍼 각도(stepper angle) 5o 에서 각각의 각도 간격(angle intervals) 내에 상기 그리드 라인이 속한 확률 p i 에 대한 통계를 수집하고, 이로써 0~180o 내의 36개의 각도 간격 p 1 , p 2 … p 36 을 얻고; p i 는 표준 편차가 산술 평균의 20% 이하를 만족시킨다. 메쉬 셀 (45’)는 가운데 공간 면적을 둘러싸고, 이것은 반투명 면적으로 사용되는 절연 면적이다.
도 7은 하기 단계를 포함하는 이중층의 전도성 필름 (300)의 제조방법을 나타낸다.
단계 S301, 기판 (41)의 표면은 제1 메쉬 형태의 홈 (42)를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고; 제1 메쉬 형태의 홈 (42)는 제1 메쉬를 형성하고, 이것은 일정한 메쉬이다.
단계 S302, 제1 메쉬 형태의 홈 (42)는 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제1 전도성 층 (301)이 얻어진다.
전도성 물질은 은이다.
단계 S303, 중합체가 분리 층 (303)을 형성하기 위해 제1 전도성 층 (301)의 표면에 코팅되고; 분리 층 (303)은 제2 메쉬 형태의 홈 (42')를 형성하기 위해 패턴 임프린팅된다. 제2 메쉬 형태의 홈 (42')는 제2 메쉬를 형성하고, 이것은 임의의 메쉬이다.
코팅된 중합체는 UV 임프린트 접착체일 수 있다.
단계 S304, 제2 메쉬 형태의 홈 (42')는 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제2 전도성 층 (302)가 얻어진다.
첫째, 기판 (41)의 표면이 제1 메쉬 형태의 홈 (42)를 형성하기 위해 패턴 임프린팅되고, 이것은 깊이 3μm, 폭 2.2μm를 갖는다. 기판 (303)의 표면에 제1 메쉬 형태의 홈 (42) 전체가 스크래치(scratch) 기술에 의해 전도성 물질로 채워지고 소결시켜서 제1 전도성 층 (301)이 얻어진다. 메쉬 형태의 홈 (42)의 대다수가 배열되고 일정한 메쉬를 형성한다. 일정한 메쉬는 앞서 설명했듯이 균일하게 분포된다. 그후 중합체는 분리 층 (303)을 형성하기 위해 제1 전도성 층 (301)의 표면에 패턴 코팅되고, 이것은 제1 전도성 층 (301)을 커버(cover)하고, 4μm의 두께를 갖는다. 분리 층 (303)은 제2 메쉬 형태의 홈 (42')를 형성하기 위해 패턴 임프린팅된다. 제2 메쉬 형태의 홈 (42')의 대다수가 임의의 메쉬를 형성한다. 스크래치(scratch) 기술에 의해 제2 메쉬 형태의 홈 (42')에 전도성 물질이 채워지고 소결시켜서 제1 전도성 층 (302)이 얻어진다.
비록 본 발명이 구조적 특징 및/또는 방법론적 행위에 특정한 용어로 설명되어 있다 하더라도, 이것은 특허청구범위로 정의되는 본 발명이 반드시 상기 설명된 특정한 특징 또는 행위로 제한되어야 하는 것을 의미하는 것은 아니라고 이해되어야 할 것이다. 오히려 본 발명에 개시된 특정한 특징 또는 행위는 본 발명을 구현하기 위한 예제 형태로 개시된 것이다.

Claims (12)

  1. 제1 기판;
    상기 제1 기판에 형성된 제1 임프린트(imprint) 접착층(adhesive layer)으로, 상기 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈(mesh-shaped groove)을 나타내고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하는 것인 제1 임프린트 접착층;
    상기 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
    상기 제1 임프린트 접착층 및 상기 제1 전도성 층에 형성된 점착층(tackifier layer);
    상기 점착층에 형성된 제2 기판;
    상기 제2 기판에 형성된 제2 임프린트 접착층으로, 상기 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 제2 임프린트 접착층이고; 그리고
    상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
    을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름으로,
    상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는　일정한(regular) 메쉬이고, 다른 하나는　임의의(random) 메쉬이고, 그럼으로써 상기 이중층의 투명 전도성 필름의 적층 동안, 배열 정확도가 요구되지 않고; 그리고
    상기 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 큰 것을 특징으로 하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 임의의 메쉬 셀은 불규칙한 사각형으로 형성되는 것인 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 일정한 메쉬 셀은 직사각형으로 형성되는 것인 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 임의의 메쉬는 불규칙한 다각형 메쉬이고, (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 크거나;
    또는 (-1, 1) 의 범위의 기울기를 갖는 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인(grid lines)의 수는 (-∞, -1) 및 (1, + ∞)의 범위의 기울기를 갖는 그리드 라인의 수보다 적은 것인 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 일정한 메쉬는 육각형 메쉬인 것인 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 임의의 메쉬는 불규칙한 다각형 메쉬이고, 상기 불규칙한 다각형 메쉬의 그리드 라인은 균일하게 분포되고, 두 노드(two node) 사이의 상기 그리드 라인(grid line)은 수평 X축으로 각도 θ 를 형성하고, 상기 각도 θ는 균일하게 분포되고, 상기 균일한 분포는 상기 임의의 그리드 각각의 통계 값 θ를 나타내고; 그리고 스테퍼 각도(stepper angle) 5o 에서 각각의 각도 간격(angle intervals) 내에 상기 그리드 라인이 속한 확률 p i 에 대한 통계를 수집하고, 이로써 0~180o 내의 36개의 각도 간격 p 1 , p 2 … p 36 을 얻고; p i 는 표준 편차가 산술 평균의 20% 이하를 만족시키는 것인 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  8. 제1 임프린트 접착층을 형성하기 위해 제1 기판의 표면에 임프린트 접착제를 코팅(coating)하고, 제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제1 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅(pattern imprinting)하고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
    전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
    상기 제1 전도성 층에 점착층을 결합하고;
    상기 점착층에 제2 기판을 결합하고, 제2 임프린트 접착층을 형성하기 위해 상기 제2 기판의 상기 점착층으로부터 멀리 떨어진 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제2 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고; 그리고
    전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
    를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법으로,
    상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는　일정한(regular) 메쉬이고, 다른 하나는　임의의(random) 메쉬이고, 그럼으로써 상기 이중층의 투명 전도성 필름의 적층 동안, 배열 정확도가 요구되지 않고; 그리고
    상기 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 큰 것을 특징으로 하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법.
  9. 기판;
    상기 기판의 표면에 형성된 제1 임프린트 접착층으로, 상기 제1 임프린트 접착층은 제1 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하는 것인 제1 임프린트 접착층;
    상기 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
    상기 기판의 다른 표면에 형성된 제2 임프린트 접착층으로, 상기 제2 임프린트 접착층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 제2 임프린트 접착층이고; 그리고
    상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
    을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름으로,
    상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는　일정한(regular) 메쉬이고, 다른 하나는　임의의(random) 메쉬이고, 그럼으로써 상기 이중층의 투명 전도성 필름의 적층 동안, 배열 정확도가 요구되지 않고; 그리고
    상기 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 큰 것을 특징으로 하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  10. 제1 임프린트 접착층을 형성하기 위해 기판의 한 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 제1 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제1 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
    전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
    제2 임프린트 접착층을 형성하기 위해 상기 기판의 다른 표면에 임프린트 접착제를 코팅하고, 제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 제2 임프린트 접착층을 패턴 임프린팅하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고; 그리고
    전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
    를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법으로,
    상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는　일정한(regular) 메쉬이고, 다른 하나는　임의의(random) 메쉬이고, 그럼으로써 상기 이중층의 투명 전도성 필름의 적층 동안, 배열 정확도가 요구되지 않고; 그리고
    상기 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 큰 것을 특징으로 하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법.
  11. 제1 메쉬 형태의 홈을 나타내는 기판, 제1 메쉬를 형성하는 상기 제1 메쉬 형태의 홈;
    상기 제1 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제1 전도성 층;
    상기 제1 전도성 층에 배치된 분리 층으로, 상기 분리 층은 제2 메쉬 형태의 홈을 나타내고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하는 것인 분리 층이고; 그리고
    상기 제2 메쉬 형태의 홈에 채워진 전도성 물질을 포함하는 제2 전도성 층;
    을 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름으로,
    상기 제1 메쉬 및 상기 제2 메쉬 중 하나는　일정한(regular) 메쉬이고, 다른 하나는　임의의(random) 메쉬이고, 그럼으로써 상기 이중층의 투명 전도성 필름의 적층 동안, 배열 정확도가 요구되지 않고; 그리고
    상기 제1 전도성 층의 면적에 대한 상기 일정한 메쉬 셀(cell)의 가운데 공간 면적(middle blank area)의 면적 비율은 95%보다 큰 것을 특징으로 하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름.
  12. 제1 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 기판의 표면에 패턴 임프린팅 하고, 상기 메쉬 형태의 홈은 제1 메쉬를 형성하고;
    전도성 물질로 상기 제1 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제1 전도성 층을 얻고;
    분리 층을 형성하기 위해 제1 전도성 층의 표면에 중합체(polymer)를 코팅하고;
    제2 메쉬 형태의 홈을 형성하기 위해 상기 분리 층을 패턴 임프린팅 하고, 상기 제2 메쉬 형태의 홈은 제2 메쉬를 형성하고; 그리고
    전도성 물질로 상기 제2 메쉬 형태의 홈을 채우고 소결시켜서 제2 전도성 층을 얻는 단계;
    를 포함하는 이중층(double-layered)의 투명 전도성 필름의 제조방법으로,
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