KR101495625B1 - 이차 전지용 극판 클리닝 장치 - Google Patents

이차 전지용 극판 클리닝 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101495625B1
KR101495625B1 KR20120103087A KR20120103087A KR101495625B1 KR 101495625 B1 KR101495625 B1 KR 101495625B1 KR 20120103087 A KR20120103087 A KR 20120103087A KR 20120103087 A KR20120103087 A KR 20120103087A KR 101495625 B1 KR101495625 B1 KR 101495625B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode plate
conveyor belt
cleaning
brush
vacuum
Prior art date
Application number
KR20120103087A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140037402A (ko
Inventor
고강호
김종성
Original Assignee
주식회사 엠플러스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엠플러스 filed Critical 주식회사 엠플러스
Priority to KR20120103087A priority Critical patent/KR101495625B1/ko
Publication of KR20140037402A publication Critical patent/KR20140037402A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101495625B1 publication Critical patent/KR101495625B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00—Electrodes
    • H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/04—Processes of manufacture in general
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M10/00—Secondary cells; Manufacture thereof
    • H01M10/05—Accumulators with non-aqueous electrolyte
    • H01M10/052—Li-accumulators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00—Electrodes
    • H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/13—Electrodes for accumulators with non-aqueous electrolyte, e.g. for lithium-accumulators; Processes of manufacture thereof
    • H01M4/139—Processes of manufacture
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10—Energy storage using batteries
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 발명은 이차 전지용 극판 클리닝 장치를 제공하는 것을 목적으로 하는 것으로, 본 발명에 의한 이차 전지용 극판 클리닝 장치의 구성은 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과; 상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와; 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과; 상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제2클리너(20B)를 포함하며, 극판을 뒤집지 않고 이송 라인을 따라 그대로 옮기면서 극판의 상면과 하면에 대한 클리닝 작업을 수행할 수 있으므로, 극판의 클리닝 공정시 시간 소요가 많이 되는 것을 방지하여 작업 용이성과 생산성 향상을 등을 기대할 수 있고, 장비 고속화에 부응하는 클리닝 작업 효율성을 향상 등을 기할 수 있으며, 클리닝 작업 수행 중에 부가적인 이물질 발생을 방지하여 이차 전지의 성능 저하를 미연에 방지하는데 기여할 수 있다는 점에서 주요 특징이 있다.

Description

이차 전지용 극판 클리닝 장치{Secondary battery electrode cleaning apparatus}
본 발명은 이차 전지용 극판 클리닝 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 극판을 뒤집지 않고 이송 라인을 따라 그대로 옮기면서 극판의 상면과 하면에 대한 클리닝 작업을 수행할 수 있으므로, 극판의 클리닝 공정시 시간 소요가 많이 되는 것을 방지하여 작업 용이성과 생산성 향상을 등을 기대할 수 있고, 장비 고속화에 부응하는 클리닝 작업 효율성을 향상 등을 기할 수 있으며, 클리닝 작업 수행 중에 부가적인 이물질 발생을 방지하여 이차 전지의 성능 저하를 미연에 방지하는데 기여할 수 있는 새로운 개념의 이차 전지용 극판 클리닝 장치에 관한 것이다.
이차 전지는 복수개의 양극판과 음극판을 세퍼레이터를 사이에 두고 다수개 적층하여 제조된다. 복수개의 극판(이하, 이해의 편의상 양극판과 음극판을 극판으로 칭하기로 함)을 적층하여 이차 전지를 만들기 위해서는 리일 극판(즉, 이차 전지용 극판 제조용 원판)의 길이 방향 중심선을 기준으로 양쪽에 있는 측단부 중에서 한쪽의 측단부에 대략 사각 금속편 형상의 전극탭(복수개의 극판이 적층되었을 때에 이차 전지용 전극이 되는 부분)을 스탬핑한 다음, 상기 전극탭이 스탬핑되어 있는 리일 극판을 컷팅하는 방식으로 사각판 형태의 극판을 개별화시키고, 이러한 사각판 형태의 개별 극판을 다수개 적층하여 전지팩을 만들게 된다. 즉, 전극탭이 있는 다수개의 극판을 세퍼레이터와 함께 적층하여 이차 전지를 만들게 되므로, 이차 전지의 극판 제조용 원판인 리일 극판에 전극탭을 형성하기 위한 스탬핑 공정과 컷팅 공정이 필수적으로 요구된다.
한편, 스탬핑(또는 노칭) 장비에서 생산된 극판에서는 필연적으로 이물질이 발생된다. 예를 들어, 알루미늄 파티클, 동판 파티클, 극판 코팅 물질(활물질) 등의 이물질이 발생된다. 특히, 금형을 사용하는 그리드 노칭 공정, 나이프를 사용하는 극판 컷팅 공정, 극판 스태킹(적재) 공정 등에서 이물질이 발생된다.
그런데, 상기 공정에서 발생하는 양극/음극 활물질, 알루미늄 포일의 이물질들은 이차 전지의 성능을 떨어뜨리는 요인이 된다. 즉, 크기가 작은 파티클 활물질 형태의 이물질은 극판 사이에 개재되는 세퍼레이터의 공극을 막게 되어서 전지의 충방전시에 리튬 이온의 이동을 방해하므로 전지의 성능을 저하시킨다. 또한, 알루미늄/구리 포일(극판의 원재료인 박판 형태의 패널을 의미함)에서 발생되는 버어(Burr) 형태의 이물질(버어 형태의 파티클 이물질)은 날카로운 입자 형태로 되어 있어서 세퍼레이터에 박히는 경우가 많으며, 이처럼 버어 형태의 이물질이 세퍼레이터에 박힐 경우에는 극판(상기한 양극판과 음극판)이 직접 연결(전기적으로 연결)되므로, 미세 쇼트(short)가 발생하여 전지의 수명을 저하시킨다. 버어 형태의 이물질 자체가 알루미늄 포일이나 동판 포일에서 생기는 것이라서 통전성이 있으며, 이러한 통전성이 있는 날카로운 버어 형태의 이물질이 세퍼레이터에 박히는 경우 양극판과 음극판이 직접 전기적으로 연결되어 버려서 상기와 같은 미세 쇼트 현상이 초래되며, 이러한 미세 쇼트로 인하여 이차 전지의 성능이 나빠지는 문제가 생기며, 심한 경우 이차 전지 자체가 터져버리는 일도 생길 수 있다.
따라서, 상기 이차 전지용 극판의 스탬핑 공정(또는 노칭 공정), 극판 컷팅 공정, 적재 공정 등에서 생기는 이물질을 제거하기 위하여 기존에 스탬핑 장비(또는 노칭 장비)에 이물질 제거 장치가 구비되기도 하였으나, 장비의 고속화에 따라 이물질 제거 성능이 떨어지는 문제가 있다.
현재 스탬핑 공정(또는 노칭 공정)을 거쳐서 개별화된 극판의 양면 중에서 상면을 클리닝한 다음, 극판을 뒤집어서 하면을 클리닝하는 방식을 채택하고 있는데, 이러한 극판을 뒤집는 방식으로 극판의 상면과 하면을 클리닝하는 방식의 경우 시간이 많이 소요되는 문제, 극판 회전(Turning)시에 부가적인 이물질이 발생하여 극판 클리닝 효율에 있어서 만족스럽지 못하다는 등의 문제가 있다.
상기와 같이 극판을 뒤집어서 양면을 클리닝하는 방식을 설명하면, 극판의 상면을 클리닝한 다음, 극판을 흡입 패드 등을 이용하여 들어올리고, 극판을 들어올린 상태에서 흡입 패드와 극판을 회전시켜서 극판의 하면이 위로 가게 뒤집어 주고, 극판을 내려놓아 극판의 하면이 위로 배치된 상태에서 극판의 하면을 클리닝한다. 이어서, 극판의 상면과 하면이 클리닝되면, 극판을 들어서 매거진으로 옮긴 다음, 극판을 내려놓는 방식이다.
그런데, 이처럼 극판의 상면 클리닝, 극판의 풀링업(극판 들어올림), 극판의 회전(극판 터닝), 극판 내려놓음, 극판의 하면 클리닝 공정을 수행하는 방식은 시간 소요가 많이 된다는 점에서 문제가 많다. 특히, 고속화가 되어 있는 장비에서 상기와 같은 극판 터닝과 극판 풀링업 및 푸시 다운 방식에 의해 극판 클리닝을 적용하면, 극판 고속화 공정에 장애가 될 수 있으며, 이러한 점에서 극판 클리닝 효율 등에 있어서 만족스럽지 않은 결과를 초래한다. 그리고, 상기와 같이 극판을 뒤집는 과정 등에서 부가적으로 이물질이 발생되어 제조 완료된 이차 전지에 잔류하게 되므로, 결과적으로 극판을 뒤집는 방식으로 양면을 클리닝하는 방식은 이차 전지 성능면에서 좋지 못한 영향을 끼치게 된다. 부언하면, 극판을 들어올려서 터닝시키고 내려놓고 클리닝하는 방식은 시간 소요가 많이 되면서도 터닝 과정에서 생기는 부가 이물질에 의해 이차 전지 성능을 저하시킬 수 있는 여지가 많다는 점에서 문제가 되고 있다.
본 발명은 전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위해 개발된 것으로, 본 발명의 목적은 극판의 클리닝 공정시 시간 소요가 많이 되는 것을 방지하여 작업 용이성과 생산성 향상을 등을 기대할 수 있고, 극판을 이송 라인을 따라 옮기면서 극판의 상면과 하면을 연속 공정으로 클리닝 작업을 수행할 수 있으므로, 장비 고속화에 부응하는 클리닝 작업 효율성을 향상시킬 수 있으며, 클리닝 작업 수행 중에 부가적인 이물질 발생을 방지하여 이차 전지의 성능 저하를 미연에 방지하는데 기여할 수 있는 이차 전지용 극판 클리닝 장치를 제공하고자 하는 것이다. 극판을 들어서 뒤집은 다음 극판을 다시 내려놓고 클리닝하는 방식보다는 극판을 뒤집지 않고 연속 라인을 따라 이동하면서 극판의 상면과 하면을 간결하게 클리닝할 수 있으므로, 클리닝 작업 시간 지연 방지 등의 효과를 기대할 수 있으며, 부가 이물질 발생 방지로 인한 이차 전지 성능 개선 효과도 기대할 수 있는 새로운 개념의 이차 전지용 극판 클리닝 장치를 제공하고자 하는 것이 본 발명의 주요 목적이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의하면, 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과; 상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와; 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과; 상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치가 제공된다.
상기 제1클리닝 서포트 유닛은, 상기 극판(4)의 투입부에 수평 방향으로 설치되어 상기 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와; 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 하는 제1흡착 유닛을 포함하며, 상기 제2클리닝 서포트 유닛은, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 넘겨받아 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와; 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 상기 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 포함할 수 있다.
상기 제1흡착 유닛은, 상기 극판(4)의 이송 라인에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10)가 상하면(4b)을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 상면(4a)에는 진공 흡입홀이 형성된 제1진공 패널(12)과; 상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제1진공 작용홀(14)을 포함하며, 상기 제2흡착 유닛은, 상기 제1진공 패널(12)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치됨과 동시에 그 시작 지점의 일부가 상기 제1진공 패널(12)의 상부 위치에서 상기 제1진공 패널(12)의 일부와 중첩되는 위치에 배치되어 상기 제2컨베이어 벨트(30)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 저면에는 진공 흡입홀이 형성된 제2진공 패널(32)과; 상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제2진공 작용홀(34)을 포함하며, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상부 위치에 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)가 배치되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)가 배치된다.
상기 제1클리너(20A)는, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 마주하는 위치에 배치된 클리닝 케이스(22)와; 상기 클리닝 케이스(22)에 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상부측 브러시(24)를 포함하며, 상기 제2클리너(20B)는, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면(4b)과 마주하는 위치에 배치된 클리닝 케이스(22)와; 상기 클리닝 케이스(22)에 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 제거하는 하부측 브러시(24)를 포함한다.
상기 클리닝 케이스(22)에는 상기 브러시(24)의 회전에 의해 상기 극판(4)에서 제거되어 상기 클리닝 케이스(22)의 내부로 유입되는 이물질을 흡입하는 석션 장치가 연결된 것을 특징으로 한다.
상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면(극판(4)의 상면(4a)과 하면(4b))을 따라 이동하면서 상기 브러시(24)는 회전하여 상기 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성된다.
상기 제1컨베이어 벨트(10)와 상기 제2컨베이어 벨트(30)는 일정 피치씩 이동 및 정지하도록 구성되고, 상기 극판(4)의 정지시 상기 브러시(24)에 의한 클리닝 작업이 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 클리닝 케이스(22)와 상기 상부측 브러시(24)는 상기 제1컨베이어 벨트(10)에 의해 상기 극판(4)이 이동할 때에 동기화되어 함께 이동되면서 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하고, 상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부측의 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 하부측 브러시(24)는 상기 제2컨베이어 벨트(30)에 의해 상기 극판(4)이 이동할 때에 동기화되어 함께 이동하면서 상기 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 제거하도록 구성하는 것도 가능하다.
상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점에는 다수의 극판(4)이 적재된 서플라이 매거진(6)이 배치되어, 상기 서플라이 매거진(6)으로부터 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 상기 극판(4)이 낱장씩 공급되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 종단 지점 하부 위치에는 상기 제1컨베이어 벨트(10)와 상기 제2컨베이어 벨트(30)를 지나면서 상면(4a)과 하면(4b)이 클리닝된 상기 극판(4)을 적재하는 스택 매거진(8)이 구비된다.
본 발명은 극판이 제1컨베이어 벨트 상부 위치에 구비된 클리닝 케이스와 상부측 브러시 아래로 도달하면, 제1컨베이어 벨트가 무한 궤도 순환 작동을 중지하여 극판을 정지시키며, 극판이 정지된 상태에서 클리닝 케이스와 이에 내장된 상부측 브러시가 극판의 한쪽 단부에서 다른 쪽 단부(즉, 극판의 제1단부측에서 제2단부측) 방향으로 이동하면서 브러시는 회전하여 극판 상면에서 이물질을 제거하는 극판 상면 클리닝 작업을 하고, 제1컨베이어 벨트 위에서 상면이 클리닝된 극판이 제2컨베이어 벨트로 전달되어 극판의 하면이 아래로 배치된 상태에서 제2컨베이어 벨트 하부 위치에 구비된 클리닝 케이스와 이에 내장된 하부측 브러시가 극판의 제1단부측에서 제2단부측으로 이동하면서 동시에 브러시는 회전하여 극판의 하면에서 이물질을 제거하는 극판 하면 클리닝 작업을 하는 것으로, 극판의 상면 클리닝, 극판의 풀링업(극판 들어올림), 극판의 회전(극판 터닝), 극판의 푸시 다운(극판 내려놓음), 극판의 하면 클리닝 공정을 하는 종래의 방식과는 달리, 제1컨베이어 벨트 위에서 극판이 지나오면서 제1클리너에 의해 극판 상면이 클리닝되고, 제2컨베이어 벨트 아래에서 극판이 지나오면서 제2클리너에 의해 극판 하면이 클리닝되도록 함으로써, 극판을 뒤집지 않고서 그대로 이송하면서 극판의 상면 및 하면에 대한 이물질 제거 작업을 할 수 있으므로, 클리닝 작업 시간이 현저히 단축되는 장점이 있고, 이처럼 클리닝 작업 시간 단축으로 인해 생산성이 높아지게 된다. 특히, 고속화 장비에서 만족스러운 극판 클리닝 효율 향상 등의 효과를 기할 수 있으며, 이러한 점에서 고속화 장비에서 요구되는 작업 조건에 충분히 부응하게 된다.
또한, 본 발명에서 극판의 제1단부측에서 제2단부측으로 브러시를 이동시킴과 동시에 회전시켜서 극판 상면과 하면의 이물질을 제거하는데, 극판의 제1단부에서 제2단부 측으로 진행할 때의 브러시 회전 방향과 브러시가 극판의 제2단부 측 근처에 도달하였을 때에 회전 방향이 역방향으로 다르게 전환되도록 구성하고 브러시를 극판 표면으로부터 들어서 이격시는 등의 탈출 방식과 구조를 적용함으로써, 브러시가 회전하면서 극판의 단부에 걸려서 때리는 힘에 의해 극판 표면의 활물질이 깨지는 현상을 미연에 방지하는 효과도 있고, 이러한 활물질 소손 방지로 인하여 이차 전지의 고품질을 보장할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 이차 전지용 극판 클리닝 장치의 주요부 구조를 개략적으로 보여주는 사시도
도 2는 본 발명의 본 발명의 이차 전지용 극판 클리닝 장치의 주요부 구조를 개략적으로 보여주는 일측면도
도 3은 도 2에 도시된 주요부인 제1컨베이어 벨트와 제1클리너의 구조를 개략적으로 보여주는 사시도
도 4는 도 2에 주요부인 제2컨베이어 벨트와 제2클리너의 구조를 개략적으로 보여주는 저면 사시도
도 5는 본 발명의 다른 주요부인 브러시의 구조와 작동 상태를 개념적으로 보여주는 측단면도
도 6과 도 7은 도 5에 도시된 브러시에 의한 클리닝 작업을 수행하는 방법을 개념적으로 보여주는 측단면도
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다.
도면을 참조하면, 본 발명에 의한 이차 전지용 극판 클리닝 장치는 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과, 상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와, 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과, 상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제2클리너(20B)를 포함하는 것으로, 극판(4)을 뒤집지 않고 연속 라인을 따라 이동하면서 극판(4)의 상면(4a)과 하면(4b)을 간결하게 클리닝할 수 있으므로, 작업 속도와 생산성 향상 촉진 및 이물질에 의한 이차 전지의 성능 저하 현상을 사전에 방지할 수 있다는 것이 주요 특징이다. 본 발명에서 극판(4)은 일정 피치씩 이동 및 정지(Go and Stop)하고, 극판(4)을 정지된 상태에서 이물질을 제거하는 방식을 주로 채용하는데, 극판(4)을 정지함이 없이 계속해서 이동시키면서 극판(4) 표면(즉, 상면(4a)과 하면(4b))에서 이물질을 제거하는 방식(동기화 방식 : Sychronized type)도 채용 가능하다.
본 발명은 일측에서 타측 방향으로 순차적으로 배열된 서플라이 매거진(6), 제1클리닝 서포트 유닛, 제1클리너(20A), 제2클리닝 서포트 유닛, 제2클리너(20B), 스택 매거진(8)을 주요 구성으로 한다.
상기 제1클리닝 서포트 유닛은 이차 전지용 극판(4)의 투입부(즉, 서플라이 매거진(6) 위치과 이어지는 위치)에 수평 방향으로 설치되어 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와, 이러한 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 극판(4)을 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 진공 흡입력을 작용시키는 제1흡착 유닛을 구비한다.
상기 제1컨베이어 벨트(10)는 행과 열 방향으로 복수개의 진공 작용홀이 형성되어 있는 것으로, 이러한 제1컨베이어 벨트(10)가 수평 방향으로 배치된 제1진공 패널(12)의 상면부와 하면부를 따라 무한 궤도 순환한다. 이때, 제1진공 패널(12)은 좌우 너비에 비하여 전후 길이가 상대적으로 보다 더 긴 대략 직사각 패널 형상으로 구성된다. 제1진공 패널(12)은 미도시된 지지 브라켓 등에 의해 극판(4) 이송 라인상에 수평 방향으로 배치될 수 있다.
본 발명에서는 제1컨베이어 벨트(10)의 내부 일측에 결합된 구동 롤러와, 이 구동 롤러의 회전 중심부에 회전축이 구동적으로 연결된 구동 모터와, 제1컨베이어 벨트(10)의 내부 타측에 결합된 가이드 롤러 등을 구비하여, 구동 모터의 회전축의 회전에 따라 제1컨베이어 벨트(10)가 제1진공 패널(12)의 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환이 이루어지도록 할 수 있다. 이때, 제1컨베이어 벨트(10)는 제1진공 패널(12)을 상하부를 따라 무한 궤도 순환할 때에 제1진공 패널(12)의 하부측에 배치되는 하측 벨트부와 제1진공 패널(12)의 상부측에 배치되는 상측 벨트부가 형성되는데, 제1컨베이어 벨트(10)의 하측 벨트부와 상측 벨트부의 순환 방향(이동 방향)은 도 2에서 각각 A1과 A2로 표시되어 있다.
본 발명에서는 극판(4)이 제1컨베이어 벨트(10) 위에 얹혀져서 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향한 상태에서 제1흡착 유닛이 극판(4)을 안정적으로 잡고 제1컨베이어 벨트(10)가 일정 피치씩 이동 및 정지하는 방식을 채용한다. 이때, 상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성된 복수개의 진공 작용홀(14)과 제1진공 패널(12)이 제1흡착 유닛을 구성한다.
구체적으로, 제1진공 패널(12)은 내부는 진공 챔버가 구비된다. 제1진공 패널(12)의 상면부(즉, 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 면)에는 진공 흡입홀이 형성되어 있다. 이때, 미도시된 진공 장치가 슬리브와 같은 관체를 매개로 제1진공 패널(12) 내부의 진공 챔버와 연결되어 있으며, 이러한 제1진공 패널(12) 내부의 진공 챔버가 진공 장치에 의한 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부 방향으로 진공 흡인력을 전달하는 통로가 되는 것이다.
따라서, 제1진공 패널(12)의 내부 진공 챔버에 연통된 진공 장치가 공기를 빨아들이는 진공 작동을 하게 되면, 상기 제1진공 패널(12)의 상면부으로 관통된 진공 흡입홀과 제1컨베이어 벨트(10)에 구비된 진공 작용홀을 통해 극판(4)을 아래로 흡착하는 진공 흡인력이 작용하여 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부에 올려진 극판(4)이 진공으로 고정될 수 있게 된다.
상기 제1클리너(20A)는 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 마주하는 위치에 배치된 클리닝 케이스(22)와, 이러한 클리닝 케이스(22)에 내장되어 그 회전에 따라 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상부측 브러시(24)를 구비한다.
상기 클리닝 케이스(22)는 극판(4)의 이송 방향으로 길게 연장된 배럴 형상으로 구성되는데, 클리닝 케이스(22)의 저면(즉, 극판(4)의 상면(4a)과 마주하는 면)에는 이물질을 빨아들이기 위한 흡입공이 형성되어 있다. 또한, 클리닝 케이스(22)는 흡입공과 반대되는 단부측에는 클리닝 케이스(22)의 내부로 석션 흡입력을 작용시키는 석션 장치가 연결된다. 석션 장치는 진공압에 의해 이물질을 빨아들이는 흡입력을 작용하게 되는데, 상기 클리닝 케이스(22)에 플렉시블 슬리브와 같은 연결관을 매개로 연결될 수 있다.
상기 클리닝 케이스(22)의 내부에는 상부측 브러시(24)가 내장된다. 상부측 브러시(24)의 중심부에 구비된 회전축이 클리닝 케이스(22)의 양쪽 측벽부에 상대 회전 가능하게 장착되고, 브러시(24)는 미도시된 회전 구동모터의 회전축에 커플러와 같은 동력전달수단을 매개로 연결되어, 클리닝 케이스(22)의 내부에서 회전하도록 구성될 수 있다.
또한, 상부측 브러시(24)를 내장한 클리닝 케이스(22)는 가이드 수단과 이동 작동수단에 의해 극판(4)에 대해 상대 이동하고, 상부측 브러시(24)는 회전하면서 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하도록 구성된다. 본 발명에서는 극판(4)이 제1컨베이어 벨트(10)에 의해 일정 피치씩 이동 및 정지하는데, 극판(4)이 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부에 흡착 고정되고 정지한 상태에서 상부측 브러시(24)가 극판(4)에 대해 상대 이동하면서 동시에 회전하여 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거한다. 이때, 클리닝 케이스(22)와 상부측 브러시(24)는 극판(4)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 왕복 이송하면서 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 클리닝하게 된다. 그리고, 상부측 브러시(24)가 극판(4) 상면(4a)으로부터 이물질을 제거하면 클리닝 케이스(22)에 연결된 석션 장치의 석션 흡입력에 의해 이물질이 외부로 배출된다. 이러한 과정이 극판(4) 상면(4a) 클리닝 과정이다.
본 발명은 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 극판(4)을 넘겨받아 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와, 이러한 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 구비한다.
구체적으로, 상기 제2컨베이어 벨트(30)는 제1컨베이어 벨트(10)와 마찬가지로 행과 열 방향으로 복수개의 진공 작용홀이 형성되어 있는 것으로, 이러한 제2컨베이어 벨트(30)가 수평 방향으로 배치된 제2진공 패널(32)의 상면부와 하면부를 따라 무한 궤도 순환한다. 이때, 제2진공 패널(32)도 좌우 너비에 비하여 전후 길이가 상대적으로 보다 더 긴 대략 직사각 패널 형상으로 구성된다. 제2진공 패널(32) 역시 제1진공 패널(12)과 마찬가지로 미도시된 지지 브라켓 등에 의해 극판(4) 이송 라인상에 수평 방향으로 배치될 수 있다. 이때, 제2진공 패널(32)은 제1컨베이어 벨트(10) 위에서 상면(4a)이 클리닝된 극판(4)을 넘겨 받을 수 있도록 그 시작 지점의 일부가 제1컨베이어 벨트(10)의 종단 지점의 일부와 상부측에서 중첩되도록 배치되고, 제2진공 패널(32)의 상부면과 하부면을 따라 무한궤도 순환하는 제2컨베이어 벨트(30)도 그 종단 지점의 일부가 제1컨베이어 벨트(10)의 종단 지점의 일부와 상부측에서 중첩되도록 배치되도록 한다. 즉, 제1컨베이어 벨트(10)와 제2컨베이어 벨트(30)의 상면부에서 볼 때에 제1컨베이어 벨트(10)의 종단 지점 일부와 제2컨베이어 벨트(30)의 시작 지점 일부가 일정 면적으로 상하 위치로 중첩 배치된 구조를 이루고 있다.
한편, 본 발명에서는 제2컨베이어 벨트(30)의 내부 일측에 결합된 구동 롤러와, 이 구동 롤러의 회전 중심부에 회전축이 구동적으로 연결된 구동 모터와, 제2컨베이어 벨트(30)의 내부 타측에 결합된 가이드 롤러 등을 구비하여, 구동 모터의 회전축의 회전에 따라 제2컨베이어 벨트(30)가 제2진공 패널(32)의 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환이 이루어지도록 할 수 있다. 제2컨베이어 벨트(30)의 무한궤도 순환을 위한 구성은 제1컨베이어 벨트(10)의 무한궤도 순환을 위한 구성과 동일 유사하다. 다만, 제2컨베이어 벨트(30)는 제1컨베이어 벨트(10)에서 극판(4)을 넘겨받아 이동시킬 수 있도록 그 순환 운동 방향은 제1컨베이어 벨트(10)의 그것과는 반대 방향이다. 즉, 제2컨베이어 벨트(30)는 제2진공 패널(32)을 상하부를 따라 무한 궤도 순환할 때에 제2진공 패널(32)의 하부측에 배치되는 하측 벨트부와 제2진공 패널(32)의 상부측에 배치되는 상측 벨트부가 형성되는데, 제2컨베이어 벨트(30)의 하측 벨트부와 상측 벨트부의 순환 방향(이동 방향)은 도 2에서 각각 B1과 B2로 표시되어 있다. 즉, B1과 B2 순환 방향은 A1과 A2 순환 방향과는 반대되는 방향이다.
또한, 본 발명에서는 제2컨베이어 벨트(30)측에서도 극판(4)을 일정 피치씩 이동 및 정지시켜서 극판(4) 정지시에 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 제거하는 방식을 채택한다. 즉, 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30) 아래에 배치되어 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태에서 제2흡착 유닛이 극판(4)을 안정적으로 잡고 제2컨베이어 벨트(30)가 일정 피치씩 이동 및 정지하며, 극판(4)이 정지된 상태에서 극판(4) 하면(4b)쪽으로 배치되어 있는 제2클리너(20B)에 의해 이물질을 제거하게 된다. 이때, 상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성된 복수개의 진공 작용홀과 제2진공 패널(32)이 제1흡착 유닛을 구성한다.
구체적으로, 제2진공 패널(32)은 내부에 제1진공 패널(12)과 마찬가지로 진공 챔버가 구비된다. 제2진공 패널(32)의 저면(즉, 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 면)에는 진공 흡입홀이 형성되어 있다. 이때, 미도시된 진공 장치가 슬리브와 같은 관체를 매개로 제2진공 패널(32) 내부의 진공 챔버와 연결되어 있으며, 이러한 제2진공 패널(32) 내부의 진공 챔버가 진공 장치에 의한 제2컨베이어 벨트(30)의 하면(4b) 방향으로 진공 흡인력을 전달하는 통로가 되는 것이다.
따라서, 제2진공 패널(32)의 내부 진공 챔버에 연통된 진공 장치가 공기를 빨아들이는 진공 작동을 하게 되면, 상기 제2진공 패널(32)의 하면(4b)으로 관통된 진공 흡입홀과 제2컨베이어 벨트(30)에 구비된 진공 작용홀을 통해 극판(4)을 위쪽 방향으로 흡착하는 진공 흡인력이 작용하여 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 흡착 고정되어 있는 극판(4)이 진공으로 고정될 수 있게 된다.
상기 제2클리너(20B)는 제2컨베이어 벨트(30)의 저면과 마주하는 위치에 배치된 클리닝 케이스(22)와, 이러한 클리닝 케이스(22)에 내장되어 그 회전에 따라 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 하부측 브러시(24)를 구비한다.
상기 클리닝 케이스(22)는 극판(4)의 이송 방향으로 길게 연장된 배럴 형상으로 구성되는데, 클리닝 케이스(22)의 상면부(즉, 극판(4)의 하면(4b)과 마주하는 면)에는 이물질을 빨아들이기 위한 흡입공이 형성되어 있다. 또한, 클리닝 케이스(22)는 흡입공과 반대되는 단부측에는 클리닝 케이스(22)의 내부로 석션 흡입력을 작용시키기 위한 석션홀(23)이 구비되고, 석션홀(23)에 석션 장치가 연결된다. 석션 장치는 진공압에 의해 이물질을 빨아들이는 흡입력을 작용하게 되는데, 상기 클리닝 케이스(22)의 석션홀(23)에 플렉시블 슬리브와 같은 연결관을 매개로 연결될 수 있다.
상기 클리닝 케이스(22)의 내부에는 상부측 브러시(24)가 내장된다. 상부측 브러시(24)의 중심부에 구비된 회전축이 클리닝 케이스(22)의 양쪽 측벽부에 상대 회전 가능하게 장착되고, 브러시(24)는 미도시된 회전 구동모터의 회전축에 커플러와 같은 동력전달수단을 매개로 연결되어, 클리닝 케이스(22)의 내부에서 회전하도록 구성될 수 있다.
또한, 상부측 브러시(24)를 내장한 클리닝 케이스(22)는 가이드 수단과 이동 작동수단에 의해 극판(4)에 대해 상대 이동하고, 상부측 브러시(24)는 회전하면서 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하도록 구성된다. 본 발명에서는 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30)에 의해 일정 피치씩 이동 및 정지하는데, 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 흡착 고정되고 정지한 상태에서 하부측 브러시(24)가 극판(4)에 대해 상대 이동하면서 동시에 회전하여 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 제거한다. 이때, 클리닝 케이스(22)와 하부측 브러시(24)는 극판(4)이 이송 방향과 직교하는 방향으로 왕복 이송하면서 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 클리닝하게 된다. 그리고, 하부측 브러시(24)가 극판(4) 하면(4b)으로부터 이물질을 제거하면 클리닝 케이스(22)에 연결된 석션 장치의 석션 흡입력에 의해 이물질이 외부로 배출된다. 이러한 과정이 극판(4)의 하면(4b) 클리닝 과정이다.
또한, 본 발명에서 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)는 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면(극판(4)의 상면(4a)과 하면(4b)을 의미함)을 따라 이동하면서 브러시(24)는 회전하여 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성된다.
이때, 브러시(24)의 회전 방향을 전환하여 극판(4)의 클리닝 작업을 수행하는 방법은 크게 두 가지로 나눌 수 있다.
<방법 1>
도 6에서는 <방법 1>이 개념적으로 도시되어 있는데, 도 6을 참조하면, 상기 극판(4)의 제1단부(4OS)측에서는 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 미도시된 승강 장치에 의해 극판(4)의 상면에서 위로 들어서 이격시킨 상태(극판(4) 상면에 미접촉된 상태)에서 브러시(24)를 CA 방향으로 회전시킨다.
다음, 상기 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 미도시된 이동 장치에 의해 이동시켜서 극판(4OS)의 제1단부(4OS)보다 안쪽으로 더 들어온 거리(FD)에 배치시킨 다음, 다시 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 승강 장치에 의해 내려서 극판(4)의 상면(4a)에 접촉시킨 상태에서 브러시(24)의 회전에 의해 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 시작한다. 브러시(24)의 회전 방향이 CA 방향이라서 극판(4)의 제1단부(4OS) 바깥 위치에서 시작하면 브러시(24)가 회전하면서 극판(4)의 제1단부(4OS)측을 때리는 힘에 의해 극판(4) 표면의 활물질이 깨질 여지가 있기 때문에, 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 극판(4OS)의 제1단부(4OS)보다 안쪽으로 더 들어온 거리(FD)에 배치시켜서 극판(4) 클리닝 작업을 시작하는 것이다.
다음, 극판(4)의 상면(4a) 클리닝 시작 지점에서 극판(4)의 제2단부(4TS) 방향으로 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 이동시키되, 극판(4)의 제2단부(4TS) 바깥으로 브러시(24)가 나갈 때까지 이동(브러시(24) 탈출)시킨다. 그러면, 상기 극판(4)의 상면(4a) 중에서 상기 FD 거리만큼에 해당하는 부분을 제외한 부분이 클리닝된다. 상기와 같이, 브러시(24)의 회전 방향이 CA 방향이라서 극판(4)의 제2단부(4TS) 바깥으로 브러시(24)가 탈출되어 나갈 때까지 이동시키더라도 브러시(24)가 극판(4)의 단부면(즉, 제2단부(4TS) 면)을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되면서 브러시(24)가 극판(4)의 제2단부(4TS)를 때리는 힘이 작용하지 않으므로, 제2단부(4TS)측의 활물질이 깨지는 일은 발생되지 않게 된다.
다음, 상기 극판(4)에서 FD 거리에 해당하는 부분은 클리닝이 되지 않은 상태이므로, 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 다시 제2단부(4TS) 측에서 제1단부(4OS) 측으로 역이동시켜서 클리닝 작업을 한다. 즉, 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)가 극판(4)의 제2단부(4TS) 방향으로 탈출한 상태에서 클리닝 케이스(22)와 함께 브러시(24)을 위로 들어서 극판(4)의 상면에서 이격시키고, 이러한 극판(4) 상면과 브러시(24)가 이격된 상태에서 브러시(24)의 회전 방향을 CA에서 CB 방향으로 전환한다.
이어서, 상기 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 미도시된 이동 장치에 의해 이동시켜서 극판(4OS)의 제2단부(4TS)보다 안쪽으로 더 들어온 거리(FD)에 배치시킨 다음, 다시 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 승강 장치에 의해 내려서 브러시(24)의 회전에 의해 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 시작한다. 브러시(24)의 회전 방향이 역방향인 CB 방향이라서 극판(4)의 제2단부(4TS) 바깥 위치에서 시작하면 브러시(24)가 회전하면서 극판(4)의 제2단부(4TS)측을 때리는 힘에 의해 극판(4) 표면의 활물질이 깨질 여지가 있기 때문에, 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 극판(4OS)의 제2단부(4TS)보다 안쪽으로 더 들어온 거리(FD)에 배치시켜서 극판(4) 클리닝 작업을 시작하는 것이다.
상기 극판(4)의 제2단부(4TS)측 근처에서 제1단부(4OS) 방향으로 재이동시켜 클리닝 작업을 수행하되, 극판(4)의 제1단부(4OS) 바깥으로 브러시(24)가 나갈 때까지 이동(브러시(24) 탈출)시킨다. 그러면, 상기 극판(4)의 상면(4a) 중에서 위에서 제거되지 않았던 부분의 거리(즉, 상기 FD 거리) 만큼에 해당하는 부분에서도 이물질이 제거되는 클리닝 작업이 이루어진다. 이때, 브러시(24)의 회전 방향이 CA 방향과는 반대되는 CB 방향이라서 극판(4)의 제1단부(4OS) 바깥으로 브러시(24)가 탈출되어 나갈 때까지 이동시키더라도 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되면서 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)를 때리는 힘이 작용하지 않으므로, 제2단부(4OS)측의 활물질이 깨지는 일은 역시 발생되지 않게 된다. 즉, 상기 브러시(24)에 의해 극판(4)의 제1단부(4OS) 근방에서 클리닝 작업을 시작하여 제2단부(4TS)측으로 브러시(24)를 탈출시키는 한 번의 클리닝 작업, 다시 브러시(24)에 의해 극판(4)의 제2단부(4TS) 근방에서 클리닝 작업을 시작하여 제1단부(4OS)측으로 브러시(24)를 탈출시키는 두 번의 클리닝 작업을 통해서 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 완결한다.
한편, 상기 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 완결하였으면, 극판(4)의 하면(4b)에 대한 클리닝 작업도 수행하게 되는데, 극판(4a)의 하면(4b)에 대한 클리닝 작업의 경우 하부측의 클리닝 케이스(22)와 하부측의 브러시(24)가 상부측의 클리닝 케이스(22) 및 브러시(24)와는 반대 방향으로 뒤집어서 배치된 상태서 클리닝 작업을 하는 것 이외에는 클리닝 방식이 동일하다. 따라서, 극판(4) 하면(4a)에 대한 클리닝 작업은 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 상면(4a) 클리닝 할 때와 달리 뒤집어 놓고 수행하는 것이기 때문에, 이에 대한 더 이상의 중복 설명은 생략하기로 한다.
<방법 2>
도 7에서는 <방법 2>가 개념적으로 도시되어 있는데, 도 7을 참조하면, 상기 극판(4)의 제1단부(4OS)측에서는 브러시(24)의 회전 방향을 CB 방향으로 하여서 제1단부(4OS)에서 바로 브러시(24)의 진입을 시작(즉, 극판(4)의 제1단부(4OS)가 시작되는 위치에서 바로 브러시(24)의 진입을 시작)한다. 이처럼, 브러시(24)의 회전 방향이 CB 방향이라서 극판(4)의 제1단부(4OS)보더 더 안쪽으로 들어가지 않고 제1단부(4OS) 시작되는 지점에서 바로 클리닝을 시작하더라도 브러시(24)가 극판(4)의 단부면(즉, 제1단부(4OS) 면)을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되면서 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)를 때리는 힘이 작용하지 않기 때문에, 제1단부(4OS)측의 활물질이 깨지는 일은 발생되지 않게 된다.
다음, 극판(4)의 제1단부(4OS)측에서 제2단부(4TS) 방향으로 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 이동시키되, 브러시(24)가 극판(4)의 제2단부(4TS) 근처에 도달하면 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 승강 장치에 의해 극판(4) 위로 올려서 브러시(24)를 극판(4)의 상면(4a)에서 이격(탈출)시킨다. 즉, 제2단부(4TS) 측에서 거리 FD만큼만 남겨진 상태에서 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 위로 들어서 탈출시킨다. 그러면, 상기 극판(4)의 상면(4a) 중에서 FD 만큼의 거리에 해당하는 부분의 면적을 제외한 다른 부분에 대한 클리닝 작업이 이루어진다.
다음, 극판(4)의 상면에서 브러시(24)가 들려진 탈출 상태에서 브러시(24)의 회전 방향을 CB 방향에서 CA이 방향이 되도록 브러시(24)를 역회전시키고, 한편으로 브러시(24)와 이를 내장한 클리닝 케이스(22)를 극판(4)의 제2단부(4TS) 바깥 위치에 있도록 미도시된 이송 장치에 의해 이동시킨다.
이어서, 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 승강 장치에 의해 다시 하강시켜서 극판(4)의 제2단부(4TS)에서부터 클리닝을 시작한다. 상기와 같이, 브러시(24)을 위로 들어서 탈출시킬 때에는 FD 거리만큼에 해당하는 부분의 클리닝은 이루어지지 않은 상태이므로, 브러시(24)의 전진을 극판(4)의 제2단부(4TS)에서부터 시작하여 클리닝을 하는 것이며, 극판(4)의 제2단부(4TS)에서부터 클리닝을 시작하면, 위에서 제거되지 않았던 부분(즉, FD 거리 만큼에 해당하는 부분)에 대한 클리닝을 할 수 있다.
다음, 제2단부(4TS)의 시작 지점에서부터 제1단부(4OS) 방향으로 계속 크리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 이동시켜서 클리닝 작업을 하되, 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)측에 인접된 위치에 도달하면 브러시(24)를 위로 들어서 탈출시키는 클리닝 작업을 한다. 상기와 같이, 브러시(24)의 회전 방향이 CB 방향에서 CA 방향으로 역전된 상태라서, 극판(4)의 제1단부(4OS) 바깥으로 브러시(24)가 나갈때까지 이송시키면 극판(4)의 제1단부(4OS) 근방의 활물질이 브러시(24)의 회전에 의해 타격하는 힘에 의해 깨질 여지가 있으므로, 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS) 바깥으로 나가기 이전에 브러시(24)를 위로 들려준다. 그러면, 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)측을 회전하는 힘에 의해 때리는 일이 없으므로, 제1단부(4OS)측의 활물질이 깨지는 일은 발생되지 않게 된다. 즉, <방법 2>에서도 상기 브러시(24)에 의해 극판(4)의 제1단부(4OS) 근방에서 클리닝 작업을 시작하여 제2단부(4TS)측으로 브러시(24)를 탈출시키는 한 번의 클리닝 작업, 다시 브러시(24)에 의해 극판(4)의 제2단부(4TS)가 시작되는 위치에서 클리닝 작업을 시작하여 제1단부(4OS)측 근방에서 브러시(24)를 위로 들어서 탈출시키는 두 번의 클리닝 작업을 통해서 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 완결하게 된다.
한편, 상기 <방법 2>에서도 극판(4)의 상면(4a)에 대한 클리닝 작업을 완결하였으면, 극판(4)의 하면(4b)에 대한 클리닝 작업도 수행하게 되는데, 극판(4a)의 하면(4b)에 대한 클리닝 작업의 경우 하부측의 클리닝 케이스(22)와 하부측의 브러시(24)가 상부측의 클리닝 케이스(22) 및 브러시(24)와는 반대 방향으로 뒤집어서 배치된 상태에서 클리닝 작업을 하는 것 이외에는 클리닝 방식이 동일하다. 따라서, <방법 2>에서도 극판(4) 하면(4a)에 대한 클리닝 작업은 클리닝 케이스(22)와 브러시(24)를 상면(4a) 클리닝 할 때와 달리 뒤집어 놓고 수행하는 것이기 때문에, 이에 대한 더 이상의 중복 설명은 생략하기로 한다.
한편, 제2진공 패널(32)의 내부 공간부 중에서 진공 챔버를 제외한 나머지는 격판에 의해 진공이 차단되어 비진공 챔버 영역으로 하는 것이 바람직하다. 제2진공 패널(32)의 종단 지점 인접 위치의 하부에는 클리닝된 극판(4)을 적재하는 스택 매거진(8)이 구비되는데, 스택 매거진(8) 안으로 클리닝 완료된 극판(4)을 투입하기 위해서는 제2진공 패널(32)에서 진공 흡인력을 해제해야만 하는데, 본 발명에서는 제2진공 패널(32)에서 진공 흡인력이 해제되는 진공 해제 경계부(VRL)를 설정함으로써, 상기 진공 해제 경계부(VRL)에서부터는 극판(4)이 스택 매거진(8) 위에서 아래로 하강하여 스택 매거진(8) 내부로 적재될 수 있게 된다.
이때, 제2컨베이어 벨트(30)의 종단 지점 하부 위치에 배치된 스택 매거진(8)에는 극판 어레이 유닛이 구비될 수 있다. 즉, 스택 매거진(8)의 둘레부에는 극판(4)의 단부(둘레부)를 밀어서 가지런히 정렬하는 푸시 로드(미도시)를 구비한 극판 어레이 유닛이 더 구비된다. 본 발명에서 극판 어레이 유닛은 스택 매거진(8)의 네 군데 둘레부에 각각 상대 전후진 가능하게 배치된 복수개의 푸시 로드와, 이 푸시 로드를 극판(4)의 단부 방향으로 전진되도록 하는 푸시 작동 장치를 포함한다. 이때, 푸시 로드를 전후진되도록 하는 푸시 작동 장치는 실린더로 구성될 수 있다. 즉, 스택 매거진(8)의 상부측 네 둘레부에 각각 구비된 푸시 로드마다 실린더의 실린더 로드가 연결되어, 실린더의 작동에 의해 실린더 로드가 전진하면 개별 푸시 로드가 동시에 전진(동기화 전진)하여 극판(4)의 네 군데 둘레부를 부드럽게 밀어주어서 극판(4)이 가지런히 상하 방향으로 정렬된 상태에서 적재될 수 있도록 한다.
또한, 본 발명에서는 스택 매거진(8)의 내부 저면에 승강 가능한 베이스 플레이트를 설치하고, 이러한 베이스 플레이트 위에서부터 다수개의 극판(4)이 적재되도록 구성하여, 스택 매거진(8)에서 극판(4)의 적재면의 높이를 항상 일정한 높이로 유지할 수 있도록 한다. 적재 매거진에서 극판(4)의 적재면이 최대한 제2컨베이어 벨트(30)와 근접하는 것이 바람직한데, 본 발명에서는 승강되는 베이스 플레이트에 의해 이러한 것이 가능하다. 이때, 극판(4)의 적재면 높이 감지는 센서에 의해 수행하고, 극판(4)이 얹혀진 베이스 플레이트의 상하 승강 동작은 공지의 승강 장치(구동모터와 볼스크류 및 가이드 레일 등)에 의해 구현할 수 있다.
이러한 구성의 본 발명은 극판(4)을 한 장씩 공급(서플라이 매거진(6)에서 공급)하고, 극판(4) 클리닝 작업을 한 다음, 클리닝된 극판(4)을 적재(스택 매거진(8)에 적재)하는 과정을 수행하는 것이 기본 개념이다.
구체적으로, 상기 서플라이 매거진(6)에 다층 적재된 극판(4)을 흡착 패드 등을 구비한 픽업 장치에 의해 한 장씩 제1컨베이어 벨트(10) 위로 공급한다. 이때, 픽업 장치는 흡착 패드에 의해 극판(4)을 들어올려서 제1컨베이어 벨트(10) 위로 이동한 다음에 제1컨베이어 벨트(10)가 정지시에 극판(4)을 내려놓는 작동을 하는데, 이러한 극판(4)을 한 장씩 제1컨베이어 벨트(10) 위로 옮겨놓는 픽업 장치는 공지의 장치를 채용할 수 있으므로, 상기 픽업 장치에 대한 더 이상의 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 서플라이 매거진(6)에서 제1컨베이어 벨트(10) 위로 극판(4)이 올려지면, 극판(4)은 상면(4a)이 위로 향하도록 배치되며, 제1컨베이어 벨트(10)를 위에서 아래로 잡아당기는 진공압에 의해 제1컨베이어 벨트(10) 위에 안정적으로 고정되어 있으며, 제1컨베이어 벨트(10)가 무한 궤도 순환함에 따라 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30) 방향으로 이동한다. 이때, 제1컨베이어 벨트(10)는 일정 피치씩 이동 및 정지(Go and Stop)하는 작동을 하는데, 극판(4)이 제1컨베이어 벨트(10) 상부 위치에 구비된 클리닝 케이스(22)와 상부측 브러시(24) 아래로 도달하면, 제1컨베이어 벨트(10)가 무한 궤도 순환 작동을 중지하여 극판(4)을 정지시키며, 극판(4)이 정지된 상태에서 클리닝 케이스(22)와 이에 내장된 상부측 브러시(24)가 극판(4)의 한쪽 단부에서 다른 쪽 단부(이하, 이해의 편의상 극판(4)의 한쪽 단부는 제1단부(4OS)로 칭하고, 극판(4)의 다른 쪽 단부는 제2단부(4TS)로 칭함) 방향으로 이동하면서 브러시(24)는 회전하여 극판(4) 상면(4a)에서 이물질을 제거하는 극판(4) 상면(4a) 클리닝 작업을 하게 된다. 브러시(24)로 제거되는 이물질은 클리닝 케이스(22)의 석션홀(23)과 석션 장치에 의해 흡입되어 극판(4) 외부로 배출된다. 그리고, 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거한 다음에는 클리닝 케이스(22)와 상부측 브러시(24) 및 상부측 브러시(24)의 회전을 위한 구동모터 등은 다시 원위치(즉, 극판(4)의 제1단부(4OS)측 위치)로 복귀(리턴)하여, 다음 번에 들어오는 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝할 수 있는 위치에 배열된다. 이때, 상기 클리닝 케이스(22)와 상부측 브러시(24) 및 상부측 브러시(24)의 회전용 구동모터 등은 이동 작동장치에 의해 가이드 레일을 따라 극판(4)의 제1단부(4OS)에서 제2단부(4TS)로 이동하였다가 원위치로 복귀(리턴)하도록 구성될 수 있는데, 이러한 클리닝 케이스(22)와 상부측 브러시(24) 등의 이동 및 원위치 동작을 위한 이동 작동장치도 공지의 장치를 채용할 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명도 생략한다.
상기 제1컨베이어 벨트(10)를 지나면서 상면(4a)이 클리닝된 극판(4)은 제2컨베이어 벨트(30)로 전진하는데, 제2컨베이어 벨트(30)의 시작 지점 일부가 상부 위치에서 제1컨베이어 벨트(10)의 종단 지점 일부와 중첩된 형태로 배치되어 있어서, 제1컨베이어 벨트(10) 위의 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30) 아래 위치로 진입할 때에 제2컨베이어 벨트(30)에서 위로 작용하는 진공압에 의해 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부으로 전달된다. 즉, 제2컨베이어 벨트(30)가 제1컨베이어 벨트(10)에서 극판(4)을 넘겨받게 되고, 제2컨베이어 벨트(30)로 전달된 극판(4)은 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치된다.
상기 제2컨베이어 벨트(30) 일정 피치씩 이동 및 정지(Go and Stop)하는 작동을 하고, 극판(4)이 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 구비된 클리닝 케이스(22)와 하부측 브러시(24) 위쪽으로 도달하면, 제2컨베이어 벨트(30)가 무한 궤도 순환 작동을 중지하여 극판(4)을 정지시키며, 극판(4)이 정지된 상태에서 클리닝 케이스(22)와 이에 내장된 하부측 브러시(24)가 극판(4)의 제1단부(4OS)측에서 제2단부(4TS)측으로 이동하면서 동시에 브러시(24)는 회전하여 극판(4)의 하면(4b)에서 이물질을 제거하는 극판(4) 하면(4b) 클리닝 작업을 하게 된다. 브러시(24)로 제거되는 이물질은 역시 클리닝 케이스(22)의 석션홀(23)과 석션 장치를 통해 흡입되어 극판(4) 외부로 배출된다. 그리고, 극판(4) 하면(4b)의 이물질을 제거한 다음에는 클리닝 케이스(22)와 하부측 브러시(24) 및 하부측 브러시(24)의 회전을 위한 구동모터 등은 제1컨베이어 벨트(10)에서와 마찬가지로 다시 원위치(즉, 극판(4)의 제1단부(4OS)측 위치)로 복귀(리턴)하여 다음 번에 들어오는 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝할 수 있는 위치에 배치된다. 이때, 상기 클리닝 케이스(22)와 하부측 브러시(24) 및 하부측 브러시(24)의 회전용 구동모터 등은 이동 작동장치에 의해 가이드 레일을 따라 극판(4)의 제1단부(4OS)에서 제2단부(4TS)로 이동하였다가 원위치로 복귀(리턴)하는 구성은 역시 공지의 장치를 채용하여 구현할 수 있다.
다음, 상기 제1컨베이어 벨트(10)와 제2컨베이어 벨트(30)를 지나오면서 그 상면(4a)과 하면(4b)이 클리닝된 극판(4)은 제2컨베이어 벨트(30)의 종단 지점 하부 위치에 배치된 스택 매거진(8)에 적재된다. 이때, 제2컨베이어 벨트(30)의 종단 지점 근방에는 진공 해제 경계부(VRL)가 구비되어 있어서, 극판(4)이 진공 해제 경계부(VRL)를 지나면 극판낙하장치에 의해 스택 매거진(8) 안으로 낙하되어 차곡차곡 적재될 수 있다.
한편, 상기 스택 매거진(8)에는 전술한 바와 같은 극판 어레이 유닛이 구비되어, 극판 어레이 유닛의 푸시 로드에 의해 극판(4)의 둘레부를 푸시하여 가지런히 정렬할 수 있다. 그리고, 극판(4)은 스택 매거진(8)의 기저 바닥부에 구비된 베이스 플레이트 위에 적재되고, 베이스 플레이트는 승강 가능하게 구성되어, 베이스 플레이트의 높이를 조절하여 극판(4)의 적재면이 제2컨베이어 벨트(30)에 최대한 근접한 위치(최적의 적재 위치)에 배치되도록 할 수 있다.
따라서, 본 발명은 극판(4)의 상면(4a) 클리닝, 극판(4)의 풀링업(극판(4) 들어올림), 극판(4)의 회전(극판(4) 터닝), 극판(4)의 푸시 다운(극판(4) 내려놓음), 극판(4)의 하면(4b) 클리닝 공정을 하는 종래의 방식과는 달리, 제1컨베이어 벨트(10) 위에서 극판(4)이 지나오면서 제1클리너(20A)에 의해 극판(4) 상면(4a)이 클리닝되고, 제2컨베이어 벨트(30) 아래에서 극판(4)이 지나오면서 제2클리너(20B)에 의해 극판(4) 하면(4b)이 클리닝되도록 함으로써, 극판(4)을 뒤집지 않고 그대로 이송하면서 극판(4)의 상면(4a) 및 하면(4b)에 대한 클리닝 작업을 할 수 있으므로, 클리닝 작업 시간이 현저히 단축되는 장점이 있고, 이처럼 클리닝 작업 시간 단축으로 인해 생산성이 높아지게 된다. 특히, 고속화가 되어 있는 장비에서 종래와 같은 극판(4) 터닝과 극판(4) 풀링업 및 푸시 다운 방식에 의해 극판(4) 클리닝을 적용하면(4b) 고속화 공정에 장애가 될 수 있으나, 본 발명에서는 극판(4)을 뒤집을 필요 없이 극판(4)을 그대로 놓은 상태에서 이송시키면서 극판(4)의 상면(4a) 및 하면(4b)에 대한 클리닝 작업 수행이 가능하므로, 극판(4) 고속화 공정에 장애가 될 수 있는 여러 요인을 극복할 수 있으며, 이러한 점에서 극판(4) 클리닝 효율 등에 있어서 만족스럽지 결과를 기대할 수 있다. 즉, 본 발명의 클리닝 장치는 고속화 장비에서 요구되는 작업 조건에 충분히 부응하는 유용한 발명이라 하겠다.
또한, 본 발명에서는 극판(4)을 뒤집는 과정 등에서 부가적으로 이물질이 발생되는 경우가 생기지 않아서, 극판(4) 터닝 과정에서의 부가 이물질로 인한 이차 전지의 성능 저하 등을 미연에 방지하는 효과도 있다.
부언하면(4b), 종래에 극판(4)을 들어올려서 터닝시키고 클리닝하여 다시 내려놓는 것과 같은 방식은 시간 소요가 많이 되면서도 터닝 과정에서 생기는 부가 이물질에 의해 이차 전지 성능을 저하시킬 수 있는 여지가 많다는 점에서 문제가 되고 있으나, 본 발명은 이러한 종래의 문제점을 말끔하게 해결할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 극판(4)의 제1단부(4OS)측에서 제2단부(4TS)측으로 브러시(24)를 이동시킴과 동시에 회전시켜서 극판(4) 상면(4a)과 하면(4b)의 이물질을 제거하는데, 상기와 같이, 브러시(24)가 회전하면서 극판(4)의 제1단부(4OS)측이나 제2단부(4TS)측을 때리는 힘이 작용하는 것을 방지하는 구조와 특별한 방식을 채택함으로써, 극판(4) 표면의 활물질이 회전되는 브러시(24)의 타격하는 힘에 의해 깨질 염려가 없으므로, 극판(4)의 성능 저하를 방지할 수 있고, 극판(4)의 고품질을 유지함으로 인하여 결과적으로 이차 전지의 고품질을 보장하는데 크게 기여할 수 있게 된다.
한편, 본 발명에서는 제1컨베이어 벨트(10)와 제2컨베이어 벨트(30)가 일정 피치씩 이동 및 정지(Go and Stop)하고, 극판(4) 정지시 브러시(24)에 의한 극판(4) 클리닝 작업을 수행하는 방식을 채용하였으나, 극판(4)을 정지시키지 않고 계속 이송시키면서 이물질을 클리닝하는 클리닝 케이스(22)와 브러시(24) 및 이러한 브러시(24)의 회전을 위한 구동모터 등을 극판(4)의 이송 속도에 맞추어 함께 이송(동기화 이송)시키면서 극판(4) 클리닝 작업을 수행할 수도 있다.
상기와 같은 클리닝 케이스(22)와 브러시(24) 등을 극판(4) 이송 속도와 동일하게 맞추어 함께 이송시키면서 클리닝 작업을 하면(4b) 클리닝 작업 속도를 보다 높일 수 있고, 클리닝 작업 속도를 보다 높여줌으로써 생산성도 역시 더 높여줄 수 있게 된다. 이때, 상기 클리닝 케이스(22)와 브러시(24) 등의 동기화 이동 방식(Synchronized convey type)은 미도시된 동기화 구동장치는 공지의 장치(예를 들어, 클리닝 케이스(22)의 가이드를 위한 가이드 레일과 구동모터 등)를 이용할 수 있을 것이다.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
4. 극판 6. 서플라이 매거진
8. 스택 매거진 10. 제1컨베이어 벨트
12. 제1진공 패널 14. 제1진공 작용홀
20A. 제1클리너 20B. 제2클리너
22. 클리닝 케이스 23. 석션홀
24. 브러시 30. 제2컨베이어 벨트
32. 제2진공 패널 34. 제2진공 작용홀

Claims (8)

  1. 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와;
    상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B);를 포함하고,
    상기 제1클리닝 서포트 유닛은,
    상기 극판(4)의 투입부에 수평 방향으로 설치되어 상기 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와;
    상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 하는 제1흡착 유닛을 포함하며,
    상기 제2클리닝 서포트 유닛은,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 넘겨받아 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 상기 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 포함하여 구성되고,
    상기 제1흡착 유닛은,
    상기 극판(4)의 이송 라인에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 상면에는 진공 흡입홀이 형성된 제1진공 패널(12)과;
    상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제1진공 작용홀(14)을 포함하며,
    상기 제2흡착 유닛은,
    상기 제1진공 패널(12)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치됨과 동시에 그 시작 지점의 일부가 상기 제1진공 패널(12)의 상부 위치에서 상기 제1진공 패널(12)의 일부와 중첩되는 위치에 배치되어 상기 제2컨베이어 벨트(30)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 저면에는 진공 흡입홀이 형성된 제2진공 패널(32)과;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제2진공 작용홀(34)을 포함하며,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상부 위치에 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)가 배치되고,
    상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)가 배치되고,
    상기 제1클리너(20A)와 상기 제2클리너(20B)는 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 상기 제2컨베이어 벨트(10)의 하면(4b)과 마주하는 위치에 각각 배치된 상하부측 클리닝 케이스(22)와;
    상기 클리닝 케이스(22)에 각각 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상하부측 브러시(24)를 포함하고,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면을 따라 이동하면서 상기 브러시(24)는 회전하여 상기 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성되며,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 제1단부(4OS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향과 반대되는 방향으로 회전시에는 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS)보다 안쪽으로 더 들어온 위치에서 상기 극판(4)의 제2단부(4TS)의 바깥 영역까지 이동하여 승강 장치에 의해 상기 극판(4)의 상부로 들려진 다음, 상기 브러시(24)의 회전 방향이 반대로 바뀌면서 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향과 반대되는 방향으로 회전 방향이 전환된 다음, 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)보다 안쪽으로 더 들어온 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS) 바깥 영역까지 이동하여 승강 장치에 의해 상기 극판(4)의 상부로 들려지도록 구성된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  2. 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와;
    상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B);를 포함하고,
    상기 제1클리닝 서포트 유닛은,
    상기 극판(4)의 투입부에 수평 방향으로 설치되어 상기 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와;
    상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 하는 제1흡착 유닛을 포함하며,
    상기 제2클리닝 서포트 유닛은,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 넘겨받아 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 상기 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 포함하여 구성되고,
    상기 제1흡착 유닛은,
    상기 극판(4)의 이송 라인에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 상면에는 진공 흡입홀이 형성된 제1진공 패널(12)과;
    상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제1진공 작용홀(14)을 포함하며,
    상기 제2흡착 유닛은,
    상기 제1진공 패널(12)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치됨과 동시에 그 시작 지점의 일부가 상기 제1진공 패널(12)의 상부 위치에서 상기 제1진공 패널(12)의 일부와 중첩되는 위치에 배치되어 상기 제2컨베이어 벨트(30)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 저면에는 진공 흡입홀이 형성된 제2진공 패널(32)과;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제2진공 작용홀(34)을 포함하며,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상부 위치에 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)가 배치되고,
    상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)가 배치되고,
    상기 제1클리너(20A)와 상기 제2클리너(20B)는 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 상기 제2컨베이어 벨트(10)의 하면(4b)과 마주하는 위치에 각각 배치된 상하부측 클리닝 케이스(22)와;
    상기 클리닝 케이스(22)에 각각 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상하부측 브러시(24)를 포함하고,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면을 따라 이동하면서 상기 브러시(24)는 회전하여 상기 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성되며,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 제2단부(4TS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향과 반대되는 방향으로 회전시에는 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)보다 안쪽으로 더 들어온 위치에서 상기 극판(4)의 제1단부(4OS)의 바깥 영역까지 이동하여 승강 장치에 의해 상기 극판(4)의상부로 들려진 다음, 상기 브러시(24)의 회전 방향이 반대로 바뀌면서 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향과 반대되는 방향으로 회전 방향이 전환된 다음, 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS)보다 안쪽으로 더 들어온 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS) 바깥 영역까지 이동하여 승강 장치에 의해 상기 극판(4)의 상부로 들려지도록 구성된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  3. 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와;
    상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B);를 포함하고,
    상기 제1클리닝 서포트 유닛은,
    상기 극판(4)의 투입부에 수평 방향으로 설치되어 상기 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와;
    상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 하는 제1흡착 유닛을 포함하며,
    상기 제2클리닝 서포트 유닛은,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 넘겨받아 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 상기 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 포함하여 구성되고,
    상기 제1흡착 유닛은,
    상기 극판(4)의 이송 라인에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 상면에는 진공 흡입홀이 형성된 제1진공 패널(12)과;
    상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제1진공 작용홀(14)을 포함하며,
    상기 제2흡착 유닛은,
    상기 제1진공 패널(12)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치됨과 동시에 그 시작 지점의 일부가 상기 제1진공 패널(12)의 상부 위치에서 상기 제1진공 패널(12)의 일부와 중첩되는 위치에 배치되어 상기 제2컨베이어 벨트(30)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 저면에는 진공 흡입홀이 형성된 제2진공 패널(32)과;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제2진공 작용홀(34)을 포함하며,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상부 위치에 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)가 배치되고,
    상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)가 배치되고,
    상기 제1클리너(20A)와 상기 제2클리너(20B)는 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 상기 제2컨베이어 벨트(10)의 하면(4b)과 마주하는 위치에 각각 배치된 상하부측 클리닝 케이스(22)와;
    상기 클리닝 케이스(22)에 각각 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상하부측 브러시(24)를 포함하고,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면을 따라 이동하면서 상기 브러시(24)는 회전하여 상기 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성되며,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 제1단부(4OS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전시에는 상기 제1단부(4OS)보다 바깥으로 벗어난 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS) 안쪽 영역으로 진입하여 상기 극판(4)의 제2단부(4TS) 방향으로 이동하다가 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)에 근접하는 위치로 이동한 상태에서는 승강 장치에 의해 상기 극판(4)으로부터 상부로 들려진 다음, 상기 브러시(24)의 회전 방향이 반대로 바뀌면서 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환된 다음, 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS)보다 바깥으로 벗어난 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS) 안쪽 영역으로 진입하여 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS) 방향으로 이동하다가 상기 제1단부(4OS)에 상기 브러시(24)가 근접한 위치에서 상기 승강 장치에 의해 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4) 상부로 들려지도록 구성된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  4. 이차 전지용 극판(4)의 상면(4a)이 위를 향하도록 배치하는 제1클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제1클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)와;
    상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래를 향하도록 배치하는 제2클리닝 서포트 유닛과;
    상기 제2클리닝 서포트 유닛에 의해 배치된 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B);를 포함하고,
    상기 제1클리닝 서포트 유닛은,
    상기 극판(4)의 투입부에 수평 방향으로 설치되어 상기 극판(4)의 상면(4a)이 위로 향하도록 배치하는 제1컨베이어 벨트(10)와;
    상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 흡착되도록 하는 제1흡착 유닛을 포함하며,
    상기 제2클리닝 서포트 유닛은,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 배치된 상기 극판(4)을 넘겨받아 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향하도록 배치하는 제2컨베이어 벨트(30)와;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)의 하면부에 상기 극판(4)의 상면(4a)이 흡착되어 상기 극판(4)의 하면(4b)이 아래로 향한 상태가 유지되도록 하는 제2흡착 유닛을 포함하여 구성되고,
    상기 제1흡착 유닛은,
    상기 극판(4)의 이송 라인에 수평 방향으로 배치되어 상기 제1컨베이어 벨트(10)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 안쪽면과 마주하는 상면에는 진공 흡입홀이 형성된 제1진공 패널(12)과;
    상기 제1컨베이어 벨트(10)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제1진공 작용홀(14)을 포함하며,
    상기 제2흡착 유닛은,
    상기 제1진공 패널(12)의 시작 지점과 반대되는 종단 지점에 수평 방향으로 배치됨과 동시에 그 시작 지점의 일부가 상기 제1진공 패널(12)의 상부 위치에서 상기 제1진공 패널(12)의 일부와 중첩되는 위치에 배치되어 상기 제2컨베이어 벨트(30)가 상부면과 하부면을 따라 무한 궤도 순환하며 그 내부에는 진공 챔버가 구비되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 안쪽면과 마주하는 저면에는 진공 흡입홀이 형성된 제2진공 패널(32)과;
    상기 제2컨베이어 벨트(30)에 형성되어 상기 제1진공 흡입홀과 연통된 제2진공 작용홀(34)을 포함하며,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상부 위치에 상기 극판(4)의 상면(4a)을 클리닝하는 제1클리너(20A)가 배치되고,
    상기 제2컨베이어 벨트(30) 하부 위치에 상기 극판(4)의 하면(4b)을 클리닝하는 제2클리너(20B)가 배치되고,
    상기 제1클리너(20A)와 상기 제2클리너(20B)는 상기 제1컨베이어 벨트(10)의 상면부과 상기 제2컨베이어 벨트(10)의 하면(4b)과 마주하는 위치에 각각 배치된 상하부측 클리닝 케이스(22)와;
    상기 클리닝 케이스(22)에 각각 내장되어 그 회전에 따라 상기 극판(4) 상면(4a)의 이물질을 제거하는 상하부측 브러시(24)를 포함하고,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 이물질을 제거하기 위한 면을 따라 이동하면서 상기 브러시(24)는 회전하여 상기 극판(4)에서 이물질을 제거하되, 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부에 근접되는 위치로 이동한 상태에서는 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 단부면을 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환되도록 구성되며,
    상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)는 상기 극판(4)의 제2단부(4OS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전시에는 상기 제2단부(4OS)보다 바깥으로 벗어난 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4OS) 안쪽 영역으로 진입하여 상기 극판(4)의 제1단부(4TS) 방향으로 이동하다가 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4TS)에 근접하는 위치로 이동한 상태에서는 승강 장치에 의해 상기 극판(4)으로부터 상부로 들려진 다음, 상기 브러시(24)의 회전 방향이 반대로 바뀌면서 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS)를 기준으로 바깥 방향으로 회전 슬립되는 방향으로 회전 방향이 전환된 다음, 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS)보다 바깥으로 벗어난 위치에서 상기 극판(4)의 상기 제1단부(4OS) 안쪽 영역으로 진입하여 상기 극판(4)의 상기 제2단부(4TS) 방향으로 이동하다가 상기 제1단부(4TS)에 상기 브러시(24)가 근접한 위치에서 상기 승강 장치에 의해 상기 클리닝 케이스(22)와 상기 브러시(24)가 상기 극판(4) 상부로 들려지도록 구성된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 클리닝 케이스(22)에는 상기 브러시(24)의 회전에 의해 상기 극판(4)에서 제거되어 상기 클리닝 케이스(22)의 내부로 유입되는 이물질을 흡입하는 석션 장치가 연결된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)와 상기 제2컨베이어 벨트(30)는 일정 피치씩 이동 및 정지하도록 구성되고, 상기 극판(4)의 정지시 상기 브러시(24)에 의한 클리닝 작업이 이루어지는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1컨베이어 벨트(10)의 시작 지점에는 다수의 극판(4)이 적재된 서플라이 매거진(6)이 배치되어, 상기 서플라이 매거진(6)으로부터 상기 제1컨베이어 벨트(10) 상면부에 상기 극판(4)이 낱장씩 공급되고, 상기 제2컨베이어 벨트(30)의 종단 지점 하부 위치에는 상기 제1컨베이어 벨트(10)와 상기 제2컨베이어 벨트(30)를 지나면서 상면(4a)과 하면(4b)이 클리닝된 상기 극판(4)을 적재하는 스택 매거진(8)이 구비된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 극판 클리닝 장치.
KR20120103087A 2012-09-18 2012-09-18 이차 전지용 극판 클리닝 장치 KR101495625B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120103087A KR101495625B1 (ko) 2012-09-18 2012-09-18 이차 전지용 극판 클리닝 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120103087A KR101495625B1 (ko) 2012-09-18 2012-09-18 이차 전지용 극판 클리닝 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140037402A KR20140037402A (ko) 2014-03-27
KR101495625B1 true KR101495625B1 (ko) 2015-02-25

Family

ID=50646214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20120103087A KR101495625B1 (ko) 2012-09-18 2012-09-18 이차 전지용 극판 클리닝 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101495625B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102219991B1 (ko) * 2020-07-08 2021-02-26 진재경 컨베이어용 하이브리드 벨트 및 그 제조방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6544195B2 (ja) * 2015-10-23 2019-07-17 株式会社村田製作所 電極箔の搬送装置および積層型電池の製造装置
KR102038699B1 (ko) * 2018-03-27 2019-10-30 (주)비츠로밀텍 열전지용 팰릿 금형 클린시스템
CN108773624A (zh) * 2018-06-01 2018-11-09 三峡大学 一种粽叶上料装置
KR102303834B1 (ko) * 2021-01-07 2021-09-17 조기봉 이차전지의 고속 셀 스택 제조장치
CN113414174A (zh) * 2021-06-01 2021-09-21 深圳市铂纳特斯自动化科技有限公司 一种用于电池化成的负压汇流排的清洗装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004073944A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd 極板表面異物除去装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004073944A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd 極板表面異物除去装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102219991B1 (ko) * 2020-07-08 2021-02-26 진재경 컨베이어용 하이브리드 벨트 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140037402A (ko) 2014-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101495625B1 (ko) 이차 전지용 극판 클리닝 장치
KR101329073B1 (ko) 이차 전지용 극판 스태킹 장치
JP6369645B2 (ja) 電極積層装置及び電極積層方法
EP4012815A1 (en) Integrated apparatus for die cutting and sheet stacking
KR101479723B1 (ko) 2차 전지용 전극 생산 시스템 및 피딩장치
KR101662179B1 (ko) 이차 전지용 극판 스태킹 장치
KR101440875B1 (ko) 이차 전지용 극판 스태킹 장치 및 이를 이용한 이차 전지용 극판 스태킹 방법
CN109081573B (zh) 玻璃基板掰断装置和玻璃基板掰断设备
KR102304217B1 (ko) 노칭 극판 적재 배출 1열 매거진 시스템 및 극판 적재 배출 방법
CN213833627U (zh) 一种电路板与胶片自动分离机构
CN111403327B (zh) 一种溅射台上的硅片输送设备及使用方法
CN116864776A (zh) 叠片装置及电池生产线
CN112599347B (zh) 一种磁芯分层机
CN215451492U (zh) 叠片设备
CN220412090U (zh) 极片送料机构、叠片装置及电池生产线
KR102512567B1 (ko) 셀 스택 구조물의 제조 장치
KR101805954B1 (ko) 유닛셀 공급장치
CN107985702B (zh) 一种oled材料的双面撕膜方法
CN210457399U (zh) 油桶自动上盖设备
KR101842147B1 (ko) 불량 극판 취출 효율과 작업 속도를 향상시킨 이차전지용 극판 스태킹 장치
CN220420634U (zh) 电池生产线
JP6825319B2 (ja) 電極積層装置
KR102231520B1 (ko) 불량 극판 배출 시스템 및 불량 극판 배출 방법
CN221439642U (zh) 取片机构
CN114906612B (zh) 一种全自动机器人卸盒机

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180109

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190116

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200114

Year of fee payment: 6