KR101439364B1 - 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치 - Google Patents

이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101439364B1
KR101439364B1 KR1020130022596A KR20130022596A KR101439364B1 KR 101439364 B1 KR101439364 B1 KR 101439364B1 KR 1020130022596 A KR1020130022596 A KR 1020130022596A KR 20130022596 A KR20130022596 A KR 20130022596A KR 101439364 B1 KR101439364 B1 KR 101439364B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
valve
outlet
unit
working chamber
Prior art date
Application number
KR1020130022596A
Other languages
English (en)
Inventor
지원호
Original Assignee
주식회사 나노솔루션테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 나노솔루션테크 filed Critical 주식회사 나노솔루션테크
Priority to KR1020130022596A priority Critical patent/KR101439364B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101439364B1 publication Critical patent/KR101439364B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/44—Sample treatment involving radiation, e.g. heat
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/42—Low-temperature sample treatment, e.g. cryofixation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N2035/00346—Heating or cooling arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치가 개시된다. 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치는, 작업 챔버 및 상기 작업 챔버 둘레에 마련된 외곽 챔버를 갖는 챔버유닛과, 상기 작업 챔버 내에 위치하며 객체가 안착되는 안착판과, 객체를 가열하도록 상기 작업 챔버 내에 위치하는 히터와, 상기 챔버유닛 내로 냉기를 공급하기 위한 냉각유닛과, 적어도 상기 외곽 챔버에서 냉기가 배기되는 제1 유로와 상기 작업 챔버에서 냉기가 배기되는 제2 유로 중 하나로 냉기 유로를 변경하는 유로 변경 구조를 포함한다.

Description

이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치{HEAT TREATING APPARATUS WITH DUAL CHAMBER COOLING STRUCTURE}
본 발명은 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는, 작업 챔버 내에서 객체 가열시에는 작업 챔버 둘레의 외곽 챔버에 도입된 냉기로 작업 챔버의 외벽을 냉각하고 객체 냉각시에는 작업 챔버 내로 냉기를 도입하여 작업 챔버 내 객체를 직접 냉각하도록 한 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치에 관한 것이다.
열처리 장치는 작업 챔버 내에서 임의의 객체를 가열하고 냉각하는데 이용되고 있다.
이러한 열처리 장치는 생산 현장은 물론이고 연구실 또는 실험실에서 시편 또는 임의의 재료를 가열 및 냉각하면서 해당 시편 또는 재료의 변형을 관찰하는 용도로 사용될 수 있다.
일예로, 솔더를 발라 칩을 안착시킨 시편을 작업 챔버 내에 넣고, 작업 챔버에 구비된 히터의 열로 솔더를 용융시킨 후, 냉각을 위해 작업 챔버 내로 냉기를 도입하는 장치가 있을 수 있다.
위와 같은 열처리 장치에 있어서는, 객체 가열시 작업 챔버의 온도가 과도하게 상승하므로 이에 대한 대처가 필요하다.
작업 챔버 내 객체를 가열하는 수단에 더하여, 작업 챔버 내부를 냉각하는 수단과 작업 챔버의 외부를 냉각하는 수단을 별도로 두는 것이 고려될 수 있지만, 이는 열처리 장치의 구조를 복잡하게 만들며 또한 객체 가열시와 객체 냉각시 모두 효율적인 냉각이 어렵다.
또한 당해 기술분야에는 가열 또는 냉각에 따른 작업 챔버 내 객체의 변형을 용이하게 관찰할 수 있는 구조가 요구되고 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2012-0094657(2012. 08. 27. 공개)
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 하나의 냉각유닛으로부터 공급되는 냉기의 유로 변경 구조를 통해, 객체(또는, 시편) 가열시 챔버유닛의 냉각과, 객체 가열 후 해당 객체의 냉각을 선택적으로 할 수 있도록 하여, 구조가 간단하면서도, 열처리 온도 제어가 용이한 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일측면에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치는, 작업 챔버 및 상기 작업 챔버 둘레에 마련된 외곽 챔버를 갖는 챔버유닛과; 상기 작업 챔버 내에 위치하며 객체가 안착되는 안착판과; 객체를 가열하도록 상기 작업 챔버 내에 위치하는 히터와; 상기 챔버유닛 내로 냉기를 공급하기 위한 냉각유닛과; 적어도 상기 외곽 챔버에서 냉기가 배기되는 제1 유로와 상기 작업 챔버에서 냉기가 배기되는 제2 유로 중 하나로 냉기 유로를 변경하는 유로 변경 구조를 포함한다.
일 실시예에 따라 상기 외곽 챔버에는 냉기 인렛 및 제1 냉기 아웃렛이 마련되고, 상기 작업 챔버에는 제2 냉기 아웃렛이 마련되며, 상기 유로 변경 구조는 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버 사이에 마련된 중간 온/오프 밸브와, 상기 제1 냉기 아웃렛을 개폐하는 아웃렛 온/오프 밸브를 포함하며, 상기 제1 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 닫히고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 개방되어 형성되고, 상기 제2 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 열리고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 닫혀 형성된다.
일 실시예에 따라, 상기 중간 온/오프 밸브는 상기 작업 챔버 내에서 냉기를 넓게 확산시켜 흐르게 하기 위한 냉기 확산 플레이트를 구비한다.
일 실시예에 따라. 상기 챔버유닛은 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버가 형성되는 챔버 본체와, 상기 챔버 본체의 상부를 닫아 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버를 밀폐하는 챔버 커버를 포함하고, 상기 챔버 커버에는 상부 윈도우가 마련된다.
일 실시예에 따라, 상기 열처리 장치는 상기 상부 윈도우를 통해 상기 작업 챔버를 조명하도록 상기 챔버유닛 상측에 마련된 광원과, 상기 광원에 의해 조명된 작업 챔버를 촬영하도록 상기 챔버유닛 상측에 마련된 카메라를 더 포함한다.
일 실시예에 따라, 상기 열처리 장치는 상기 광원으로부터 나온 광 일부를 반사시켜 상기 상부 윈도우로 유도하는 미러를 더 포함한다.
일 실시예에 따라, 상기 냉각유닛은 에어콘 냉기, N2 가스 또는 공기를 상기 외곽 챔버에 공급하도록 구성된다.
일 실시예에 따라, 상기 열처리 장치는 상기 안착판의 높이 조절을 위해 마련된 한 쌍의 안착판 구동유닛을 더 포함하고, 상기 한 쌍의 안착판 구동유닛은 상기 작업챔버 내에 부분적으로 도입되어 상기 안착판의 양단을 지지하는 한 쌍의 리프터를 포함하고, 상기 한 쌍의 리프터는 상기 챔버유닛 외부의 모터에 의해 상하로 이동된다.
본 발명의 다른 측면에 따른 열처리 장치는, 작업 챔버 및 상기 작업 챔버 둘레에 마련된 외곽 챔버를 갖는 챔버유닛과; 객체를 가열하도록 상기 작업 챔버 내에 위치하는 히터와; 상기 챔버유닛 내로 냉기를 공급하기 위한 냉각유닛과; 적어도 상기 외곽 챔버에서 냉기가 배기되는 제1 유로와 상기 작업 챔버에서 냉기가 배기되는 제2 유로 중 하나로 냉기 유로를 변경하는 유로 변경 구조를 포함하고, 상기 외곽 챔버에는 냉기 인렛 및 제1 냉기 아웃렛이 마련되고, 상기 작업 챔버에는 제2 냉기 아웃렛이 마련되며, 상기 유로 변경 구조는 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버 사이에 마련된 중간 온/오프 밸브와, 상기 제1 냉기 아웃렛을 개폐하는 아웃렛 온/오프 밸브를 포함하며, 상기 제1 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 닫히고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 개방되어 형성되고, 상기 제2 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 열리고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 닫혀 형성된다.
본 발명에 따르면, 하나의 냉각유닛으로부터 공급되는 냉기의 유로 변경 구조를 통해, 객체(또는, 시편) 가열시 챔버유닛의 냉각과, 객체 가열 후 해당 객체의 냉각을 선택적으로 할 수 있도록 구성된, 구조가 간단하고, 열처리 온도 제어가 용이한 열처리 장치가 구현될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치를 챔버유닛 오픈 상태로 도시한 사시도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치의 냉기 공급용 에어콘 및 배관을 보이도록 챔버유닛의 저부 측 관점에서 도시한 사시도이고,
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치의 챔버유닛을 도시한 평단면도이고,
도 4는 객체 가열 상태에서 도 3에 도시된 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 챔버유닛 내 냉기 흐름을 설명하기 위한 평단면도이고,
도 5는 객체 냉각 상태에서 도 3에 도시된 챔버유닛 내 냉기 흐름을 설명하기 위한 평단면도이며,
도 6은 챔버유닛 내 객체의 관찰 구조를 더 포함하는 열처리 장치를 도시한 측면도이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위한 예로서 제공되는 것이다.
따라서 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다.
그리고 도면에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위해 과장되어 표현될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치를 챔버유닛 오픈 상태로 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치의 냉기 공급용 에어콘 및 배관을 보이도록 챔버유닛의 저부 측 관점에서 도시한 사시도이고, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치의 챔버유닛을 도시한 평단면도이고, 도 4는 객체 가열 상태에서 도 3에 도시된 챔버유닛 내 냉기 흐름을 설명하기 위한 평단면도이고, 도 5는 객체 냉각 상태에서 도 3에 도시된 챔버유닛 내 냉기 흐름을 설명하기 위한 평단면도이며, 도 6은 챔버유닛 내 객체의 관찰 구조를 더 포함하는 열처리 장치를 도시한 측면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치는 내부에 작업 챔버(10)를 한정하는 챔버유닛(1)을 포함한다.
상기 챔버유닛(1)은 상부가 개방된 사각 박스형의 챔버본체(11)와, 상기 챔버본체(11)의 상부 개방부를 개폐하는 챔버커버(12)를 포함한다.
상기 챔버커버(12)는 상기 챔버본체(11)의 일측 모서리에 힌지식으로 연결되고, 상기 챔버본체(11)와 상기 챔버커버(12) 사이에는 한 쌍의 구동 실린더(13)가 연결된다.
상기 챔버유닛(1)은 챔버커버(12)가 상기 챔버본체(11)의 상부 개방부를 막는 폐쇄 위치에서 상기 구동 실린더(13)의 신장에 의해 회전하여 개방될 수 있다.
또한, 상기 챔버유닛(1)은 도 1에 도시된 것과 같은 개방 위치에서 상기 구동 실린더(13)의 리트랙션(retraction)에 의해 상기 챔버커버(12)가 회전하여 상기 챔버유닛(1)의 내부는 밀폐된다.
상기 챔버커버(11)에는 관찰을 위한 상부 윈도우(112)가 마련되며, 상기 상부 윈도우(112)를 통해 상기 챔버유닛(1) 내부에서 열처리 중인 객체의 상태 변화를 관찰할 수 있다.
상기 챔버유닛(1)은 챔버본체(11) 내측에 작업 챔버(13w)와, 상기 작업 챔버(13w)의 외부를 둘러싸도록 형성된 외곽 챔버(13c)를 포함한다.
상기 외곽 챔버(13c)는 상기 작업 챔버(13w)를 한정하는 제1벽과 상기 챔버본체(11)의 외부벽을 이루는 제2 벽 사이에 위치한 채 상기 제1 벽과 직접 접촉한다.
상기 작업 챔버(13w)와 상기 외곽 챔버(13c)는 상기 챔버커버(12)의 닫힘에 의해 서로 격리된 채 외부로부터 밀폐된다.
상기 작업 챔버(13w) 내에는 시편과 같은 열처리 대상물, 즉 객체(s)가 안착되는 안착판(2)이 마련된다.
또한, 상기 안착판(2) 하부에는 상기 안착판(2) 상에 안착된 객체(s)에 열을 가하기 위한 히터(3)가 설치되어 있다.
이때, 상기 객체(s)는 칩에 솔더를 발라 안착판(2)에 부착되는 시편일 수 있다.
상기 안착판(2)은 모터를 포함하는 한 쌍의 안착판 구동유닛(21)에 의해 상기 작업 챔버(13w) 내에서 상하로 그 높이가 조절될 수 있다.
한 쌍의 안착판 구동유닛(21)은 상기 안착판(2)의 양단을 지지하는 리프터(212)를 포함한다.
한 쌍의 리프터(212)는, 상기 안착판 구동유닛(21)이 설치된 챔버본체(11)의 외부에서 상기 작업 챔버(13w) 내로 연장된 채, 상기 안착판 구동유닛(21)의 모터 구동에 의해 상하로 이동하여 상기 안착판(2)을 상기 작업 챔버(13w) 내에서 상하로 승강시킨다.
상기 챔버본체(11)에 상기 리프터(212)를 상하로 안내하는 가이드가 마련될 수 있으며, 상기 가이드에는 실링구조가 마련될 수 있다.
상기 작업 챔버(13w)는 밀폐된 상태에서 외부의 진공장치에 의해 진공 상태가 되는 진공챔버인 것이 선호된다.
도시하지는 않았지만, 상기 챔버유닛(1)은 내부 온도 특히 작업 챔버(13w) 내의 온도를 측정하기 위해 온도 센서를 포함할 수 있다.
도 1과 도 2를 함께 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 장치는 챔버유닛(1)에 냉기를 공급하는 냉각유닛(4)의 일부로서 에어콘(41)을 포함한다.
상기 냉각유닛(4)은 에어콘(41)에서 만들어진 냉기를 외곽 챔버(13c)에 공급하기 위한 냉기 공급배관(42)와, 상기 외곽 챔버(13c)로 들어간 냉기를 상기 외곽 챔버(13c)에서 외부로 배출하기 위한 제1 냉기 배기배관(43)과, 상기 외곽 챔버(13c)를 거쳐 작업 챔버(13w)로 들어간 냉기를 작업 챔버(13w)에서 외부로 배기하기 위한 제2 냉기 배기배관(44)을 포함한다.
도시의 편의를 위해, 상기 제1 냉기 배기배관(43) 및 제2 냉기배관(44)은 일부만을 도시하였다.
상기 냉각유닛(4)은 에어콘(41)의 냉기를 공급하는 것이 바람직하지만, N2 가스 또는 공기를 냉기로서 상기 챔버유닛(1) 내에 공급할 수 있다.
도 1 및 도 2를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치는 유로 변경 구조를 포함한다.
이 유로 변경 구조는, 작업 챔버(13w) 내에서 객체(s)가 가열될 경우 냉기가 상기 제1 냉기 배기배관(43)을 통해 상기 외곽 챔버(13c)로 들어가 상기 외곽 챔버(13c)를 흐른 뒤 상기 외곽 챔버(13c)에서 바로 외부로 배기되도록 해준다.
또한, 상기 작업 챔버(13w) 내에서 객체(S)의 냉각이 필요한 경우에, 상기 제1 냉기 배기배관(13c)을 통해 상기 외곽 챔버(13c)로 들어간 냉기가 상기 작업 챔버(13w) 내로 더 들어가서 객체를 직접 냉각시킨 후 상기 작업 챔버(13w)에서 외부로 배기되도록 해준다.
이 유로 변경 구조는 도 3에 도시된 것과 같이 챔버유닛(1) 내에 설치된 밸브들을 포함할 수 있다.
도 3을 참조하면, 사각 환형 외곽 챔버(13c)의 바닥에는 전술한 냉기 공급배관(42; 도 2 참조)과 연결되는 냉기 인렛(132)이 마련된다.
상기 냉기 인렛(132)의 위치와 대향되는 위치에서 상기 외곽 챔버(13c)의 바닥에는 제1 냉기 아웃렛(134)이 마련된다.
상기 제1 냉기 아웃렛(134)에는 아웃렛 온/오프 밸브가 마련될 수 있다.
또한 상기 외곽 챔버(13c)와 상기 작업 챔버(13w) 사이, 더 구체적으로는, 상기 작업 챔버(13w)를 한정하는 제1 벽에는 하나 이상의 중간 온/오프 밸브(136)가 마련된다.
상기 중간 온/오프 밸브(136)는 냉기를 작업 챔버(13w) 내부에서 냉기를 분산시키는 냉기 확산 플레이트(136p)를 구비하는 것이 바람직하다.
또한 상기 작업 챔버(13w)의 바닥에는 제2 냉기 아웃렛(138)이 마련된다.
상기 제1 냉기 아웃렛(134)은 전술한 제1 냉기 배기배관(43; 도 2 참조)에 연결되고 상기 제2 냉기 아웃렛(138)은 전술한 제2 냉기 배기배관(44; 도 2 참조)에 연결된다.
도 4에 도시된 객체 가열 상태에서, 냉기 인렛(132)은 개방되어 있으며, 또한 제1 냉기 아웃렛(134)도 자체 구비된 아웃렛 온/오프 밸브에 의해 개방되어 있다.
리고 상기 중간 온/오프 밸브(136) 사이는 닫혀 있으며, 이에 의해, 작업 챔버(13w)와 외곽 챔버(13c) 사이는 서로에 대해 밀폐, 격리되어 있다.
상태에서, 상기 제1 냉기 인렛(132)을 통해 외곽 챔버(13c)로 유입된 냉기는 상기 외곽 챔버(13c) 내부를 트래블(travel)하면서 객체 가열이 이루어지는 챔버유닛을 냉각시킨 후 상기 제1 냉기 아웃렛(134)을 통해 배기된다.
도 5에 도시된 객체 냉각 상태에서는, 냉기 인렛(132), 중간 온/오프 밸브(136) 및 제2 냉기 아웃렛(138)은 개방되어 있고 제1 냉기 아웃렛(134)은 아웃렛 온/오프 밸브에 의해 닫혀 있다.
상태에서, 상기 제1 냉기 인렛(132)을 통해 외곽 챔버(13c)로 유입된 냉기는, 상기 중간 온/오프 밸브(136)을 통해 상기 작업 챔버(13w) 내로 유입되고, 상기 작업 챔버(13w) 내에서 객체를 직접적으로 냉각시킨 후 상기 제2 냉기 아웃렛(138)을 통해 외부로 배기된다.
때, 상기 중간 온/오프 밸브(136)에 구비된 냉기 확산 플레이트(136p)에 의해, 상기 냉기는 상기 작업 챔버(13w) 내에서 넓게 확산되어 흐른다.
위에서 설명한 것과 같이, 하나의 에어콘에서 만들어진 냉기를 이용하여, 객체 가열 상태에서는 객체 가열중인 챔버유닛을 가열함과 동시에 객체 냉각 상태에서는 챔버유닛 내 객체를 직접 냉각함으로써, 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 장치는 보다 더 효율적으로 챔버유닛 및 객체의 온도를 컨트롤 할 수 있다.
도 6은 챔버유닛 내 객체의 관찰 구조를 더 포함하는 열처리 장치를 잘 보여준다.
6을 참조하면, 상기 열처리 장치는 챔버유닛(1)의 챔버커버(11)에 마련된 상부 윈도우(112; 도 1)을 통해 챔버유닛(1) 내 작업 챔버(13w; 도 2 내지 도 5 참조)를 조명하기 위한 광원(7)과, 상기 광원(7)에 의해 조명된 작업 챔버(13w) 내부를 촬영하기 위한 카메라(8)를 포함한다.
가적으로, 상기 광원(7)에서 나온 광 중에서 상기 윈도우(112)로 향하지 못하는 광을 상기 윈도우(112) 측으로 유도하기 위한 미러(9)가 더 제공될 수 있다.
상기 챔버유닛(1) 내에서 열처리되는 객체는 칩에 솔더를 발라 챔버유닛(1) 내 안착판에 부착한 시편일 수 있으며, 상기 카메라(8)를 통해 촬영되는 영상 또는 이미지는 가열 또는 냉각에 따른 솔더의 상 변화를 제공할 수 있다.
1: 챔버유닛 2: 안착판
3: 히터 4: 냉각유닛
13w: 작업 챔버 13c: 외곽 챔버

Claims (9)

  1. 작업 챔버 및 상기 작업 챔버 둘레에 마련된 외곽 챔버를 갖는 챔버유닛;
    상기 작업 챔버 내에 위치하며 객체가 안착되는 안착판;
    객체를 가열하도록 상기 작업 챔버 내에 위치하는 히터;
    상기 챔버유닛 내로 냉기를 공급하기 위한 냉각유닛; 및
    적어도 상기 외곽 챔버에서 냉기가 배기되는 제1 유로와 상기 작업 챔버에서 냉기가 배기되는 제2 유로 중 하나로 냉기 유로를 변경하는 유로 변경 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 외곽 챔버에는 냉기 인렛 및 제1 냉기 아웃렛이 마련되고, 상기 작업 챔버에는 제2 냉기 아웃렛이 마련되며, 상기 유로 변경 구조는 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버 사이에 마련된 중간 온/오프 밸브와, 상기 제1 냉기 아웃렛을 개폐하는 아웃렛 온/오프 밸브를 포함하며, 상기 제1 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 닫히고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 개방되어 형성되고, 상기 제2 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 열리고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 닫혀 형성된 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 중간 온/오프 밸브는 상기 작업 챔버 내에서 냉기를 넓게 확산시켜 흐르게 하기 위한 냉기 확산 플레이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 챔버유닛은 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버가 형성되는 챔버 본체와, 상기 챔버 본체의 상부를 닫아 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버를 밀폐하는 챔버 커버를 포함하고, 상기 챔버 커버에는 상부 윈도우가 마련된 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  5. 청구항 4에 있어서, 상기 상부 윈도우를 통해 상기 작업 챔버를 조명하도록 상기 챔버유닛 상측에 마련된 광원과, 상기 광원에 의해 조명된 작업 챔버를 촬영하도록 상기 챔버유닛 상측에 마련된 카메라를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 광원으로부터 나온 광 일부를 반사시켜 상기 상부 윈도우로 유도하는 미러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 냉각유닛은 에어콘 냉기, N2 가스 또는 공기를 상기 외곽 챔버에 공급하도록 구성된 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 열처리 장치는 상기 안착판의 높이 조절을 위해 마련된 한 쌍의 안착판 구동유닛을 더 포함하고, 상기 한 쌍의 안착판 구동유닛은 상기 작업챔버 내에 부분적으로 도입되어 상기 안착판의 양단을 지지하는 한 쌍의 리프터를 포함하고, 상기 한 쌍의 리프터는 상기 챔버유닛 외부의 모터에 의해 상하로 이동하는 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
  9. 작업 챔버 및 상기 작업 챔버 둘레에 마련된 외곽 챔버를 갖는 챔버유닛;
    객체를 가열하도록 상기 작업 챔버 내에 위치하는 히터;
    상기 챔버유닛 내로 냉기를 공급하기 위한 냉각유닛; 및
    적어도 상기 외곽 챔버에서 냉기가 배기되는 제1 유로와 상기 작업 챔버에서 냉기가 배기되는 제2 유로 중 하나로 냉기 유로를 변경하는 유로 변경 구조를 포함하고,
    상기 외곽 챔버에는 냉기 인렛 및 제1 냉기 아웃렛이 마련되고, 상기 작업 챔버에는 제2 냉기 아웃렛이 마련되며, 상기 유로 변경 구조는 상기 작업 챔버와 상기 외곽 챔버 사이에 마련된 중간 온/오프 밸브와, 상기 제1 냉기 아웃렛을 개폐하는 아웃렛 온/오프 밸브를 포함하며, 상기 제1 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 닫히고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 개방되어 형성되고, 상기 제2 유로는 상기 중간 온/오프 밸브가 열리고 상기 아웃렛 온/오프 밸브가 닫혀 형성된 것을 특징으로 하는 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치.
KR1020130022596A 2013-03-04 2013-03-04 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치 KR101439364B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130022596A KR101439364B1 (ko) 2013-03-04 2013-03-04 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130022596A KR101439364B1 (ko) 2013-03-04 2013-03-04 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101439364B1 true KR101439364B1 (ko) 2014-09-11

Family

ID=51759852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130022596A KR101439364B1 (ko) 2013-03-04 2013-03-04 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101439364B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200282977Y1 (ko) 2002-04-11 2002-07-24 엘지전자 주식회사 통신기기의 냉각장치
JP2003197497A (ja) 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
KR100847094B1 (ko) 2005-10-13 2008-07-18 황선숙 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법 및 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003197497A (ja) 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
KR200282977Y1 (ko) 2002-04-11 2002-07-24 엘지전자 주식회사 통신기기의 냉각장치
KR100847094B1 (ko) 2005-10-13 2008-07-18 황선숙 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법 및 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100602481B1 (ko) 열 매체 순환 장치 및 이것을 이용한 열처리 장치
US6307184B1 (en) Thermal processing chamber for heating and cooling wafer-like objects
TW200717660A (en) Heating device and coating and developing apparatus
RU2010129077A (ru) Устройство для горячего изостатического прессования
JP6125851B2 (ja) バルブシステム
KR101439364B1 (ko) 이중의 챔버 냉각 구조를 갖는 열처리 장치
RU2408829C1 (ru) Устройство для сушки высоковлажных материалов
TW201537258A (zh) 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
CN106198280A (zh) 高温维氏硬度计
KR20190046451A (ko) 공작기계 절삭유의 온도조절장치
KR101874610B1 (ko) 수직소둔로 냉각대의 열냉각조절장치
CN108335998B (zh) 基板处理装置和基板的冷却方法
JP6244897B2 (ja) Ｘ線分析装置
KR20090061211A (ko) 가열로 출구 개폐장치
US6187158B1 (en) Device for coating plate-shaped substrates
KR100737422B1 (ko) 수직소둔로 인렛부 실링 장치
US4512737A (en) Hot zone arrangement for use in a vacuum furnace
KR20160062439A (ko) 열해를 방지하는 에어가이드를 구비한 라디에이터
JP3868840B2 (ja) 縦型熱処理装置
US2133045A (en) Regenerative furnace and means for measuring the temperature thereof
JP6715365B2 (ja) 熱処理装置
JP6427949B2 (ja) 真空焼入れ処理方法
KR101889312B1 (ko) 공업로용 냉각장치
JP2564582Y2 (ja) エンジンの水冷装置の入口制御式サーモスタットへのバイパス装置
JPH03286983A (ja) 垂直型冷却装置

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171229

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180904

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190717

Year of fee payment: 6