KR100847094B1 - 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법 및 장치 - Google Patents
반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법 및 장치 Download PDFInfo
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- 클리닝(Cleaning), 동결(Freezing), 진공 건조(vacuum drying) 공정을 동시에 수행할 수 있는 일체형 챔버를 통해 이루어지는 급속 동결 진공 건조 방법에 있어서,(1) 웨이퍼가 내부(inner) 챔버의 웨이퍼 홀더에 로딩되는 단계;(2) 웨이퍼를 클리닝 용액(cleaning solution)을 가지고 웨이퍼 표면의 오염 을 클리닝(cleaning)하고 웨이퍼 표면에 남아있는 클리닝 용액(cleaning solution)의 케미컬(chemicals) 성분들을 초순수를 사용하여 린스(rinsing)하는 단계;(3) 배수 밸브를 오픈시켜 내부 챔버에 공급된 최종 세척액(rinse soltion) 및 초순수를 배수(drain)시키는 단계;(4) 배수 밸브를 클로즈(close)시키는 단계;(5) 온도유지수단에 냉매제를 공급하는 단계;(6) 냉각 가스 공급수단을 통해 생성된 냉각 가스를 내부(inner) 챔버 내부로 로딩된 웨이퍼에 분사되도록 공급하는 단계;(7) 내부(inner) 챔버로 공급되던 냉매제와 냉각가스(cooling gas)의 공급을 중단시키는 단계;(8) 내부(inner) 챔버에 연결된 압력 조절 밸브(pressure regulating valve)를 오픈시키는 단계;(9) 진공펌프가 펌핑되도록 구동시켜 내부(inner) 챔버의 실내 압력이 진공상태가 되도록 감소시키는 단계;(10) 동결 진공 건조공정이 종료된 경우 히팅 램프를 턴온시키고 고온 가스 공급부에 의해 생성되는 고온의 불활성 기체인 가스가 배관을 통해 상기 내부(inner) 챔버로 공급되도록 하여 냉각된 웨이퍼와 상기 내부(inner) 챔버를 상온화시키는 단계;(11) 내부(inner) 챔버가 상온화되면 히팅 램프를 턴오프시키고 고온의 불활성 기체인 가스가 내부(inner) 챔버로 공급되던 것을 중지시키는 단계; 및(12) 웨이퍼가 내부(inner) 챔버의 웨이퍼 홀더로부터 언로딩되도록 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
- 매엽식 동결(Freezing), 진공 건조(vacuum drying) 공정을 수행하는 챔버를 통해 이루어지는 급속 동결 진공 건조 방법에 있어서,(1) 웨이퍼가 내부(inner) 챔버의 웨이퍼 홀더에 로딩되는 단계;(2) 온도유지수단에 냉매제를 공급하는 단계;(3) 냉각 가스 공급수단을 통해 생성된 냉각 가스를 내부(inner) 챔버 내부로 로딩된 웨이퍼에 분사되도록 공급하는 단계;(4) 내부(inner) 챔버로 공급되던 냉매제와 냉각가스(cooling gas)의 공급을 중단시키는 단계;(5) 내부(inner) 챔버에 연결된 압력 조절 밸브(pressure regulating valve)를 오픈시키는 단계;(6) 진공펌프가 펌핑되도록 구동시켜 내부(inner) 챔버의 실내 압력이 진공상태가 되도록 감소시키는 단계;(7) 동결 진공 건조공정이 종료된 경우 히팅 램프를 턴온시키고 고온 가스 공급부에 의해 생성되는 고온의 불활성 기체인 가스가 배관을 통해 상기 내부(inner) 챔버로 공급되도록 하여 냉각된 웨이퍼와 상기 내부(inner) 챔버를 상온 화시키는 단계;(8) 내부(inner) 챔버가 상온화되면 히팅 램프를 턴오프시키고 고온의 불활성 기체인 가스가 내부(inner) 챔버로 공급되던 것을 중지시키는 단계; 및(9) 웨이퍼가 내부(inner) 챔버로부터 언로딩되도록 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
- 제 3 항 또는 제 4항에 있어서,상기 (9) 단계 또는 상기 (6) 단계에서 상기 내부(inner) 챔버의 실내 압력이 4.58 Torr 이하가 되도록 진공펌프가 펌핑 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
- 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 (5) 단계 또는 상기 (2) 단계에서 상기 냉매제는,액상 니트로겐(Liquid Nitrogen)인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 내부(inner) 챔버의 실내온도가 상기 냉매제에 의해 0.009℃ 이하로 떨어지도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
- 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 냉각가스 공급수단에 의해 생성되는 냉각가스는,니트로겐(Nitrogen) 또는 아르곤(Argon)과 같은 불활성 gas인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 방법.
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- 내부 챔버(inner chamber)와 외부 챔버(outer chamber)로 이루어져 있으며, 웨이퍼를 웨이퍼 홀더에 로딩(loading)/언로딩(unloading)시 실린더(cylinder)를 이용하여 온/오프 되도록 하는 챔버 상단 덮개 개폐장치와, 내부에 석영과 같은 투명한 내부 윈도우(inner window)가 구비되어 있는 챔버 상단덮개를 구비하고 있는 동결 진공 건조 챔버에 있어서,상기 내부 챔버(inner chamber)와 외부 챔버(outer chamber) 사이 형성되어 있으며, 내부에 냉매제를 함유하고 있어 상기 내부 챔버의 내부 온도를 섭씨 영하온도로 유지시키는 온도유지부;불활성 기체를 함유하고 있으며, 상기 내부 챔버(inner chamber)로 상기 불활성 기체를 공급하여 웨이퍼의 표면에 존재하는 물 또는 불순물을 함유한 물이 급속 냉각되도록 하는 냉각가스 공급수단;배기관을 통해 내부 챔버로 연결되어 있는 압력 조절 밸브를 통해 내부 챔버의 압력을 상압 이하의 진공상태로 형성시키는 진공펌프;상기 진공펌프에 의해 동결 진공 건조공정이 종료된 경우 배관)을 통해 고온의 불활성 기체를 상기 내부(inner) 챔버로 공급되도록 하여 냉각된 웨이퍼와 상기 내부(inner) 챔버를 상온화시켜 상기 내부(inner) 챔버의 압력이 상압으로 복귀되도록 하는 고온 가스 공급수단;내부(inner) 챔버에서 클리닝 공정과 건조공정이 동시에 수행되는 경우 액상 조절 밸브를 오픈하여 배관을 통해 세정액 및 초순수를 공급하여 클리닝(cleaning) 공정과 린스(rinse) 공정이 이루어질 수 있도록 하는 세척액 공급수단; 및상기 내부(inner) 챔버에서 클리닝(cleaning) 공정과 린스(rinse) 공정이 종료되는 경우 배관을 통해 내부(inner) 챔버 내부의 세척액 및 초순수를 배수시키기 위한 배수 밸브(Drain valve)로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 내부 챔버(inner chamber)와 외부 챔버(outer chamber)로 이루어져 있으며, 웨이퍼를 웨이퍼 홀더에 로딩(loading)/언로딩(unloading)시 실린더(cylinder)를 이용하여 온/오프 되도록 하는 챔버 상단 덮개 개폐장치와, 내부에 석영과 같은 투명한 내부 윈도우(inner window)가 구비되어 있는 챔버 상단덮개를 구비하고 있는 동결 진공 건조 챔버에 있어서,클리닝(Cleaning)공정 및 린스(rinse) 공정이 종료된 웨이퍼가 수평으로 내부(inner) 챔버에 로딩(loading)되면 상하 구동 엘리베이터에 의해 구동되어 내부(inner) 챔버를 실링(sealing)시키는 웨이퍼 전송 게이트(transfer gate)의 셔터(shutter);불활성 기체(inert gas)를 냉각시켜 배관을 통해 상기 내부 챔버로 공급하여 상기 내부 챔버내에 로딩된 웨이퍼 또는 불순물을 함유한 수용액을 급속 냉각시키 는 냉각 가스 공급부;배기관을 통해 내부 챔버로 연결되어 있는 압력 조절 밸브를 통해 내부 챔버의 압력을 상압 이하의 진공상태로 형성시키는 진공펌프; 및상기 진공펌프에 의해 동결 진공 건조공정이 종료된 경우 배관을 통해 고온의 불활성 기체를 상기 내부(inner) 챔버로 공급되도록 하여 냉각된 웨이퍼와 상기 내부(inner) 챔버를 상온화시켜 상기 내부(inner) 챔버의 압력이 상압으로 복귀되도록 하는 고온 가스 공급부으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 챔버 상단덮개 상부에 복수개 구비되며, 건조공정이 종료된 웨이퍼와 내부(inner) 챔버를 상온화시키는 히팅 램프가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 12 항에 있어서,건조공정이 종료된 웨이퍼와 내부(inner) 챔버를 상온화시키는 히팅 램프가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 진공 펌프는,상기 내부(inner) 챔버의 실내 압력이 4.58 Torr이하가 되도록 펌핑 동작을 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 온도 유지부로 공급되는 냉매제는,액상 니트로겐(Liquid Nitrogen)인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 16 항에 있어서, 상기 온도 유지부는,상기 내부(inner) 챔버의 실내온도가 0.009℃ 이하로 떨어지도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
- 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 냉각가스 공급수단에 의해 생성되는 냉각가스는,니트로겐(Nitrogen) 또는 아르곤(Argon)과 같은 불활성 gas인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 급속 동결 진공 건조 장치.
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