KR101384403B1 - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents

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Abstract

기판처리장치는, 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액을 기판의 표면에 공급한다. 본 기판처리장치는, 상기 레지스트 박리액을 기판을 향해 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 향해 과산화수소수를 유통시키는 과산화수소수 공급로와, 상기 과산화수소수 공급로 상에서 상기 노즐까지의 유로 길이가 다른 복수의 혼합위치에 각각 접속된 복수의 황산 공급로와, 황산 공급원으로부터의 황산을 상기 복수의 황산 공급로로부터 선택된 황산 공급로에 도입하는 황산 공급로 선택유닛을 포함한다.

Description

기판처리장치 및 기판처리방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명은, 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액(剝離液)을 기판의 표면에 공급하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다. 처리 대상이 되는 기판에는, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정표시장치용 기판, 플라스마 디스플레이용 기판, FED(Field Emission Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기디스크용 기판, 광자기디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판, 태양전지용 기판 등이 포함된다.
반도체장치 등의 제조공정에서는, 선택적 에칭이나 선택적 이온주입을 위해, 기판의 표면에 레지스트 패턴이 형성된다. 그 후, 레지스트를 기판상에서 박리하기 위한 레지스트 박리처리가 행해진다. 레지스트 박리를 액처리로 행하는 경우에 사용되는 레지스트 박리액에는, 예를 들면, 황산과 과산화수소수의 혼합액(황산 과산화수소수 혼합액. SPM:sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture)이 이용된다. SPM는, 강한 산화력을 갖는 퍼옥시-황산(Caro's acid)을 포함하며, 또, 황산과 과산화수소수의 혼합시에 생기는 반응열에 의해 액온(液溫)이 상승하므로, 높은 레지스트 제거능력을 발휘한다.
SPM를 이용하여 레지스트 박리처리를 행하는 기판처리장치의 일례는, 일본특허공개 2010-225789호 공보에 개시되어 있다. 이 기판처리장치는, 승온된 황산을 노즐을 향해 공급하는 황산 공급로와, 황산 공급로 상의 서로 다른 위치에 설치된 복수의 믹싱 포인트 각각에 접속된 과산화수소수 공급로와, 상기 복수의 믹싱 포인트의 각각에 있어서 상기 과산화수소수 공급로로부터 황산 공급로에 유입하는 과산화수소수의 유량을 개별적으로 제어하는 제어수단을 포함한다. 복수의 믹싱 포인트로부터 노즐까지의 경로 길이가 다르므로, 황산과 과산화수소수가 혼합되고 나서 노즐에 이를 때까지의 시간이 다르다. 이에 의해, 예를 들면, 혼합 전의 황산의 온도에 따라 믹싱 포인트를 적절히 선택함으로써, 혼합시의 반응열에 의한 승온을 이용하여 레지스트 박리액을 승온시켜, 적절한 온도의 레지스트 박리액을 노즐로부터 토출시킬 수 있다. 또, 과산화수소수 공급로로부터 황산 공급로에 유입하는 과산화수소수의 유량을 제어함으로써, 과산화수소수와 황산의 혼합비를 조절할 수 있다.
황산과 과산화수소수를 혼합하면 반응열이 발생하므로, 그들 혼합액(SPM)의 온도는, 혼합으로부터의 시간 경과에 따라, 일단 상승하여 피크를 맞이한 후에 하강한다. 또, SPM 중의 산화제(퍼옥시-황산 등)의 농도는, 혼합으로부터의 시간 경과에 따라 감소한다. 혼합 후의 SPM의 온도 변화 및 산화제 농도 변화는, 혼합 전의 황산의 온도에 의존하고 있다. 그 때문에, 혼합 전의 황산 온도에 따라, 최적인 믹싱 포인트를 선택함으로써, 노즐로부터 토출되는 SPM의 레지스트 박리성능을 최대화할 수 있다.
한편, SPM의 레지스트 박리성능을 최대로 하기 위한 황산 및 과산화수소수의 혼합비도, 혼합 전의 황산 온도에 의존한다. 따라서, 혼합 전의 황산 온도에 따라 혼합비를 최적화함으로써, 노즐로부터 최대 성능의 레지스트 박리액을 토출시킬 수 있다. 이 경우, 과산화수소수의 유량만을 바꾸어 혼합비를 조절하면, 노즐로부터 토출되는 레지스트 박리액의 유량에 과부족이 생긴다. 그 때문에, 과산화수소수 유량뿐 아니라, 황산의 유량도 아울러 조절할 필요가 있다.
그러나 자동 제어가 가능한 유량 컨트롤러는, 상온의 유체 밖에 대응하고 있지 않다. 그 때문에, 과산화수소수 유량의 조정은 유량 컨트롤러로 행할 수 있지만, 황산 유량의 조정은, 수동 니들 밸브에 의하지 않으면 안 된다. 따라서 일본특허공개 2010-225789호 공보에 있어서의 구성에서도, 사용하는 황산의 온도를 변경하는 경우에는, 황산 공급로에 설치한 니들 밸브의 수동 조정이 필요해진다. 더 상세하게는, 니들 밸브의 수동 조정과, 실제로 SPM액을 토출하여 행하는 평가(시험적인 기판처리)를 반복적으로 행하여, 니들 밸브의 적절한 개도(開度) 위치를 찾아낼 필요가 있다. 이러한 조정에는, 숙련된 작업자에 의한 장시간의 작업이 요구된다.
본 발명의 일 실시형태는, 황산 온도의 변경에 용이하게 대응 가능한 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시형태는, 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액을 기판의 표면에 공급하는 기판처리장치에 있어서, 상기 레지스트 박리액을 기판을 향해 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 향해 과산화수소수를 유통시키는 과산화수소수 공급로와, 상기 과산화수소수 공급로 상에서 상기 노즐까지의 유로 길이가 다른 복수의 혼합위치에 각각 접속된 복수의 황산 공급로와, 황산 공급원으로부터의 황산을 상기 복수의 황산 공급로로부터 선택된 황산 공급로에 도입하는 황산 공급로 선택유닛을 포함하는 기판처리장치를 제공한다.
이 구성에 의하면, 과산화수소수 공급로 상의 복수의 혼합위치에 복수의 황산 공급로가 각각 접속되어 있다. 따라서 어느 혼합위치에서 황산과 과산화수소수가 혼합되어, 그들 혼합액으로 구성되는 레지스트 박리액이 생성된다. 이 레지스트 박리액은, 혼합점으로부터 노즐에 이르는 유로 내에서, 혼합에 의한 발열반응에 의해 승온하고, 승온 후의 레지스트 박리액이 노즐로부터 기판을 향해 토출된다. 황산 공급로 선택유닛은, 복수의 황산 공급로로부터 하나 또는 복수(바람직하게는 하나)의 황산 공급로를 선택하여, 황산 공급원으로부터의 황산을, 그 선택된 황산 공급로에 도입한다. 황산 공급로를 선택함으로써, 혼합위치가 동시에 선택된다. 따라서 황산 및 과산화수소수의 혼합 후, 해당 선택된 혼합위치로부터 노즐까지의 유로 길이에 따른 시간이 경과한 후에, 노즐로부터 레지스트 박리액이 토출된다. 그 시간 동안에, 황산 및 과산화수소수의 혼합에 의한 발열에 의해 레지스트 박리액이 승온한다. 이와 같이, 황산 공급로의 선택에 의해, 황산 및 과산화수소수의 혼합점으로부터 노즐까지의 유로 길이를 선택할 수 있다. 또, 복수의 황산 공급로에 있어서의 황산의 유량을 개별적으로 정해 두면, 황산 공급로를 바꾸는 것만으로, 유량 컨트롤러를 이용하지 않고도, 황산 유량을 바꿀 수 있다. 따라서 황산 유량의 조정이 용이하다. 따라서 황산 온도에 따라, 혼합위치의 변경과 황산 유량의 변경이 요구된다면, 이러한 요구에 즉석에서 대처할 수 있다.
상기 복수의 황산 공급로는, 개별적으로 설정된 유량으로 대응하는 혼합위치를 향해 황산을 유통시키도록 구성되어 있어도 좋다. 이 구성에 의하면, 복수의 황산 공급로에 있어서의 유량이 개별적으로 설정되어 있으므로, 황산 공급로를 변경함으로써, 황산 유량을 용이하게 변경할 수 있다.
상기 복수의 황산 공급로의 유량 및 대응하는 혼합위치는, 다른 온도의 황산에 대응하도록 설정되어 있어도 좋다. 이 구성에 의하면, 황산 온도에 따라 황산 공급로를 선택하면, 혼합위치 및 황산 유량이, 동시에 또 적절히 설정된다. 이에 의해, 황산 온도의 변경에 대한 대처가 한층 용이해진다.
또한, 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치는, 상기 황산 공급원으로부터의 황산의 온도에 따라 상기 황산 공급로 선택유닛을 제어하는 제어유닛을 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의하면, 제어유닛에 의해 황산 공급로 선택유닛이 제어되므로, 황산 온도에 대응하는 혼합위치 및 황산 유량의 변경을 자동화할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치는, 상기 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 유량조정밸브를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의하면, 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 유량조정밸브(예를 들면 니들 밸브 등의 수동 유량조정밸브)에 의해, 복수의 황산 공급로에 있어서의 유량을 개별적으로 설정할 수 있다. 예를 들면, 복수의 유량조정밸브의 개도(開度)를, 복수의 다른 황산 온도에 대응한 유량이 얻어지도록 적절히 개별 조정해 두면 좋다. 이에 의해, 사용하는 황산의 온도가 변경될 때에는, 황산 공급로의 선택을 바꾸는 것만으로, 해당 온도에 대응한 유량으로 황산을 공급할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치는, 상기 과산화수소수 공급로를 유통하는 과산화수소수의 유량을 제어하는 유량 컨트롤러를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의하면, 과산화수소수의 유량이 유량 컨트롤러에 의해 제어되므로, 적절한 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합할 수 있고, 또 필요한 토출유량으로 노즐로부터 레지스트 박리액을 토출시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치는, 상기 과산화수소수 공급로에서 최하류 혼합위치와 최상류 혼합위치 사이에 배치되어, 황산과 과산화수소수의 혼합액을 교반하는 교반유닛을 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의하면, 과산화수소수 공급로에서 최상류 혼합위치보다 하류에 배치된 교반유닛에 의해, 레지스트 박리액의 혼합을 촉진할 수 있으므로, 황산과 과산화수소수의 혼합에 따르는 발열을 촉진할 수 있어, 레지스트 박리액의 박리성능을 올릴 수 있다. 교반유닛은, 최하류 혼합위치보다 상류에 배치되어 있으므로, 최하류 혼합위치로부터 노즐까지의 유로에는, 교반유닛의 내열(耐熱)온도를 초과하는 레지스트 박리액을 유통시키는 것도 가능하다. 따라서 교반유닛의 내열온도에 의한 제한을 받는 일 없이, 고온의 레지스트 박리액을 이용한 기판처리(레지스트 박리처리)를 행할 수 있다.
상기 교반유닛은, 최상류 혼합위치와, 해당 최상류 혼합위치에 대해 하류측에 인접하는 다른 혼합위치와의 사이에서 상기 과산화수소수 공급로에 배치되어 있어도 좋다. 이 구성에 의하면, 최상류 혼합위치와, 그곳에 인접하는 혼합위치와의 사이에 교반유닛이 배치되어 있으므로, 해당 인접하는 혼합위치보다 하류측에는, 교반유닛의 내열온도를 초과하는 고온의 레지스트 박리액을 유통시킬 수 있다. 황산의 온도가 낮을 때에는, 황산 및 과산화수소수의 혼합으로부터 토출까지의 반응시간을 길게 하여 반응열에 의한 승온의 시간을 확보할 필요가 있다. 따라서 최상류 혼합위치에 접속된 황산 공급로는, 비교적 저온의 황산을 이용하는 경우에 선택하는 것이 바람직하다. 따라서 최상류 혼합위치와 그곳에 인접하는 혼합위치와의 사이에 교반유닛을 배치해도, 교반유닛의 내열온도는 문제되지 않는다. 또한, 이러한 위치에 교반유닛을 배치함으로써, 저온의 황산을 이용한 경우에도, 혼합에 의한 반응열을 충분히 이용하여 박리성능이 높은 레지스트 박리액을 생성해서, 그 레지스트 박리액을 노즐로부터 토출시킬 수 있다.
상기 황산 공급원은, 상기 복수의 황산 공급로에 공급되는 황산을 승온시키기 위한 승온유닛을 포함하고 있어도 좋다. 이 구성에 의하면, 황산을 승온시킬 수 있으므로, 레지스트 박리액의 성능을 한층 높일 수 있다. 또한, 승온유닛의 구동상태를 변화시킴으로써, 황산의 온도를 변경할 수 있다.
상기 황산 공급로 선택유닛은, 상기 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 개폐밸브를 포함하고 있어도 좋다. 이 구성에 의하면, 복수의 황산 공급로에 각각 개폐밸브가 설치되어 있으므로, 이들 개폐밸브의 개폐에 의해 황산 공급로를 선택할 수 있다. 고온 유체에 적응 가능한 내열 사양의 개폐밸브는 시판되고 있으므로, 이러한 내열 사양의 개폐밸브를 황산 공급로에 배치하면 좋다. 개폐밸브는, 에어 구동식 밸브(에어밸브)와 같이, 제어유닛에 의한 자동 제어가 가능한 구성을 갖고 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시형태는, 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액을 노즐로부터 기판의 표면으로 공급하는 기판처리방법을 제공한다. 이 기판처리방법은, 황산 온도 설정치를 제어유닛에 읽어 들이는 읽어들임공정과, 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 개폐밸브 중에서, 상기 읽어들임공정에서 읽어 들인 상기 황산 온도 설정치에 대응하는 하나의 개폐밸브를 개방함으로써, 상기 복수의 황산 공급로 중 하나의 황산 공급로를 선택하는 선택공정과, 상기 노즐까지의 유로 길이가 다른 복수의 혼합위치에서 상기 복수의 황산 공급로가 각각 결합되어 있는 과산화수소수 공급로에 과산화수소수를 유통시키는 공정과, 상기 선택된 황산 공급로를 경유한 황산을, 상기 선택된 황산 공급로에 대응하는 혼합위치에서 상기 과산화수소수 공급로를 유통하는 과산화수소수에 합류시켜 혼합함으로써, 레지스트 박리액을 생성하는 생성공정과, 상기 생성공정에서 생성된 상기 레지스트 박리액을 상기 노즐로부터 기판의 표면으로 공급하는 공급공정을 포함한다.
본 발명에 있어서의 상술한, 또는 또 다른 목적, 특징 및 효과는 첨부도면을 참조하여 다음에 기술하는 실시형태의 설명에 의해 더 명확해진다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치의 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 2는 상기 기판처리장치의 전기적 구성을 설명하기 위한 블록도이다.
도 3은 상기 기판처리장치의 제어유닛의 제어동작을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 4a는 80℃의 황산과 실온(室溫)의 과산화수소수를 혼합하여 SPM를 조제한 때의 SPM 온도의 시간 변화 및 SPM 중의 산화제 농도의 시간 변화를 나타내는 그래프이다.
도 4b는 180℃의 황산과 실온의 과산화수소수를 혼합하여 SPM를 조제한 때의 SPM 온도의 시간 변화 및 SPM 중의 산화제 농도의 시간 변화를 나타내는 그래프이다.
도 5는 황산 온도 및 혼합비에 대한 레지스트 박리성능을 나타내는 그래프이다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 관계되는 기판처리장치의 구성을 나타내는 모식적인 단면도이다. 본 기판처리장치는 반도체 웨이퍼 등의 기판(W)의 표면에 형성되어 있는 레지스트막을 제거(박리)하기 위한 레지스트 제거(레지스트 박리)처리를 위해 이용된다. 본 기판처리장치는, 기판(W)을 한 장씩 처리하는 매엽식 기판처리장치이다. 본 기판처리장치에서는, 레지스트 박리액으로서, 황산과 과산화수소수의 혼합액인 황산 과산화수소수 혼합액(SPM:sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture)이 이용된다.
본 기판처리장치는, 기판(W)을 거의 수평자세로 지지하여 연직축선 주위로 회전시키는 기판지지기구로서의 스핀척(1)과, 스핀척(1)에 지지된 기판(W)의 표면(상면)을 향해 SPM를 토출하는 노즐(2)을 갖고 있다. 기판처리장치는, 이들 외에도, 스핀척(1)에 지지된 기판(W)의 표면에 순수(純水)(탈이온수)를 공급하는 노즐, 기판(W)의 표면에 탄산수를 공급하는 노즐, 기판(W)의 표면에 탄산수 등의 액적(液滴)을 스프레이하는 이류체(二流體) 노즐, 기판(W)의 표면에 질소가스 등의 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 노즐 등을 구비해 있어도 좋다.
스핀척(1)은, 연직방향을 따라 배치된 회전축(3)과, 회전축(3)의 상단에 고정된 원반 형상의 스핀베이스(4)와, 스핀베이스(4)의 주연부(周緣部)에 입설된 복수의 척핀(5)을 포함한다. 회전축(3)에는, 기판회전기구로서의 척회전기구(6)로부터의 회전력이 전달되도록 구성되어 있다. 척핀(5)은, 기판(W)의 둘레단면(周端面)에 접촉하여 해당 기판(W)을 협지하는 협지상태와, 기판(W)의 둘레단면으로부터 이간하여 기판(W)의 협지를 해방하는 개방상태로 전환 가능(개폐 가능)하게 구성되어 있다. 이러한 구성에 의해, 척핀(5)으로 기판(W)을 협지한 상태에서 척회전기구(6)를 구동하면, 기판(W)은, 그 중심을 통과하는 연직축선(J) 주위로 회전한다. 척회전기구(6) 및 회전축(3)은, 원통 형상의 케이싱(7) 내에 수용되어 있다. 또한, 도 1에서는, 기판(W)을 기계적으로 지지하는 기계적인 척을 예시하고 있지만, 기판(W)의 하면을 흡인하여 지지하는 진공 척 등의 다른 형태의 기판지지기구를 이용할 수도 있다.
케이싱(7)의 주위에는, 기판(W) 처리를 위해 이용된 처리액(약액 또는 린스액)을 모아 배액(排液) 또는 회수하기 위한 처리액받이부(8)가 고정적으로 설치되어 있다. 처리액받이부(8)는, 예를 들면, 동축(同軸) 형상으로 형성된 복수의 원통 형상 칸막이판에 의해 구분된 복수의 환상(環狀) 그루브를 갖고 있다. 처리액받이부(8)의 상방에는, 기판(W)으로부터 비산하는 처리액을 받아내어 처리액받이부(8)의 환상 그루브에 안내하기 위한 스플래쉬 가드(9)가 상하 이동 가능하게 설치되어 있다. 스플래쉬 가드(9)는, 가드 승강기구(10)에 의해 상하 이동되며, 그에 의해, 기판(W)으로부터 원심력에 의해 튀어나오게 되는 처리액을 받아내어, 처리액받이부(8)의 어느 환상 그루브에 흘러내리게 한다. 처리액받이부(8) 및 스플래쉬 가드(9)는, 스핀척(1)을 수용하는 처리공간을 구획하는 처리컵(13)을 형성하고 있다.
노즐(2)은, 노즐이동기구(11)에 의해, 기판(W)의 표면(상면)을 따라 이동되는 스캔 노즐 형태를 갖고 있다. 노즐이동기구(11)는, 수평방향으로 뻗는 요동(搖動)아암과, 요동아암의 기단부(基端部)에 결합되어 연직방향으로 뻗은 회동축과, 회동축을 연직축선 주위로 회동시키는 회동구동기구를 갖고 있어도 좋다. 이 경우, 노즐(2)은, 요동아암의 선단부에 고정된다. 회동구동기구를 구동하여 회동축을 회동시키면, 요동아암이 수평면 내에서 요동하고, 그에 따라, 노즐(2)이 기판(W)의 상방에서 수평 이동한다. 노즐이동기구(11)는, 예를 들면, 노즐(2)로부터 토출된 처리액(레지스트 박리액)의 착액점이 기판(W)의 회전중심과 기판(W)의 둘레 가장자리(周端緣)를 통과하는 궤적을 그리도록 구성되어 있다. 이에 의해, 기판(W) 상에서의 처리액(레지스트 박리액)의 착액점을, 기판(W)의 회전중심과 둘레 가장자리 사이에서 스캔시킬 수 있다.
노즐(2)에는, 과산화수소수 공급원(20)으로부터의 과산화수소수를 노즐(2)을 향해 공급하는 과산화수소수 공급로(供給路)(30)가 결합되어 있다. 과산화수소수 공급원(20)은, 상온(실온)의 과산화수소수를 공급한다. 과산화수소수 공급로(30)에는, 과산화수소수 공급원(20) 측으로부터 순서대로, 과산화수소수 밸브(21) 및 유량 컨트롤러(22)가 설치되어 있다. 과산화수소수 밸브(21)는, 과산화수소수 공급로(30)의 유로를 개폐하는 개폐밸브이며, 예를 들면, 에어 구동식 밸브 등과 같이 자동 제어에 의한 개폐가 가능한 밸브이다. 유량 컨트롤러(22)는, 외부로부터의 설정 신호에 의해 유량을 설정할 수 있고, 설정된 유량으로 유체를 통과시키도록 구성되어 있다. 즉, 유량 컨트롤러(22)는, 자동 제어에 의한 유량 조정이 가능한 유량조정기이다.
과산화수소수 공급로(30) 상에는, 노즐(2) 선단(토출구)까지의 유로 길이가 다른 복수의 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)가 설정되어 있다. 제1혼합위치(MP1)는, 과산화수소수 공급로(30)에서의 과산화수소수의 흐름 방향에 관해 가장 상류에 배치되어 있다. 제2혼합위치(MP2)는, 제1혼합위치(MP1)에 대해, 간격을 두고, 하류측에 인접해 있다. 제3혼합위치(MP3)는, 제2혼합위치(MP2)에 대해, 간격을 두고, 하류측에 인접해 있다. 제4혼합위치(MP4)는, 제3혼합위치(MP3)에 대해, 간격을 두고, 하류측에 인접해 있으며, 본 실시형태에서는 최하류의 혼합위치이다. 따라서 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)로부터 노즐까지의 유로 길이(X1, X2, X3, X4)에 관해, X1 ＞ X2 ＞ X3 ＞ X4가 성립하고 있다.
제1혼합위치(MP1)와, 이에 대해 하류측에 인접하는 제2혼합위치(MP2) 사이에는, 교반유닛으로서의 교반핀붙이 유통관(23)이 과산화수소수 공급로(30)에 설치되어 있다. 교반핀붙이 유통관(23)은, 관(管) 부재 내에, 각각 액체유통방향을 축으로 거의 180도의 비틀림을 가한 장방형 판상체(板狀體)로 구성되는 복수의 교반핀을, 액체유통방향을 따르는 관 중심축 주위의 회전각도를 90도씩 교대로 다르게 해서 배치한 구성으로 된 것이다. 이러한 교반핀붙이 유통관(23)으로서는, 예를 들면, 어드밴스 전기공업 주식회사제의 상품명 「MX시리즈:인라인 믹서」를 이용할 수 있다. 이 인라인 믹서는 주식회사 노리타케 컴퍼니 리미티드사제의 부품을 채용하고 있다.
복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)가, 각각 복수의 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)에서, 과산화수소수 공급로(30)에 접속되어 있다. 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에는, 황산 공급원(25)으로부터의 황산이, 공급원라인(27)으로부터 공급되도록 구성되어 있다. 더 구체적으로는, 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)는, 공급원라인(27)으로부터 분기한 분기로(分岐路)이다. 공급원라인(27)에는, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)로의 분기점보다 상류측에 황산 밸브(28)가 설치되어 있다. 황산 밸브(28)는, 공급원라인(27)의 유로를 개폐하는 개폐밸브이며, 예를 들면, 에어 구동식 밸브 등과 같이 자동 제어에 의한 개폐가 가능한 밸브이다. 황산 공급원(25)은, 본 실시형태에서는, 공급원라인(27)에 설치된 승온유닛(26)을 포함한다. 승온유닛(26)은, 공급원(예를 들면 황산을 저장한 탱크)으로부터의 황산을 실온보다 높은 온도로 승온하여, 하류측으로 흘리도록 구성되어 있다. 따라서 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에는, 실온보다 고온으로 승온된 황산이 공급된다.
복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에는, 각각, 상류측으로부터 순서대로 개폐밸브(41, 42, 43, 44) 및 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)의 각(各) 쌍이 설치되어 있다. 개폐밸브(41, 42, 43, 44)는, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)를 각각 개폐하는 밸브이며, 예를 들면, 에어 구동식 밸브 등과 같이 자동 제어에 의한 개폐가 가능한 밸브이다. 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)는, 니들 밸브 등과 같이 수동에 의해 개도를 조정할 수 있는 밸브이다. 유량 컨트롤러는, 통상, 실온의 유체의 유량을 제어하도록 구성되어 있으므로, 승온된 황산이 유통하는 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에는 배치할 수 없다.
복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에 각각 설치된 개폐밸브(41, 42, 43, 44)는, 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)로부터 어느 황산 공급로(31, 32, 33, 34)를 선택하여 공급원라인(27)으로부터의 황산을 유통시키는 황산 공급로 선택유닛(35)을 구성하고 있다. 즉, 어느 황산 공급로에 설치된 개폐밸브를 개방하면, 해당 황산 공급로에 공급원라인(27)으로부터의 황산이 유입한다. 전형적으로는 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)로부터 하나의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)가 선택되지만, 둘 이상의 황산 공급로의 개폐밸브를 동시에 개방함으로써, 둘 이상의 황산 공급로를 선택할 수도 있다.
어느 황산 공급로(31, 32, 33, 34)의 개폐밸브가 개방됨으로써, 대응하는 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)에서, 과산화수소수 공급로(30)에 황산이 유입한다. 이에 의해, 해당 혼합위치에서 황산과 과산화수소수가 혼합되고, 그들 혼합액으로 구성되는 레지스트 박리액(황산 과산화수소수 혼합액:SPM)이 생성된다. 이 SPM는, 해당 혼합위치보다 하류의 과산화수소수 공급로(30)를 통해 노즐(2)에 이르고, 이 노즐(2)로부터 기판(W)을 향해 토출된다. 혼합위치로부터 노즐(2)에 이르기까지 유로 길이(X1, X2, X3 또는 X4)에 걸쳐 과산화수소수 공급로(30)를 SPM가 통과하는 동안에, SPM 중의 황산 및 과산화수소수의 혼합반응이 진행하고, 그 반응에 따르는 반응열에 의해, SPM가 승온해 간다. 그에 의해, 노즐(2)로부터는, 황산 공급원(25)으로부터 공급되는 황산의 온도보다 고온의 SPM가 토출된다.
최상류에 배치된 제1혼합위치(MP1)에 대응한 제1 황산 공급로(31)가 선택되면(즉, 제1개폐밸브(41)가 개방되면), 황산 및 과산화수소수는, 혼합 후에, 교반핀붙이 유통관(23)을 통과한다. 이에 의해, 혼합이 한층 촉진되어, 혼합에 의한 반응열이 발생하기 쉬워진다.
복수의 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)는, 다른 온도의 황산에 대응하도록 설정되어 있다. 구체적으로는, 4종류의 황산 온도가 상정되어 있어, 그 중 가장 낮은 황산 온도(제1 황산 온도. 예를 들면 80℃)에 제1혼합위치(MP1)가 대응하고 있고, 두 번째로 낮은 황산 온도(제2 황산 온도. 예를 들면 100℃)에 제2혼합위치(MP2)가 대응하고 있으며, 세 번째로 낮은 황산 온도(제3 황산 온도. 예를 들면 130℃)에 제3혼합위치(MP3)가 대응하고 있고, 네 번째로 낮은(본 실시형태에서는 가장 높은) 황산 온도(제4 황산 온도. 예를 들면 180℃)에 제4혼합위치(MP4)가 대응하고 있다. 즉, 황산 온도가 낮을수록, 혼합위치로부터 노즐(2) 선단까지의 유로 길이가 길게 되어 있다. 각 혼합위치로부터 노즐(2) 선단의 유로 길이는, 해당 혼합위치에서 과산화수소수에 합류하는 황산의 온도에 따라, 최적인 값이 되도록 설계되어 있다.
한편, 수동 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)의 개도는, 대응하는 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에서 상정되어 있는 황산 온도에 대응하도록 미리 조정된다. 더 구체적으로는, 해당 황산 온도에 대응하는 혼합비로 황산 및 과산화수소수가 혼합되고, 또, 노즐(2)로부터 필요한 토출유량으로 SPM가 토출되도록, 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)의 개도가 수동 조정된다.
도 2는 상기 기판처리장치의 전기적 구성을 설명하기 위한 블록도이다. 기판처리장치는, 장치의 각부를 제어하기 위한 제어유닛(15)을 구비하고 있다. 제어유닛(15)은, 컴퓨터로서의 기본 구성을 갖고, 척회전기구(6), 가드 승강기구(10), 노즐이동기구(11), 과산화수소수 밸브(21), 유량 컨트롤러(22), 승온유닛(26), 황산 밸브(28), 제1∼제4 개폐밸브(41, 42, 43, 44) 등을 제어하도록 프로그램되어 있다.
도 3은 제어유닛(15)의 SPM(레지스트 박리액) 공급에 관한 제어동작을 설명하기 위한 플로차트이다. 제어유닛(15)은, 과산화수소수와 혼합해야 할 황산의 온도 설정치를 읽어들인다(스텝 S1). 황산 온도 설정치는, 기판처리장치의 사용자에 의해 미리 입력된 값이다. 기판 처리 조건을 기술한 레시피 내에서 황산 온도 설정치가 지정되어도 좋다. 제어유닛(15)은, 황산 온도 설정치에 따라, 승온유닛(26)을 제어한다(스텝 S2). 이에 의해, 황산 공급원(25)으로부터, 황산 온도 설정치까지 승온된 황산이 공급된다. 제어유닛(15)은, 또한, 황산 온도 설정치에 따라, 제1∼제4 개폐밸브(41, 42, 43, 44) 중 어느 것(바람직하게는 어느 하나)을 개방한다(스텝 S3). 또한, 제어유닛(15)은, 황산 온도 설정치에 따라, 유량 컨트롤러(22)를 제어한다(스텝 S4). 그 후는, 제어유닛(15)은, SPM를 기판(W)에 토출해야 할 타이밍에서(스텝 S5), 황산 밸브(28) 및 과산화수소수 밸브(21)를 개방하고(스텝 S6), 그 후, SPM의 기판(W)으로의 토출을 정지해야 할 타이밍에서(스텝 S7), 황산 밸브(28) 및 과산화수소수 밸브(21)를 폐쇄한다(스텝 S8). 이후의 제어는, 스텝 S1로 돌아온다.
이러한 제어 외에도, 제어유닛(15)은, 척회전기구(6)를 제어하여 스핀척(1)의 회전속도를 제어하고, 가드 승강기구(10)를 제어하여 스플래쉬 가드(9)의 위치를 제어하며, 노즐이동기구(11)를 제어하여 노즐(2)의 위치를 제어한다. 이에 의해, 회전상태의 기판(W)의 표면(상면)에 대해, 노즐(2)로부터 SPM를 공급하면서, 기판(W)상에서의 SPM의 착액점을 이동시킬 수 있다. 이렇게 해서, 기판(W)의 표면(상면) 전역을 SPM의 착액점에 의해 스캔할 수 있어, 기판(W)의 표면 전역에 균일한 레지스트 박리처리를 행할 수 있다.
도 4a는 80℃의 황산과 실온(RT:Room Temperature)의 과산화수소수를 1:0.3의 혼합비로 혼합하여 SPM를 조제한 때의 SPM 온도(Temperature)의 시간 변화 및 SPM 중의 산화제(Oxidant) 농도의 시간 변화(측정결과)를 나타낸다. 또, 도 4b는, 180℃의 황산과 실온(RT:Room Temperature)의 과산화수소수를 1:0.3의 혼합비로 혼합하여 SPM를 조제한 때의 SPM 온도(Temperature)의 시간 변화 및 SPM 중의 산화제(Oxidant) 농도의 시간 변화(측정결과)를 나타낸다. 모두, 횡축은, 혼합으로부터의 경과시간(elapsed time after mixing SPM)이다. SPM의 레지스트 박리성능은, 온도가 높을수록, 또한 산화제 농도가 높을수록, 높아진다. 따라서 황산 온도가 80℃인 경우(도 4a)에서는, 혼합으로부터의 경과시간이 20초 정도인 시점에서 기판의 표면에 SPM가 도달하면 최적이다. 또한, 황산 온도가 180℃인 경우(도 4b)에서는, 혼합으로부터의 경과시간이 5초 정도인 시점에서 기판의 표면에 SPM가 도달하면 최적이다.
따라서, 예를 들면, 제1혼합위치(MP1)로부터 노즐(2)의 선단까지의 유로 길이(X1)는, SPM가 제1혼합위치(MP1)로부터 노즐(2)의 선단에 도달할 때까지 필요로 하는 시간이 20초 정도가 되도록 정하면 좋다. 이에 의해, 제1 황산 공급로(31)를, 황산 온도 80℃에 대응시킬 수 있다. 또한, 예를 들면, 제4혼합위치(MP4)로부터 노즐(2)의 선단까지의 유로 길이(X4)는, SPM가 제4혼합위치(MP4)로부터 노즐(2)의 선단에 도달할 때까지 필요로 하는 시간이 5초 정도가 되도록 정하면 좋다. 이에 의해, 제4 황산 공급로(34)를, 황산 온도 180℃에 대응시킬 수 있다. 제2혼합위치(MP2) 및 제3혼합위치(MP3)에 대해서도, 다른 황산 온도에 대응하도록, 마찬가지로 정하면 좋다.
도 5는 황산 온도(H2SO4 temperature) 및 혼합비(SPM ratio)에 대한 레지스트 박리성능(측정결과)을 나타낸다. 혼합비는, 황산 체적을 1로 한 때에, 이에 혼합된 과산화수소수의 체적 비율로 나타내고 있다. 레지스트 박리성능(removal area around 300㎜)은, 직경 300㎜의 원형 웨이퍼의 표면 전역에 일정 막두께의 레지스트막을 형성하고, 일정 유량으로 일정 시간만큼 SPM를 웨이퍼 중심에 토출한 때의 레지스트 박리 면적 비율(레지스트막이 박리된 영역의 면적/웨이퍼 표면의 면적. 단위%)로 평가했다. 횡축에 황산 온도, 종축에 혼합비를 각각 취한 2차원 평면에서, 동일한 레지스트 박리성능이 얻어지는 점을 이으면, 등박리성능선(等剝離性能線)이 얻어진다. 도 5의 측정결과로부터, 레지스트 박리성능은, 황산 온도뿐 아니라, 혼합비에도 의존하는 것을 알 수 있다. 그리고 황산 온도에 따른 적절한 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 레지스트 박리성능을 최대화할 수 있음을 알 수 있다.
황산 공급로(31, 32, 33, 34)에 설치된 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)의 개도를 복수의 온도의 황산에 대해 같은 유량이 얻어지도록 설정하는 한편, 과산화수소수 공급로(30)를 흐르는 과산화수소수의 유량을 변화시키면, 혼합비를 변화시킬 수 있다. 그러나 이 경우, 혼합비에 따라, 노즐(2)로부터 토출되는 SPM의 유량이 변화하게 된다. 과산화수소수 공급로(30)를 흐르는 과산화수소수 유량을 일정하게 하고, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)의 황산 유량을 다르게 하는 경우도 마찬가지의 문제가 있다. 따라서 혼합비에 의하지 않고 노즐(2)로부터 일정 유량의 SPM를 토출시키기 위해서는, 황산 및 과산화수소수 양쪽의 유량을 변화시킬 필요가 있다. SPM의 토출유량을 일정하게 하지 않은 경우(예를 들면 황산의 온도에 따라 토출유량을 변경하는 경우)에 있어서도, 혼합비에 의존함이 없이 소망의 토출유량을 얻기 위해서는, 황산 및 과산화수소수 양쪽의 유량을 변화시킬 필요가 있다.
그래서 본 실시형태에서는, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에 개별적으로 설치된 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)가, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)를 통과하는 황산의 유량을 개별적으로 설정할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 과산화수소수 공급로(30)에는, 유량 컨트롤러(22)가 설치되어 있어, 과산화수소수의 유량도 제어할 수 있도록 구성되어 있다. 그리고 혼합 전의 황산의 온도에 따라 황산 공급로를 선택하고, 유량 컨트롤러(22)로 과산화수소수 유량을 제어함으로써, 황산의 온도에 따른 혼합비와, 노즐(2)로부터의 소망의 토출유량이 모두 달성된다.
이상과 같이, 본 실시형태에 의하면, 과산화수소수 공급로(30) 상의 복수의 혼합위치(MP1, MP2, MP3, MP4)에 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)가 각각 접속되어 있다. 따라서 어느 혼합위치에서 황산과 과산화수소수가 혼합되어, 그들 혼합액으로 구성되는 레지스트 박리액(SPM)이 생성된다. 이 SPM는, 혼합위치로부터 노즐(2) 선단에 이르는 유로 내에서, 혼합에 의한 발열반응에 의해 승온하고, 승온 후의 SPM가 노즐(2)로부터 기판(W)을 향해 토출된다.
제어유닛(15)은, 황산 공급로 선택유닛(35)(개폐밸브(41, 42, 43, 44))을 제어함으로써, 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)로부터 하나 또는 복수(바람직하게는 하나)의 황산 공급로를 선택하여, 황산 공급원(25)으로부터의 황산을, 그 선택된 황산 공급로에 도입한다. 황산 공급로를 선택함으로써, 혼합위치가 동시에 선택된다. 따라서 황산 및 과산화수소수의 혼합 후, 해당 선택된 혼합위치로부터 노즐(2)까지의 유로 길이에 따른 시간이 경과한 후에, SPM가 노즐(2)로부터 기판(W)을 향해 토출된다. 그 시간 동안에, 황산 및 과산화수소수의 혼합에 의한 발열에 의해 SPM가 승온한다.
한편, 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에는, 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)가 각각 설치되어 있어, 황산의 유량을 개별적으로 조정할 수 있도록 구성되어 있다. 그 때문에, 유량 컨트롤러를 이용하지 않아도, 황산 공급로를 전환함으로써, 황산 유량을 바꿀 수 있다. 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)의 개도는, 대응하는 황산 공급로에 도입되는 황산의 온도에 대응한 유량이 얻어지도록, 미리 조절해 둘 수 있다. 따라서 황산의 온도를 변경하는 경우에는, 황산 공급로를 전환하는 것만으로, 변경 후의 황산 온도에 대응한 황산의 유량 및 혼합위치로의 전환을 즉석에서 행할 수 있다. 다시 말해, 황산의 온도에 따라 황산 공급로를 선택하면, 혼합위치 및 황산 유량이, 동시에, 또 적절히 설정된다. 이에 의해, 황산의 온도 변경에 대한 대처가 용이해진다. 게다가 황산 공급로의 선택은, 자동 제어가 가능한 개폐밸브(41, 42, 43, 44)에 의해 행해진다. 그 때문에, 황산의 온도에 대응하는 혼합위치 및 황산 유량의 변경을 자동화할 수 있다.
한편, 상온에서 공급되는 과산화수소수의 유량은, 유량 컨트롤러(22)에 의해 자동 제어할 수 있다. 이에 의해, 황산 온도에 따른 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합할 수 있고, 또, 소망의 토출유량으로 SPM를 노즐(2)로부터 기판(W)으로 토출할 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 최상류의 제1혼합위치(MP1)와 그에 인접하는 제2혼합위치(MP2) 사이에, 교반핀붙이 유통관(23)이 설치되어 있다. 이에 의해, 비교적 저온의 황산이 도입되는 제1혼합위치(MP1)에서 생성된 SPM는, 교반핀붙이 유통관(23)에 의해 교반되어 충분히 혼합된다. 이에 의해, 황산과 과산화수소수의 혼합에 따르는 발열을 촉진할 수 있어, SPM의 박리성능을 올릴 수 있다. 게다가 교반핀붙이 유통관(23)보다 하류측에서는, 교반핀붙이 유통관(23)의 내열온도를 초과하는 온도의 SPM를 유통시킬 수 있기 때문에, 교반핀붙이 유통관(23)의 내열온도를 초과하는 고온의 SPM를 노즐(2)로부터 기판(W)으로 공급할 수 있다. 이에 의해, 레지스트 박리성능이 높은 SPM를 기판(W)에 공급할 수 있다.
이상, 본 발명의 일 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명은, 다른 형태로 실시할 수도 있다. 예를 들면, 상술한 실시형태에서는, 제1혼합위치(MP1) 및 제2혼합위치(MP2) 사이에 교반핀붙이 유통관(23)이 설치되어 있지만, 이 교반핀붙이 유통관(23)은 생략해도 좋다. 또한, 교반핀붙이 유통관을, 제1혼합위치(MP1)와 제2혼합위치(MP2) 사이, 제2혼합위치(MP2)와 제3혼합위치(MP3) 사이, 제3혼합위치(MP3)와 제4혼합위치(MP4) 사이, 제4혼합위치(MP4)와 노즐(2) 사이 중의 어느 하나 또는 복수의 위치에 설치해도 좋다.
또한, 상술한 실시형태에서는, 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)에서의 황산 유량을 유량조정밸브(51, 52, 53, 54)에 의해 설정하고 있지만, 예를 들면, 황산 공급로(31, 32, 33, 34)의 유로 단면적을 개별적으로 설정(예를 들면 다른 유로 단면적을 갖는 배관을 개별적으로 선택)함으로써, 다른 황산 온도에 대응하는 유량의 복수의 황산 공급로(31, 32, 33, 34)를 형성해도 좋다.
본 발명의 실시형태에 대해 상세히 설명해 왔지만, 이들은 본 발명의 기술적 내용을 분명히 하기 위해 이용된 구체적인 예에 지나지 않아, 본 발명은 이들 구체적인 예로 한정해서 해석되어야 하는 것은 아니고, 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 한정된다.
이 출원은, 2011년 7월 12일에 일본특허청에 제출된 특허출원 2011-154020호에 대응하고 있으며, 이 출원의 전체 개시는 여기에 인용에 의해 포함되는 것으로 한다.

Claims (19)

  1. 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액을 기판의 표면에 공급하는 기판처리장치에 있어서,
    상기 레지스트 박리액을 기판을 향해 토출하는 노즐과,
    상기 노즐을 향해 과산화수소수를 유통시키는 과산화수소수 공급로와,
    상기 과산화수소수 공급로 상에서 상기 노즐까지의 유로 길이가 다른 복수의 혼합위치에 각각 접속된 복수의 황산 공급로와,
    황산 공급원으로부터의 황산을 상기 복수의 황산 공급로로부터 선택된 황산 공급로에 도입하는 황산 공급로 선택유닛을 포함하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로가, 개별적으로 설정된 유량으로 대응하는 혼합위치를 향해 황산을 유통시키도록 구성되어 있는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로의 유량 및 대응하는 혼합위치가, 다른 온도의 황산에 대응하도록 설정되어 있는 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 황산 공급원으로부터의 황산의 온도에 따라 상기 황산 공급로 선택유닛을 제어하는 제어유닛을 더 포함하는 기판처리장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 유량조정밸브를 더 포함하는 기판처리장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 과산화수소수 공급로를 유통하는 과산화수소수의 유량을 제어하는 유량 컨트롤러를 더 포함하는 기판처리장치.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 과산화수소수 공급로에서 최하류 혼합위치와 최상류 혼합위치 사이에 배치되어, 황산과 과산화수소수의 혼합액을 교반하는 교반유닛을 더 포함하는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 교반유닛이, 최상류 혼합위치와, 해당 최상류 혼합위치에 대해 하류측에 인접하는 다른 혼합위치와의 사이에서 상기 과산화수소수 공급로에 배치되어 있는 기판처리장치.
  9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 황산 공급원이, 상기 복수의 황산 공급로에 공급되는 황산을 승온(昇溫)시키기 위한 승온유닛을 포함하는 기판처리장치.
  10. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 황산 공급로 선택유닛이, 상기 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 개폐밸브를 포함하는 기판처리장치.
  11. 황산과 과산화수소수를 혼합하여 생성한 레지스트 박리액을 노즐로부터 기판의 표면으로 공급하는 기판처리방법에 있어서,
    황산 온도 설정치를 제어유닛에 읽어 들이는 읽어들임공정과,
    복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 개폐밸브 중에서, 상기 읽어들임공정에서 읽어 들인 상기 황산 온도 설정치에 대응하는 하나의 개폐밸브를 개방함으로써, 상기 복수의 황산 공급로 중 하나의 황산 공급로를 선택하는 선택공정과,
    상기 노즐까지의 유로(流路) 길이가 다른 복수의 혼합위치에서 상기 복수의 황산 공급로가 각각 결합되어 있는 과산화수소수 공급로에 과산화수소수를 유통시키는 공정과,
    상기 선택된 황산 공급로를 경유한 황산을, 상기 선택된 황산 공급로에 대응하는 혼합위치에서 상기 과산화수소수 공급로를 유통하는 과산화수소수에 합류(合流)시켜 혼합함으로써, 레지스트 박리액을 생성하는 생성공정과,
    상기 생성공정에서 생성된 상기 레지스트 박리액을 상기 노즐로부터 기판의 표면으로 공급하는 공급공정을 포함하는 기판처리방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로가, 개별적으로 설정된 유량으로 대응하는 혼합위치를 향해 황산을 유통시키도록 구성되어 있는 기판처리방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로의 유량 및 대응하는 혼합위치가, 다른 온도의 황산에 대응하도록 설정되어 있는 기판처리방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 황산 온도 설정치는, 기판 처리 조건을 기술한 레시피 내에서 지정되어 있는 기판처리방법.
  15. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로에 각각 설치된 복수의 유량조정밸브에 의해 유량조절하는 공정을 더 포함하는 기판처리방법.
  16. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 과산화수소수 공급로를 유통하는 과산화수소수의 유량을 제어하는 유량제어공정을 더 포함하는 기판처리방법.
  17. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 과산화수소수 공급로에서 최하류 혼합위치와 최상류 혼합위치 사이에서, 황산과 과산화수소수의 혼합액을 교반하는 교반공정을 더 포함하는 기판처리방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 교반공정이, 최상류 혼합위치와, 해당 최상류 혼합위치에 대해 하류측에 인접하는 다른 혼합위치와의 사이에서 행해지는 기판처리방법.
  19. 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 황산 공급로로 공급하는 황산을 승온시키기 위한 승온공정을 더 포함하는 기판처리방법.
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