KR101374459B1 - 이동하는 스트립으로 가스를 분출하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법에 관한 것이며, 스트립이 표면을 향해 연장하고 스트립의 각 표면 위의 가스 또는 물/가스 혼합물의 제트들의 충돌(24, 34)들이 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되는 방식으로 배열된, 가스 또는 물/가스 혼합물의 다수의 제트들이 스트립의 각 표면 위로 분무된다. 일 면(A)의 제트들의 충돌들(24)은 다른 면(B)의 제트들의 충돌들(34)에 대향되지 않고, 스트립의 길이 방향에 평행하고 스트립의 길이 방향에 수직한 반환하는 가스 또는 물/가스 혼합물의 흐름을 위한 자유로운 공간을 남겨두기 위해, 가스 또는 물/가스 혼합물의 제트들은 적어도 하나의 분배 챔버(21, 31)에 의해 공급되고 분배 챔버로부터 일정 거리에서 연장하는 튜브 모양 노즐들로부터 나온다.

Description

이동하는 스트립으로 가스를 분출하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND DEVICE FOR BLOWING GAS ON A RUNNING STRIP}
본 발명은 냉각 또는 가열을 위해 그 온도로 작용도록 이동하는 스트립(strip) 위로 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하는 것에 관한 것이다.
냉각 챔버들이 이동하는 금속 스트립들을 처리하기 위해 일부 설비들의 출구에 배열되고, 스트립들은 스트립을 냉각하기 위한 두 개의 가스-분출 모듈들 사이에서 챔버들 내에서 수직하게 이동하며, 가스로는 공기, 불활성 기체, 또는 불활성 기체들의 혼합물일 수 있다.
일반적으로, 분출 모듈들은 가압 가스가 공급된 분배 챔버들로 구성되어 있고, 각각의 챔버는, 이동하는 스트립이 통과하는 분출 영역의 측면 중 하나 위에 서로 대향되게 배열된, 노즐들을 구비하는 개구가 제공된 앞면(face)을 포함한다.
개구들은 스트립의 전체 길이를 따라 연장하는 슬롯들이거나, 스트립의 이동 영역의 폭 및 특정 길이를 따라 연장하는 표면 위로 가스 제트를 분배하기 위한 이-차원 망상조직(network) 내에 배열된 점과 같은(point-like) 개구들일 수 있다. 서로 대향되게 배열된 분출 모듈들 각각에 의해 생성된 제트들의 효과의 균형을 위해, 모듈들은 일 모듈로부터의 제트들이 다른 모듈의 제트들과 대향되는 방식으로 설정된다.
가스 분출이 이동하는 스트립의 진동을 야기하는 것이 발견되며, 이는 일 분출 모듈로부터 다른, 대향하는 분출 모듈로 스트립의 찌그러짐 및 측면 변위를 이끈다. 찌그러짐들은 스트립이 스트립의 이동 방향에 일반적으로 평행한 축 주위로 뒤틀리도록 생성된다. 측면 변위들은, 일반적으로 스트랩의 평면에 평행한, 스트립의 이동 영역의 중앙 평면에 수직하는 방향으로 스트립의 변위에 의해 야기된다. 이러한 진동들은 분출 강도가 커질수록 더 상당해진다. 이는 분출 강도 및 그에 따른 냉각이, 스트립들에 피해를 야기할 수 있는, 과도한 진동들을 피하기 위해 제한되어야 함을 의미한다.
이러한 단점을 극복하기 위해, 롤러들 또는 공기 안정화 수단과 같은 스트립을 유지하기 위한 수단에 의해 분리된, 다수의 챔버들이 제공되는 방식으로 분출 챔버들이 짧아지는 것이 제안되었다. 그러나, 이러한 장치들은, 융해 도금(hot galvanising)의 출구에서 냉각과 같은 일부 적용들에 부적합한, 그것들이 스트립과 접촉하는 안정기들을 필요로 하거나, 불충분하게 제어된 공기 안정화 영역 내 특정 냉각을 필요로 하는 단점을 가진다.
또한 스트립은 스트립에 가해진 장력 작용에 의해, 특히 그것을 증가시키는 것에 의해 안정화되는 것이 제안된다. 그러나, 이러한 방법은 스트립 내 상당한 응력(stress)을 생성한다는 단점을 가지고, 이는 그것의 특성들에 역효과를 가져올 수 있다.
노즐들의 헤드들과 스트립 사이의 분출 속도 또는 거리들 또는 분출 비율의 작용에 의해 스트립의 진동들을 감소시키는 시도들이 또한 있었다. 그러나, 이러한 모든 방법들은 냉각 효율과 이에 따른 설비 성능의 감소를 초래한다.
마지막으로, 다수의 노즐들이 분배 챔버들에 의해 공급되는 장치들이 제안되었으며, 노즐들은 냉각되는 스트립의 표면을 향하여 연장하는 튜브이며, 튜브들은 스트립의 표면에 수직하게 기울어지고, 튜브들의 경사는 스트립의 이동 영역의 중심선으로부터 더 크게 된다. 이러한 장치에서, 노즐들은 스트립의 각 면 상의 가스 제트들의 충돌 포인트들이 서로 대향하는 방식으로 이-차원 망상조직 내에 배열되어 있다. 이러한 장치는 특히 스트립의 진동을 야기하는 단점을 가지며, 이는 분출 압력과 그로 인한 유효 냉각을 제한할 필요가 있게 한다.
본 발명의 목적은 분출 가스에 의해 이동 스트립의 온도에 작용하기 위한 수단을 제공함으로써 이러한 단점들을 극복하기 위한 것이고, 이는, 높은 분출 압력에서조차, 냉각 또는 가열 영역을 통해 이동할 때 냉각 또는 가열 영역을 통하는 통로 내의 스트립의 제한된 진동을 야기한다.
따라서 본 발명은 분출 가스에 의해 이동 스트랩의 온도에 작용하기 위한 방법에 관한 것이고, 스트립의 표면의 방향으로 연장하고 스트립의 각 표면 상의 가스 제트들의 충돌들이 이-차원 망상조직(network)의 노드(node)들에서 배분되는 방식으로 배열된, 다수의 가스 제트들이 스트립의 각각의 면 위로 분무된다. 스트립의 하나의 면 위의 제트들의 충돌들은 다른 면 위의 제트들의 충돌들과 대향되지 않으며, 가스 제트들은 튜브 모양 노즐들로부터 나오고, 상기 노즐들은 적어도 하나의 분배 챔버에 의해 공급되고 그 머리(head)부들은 분배 챔버로부터 일정 거리 연장하여서 스트립의 길이 방향에 평행하고 스트립의 길이방향에 수직하는 반환 가스(returning gas)의 흐름을 위한 자유로운 공간을 남겨둔다.
가스 제트들은 스트립이 표면에 수직할 수 있다.
적어도 하나의 가스 제트의 축은 스트립의 표면에 수직(normal)한 각도를 형성할 수 있다.
바람직하게, 스트립의 면들 각각 상의 제트 충돌들의 이-차원 분배 망상조직들은 주기적이고, 동일 형태이며 동일 피치(pitch)를 가진다.
예를 들어, 망상조직들은 육각(hexagonal) 형태이다.
더욱 바람직하게, 스트립의 단일 면 상의 제트들의 충돌들은 이-차원 망상조직의 노드들에서 분배되어서, 스트립의 하나의 면에 대한 분출-제트들의 인접하는 충돌 자취들이 상기 스트립의 가로 방향 내에서 인접하는 방식으로, 스트립의 가로 방향 내 1 피치와 동일한 주기를 가진 3과 20 사이의 그리고 스트립의 길이 방향 내 3과 20 피치들 사이의 측면들의 수를 가진 복잡한 다각망(polygonal mesh)을 형성한다. 분출-제트들의 자취들의 인접하는 특징은 자취들이 또한 겹쳐질 수 있음을 의미한다는 것에 주목할 수 있을 것이다.
바람직하게, 하나의 면에 대응하는 망상조직 및 다른 면에 대응하는 망상조직은 서로 오프셋(offset) 되어 있고, 상기 오프셋은 1/4 피치와 3/4 피치 사이이다.
가스는 냉각 가스, 물/가스 혼합물, 또는 뜨거운 가스, 특히 버너로부터의 연소가스일 수 있다.
바람직하게, 노즐들의 길이는 20과 200mm 사이이다.
또한 본 발명은 스트립의 이동 영역의 어느 한쪽 측면 상에서 서로 대향하게 배열된 적어도 두 개의 분출 모듈들을 포함하는 장치에 관한 것이고, 각각의 분출 모듈은 스트립의 이동 영역의 방향 내에서 적어도 하나의 분배 챔버로부터 연장하는 다수의 튜브 모양 노즐들을 포함하며, 노즐들은 스트립의 각 면 위의 제트들의 충돌들이 이-차원 망상조직의 노드들에서 분배되는 방식으로 배열되고, 분출 모듈들은 하나의 면 위의 제트 충돌들이 다른 면 위의 제트 충돌들에 대향하지 않는 방식으로 배치된다.
바람직하게, 제트 충돌들이 분배되는 이-차원 망상조직들은 동일 형태이고 동일 피치를 가지는 주기적인 망상조직들이다.
망상조직들은 육각 형태일 수 있다.
더 바람직하게, 스트립의 단일 면 위의 제트들의 충돌들은 이-차원 망상조직의 노드들에서 분배되어서, 인접하는 분출-제트 충돌 자취들이 상기 스트립의 가로 방향 내 스트립의 하나의 면 위에 접촉하는 방식으로, 스트립의 가로 방향 내 1 피치와 동일한 주기를 가지는 3과 20 사이 그리고 스트립의 길이방향 내 3과 20 피치들 사이의 측면들의 수를 가진 복잡한 다각망을 형성한다.
바람직하게, 분출 모듈들은 하나의 면에 대응하는 망상조직과 다른 면에 대응하는 망상조직이 서로 오프셋되고, 오프셋은 1/4 피치와 3/4 피치 사이인 방식으로 배치된다.
노즐들의 분출 축들은 스트립이 이동 평면에 수직일 수 있다.
적어도 하나의 노즐들의 분출 축들은 상기 스트립의 이동 평면에 수직한 각도를 형성할 수 있다.
노즐들의 분출 포트들은 원형, 다각형, 타원형 또는 슬롯 형상의 단면을 가질 수 있다.
분출 모듈들은 가스 통풍관(uptake)을 가지거나 가스 통풍관을 가지지 않는 형태이다.
바람직하게, 각각의 분출 모듈은 분출 노즐들이 위치하는 분배 챔버를 포함한다.
본 발명은 철이나 알루미늄 스트립들과 같은 얇은 금속 스트립들의 연속적인 처리를 위한 설비들에 특히 적용된다. 이러한 처리들은 예를 들어 아연도금(galvanisation) 또는 주석도금(tinning)과 같은 풀림(annealing) 또는 침지코팅(dip-coating) 처리들이다. 본 발명은 스트립의 수용할 수 없는 진동들을 야기하지 않고 스트립이 높은 열 교환 세기를 달성할 수 있도록 한다.
본 발명은 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하지만 제한되지 않게 설명될 것이다.
본 명세서 내에 포함되어 있음.
도 1은 가스 분출에 의해 냉각을 위한 모듈 내의 스트립 이동의 개략적인 사시도이다;
도 2는 스트립의 제1 면과 제2 면의 분출 영역들 상의 가스 제트들의 충돌들의 분배를 도시한다;
도 3은 단일 스트립의 두 개의 면들 상의 냉각 제트 충돌들의 분배의 겹침을 도시한다;
도 4는 냉각 장치 내 스트립의 측면 변위 측정의 개략적인 모습이다;
도 5는, 일 면 및 다른 면에 대한 분출-제트들이 서로 오프셋되는 경우와 두 개의 면들에 대한 제트들이 서로 대향되는 경우에, 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내 스트립의 측면 변위 내 변화를 도시한다;
도 6은, 두 개의 면들에 대한 분출-제트들이 서로 오프셋된 경우와 두 개의 면들에 대한 분출-제트들이 서로 대향되는 경우에, 분출 압력의 기능으로서, 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내 스트립 이동의 평균 비틀림을 도시한다;
도 7은, 스트립이 본 발명에 따른 분출 장치에 의해 냉각되는 경우와 스트립이 종래 기술에 따른 슬롯을 통해 분출되는 장치에 의해 냉각되는 경우에, 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내 스트립의 측면 변위 내 변화를 도시한다;
도 8은 냉각 장치를 포함하는 침지코팅 설비의 출구의 개략적인 모습이다;
도 9는, 하나의 면과 다른 면에 대한 분출 제트들이 서로 오프셋된 경우와 두 개의 면들에 대한 분출-제트들이 서로 대향된 경우에, 건조 모듈에서 측정된, 도 8의 침지코팅 설비 내 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내 냉각된 스트립의 측면 변위의 변화를 도시한다;
도 10은, 하나의 면과 다른 면에 대한 분출-제트들이 서로 오프셋된 경우와 두 개의 면들에 대한 분출-제트들이 서로 대향하는 경우에, 냉각 모듈에서 측정된, 도 8의 침지코팅 설비 내 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내 냉각된 스트립의 측면 변위 내 변화를 도시한다;
도 11은, 본 발명에 따른, 하나의 면과 다른 면에 대한 분출-제트들이 서로 오프셋된 경우와 두 개의 면들로부터의 분출-제트들이 서로 대향된 경우에, 도 8에서와 같은 분출에 의한 냉각을 위한 장치 내, 분출 모듈들의 분출력의 기능으로서의 열 교환 계수 내 변화를 도시한다;
도 12는 스트립 표면 위에 균일한 분출을 제공하는 이동 스트립의 하나의 면 상의 가스 제트들의 충돌들의 배분을 도시한다.
도 1에서 일반적으로 1로 도시된, 분출 가스에 의한 냉각을 위한 설비는 이동 스트립(4)의 어느 한쪽 측면에 배열된 두 개의 분출 모듈들(blowing modules; 2 및 3)을 포함한다. 각각의 분출 모듈은 일 측의 분배 챔버(21) 및 다른 측의 분배 챔버(31)를 포함하고, 이들은 가압된 가스를 공급받는다.
각각의 분배 챔버들은 일반적으로 평행육면체 형상이고, 일반적으로 직사각형 형상의 일 면(22)과 다른 면(32)을 가지며, 면들은 서로 대향하도록 배열되고 면들 상에는 하나의 케이스 내 원통형 분출 노즐들(23)과 다른 케이스 내 원통형 분출 노즐들(33)이 제공된다. 이들 원통형 노즐들은 대략 100mm이고 20mm와 200mm 사이일 수 있으며, 바람직하게 50과 150mm 사이인 길이를 가지는 튜브들이고, 예를 들어 9.5mm이지만 4mm와 60mm 사이일 수 있는 내부 직경을 가진다. 이러한 튜브들은 스트립의 일 면에 대한 분출-제트들로부터의 충돌들이 육각 형상의 분배를 구성하기 위해 정사각 또는 다이아몬드-형상일 수 있는 망을 가지는 주기적인 망상조직인 이-차원 망상조직 위로 배분되는 방식으로 분배 챔버들의 면들(22 및 32) 위로 분배된다. 두 개의 인접한 튜브들 사이의 거리는 예를 들어 50mm이고, 40mm와 100mm 사이일 수 있다. 냉각 모듈의 분배 챔버의 각각의 면 위의 노즐들의 수는 몇 백개일 수 있다. 노즐들의 헤드들과 스트립 사이의 거리는 50과 250mm 사이일 수 있다. 스트립 위의 제트들의 충돌들의 분배를 달성하기 위해서, 노즐들이 상호 평행한 제트들을 생성할 때, 각 챔버 위의 노즐들은 스트립 위의 제트 충돌들의 이-차원 망상조직과 동일한 이-차원 망상조직 내에서 분배된다. 그러나, 제트들이 상호 평행하지 않을 때, 챔버 위의 노즐들의 분배는 스트립의 표면 위의 제트들의 충돌들의 분배와는 다르다.
도 2에 도시된 실시예에서, 튜브들은 스트립의 면(A) 위의 분출 모듈(2)에 의해 배출된 제트들의 충돌들(24)이 이-차원 망상조직의 노드들에서 배분되는 방식으로 배분되며, 도시된 실시예에서는 피치(P)가 도시된 육각 형태의 주기적인 망상조직이다. 제2 분출 모듈(3)의 분출 노즐들은 스트립의 면(B) 위에 가스 제트들의 충돌들(34)이 육각 형태이고 P와 동일한 망을 가지는 주기적인 이-차원 망상조직의 노드들에서 고르게 분배되는 방식으로 분배 챔버(31) 위에 분배된다. 일 케이스에서 면(A)에 대응하고 다른 케이스에서 면(B)에 대응하는 두 개의 이-차원 망상조직들은 면(B)의 가스 제트들의 충돌들(34)이 면(A)의 가스 제트들의 충돌들(24)에 대향하지 않고 이러한 충돌들어 비틀어진(staggered) 방식으로 서로 오프셋되어 있다.
오프셋은 일 면 위의 제트들의 충돌들이 다른 면 위의 제트들의 충돌들 사이에서 자유롭게 남겨진 대향하는 공간들인 방식으로 배치된다.
이러한 이유로 인해서, 면(A) 위의 제트들과 면(B) 위의 제트들의 충돌들이 포개진 방식으로 도시된, 도 3에 도시된 바와 같이, 분출-제트들의 충돌 포인트들의 세트의 밀집한 분배는 양 면들 상에서 달성된다.
스트립의 각각의 면들에 대한 분출-제트들의 충돌 포인트들의 분배는 분출-제트들과 스트립의 표면들 사이의 접촉을 더 잘 분배하는 이점을 가지고, 제트들이 서로 대향하는 것에 비해 더욱 등질의 냉각을 제공한다. 결과적으로, 스트립과 가스 사이의 열 교환 계수는 향상된다. 또한 제트들의 이러한 분배는 스트립의 표면 위에 가해진 응력들을 감소시키는 이점을 가진다. 게다가, 제트들의 이러한 분배는 스트립의 진동들 및 스트립의 측면 변위와 비틀림을 상당히 감소시킨다.
본 발명자는 스트립의 진동의 상당한 감소를 얻기 위해서 스트립의 표면 위의 충돌 포인트들의 분배가 육각 형태의 이-차원 망상조직 내에 있을 필요가 없고, 두 개의 망상조직들 사이의 오프셋이 절반 피치와 동일할 필요가 없다는 것을 발견하였다.
사실, 필수적인 것은, 한편, 반환 가스, 즉 스트립에 대해 분출되고 제거될 필요가 있는 가스가 스트립의 이동 방향에 수직하고 평행한 노즐들 사이에서 흐름으로 인해 벗어날 수 있고, 다른 한편으로는 충돌 포인트들이 서로 대향하지 않는다는 것이며, 두 개의 망상조직들 사이의 오프셋이 예를 들어 1/4과 3/4 피치 사이일 수 있다. 이러한 오프셋은 스트립의 이동 방향 내에서 만들어질 수 있고 스트립의 이동에 수직한 방향 내에서 만들어질 수 있다.
본 발명자는 또한 가스를 분출하기 위한 노즐들이 다양한 형상들의 단면들을 가진다는 것을 발견하였다. 이들은 예를 들어 원형 단면 또는 사각형이나 삼각형과 같은 다각 단면, 또는 타원형 형상 또는 짧은 슬롯들의 형태일 수 있다.
그러나, 분출이 튜브 형태의 노즐들을 통해 일어난다는 것이 중요하고, 그 헤드들은, 스트립의 이동 방향과 평행하고 스트립의 이동 방향에 수직인 흐름에 의해, 반환 가스가 제거되도록 분배 챔버들의 측면으로부터 충분히 큰 거리에서 연장된다. 사실, 높은 안정성이 스트립에 대해 얻어지게 하는 것은 가스 제거의 양호한 분배 및 스트립 표면 위에 가스 제트들의 충돌 포인트들의 분배의 조합이다.
예를 들어, 50mm 피치를 가지는 육각 형태의 망상조직 내에 배열된 100mm 길이와 9.5mm 직경을 가지는 원통형 튜브들이 제공된, 2200mm 길이를 가지는 직사각 형상의 두 개의 분출 모듈들 사이에서 이동하는 스트립의 진동 거동이 비교되고, 두 개의 분출 모듈들은 노즐들의 헤드들과 스트립 사이의 거리가 67mm인 방식으로 서로 대향되게 배열된다. 950mm 폭과 0.25mm 두께의 철 스트립이 이러한 두 개의 분출 모듈들 사이에 일정한 장력 하에서 배열되었다. 분배 챔버들의 공급 압력은 대기압 이상인 0과 10kPa 사이에서 변화하고, 도 4에 도시된 바와 같이, 거리(da)를 측정하도록 스트립의 축 상에 배열된 레이저(40A), 스트립의 가장자리로부터 대략 50mm의 거리(D)에서 거리(dg)를 측정하도록 스트립의 좌측에 배열된 레이저(40G), 및 또한 스트립의 가장자리로부터 대략 50mm의 거리(D)에서 스트립의 우측에 배열되고 거리(dd)를 측정하는 제3 레이저(40D)를 구비한, 스트립의 폭 방향에 배열된 세 개의 레이저로 스트립의 측면 변위가 측정된다.
거리들(da, dg 및 dd)은 스트립의 이동 영역의 중앙 평면에 평행한 라인으로부터의 거리이다.
이러한 측정들로, 1/3 (da + dg + dd)와 동일한 스트립의 평균 변위 및 |dg-dd| (측면 변위들 사이 거리의 절대값) 와 동일한 비틀림을 결정하는 것이 가능하다.
이러한 두 개의 값들을 측정하기 위해, 측정은 분출 동안 행해진다. 측면 변위에 대해, 측면 변위들 사이의 평균 최고치-최고치(peak-to-peak) 거리가 결정된다. 비틀림에 대해, 비틀림의 평균 진폭이 측정된다.
도 5와 6은, 가스 제트들은 서로로부터 오프셋되는(일 면 위의 가스 제트들은 다른 면 위의 가스 제트들로부터 오프셋된다) 본 발명에 따른 냉각 모듈들에 대한, 또한 상술한 모듈과 동일하지만 일 면에 대한 분출 제트들이 대향 면에 대한 분출-제트들에 대향하는 분출에 의한 냉각을 위한 모듈들에 대한, 한편의 측면 변위들과 다른 한편의 비틀림들을 도시한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 분출 모듈들에 관련된, 곡선(50)은 스트립의 최고치-최고치 변위 진폭들 내 변화를 도시하며, 이는 1kPa의 분출 과압에 대해 대략 15mm로부터 10kPa의 분출 과압에 대해 대략 30mm까지 변한다. 동일한 도면에서, 일 면에 대한 분출-제트들이 다른 면에 대한 분출-제트들에 대향하는 분출 모듈들에 대한 최고치-최고치 변위 진폭 내 변화를 도시하는, 곡선(51)은, 대략 1kPa의 분출 과압에 대한 스트립의 변위 진폭이 15mm이지만 이러한 진폭이 진행 경우보다 상당히 증가하고 9kPa의 분출 압력에 대해 대략 55mm에 도달하여서 10kPa의 분출 압력에 대해 100mm를 초과한다는 것을 보여준다.
이러한 곡선들은, 본 발명에 따른 장치로, 10kPa에 이를 수 있는 분출 압력으로, 노즐들의 헤드들과 스트립 사이의 67mm의 거리로 이격된 두 개의 분출 모듈들 사이에서 스트립이 이동할 수 있음을 보여주며, 일 면에 대한 분출-제트들이 다른 면에 대한 분출-제트들에 대향하는 분출 모듈들로, 9kPa보다 상당히 작은 분출 과압을 위해 이러한 장치들을 사용할 수 있다.
동일한 방식으로, 분출 압력의 기능으로서 뒤틀림(twisting) 또는 비틀림(torsion) 내 변화를 나타내는, 도 6의 곡선(52)은 본 발명에 따른 장치로 10kPa에 이르는 분출 과압에 대해 4 mm보다 작게 뒤틀림이 유지된다는 것을 보여준다. 반대로, 제트들이 서로 오프셋되지 않은 챔버에서, 뒤틀림은 9kPa의 분출 과압에 대해 24mm만큼일 수 있다.
분배 챔버들이 측면으로 연장하는 슬롯들을 통해 공기를 분출하는, 본 발명에 따른 분출 모듈들과 종래에 따른 분출 모듈들을 사용하여 냉각될 때 스트립의 거동을 비교하면, 스트립의 변위 진폭은, 본 발명에 따른 분출 모듈들과 종래기술에 따른 분출 모듈들 모두에 대해, 67mm, 85mm 및 100mm의 스트립의 표면과 분출 노즐들의 헤드들 사이의 거리에 대해, 분출 과압의 기능으로서 측정되었다.
이러한 결과는 도 7에 도시되고, 개별적으로 67mm, 85mm 및 100mm의 거리에 대한 본 발명에 따른 분출 장치에 의해 냉각된 스트립과 관련된 곡선들(54, 55, 56)은 사실상 겹쳐지고 10kPa만큼일 수 있는 분출 과압에 대해 변위 진폭은 30mm보다 작게 남아 있음을 보여준다.
스트립의 폭에 걸쳐 연장하는 슬롯들을 통해 가스를 분출하는, 종래 기술에 따른 장치들을 사용하여 냉각된 스트립에 관한 곡선들(57, 58, 59)은 분출 노즐들과 스트립 사이에 각각 67mm, 85mm 및 100mm의 거리들에 대응한다. 이러한 곡선들은 4kPa에 이르는 분출 압력들에 대해 스트립이 변위가 100mm가 넘고 150mm만큼일 수 있음을 보여준다.
도 8에서 일반적으로 200으로 도시된 용융 금속의 배쓰(bath) 내 산업적 침지코팅 설비에서 이동하는 스트립의 진동 거동이 또한 특징 되어 있으며, 배쓰(201)의 출구에서의 건조 모듈(202), 일반적으로 203으로 도시된 냉각 모듈, 냉각 모듈로부터의 하류를 포함한다. 냉각 모듈은 대략 6500mm의 길이와 1600mm의 폭을 가지는 직사각 형상의 네 개의 분출 모듈들(203A, 203B, 203C 및 203D)을 포함한다. 각각의 분출 모듈에는 60mm의 피치를 가지는 육각 형태의 망상조직 내에 배열된 100mm의 길이와 9.5mm의 직경을 가지는 원통형 노즐들이 제공된다. 네 개의 분출 모듈들은, 스트립(206)의 이동 영역의 어느 한쪽 측면에 서로 대향되게 배열된, 두 개의 모듈들(203a, 203B 및 203C, 203D) 각각의 두 개의 블록들(204 및 205)을 형성하도록 배열된다. 노즐들의 헤드들과 스트립 사이의 거리는 100mm이다. 게다가 아래에 기술되는 테스트를 수행하기 위해, 한편 분출 모듈들의 두 개의 블록들(204 및 205) 사이의 스트립(207)의 측면 변위를 측정하기 위한 제1 수단은 분출 모듈로부터 대략 13미터 하류에 배열되고, 다른 한편 스트립(208)의 측면 변위를 측정하기 위한 제2 수단은 건조 모듈(202)의 출구에 배열된다. 두 개의 측정 수단들은 도 4에 도시된 것과 동일한 형태이다. 그러나, 분출 모듈들에 배열된 제1 측정 수단(207)은 레이저들을 포함하고, 건조 모듈의 출구에 배열된 제2 측정 모듈(208)은 유도 센서들을 포함한다.
테스트들을 수행하기 위해, 배쓰의 출구에서 대략 400℃의 고온을 가졌고 냉각 모듈의 출구에서 250℃보다 낮은 온도를 가질, 0.27mm 두께의 철 스트립이 지나갔다. 스트립은 일정 속도로 지나갔고 분출 압력은 변화하였다. 게다가, 테스트들은 한편 본 발명에 따른 분출 모듈들로, 즉 스트립의 일 면 위의 제트들의 충돌들이 스트립의 다른 면 위의 제트들의 충돌들에 대향하지 않는 방식으로 배열된 노즐들로 수행되었고, 다른 한편으로는 종래 기술에 따른 챔버들로, 즉 일 면 위의 제트들의 충돌들이 다른 면 위의 제트들의 충돌들에 대향하도록 수행되었다.
스트립의 변위 측정들의 제1 시리즈는 분출 모듈들의 두 개의 블록들 사이에 배열된 제1 측정 수단(207)을 사용하여 수행되었다. 이를 위해서, 분출 모듈들의 공급 압력은 변화하였고 스트립의 변위는 이동 스트립의 폭 방향 내 배열된 세 개의 레이저들을 사용하여 측정되었다.
스트립의 변위 측정의 제2 시리즈는 또한 스트립의 이동 방향 내 냉각 모듈로부터 상류 및, 건조 모듈로부터 몇 센티미터 거리에서, 건조 모듈로부터 하류에서 수행되었다. 이러한 측정의 제2 시리즈는 제2 측정 수단(208)에 의해 수행되었다.
측정의 이러한 두 시리즈들을 얻기 위해서, 결과들은 종래기술 및 본 발명에 관련된 테스트들을 위한 생산 조건과 동일하게 건조 동안 얻어진다. 스트립의 측면 변위를 측정하기 위해, 스트립의 측면 변위들의 평균 최고치-최고치 진폭이 결정되었다.
도 9는 측정들의 제1 시리즈의 결과들을 도시한다. 즉, 분출력의 기능으로서, (최고치-최고치 거리) 스트립의 측면 변위들은 분출 모듈에서 얻어진다. 본 발명에 따른 냉각 모듈(203)에 관한 곡선(91)은 스트립의 최고치-최고치 거리 진폭들이 대략 일정함을 보여준다. 변위 진폭들은 0.7kPa로부터 4kPa까지 변화하는 분출 과압에 대해 2 내지 3mm 주변에서 변동한다.
곡선(92)은 종래 기술에 따른 냉각 모듈에 대한 최고치-최고치 변위 진폭들 내 변화를 보여준다. 곡선(92)은 1.5kPa로부터 2.7kPa까지 변화하는 분출 과압에 대한 스트립의 변위 진폭들이 기하급수적으로 증가함을 보여준다. 이러한 변형들은 장치의 냉각 용량을 제한하고 결과적으로 생산 처리의 생산성을 제한한다. 사실, 변형들은 그것들이 너무 높으면 생산성의 질적 하락을 초래하고, 이는 대략 2.5kPa까지의 분출 압력의 제한을 초래한다.
분출 모듈들에서의 스트립의 변형들이 너무 높다면, 생산물의 하락은 또한, 냉각 모듈로부터 상류, 건조 모듈에서 관찰된다. 사실, 진동들은 분출 모듈들로부터 건조 모듈들까지 스트립을 따라 전파되고, 생산성의 질적 결함을 초래할 수 있다. 건조 모듈에서 얻어지는 측정들의 제2 시리즈들은 분출 모듈에서 야기된 스트립 진동들의 건조 모듈에서 영향을 향상시킬 수 있게 한다.
도 10은 측정들의 제2 시리즈들의 결과들을 도시한다. 곡선(102)은 종래 기술에 따른 장치의 경우에 최고치-최고치 변위 진폭들을 보여준다. 1.2로부터 3.0kPa까지 변화하는 분출 압력에 대해, 건조 모듈에서의 변위 진폭들은, 그것들이 생산성의 악화를 초래하기까지, 대략 2.5mm로부터 대략 9mm까지 기하급수적으로 증가한다. 스트립 변형의 진폭 상의 높은 분출 압력의 이러한 영향은 실질적으로 2.8kPa보다 작게 분출력을 제한할 필요가 있게 한다.
이러한 동일한 도면에서, 본 발명에 따른 냉각 장치와 관련한 곡선(101)은, 0.5kPa로부터 3.5kPa까지 변화하는 분출 압력에 대해, 1.8mm 아래로, 대체로 수평이다.
이러한 결과들은 본 발명에 따른 분출 모듈들로 스트립의 측면 변위 진폭들이 상당히 감소됨을 보여주며, 이러한 감소는 매우 커서 그것들이 5의 팩터(factor)로 분할될 수 있다.
게다가, 본 발명자는, 냉각 제트들의 능력에 관계없이, 냉각 모듈과 건조 모듈에서, 스트립이 본 발명에 따른 장치로 더 이상 비틀림 하에 놓이지 않는다는 것을 주목하였다.
또한 도 11은 분출 모듈들의 분출 압력의 기능으로서 열 교환 계수 내 변화를 보여주어서 본 발명에 따른 냉각 장치들의 냉각 성능은 종래 기술에 따른 냉각 장치들의 그것들과 비교될 수 있다. 본 도면에서, 곡선(111)은 본 발명에 대응하고 곡선(112)은 종래 기술에 대응한다. 두 개의 곡선들은 점진적으로 커지고 냉각 능력이 분출 압력과 함께 증가함을 보여준다. 그러나, 종래 기술에 따른 곡선은 2.0kPa의 분출 압력에서 멈추는데, 이는, 이것을 넘으면, 진동들이 생산에 악영향을 야기하기 때문이다. 그러므로, 최대 냉각 능력은 160 W/m2℃이다. 다른 한편, 본 발명에 따른 곡선은 3.5kPa에 이르는 분출 압력 동안 연장하며, 200 W/m2℃의 냉각 능력이 얻어지게 한다. 따라서 본 발명은 이동 스트립의 열 추출 능력이 매우 크게 증가되게 한다.
이러한 결과들은, 본 발명에 따른 장치를 사용함으로써, 비교적 높은 분출 압력으로 스트립을 냉각시키면서 스트립의 매우 제한된 진동을 가질 수 있게 함을 보여준다.
냉각 모듈의 사용 범위에 대해 위에서 주어진 수치값들은 특정 테스트 조건, 특히 두께, 폭 및 스트립 이동의 속도에 대응하는 것이 이해될 것이다.
서술한 예에서, 분출 제트들은 스트립의 표면에 수직하지만, 분출 제트들이 스트립의 수직에 대해 전부 또는 일부 기울어지게 하는 것이 바람직할 수 있다. 특히, 스트립의 외부를 향해 스트립의 가장자리에 위치한 가스 제트들을 향하도록 하는 것이 유리할 수 있다. 또한, 스트립 위로의 충돌 후에 분출된 가스 또는 가스/물 혼합물의 제거를 강제하여서 열 교환을 촉진하기 위해, 스트립의 이동 방향 내, 또는 다른 한편으로는 스트립의 이동 방향에 반대되게, 제트들의 전부 또는 일부를 향하게 하는 것이 유리할 수 있다.
또한, 순수한 가스 또는 가스들의 혼합물일 수 있는, 분출 가스는 공기 또는 질소와 수소를 포함하는 혼합물 또는 가스들의 다른 혼합물일 수 있다. 이러한 가스는 스트립의 온도보다 낮은 온도일 수 있다. 따라서 분출은 스트립을 냉각하는데 사용된다. 예를 들어, 이는 스트립이 고온 아연도금이나 풀림(annealing) 처리 후 나올 때의 경우이다.
그러나, 분출된 가스는 뜨거운 가스일 수 있고, 특히 버너로부터의 연소 가스일 수 있으며 열 처리 설비로 들어가기 전에 스트립의 예열을 위한 것일 수 있다.
노즐들은 모두 하나의 그리고 동일한 일반적으로 평면인 분배 챔버 위에 배열될 수 있거나 다수의 분배 챔버들 위에 배치될 수 있으며, 이러한 분배 챔버들은, 예를 들어, 스트립의 폭에 걸쳐 연장하는 튜브들일 수 있다.
분배 챔버들이 튜브들이라면, 그것들은 또한 스트립의 이동 방향에 평행하게 향할 수 있다.
그러므로, 본 발명에 의해, 분배 챔버 영역 내에 야기된 스트립 진동을 상당히 감소시키는 것이 가능하고, 건조 모듈 영역 내에 야기된 스트립 진동들을 상당히 감소시키는 것이 가능하며, 분배 챔버들의 냉각력을 상당히 증가시키는 것이 가능하고, 매우 높은 생산질을 보증할 수 있어서 결과적으로 생산 방법의 생산성을 상당히 증가시키는 것이 가능하다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 분출 노즐들은 분출 가스들의 충돌들이 상기 스트립의 가로 방향으로 스트립의 일 면 위에 겹쳐지는 방식으로 분배 챔버 위에 배열된다.
스트립의 일면 위의 분출 제트들의 충돌들이 스트립의 다른 면 위의 제트들의 충돌들에 대향하지 않지만 스트립의 각각의 면들 위의 제트들의 충돌들이 겹쳐지는 이러한 배열은 스트립의 이동 방향 내 제트 라인들로 알려지고 스트립의 가로 방향에서 서로 평행한 스트립 상의 결함들의 형성을 방지하는 이점을 가진다.
가스 제트들의 충돌들이 제트들의 라인을 형성하는 방식으로 배치된다면, 이러한 제트들의 라인들은 스트립이 뜨거운 공기와 같은 뜨거운 가스를 분출함으로써 가열될 때 산화 자국(trail)들에 의해 명백해진다. 용융 금속 배쓰 내 뜨거운 용융도금(hot dipping)에 의해 코팅된 스트립이 냉각될 때 그것들은 다른 표면 외관을 가지는 연속적인 코팅 라인들에 의해 스트립 상에서 명백히 나타난다. 예를 들어, 스트립의 주석도금의 경우에, 스트립의 단일 면 위의 충돌 제트들의 겹침을 포함하지 않는 냉각 장치 내 냉각 처리로부터 나오는 스트립은 광택이 나는 표면 외관을 가지는 연속적인 라인들 및 뿌연 표면 외관을 가지는 연속적인 라인들을 나타낸다.
이러한 제트 라인들의 형성을 방지하기 위해, 노즐들은 스트립의 면 위의 제트들의 충돌들이 각각이 스트립의 폭에 걸쳐 연장하는 다수의 라인들 위로 분포되도록 하는 방식으로 배열될 수 있으며, 각각의 라인은 주어진 직경(d)을 가지고 피치(p)에 의해 균일하게 분포된 다수의 충돌들을 포함하고, 두 개의 연속적인 라인들 또는 두 개의 연속적인 라인들의 그룹들의 충돌들은 다른 라인들로부터 기인하는 제트들의 라인들이 스트립의 전체 폭을 덮는 제트들의 라인들을 야기하는 방식으로 측면으로 오프셋된다.
도 12는 스트립의 전체 표면 위에 제트들의 작용의 양호한 균일성을 만드는 충돌들의 분포의 예를 도시한다.
본 도면은 스트립(300)의 면 위의 제트들의 충돌들에 의해 형성된 망상조직의 일부를 보여준다. 이러한 망상조직은 두 개의 그룹들로 나누어질 수 있는 충돌들의 네 개의 라인들을 포함하는 패턴에 의해 형성되고, 제1 그룹은 충돌들(301A 및 301B)의 두 개의 라인들을 포함하며, 제2 그룹은 충돌들(304A 및 304B)의 라인들을 포함한다. 각각의 라인(301A, 301B, 304A 및 304B)은, 피치(p)로 균일하게 분포된, 충돌들(302A, 302B, 305A 및 305B)을 포함한다. 각각의 그룹들에서, 제2 라인(301B 또는 304B)은, 한편으로 절반의 피치, 즉 p/2에 의한 측면 이동에 의해, 다른 한편으로는 길이(l)에 의한 길이방향 이동에 의해, 제1 라인(301A 또는 301B)으로부터 이어진다. 게다가, 라인들(305A 및 305B)를 포함하는 라인들의 제2 그룹은 충돌의 직경과 동일한 거리(d)에 의한 측면 이동에 의해 라인들(301A 및 301B)의 제1 그룹으로부터 이어진다. 이러한 배열로, 충돌들(302A 및 302B)의 경우의 스트립(303A, 303B), 및 충돌들(305A 및 305B)의 경우의 스트립(306A, 306B) 상의 충돌들에 의해 남겨진 자취들은 충돌의 직경이 단일 라인 위의 두 개의 인접한 충돌들을 분리하는 피치(p)의 1/4과 적어도 동일하게 연결된 스트립을 형성한다. 충돌들의 수가 증가되면, 망상조직은 두 개의 연속하는 라인들을 분리하는 거리(l)의 네 배와 동일한 길이에 의해 이동에 의해 기술되는 충돌의 분포를 재생산함으로써 연장될 수 있다. 따라서 망이 복잡한 다각형인 주기적인 망상조직이 얻어진다.
기술된 예에서, 네 개의 충돌들의 라인들은 충돌들의 자취로 스트립의 양호한 덮음을 제공하기 위해 이용된다. 그러나, 당업자는 다른 배열이 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 특히, 스트립의 단일 면 위의 분출 노즐들로부터 제트들의 충돌들이 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되어서 3과 20 사이의 측면들의 수를 가지고 스트립의 가로 방향으로 일 피치와 동일한 주기성을 가지며 스트립의 길이 방향으로 3과 20 피치들 사이인 복잡한 다각형 망을 형성한다면, 스트립의 양호한 덮음이 이루어질 수 있다. 이러한 분포는. 특히 분출 노즐로부터 제트의 충돌의 폭을 허용하면서 배치되어야 한다. 당업자는 그러한 적용이 어떻게 이루어지는지 인지한다.
이렇나 형태의 충돌들의 분포로, 본 발명자는 본 발명에 따른 냉각 모듈들에서 제트 라인들의 결점이 사라지는 것을 발견하였다.
2, 3 : 분출 모듈
4 : 스트립
23, 33 : 노즐
24, 34 : 충돌

Claims (23)

  1. 스트립의 면들(A,B)을 향해 연장하고 스트립의 각각의 면들(A,B) 위의 가스 또는 물/가스 혼합물의 제트들의 충돌들(24, 34)이 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되는 방식으로 배열된, 가스 또는 물/가스 혼합물의 다수의 제트들이 스트립의 각각의 면들(A,B) 위로 분무되고,
    스트립의 면들(A,B) 중 하나 위의 제트들의 충돌들(24)은 스트립의 면들(A,B) 중 다른 하나 위의 제트들의 충돌들(34)에 대향되지 않으며, 가스 또는 물/가스 혼합물의 제트들은 적어도 하나의 분배 챔버(21, 31)에 의해 공급되는 튜브 모양 노즐들(23, 33)로부터 나오고 노즐들의 헤드들은 스트립의 길이 방향에 평행하고 스트립의 길이 방향에 수직한 튜브 모양의 노즐들 사이에 반환 가스 또는 물/가스 혼합물의 흐름을 위한 자유로운 공간을 남겨두는 방식으로 분배 챔버로부터 떨어진 거리에서 연장하는, 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립(4)의 온도를 조절하기 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가스 또는 물/가스 혼합물의 제트들은 스트립의 면들(A,B)에 수직한 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    가스 또는 물/가스 혼합물의 적어도 하나의 제트의 축은 스트립의 면들(A,B)에 수직한(normal) 각도를 형성하는 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스트립의 각각의 면들(A,B) 위의 제트 충돌들의 이-차원 분포 망상조직들은 주기적이고, 동일 형태이며 동일 피치를 가지는 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    망상조직들은 육각 형태인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스트립의 면들(A,B) 중 하나에 대한 분출-제트들의 두 개의 인접한 충돌 자취들이 상기 스트립의 가로 방향 내에서 접촉하는 방식으로, 상기 스트립의 면들(A,B) 중 하나 위의 제트들의 충돌들은 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되어서, 3 내지 20 사이에 포함된 다수의 변(side)들을 가지며 스트립의 가로 방향으로 1 피치와 동일한 주기를 가지며 스트립의 길이 방향으로 3과 20 피치들 사이의 주기를 가지는 다각형 망을 형성하는 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  7. 제4항에 있어서,
    면들(A,B) 중 하나에 대응하는 망상조직 및 면들(A,B) 중 다른 하나에 대응하는 망상조직은 서로 오프셋(offset)되고, 상기 오프셋은 1/4 피치 및 3/4 피치 사이인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스는 냉각 가스인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스는 가열 가스인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐들의 길이는 20과 200mm 사이인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  11. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 방법을 수행하기 위한 장치에 있어서,
    스트립(4)의 이동 영역의 어느 한 쪽 측면 상에서 서로 대향되게 배열된 적어도 두 개의 분출 모듈들(2, 3)을 포함하고, 각각의 분출 모듈(2, 3)은 스트립의 이동 영역의 방향으로 적어도 하나의 분배 챔버(21, 31)로부터 연장하는 다수의 튜브 모양 노즐들(23, 33)을 포함하며, 상기 노즐들은 스트립의 각각의 면들(A, B) 위의 제트들의 충돌들(24, 34)이 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되는 방식으로 배열되고,
    면들(A,B) 중 하나 위의 제트 충돌들(24)이 면들(A,B) 중 다른 하나 위의 제트 충돌들(34)에 비대향 방식으로 분출 모듈들(2, 3)이 배치되고, 튜브 모양 노즐들(23, 33)의 헤드들은 스트립의 길이 방향에 평행하고 스트립의 길이 방향에 수직한 튜브 모양의 노즐들 사이에 반환 가스 또는 물/가스 혼합물의 흐름을 위한 자유로운 공간을 남겨두는 방식으로 분배 챔버(21, 31)로부터 떨어진 거리에서 연장하는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제트 충돌들이 분포되는 상기 이-차원 망상조직들은 동일한 형태 및 동일한 피치를 가지는 주기적인 망상조직들인 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 망상조직들은 육각 형태인 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제11항에 있어서,
    인접한 분출-제트 충돌 자취들이 상기 스트립의 가로 방향에서 스트립의 면들(A,B) 중 하나 위에 접하는 방식으로, 상기 스트립의 면들(A,B) 중 하나 위의 제트들의 충돌들은 이-차원 망상조직의 노드들에 분포되어서 3과 20 사이에 포함된 다수의 변(side)들을 가지며 스트립의 가로 방향으로 1 피치와 동일한 주기를 가지며 스트립의 길이 방향에서 3과 20 피치들 사이의 주기를 가지는 다각형 망을 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 분출 모듈들(2, 3)은 면들(A,B) 중 하나에 대응하는 망상조직과 면들(A,B) 중 다른 하나에 대응하는 망상조직이 서로 오프셋되는 방식으로 배치되고, 상기 오프셋은 1/4 피치와 3/4 피치 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 노즐들의 분출 축들은 상기 스트립(4)의 이동 평면에 수직인 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제11항에 있어서,
    적어도 하나의 노즐의 분출 축은 상기 스트립(4)의 이동 평면에 수직인(normal) 각도를 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 노즐들의 분출부들은 원형, 다각형, 타원형 또는 슬롯 형상의 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제11항에 있어서,
    상기 분출 모듈들은 가스 통풍관을 가지거나 가스 통풍관을 가지지 않는 형태인 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제11항에 있어서,
    각각의 분출 모듈(23)은 분출 노즐들(23, 33)이 위치하는 분배 챔버(21, 31)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 제6항에 있어서,
    면들(A,B) 중 하나에 대응하는 망상조직 및 면들(A,B) 중 다른 하나에 대응하는 망상조직은 서로 오프셋(offset)되고, 상기 오프셋은 1/4 피치 및 3/4 피치 사이인 것을 특징으로 하는 가스 또는 물/가스 혼합물을 분출하여 이동 스트립의 온도를 조절하기 위한 방법.
  22. 제14항에 있어서,
    상기 분출 모듈들(2, 3)은 면들(A,B) 중 하나에 대응하는 망상조직과 면들(A,B) 중 다른 하나에 대응하는 망상조직이 서로 오프셋되는 방식으로 배치되고, 상기 오프셋은 1/4 피치와 3/4 피치 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
  23. 제11항에 있어서,
    상기 노즐들의 길이는 20과 200mm 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
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