KR101367473B1 - 기판 지지대의 구조 및 플라즈마 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

벨로우즈의 부식, 벨로우즈로부터의 발진을 억제하는 동시에, 피구동 부분의 체적, 중량을 작게 한 기판 지지대의 구조 및 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 그로 인해, 플라즈마 처리 장치(10)에 있어서, 원통 형상의 내통(12), 벨로우즈(13), 외통(14) 및 피복 부재(15)를, 순차 내측으로부터 동심원 형상으로 배치하는 동시에, 구동 기구(24)에 의해 구동되는 구동 부재(21)를, 개구부(11b) 및 내통(12)의 내부를 통해, 적재대(16)의 이면에 장착한 기판 지지대의 구조로 하였다.

Description

기판 지지대의 구조 및 플라즈마 처리 장치{STRUCTURE OF SUBSTRATE SUPPORTING TABLE, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 상면에 기판을 지지하는 동시에 상하 이동 가능한 기판 지지대의 구조에 관한 것으로, 또한 그 기판 지지대의 구조를 갖는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.
진공하에서 원하는 처리를 실시하는 처리 장치에 있어서, 처리 대상인 기판의 위치를 변경 가능한 장치가, 종래 기술로서 알려져 있다(특허 문헌 1, 2). 예를 들어, 반도체 장치를 제조하기 위한 플라즈마 처리 장치, 구체적으로는 플라즈마 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치, 플라즈마 에칭 장치에서는, 플라즈마에 대한 기판의 위치를 조정 가능한 기판 지지대를 구비한 장치가 알려져 있다. 이러한 플라즈마 처리 장치에서는, 기판과 플라즈마 사이의 거리를 조절함으로써, 처리율, 면내 균일성, 플라즈마 손상을 원하는 상태로 조정 가능하고, 보다 자유도가 높은 플라즈마 처리 장치로 할 수 있다.
일본 특허 출원 공개 제2003-229408호 공보 일본 특허 출원 공개 제2003-289068호 공보
도 3에, 종래의 플라즈마 처리 장치의 단면도를 도시하고, 그 개략과 함께 문제점을 설명한다. 또한, 도 3에 있어서, 플라즈마 발생 기구, 가스 공급 기구, 진공 기구 등의 도시는 생략한다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 종래의 플라즈마 처리 장치(30)는, 진공 챔버(31)의 내부에 배치한 적재대(36) 상에 기판(37)을 적재하고, 진공 챔버(31) 내에 생성된 플라즈마(P)에 의해, 기판(37)에 원하는 플라즈마 처리를 실시하는 것이다. 플라즈마 처리시, 기판(37)의 위치는, 구동 기구(38)에 의해, 플라즈마(P)에 대해 조정 가능하게 되어 있다.
구동 기구(38)는, 구체적으로는 적재대(36)를 하부로부터 지지하는 구동 부재(34)와, 구동 부재(34)를 지지하는 구동판(33)과, 구동판(33)을 이동 가능하게 지지하는 복수의 볼 나사(35)를 갖고 있고, 볼 나사(35)를 회전시킴으로써, 구동판(33), 구동 부재(34), 적재대(36) 및 기판(37)을 상하 이동시켜, 그 결과, 플라즈마(P)에 대한 기판(37)의 위치를 조정하고 있다. 그리고 진공 챔버(31)의 저부와 구동판(33) 사이에는, 벨로우즈(32)가 설치되어 있고, 이 벨로우즈(32)에 의해, 진공 챔버(31) 내부를 진공으로 유지하는 동시에, 구동 기구(38)의 상하 이동을 가능하게 하고 있다.
종래의 플라즈마 처리 장치(30)는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 적재대(36)의 바로 아래의 위치에 벨로우즈(32)를 배치한 구조이지만, 이러한 구조에서는, 이하와 같은 문제가 있다.
(1) 벨로우즈는, 일반적으로는 스테인리스제인 것이 사용되지만, 고온의 상태에서 부식성 가스에 노출되면 부식이 진행되어 버려, 수명이 짧아지거나, 금속 오염의 원인으로 되어 버린다. 특히, 플라즈마 처리 장치에 있어서는, 적재대를 400℃ 정도의 고온으로 하는 것이 일반적이고, 에칭 가스(클리닝 가스)로서, NF3, CF4, SF6 등의 부식성 가스를 사용하고 있으므로, 부식되기 쉬운 환경하에서 벨로우즈가 사용되고 있다.
(2) 부식을 피하기 위해서는, 부식성 가스나 고온 부분으로부터 이격된 장소에 벨로우즈를 설치하면 된다. 그러나 적재대와 벨로우즈의 거리가 이격되어 있는 경우(도 3 참조), 구동 부분의 체적, 중량이 커져 버려, 구동 기구에 큰 부담이 걸리게 된다. 또한, 구동 부분의 체적, 중량이 커져 버리면, 메인터넌스시의 작업성을 악화시켜, 메인터넌스의 부담도 커져 버린다.
(3) 플라즈마 처리에 의한 생성물이 진공 챔버 내부의 구성 부품의 표면에 부착되지만, 벨로우즈 표면에 부착된 경우에는, 벨로우즈 자체의 신축에 의해, 부착된 생성물이 박리되어 파티클의 요인으로 된다.
본 발명은 상기 과제에 비추어 이루어진 것으로, 벨로우즈의 부식, 벨로우즈로부터의 발진을 억제하는 동시에, 피구동 부분의 체적, 중량을 작게 한 기판 지지대의 구조 및 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하는 제1 발명에 관한 기판 지지대의 구조는,
진공 용기 내에서 부식성 가스를 사용하는 처리 장치에 사용되고, 처리 대상인 기판의 위치를 변경하는 구동 기구를 구비한 기판 지지대의 구조이며,
상기 진공 용기의 내벽의 개구부의 주위에, 제1 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 원통 형상의 내통과,
상기 내통의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 내통의 타단부측에, 제2 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 벨로우즈와,
상기 벨로우즈의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 벨로우즈의 타단부측에, 제3 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 원통 형상의 외통과,
상기 외통의 타단부측의 개구부를 폐색하도록, 제4 시일 부재를 통해 장착되고, 상기 기판을 적재하는 원반 형상의 적재대와,
상기 외통 전체면을 덮도록, 상기 외통과 밀접하게 설치되고, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 피복 부재와,
상기 개구부 및 상기 내통의 내부를 통해, 상기 적재대의 이면에 장착되고, 상기 구동 기구에 의해 구동되는 구동 부재를 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 과제를 해결하는 제2 발명에 관한 기판 지지대의 구조는,
진공 용기 내에서 부식성 가스를 사용하는 처리 장치에 사용되고, 처리 대상인 기판의 위치를 변경하는 구동 기구를 구비한 기판 지지대의 구조이며,
상기 진공 용기의 저부의 개구부의 주위에, 제1 시일 부재를 통해 하단부측이 장착된 원통 형상의 내통과,
상기 내통의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 내통의 상단부측에, 제2 시일 부재를 통해 상단부측이 장착된 벨로우즈와,
상기 벨로우즈의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 벨로우즈의 하단부측에, 제3 시일 부재를 통해 하단부측이 장착된 원통 형상의 외통과,
상기 외통의 상단부측의 개구부를 폐색하도록, 제4 시일 부재를 통해 장착되고, 상기 기판을 적재하는 원반 형상의 적재대와,
상기 외통 전체면을 덮도록, 상기 외통과 밀접하게 설치되고, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 원통 형상의 피복 부재와,
상기 개구부 및 상기 내통의 내부를 통해, 상기 적재대의 이면에 장착되고, 상기 구동 기구에 의해 구동되는 구동 부재를 갖는 것을 특징으로 한다.
즉, 상기 제1, 제2 발명에 기재된 기판 지지대의 구조로 함으로써, 진공 용기측의 진공은 유지하면서, 원통 형상의 내통, 벨로우즈, 외통 및 피복 부재를, 순차 내측으로부터 동심원 형상으로 배치하게 된다. 그리고 구동 부재에 의해 구동되는 피구동 부분은, 벨로우즈와 적재대 사이의 부재, 즉, 벨로우즈, 외통, 피복 부재 및 적재대만이 구동되게 된다.
상기 과제를 해결하는 제3 발명에 관한 기판 지지대의 구조는,
상기 제1, 제2 발명에 기재된 기판 지지대의 구조에 있어서,
상기 제2 시일 부재 대신에 상기 내통과 상기 벨로우즈 사이를 용착하거나, 상기 제3 시일 부재 대신에 상기 벨로우즈와 상기 외통 사이를 용착하거나, 적어도 한쪽을 용착한 것을 특징으로 한다.
상기 과제를 해결하는 제4 발명에 관한 기판 지지대의 구조는,
상기 제1 내지 제3 중 어느 하나의 발명에 기재된 기판 지지대의 구조에 있어서,
부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 원통 형상의 외장 부재를, 상기 피복 부재의 외주측에 상기 피복 부재 전체면을 덮도록 더 설치한 것을 특징으로 한다.
상기 과제를 해결하는 제5 발명에 관한 기판 지지대의 구조는,
상기 제1 내지 제4 중 어느 하나의 발명에 기재된 기판 지지대의 구조에 있어서,
상기 처리 장치를 플라즈마 처리 장치로 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 과제를 해결하는 제6 발명에 관한 플라즈마 처리 장치는,
상기 제1 내지 제4 중 어느 하나의 발명에 기재된 기판 지지대의 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.
제1 내지 제3 발명에 따르면, 내통, 벨로우즈, 외통 및 피복 부재를, 순차 내측으로부터 동심원 형상으로 배치하였으므로, 벨로우즈가 외통 및 피복 부재에 보호되어, 부식성 가스에 노출되기 어려워지므로, 벨로우즈의 부식을 억제할 수 있고, 부식에 의한 금속 오염도 억제할 수 있다. 특히, 적재대를 고온, 예를 들어 400℃로 온도 제어하는 경우에는, 벨로우즈의 고온 부식의 우려가 있었지만, 적재대와 벨로우즈 사이에 외통 및 피복 부재가 존재하여, 벨로우즈 자체의 온도는 고온으로는 되지 않으므로, 고온 부식도 억제할 수 있고, 고온 부식에 의한 금속 오염도 억제할 수 있다. 또한, 구동 부재에 의해 구동되는 피구동 부분은, 벨로우즈, 외통, 피복 부재 및 적재대만으로 되므로, 종래와 비교하여, 피구동 부분의 체적, 중량을 작게 할 수 있어, 벨로우즈나 구동 기구에의 부담을 작게 할 수 있다. 또한, 구동 기구에 문제가 발생하여, 적재대 이면의 대기에 의해, 적재대가 진공측으로 밀리는 경우에는, 벨로우즈는 수축되는 방향으로 변화되므로, 벨로우즈가 신장되어 파단되는 일은 없어, 장치의 안전성을 유지할 수 있다. 이상의 점에서, 기판 지지대의 구조의 성능, 신뢰성의 향상을 도모할 수 있다.
제4 발명에 따르면, 피복 부재의 외주측에 부식 내성이 있는 외장 부재를 더 설치하였으므로, 벨로우즈의 부식을 더욱 억제할 수 있다.
제5, 제6 발명에 따르면, 플라즈마 처리 장치에 제1 내지 제4 발명에 기재된 기판 지지대의 구조를 적용함으로써, 외통, 피복 부재 등의 내측에 보호된 벨로우즈의 표면에는, 플라즈마 처리에 의한 생성물이 부착되기 어려워지므로, 벨로우즈가 신축되어도, 파티클 자체의 발생이 적어진다.
도 1은 본 발명에 관한 기판 지지대의 구조의 실시 형태의 일례를 도시하는 단면도로, 플라즈마 CVD 장치에 있어서, 하방의 위치로 이동한 기판 지지대를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명에 관한 기판 지지대의 구조의 실시 형태의 일례를 도시하는 단면도로, 플라즈마 CVD 장치에 있어서, 상방의 위치로 이동한 기판 지지대를 도시하는 도면이다.
도 3은 종래의 플라즈마 처리 장치의 단면도이다.
본 발명에 관한 기판 지지대의 구조의 실시 형태예에 대해, 도 1 내지 도 2를 참조하여, 그 설명을 행한다. 또한, 여기서는, 일례로서, 플라즈마 CVD 장치를 예시하지만, 플라즈마 CVD 장치에 한정되지 않고, 플라즈마 에칭 장치에도 적용 가능하며, 나아가서는 진공 용기 내에서 처리 대상물을 지지하는 지지대를 이동시키는 동시에, 당해 진공 용기 내에서 부식성 가스를 사용하는 처리 장치이면, 다른 장치에도 적용 가능하다.
(제1 실시예)
도 1, 도 2는, 본 발명에 관한 기판 지지대의 구조의 실시 형태의 일례를 도시하는 단면도로, 도 1은 플라즈마 CVD 장치에 있어서, 하방의 위치에 있는 기판 지지대를 도시하고, 도 2는 상방의 위치에 있는 기판 지지대를 도시하고 있다. 또한, 도 1, 도 2에 있어서, 플라즈마 발생 기구, 가스 공급 기구, 진공 기구 등의 도시는 생략하고 있다.
본 실시예에 있어서, 플라즈마 처리 장치(10)는 내부가 진공으로 되는 진공 챔버(진공 용기)(11)와, 진공 챔버(11)의 내부에 배치되고, 기판(17)을 적재하는 원반 형상의 적재대(16)를 갖고 있다.
그리고 적재대(16)는 이하의 지지 구조에 의해 지지되어 있다. 구체적으로는, 진공 챔버(11)의 내벽[일실시예로서, 저부(11a)]의 개구부(11b)의 주위에, 일단부측(일실시예로서, 하단부측)으로 되는 하부 플랜지(12a)가 장착된 원통 형상의 내통(12)과, 내통(12)의 외주측에 배치되는 동시에, 내통(12)의 타단부측(일실시예로서, 상단부측)의 외주면에, 일단부측(일실시예로서, 상단부측)으로 되는 상부 플랜지(13a)가 장착된 벨로우즈(13)와, 벨로우즈(13)의 외주측에 배치되는 동시에, 벨로우즈(13)의 타단부측(일실시예로서, 하단부측)으로 되는 하부 플랜지(13b)에, 일단부측(일실시예로서, 하단부측)이 장착된 원통 형상의 외통(14)을 갖고, 외통(14)의 타단부측(일실시예로서, 상단부측)의 개구부를 폐색하도록 적재대(16)가 상부 플랜지(14a)에 장착되어 있다. 또한, 외통(14)의 외주에는, 외통(14)의 전체면을 덮도록 외주면에 밀접시킨 커버 부재(15)(피복 부재)가 설치되어 있다. 즉, 적재대(16)의 바로 아래에 있어서, 내통(12)이 최내주측에 배치되어 있고, 서로 직경의 다른 원통 형상의 내통(12), 벨로우즈(13), 외통(14) 및 커버 부재(15)가, 순차 내측으로부터 동심원 형상으로 설치된 구조로 되어 있다.
또한, 저부(11a)와 하부 플랜지(12a) 사이는, O링 등의 시일 부재(제1 시일 부재)를 통해 장착되어 있다. 마찬가지로, 내통(12)과 상부 플랜지(13a) 사이는, O링 등의 시일 부재(제2 시일 부재)를 통해, 또한 하부 플랜지(13b)와 외통(14) 사이는, O링 등의 시일 부재(제3 시일 부재)를 통해, 또한 상부 플랜지(14a)와 적재대(16) 사이는, O링 등의 시일 부재(제4 시일 부재)를 통해 장착되어 있다. 즉, 진공 챔버(11), 내통(12), 벨로우즈(13), 외통(14), 적재대(16)끼리의 사이는, 시일 부재를 통해 장착되어 있고, 이러한 구성에 의해, 진공 챔버(11) 내부를 진공으로 유지하면서, 후술하는 구동 기구(24)에 의한 상하 이동을 가능하게 하고 있다. 또한, 내통(12), 벨로우즈(13) 및 외통(14)에 있어서는, 내통(12)과 벨로우즈(13) 사이, 벨로우즈(13)와 외통(14) 사이 중 적어도 한쪽을, 누설이 없도록 용접에 의해 용착하고 일체화시켜 진공을 유지하는 구성으로 해도 된다.
또한, 내통(12), 벨로우즈(13) 및 외통(14) 중 적어도 외통(14)은, 고온하에서도 적재대(16)를 지지하는 구조를 유지하기 위해, 비교적 융점이 높은 금속 또는 합금, 예를 들어 스테인리스제 등으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 커버 부재(15)는 부식성 가스에 의한 외통(14)의 고온 부식을 피하기 위해, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지고, 예를 들어 표면을 알루마이트 가공한 알루미늄, 또는 고순도 알루미나 등의 세라믹스로 형성되어 있다. 특히, 적재대(16)는 400℃ 정도의 고온으로 설정되는 경우가 있으므로, 적재대(16)와 직접 접하고 있는 상부 플랜지(14a)의 부분은, 간극 없이, 커버 부재(15)를 밀착시키는 것이 바람직하다. 예를 들어, 도 1, 도 2에 도시하는 바와 같이, 상부 플랜지(14a)가 외주측으로 돌출되어 있는 경우에는, 커버 부재(15)의 상단부(15a)도, 그 형상을 따라서 형성하여, 간극 없이 밀착하도록 하고 있다. 이 결과, 외통(14)이 부식성 가스에 가능한 한 노출되지 않도록 할 수 있다.
또한, 커버 부재(15)의 더욱 외주측에, 커버 부재(15)의 전체면을 덮도록, 원통 형상의 스커트 부재(외장 부재)(18)를 설치하도록 해도 된다. 이 스커트 부재(18)는, 커버 부재(15)와 마찬가지로, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지고, 예를 들어 표면을 알루마이트 가공한 알루미늄, 또는 고순도 알루미나 등의 세라믹스로 형성되어 있다. 스커트 부재(18)를 설치함으로써, 그 외주측을 흐르는 가스를 정류하는 동시에, 외통(14), 벨로우즈(13) 및 내통(12)측으로의 가스의 진입을 방지하고 있고, 그 결과, 외통(14), 벨로우즈(13) 및 내통(12)의 부식을 방지하여, 부식에 의한 금속 오염을 방지하는 동시에, 그들의 제품 수명을 길게 하고 있다.
또한, 적재대(16)는 구동 기구(24)에 의해 상하 이동 가능하게 되어 있다. 구동 기구(24)는, 구체적으로는 개구부(11b) 및 내통(12)의 내부를 통해, 적재대(16)의 이면에 장착된 구동 부재(21)와, 구동 부재(21)를 지지하는 구동판(22)과, 구동판(22)을 이동 가능하게 지지하는 복수의 볼 나사(23)를 갖고 있고, 볼 나사(23)를 회전시킴으로써, 구동판(22), 구동 부재(21), 적재대(16) 및 기판(17)을 상하 이동시켜, 기판(17)의 위치를 변경시키고 있다.
기판(17)을 적재대(16) 상에 적재하는 경우에는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 적재대(16)는 하방의 위치에 배치되고, 도시하지 않은 로봇 아암을 사용하여, 게이트 도어(20)를 통해 적재된다. 한편, 적재대(16) 상에 적재한 기판(17)에 플라즈마 처리를 실시하는 경우에는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 적재대(16)는 상방의 위치에 배치되어, 플라즈마(P)에 대한 위치를 조정함으로써, 원하는 프로세스 결과가 얻어지는 플라즈마 처리를 행하게 된다.
상술한 구조로 함으로써, 적재대(16)를 400℃ 정도로 가열해도, 외통(14)은 커버 부재(15)에 보호되어 있어, 고온 부분이 부식성 가스에 노출될 가능성이 작아져, 고온 부식이 억제된다. 또한, 벨로우즈(13), 그리고 내통(12)은, 적재대(16)로부터의 거리가 멀어 열전도되기 어렵기 때문에, 고온으로 되는 일이 없고, 만일 부식성 가스에 노출되었다고 해도 고온 부식이 억제되게 된다. 따라서, 금속제 부재인 내통(12), 벨로우즈(13) 및 외통(14)에 있어서, 그들 부재의 고온 부식이 억제되어, 그들의 부재의 제품 수명이 길어지는 동시에, 그들 부재로부터의 금속 오염을 억제할 수 있다.
또한, 상술한 구조로 함으로써, 기판(17)의 반송시에 신장되어 있는 벨로우즈(13)는, 기판(17)에의 플라즈마 처리시에는 수축되어 있으므로, 벨로우즈(13)의 표면에 부착되는 생성물이나 부생성물이 적어진다. 특히, 플라즈마 CVD 장치의 경우에는, 벨로우즈(13)의 표면에의 성막이 적어지므로, 성막된 박막의 막 박리의 요인으로 되는 파티클의 발생이 적어진다.
또한, 상술한 구조로 함으로써, 적재대(16)의 이면을 대기압으로 할 수 있다. 플라즈마 처리 장치의 경우, 기판(17)을 정전 흡착하는 정전 흡착용 전극, 기판(17)에 바이어스를 인가하기 위한 바이어스용 전극, 기판(17)을 가열하기 위한 히터, 기판(17)의 온도 제어용 냉매를 위한 유로, 기판(17) 및 적재대(16)의 온도를 검출하는 온도 센서 등의 다종 다양한 것이, 적재대(16)에 설치되어 있다. 이것에의 접속 부분을 대기압으로 함으로써, 정전 흡착용 전극, 바이어스용 전극 및 히터 등의 고전압 인가 부분에 대해서는, 방전을 방지할 수 있다. 또한, 유로의 접속 부분에 대해서는, 가령 냉매의 누설이 있었다고 해도 대기측으로 누설되므로, 진공 챔버(11)측을 오염시키는 일은 없다.
또한, 상술한 구조로 함으로써, 벨로우즈(13)의 상부 플랜지(13a)를 경계로 하여, 적재대(16)측만을 상하 이동시키고, 내통(12)측은 고정하고 있으므로, 진공 챔버(11) 내부에서의 피구동 부분의 체적, 중량을 작게 하여, 구동 기구(24)에의 부담을 작게 할 수 있다. 또한, 구동 기구(24)의 고장 등에 의해, 가령 대기압에 의한 압력이 적재대(16)의 이면에 작용하였다고 해도, 그 경우에는, 벨로우즈(13)를 수축시키는 방향으로 움직이므로, 신장되는 방향과 비교하여 안전한 상태이며, 벨로우즈(13)가 파단되거나 하는 일은 없다.
본 발명은, 반도체 장치의 제조에 사용하는 플라즈마 CVD 장치나 플라즈마 에칭 장치 등의 플라즈마 처리 장치에 적합한 것이지만, 진공 용기 내의 구동 부분에 벨로우즈를 사용하는 동시에, 벨로우즈에 대해 부식성이 있는 가스를 진공 용기 내에서 사용하는 장치이면, 반도체 장치의 제조에 한정되지 않고, 다른 것을 제조하는 장치에도 적용 가능하다.
10 : 플라즈마 CVD 장치
11 : 진공 챔버
12 : 내통
13 : 벨로우즈
14 : 외통
15 : 커버 부재
16 : 적재대
17 : 기판
18 : 스커트 부재
20 : 게이트 도어
21 : 지지통
22 : 구동판
23 : 볼 나사

Claims (6)

  1. 진공 용기 내에서 부식성 가스를 사용하는 처리 장치에 사용되고, 처리 대상인 기판의 위치를 변경하는 구동 기구를 구비한 기판 지지대의 구조이며,
    상기 진공 용기의 내벽의 개구부의 주위에, 제1 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 원통 형상의 내통과,
    상기 내통의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 내통의 타단부측에, 제2 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 벨로우즈와,
    상기 벨로우즈의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 벨로우즈의 타단부측에, 제3 시일 부재를 통해 일단부측이 장착된 원통 형상의 외통과,
    상기 외통의 타단부측의 개구부를 폐색하도록, 제4 시일 부재를 통해 장착되고, 상기 기판을 적재하는 원반 형상의 적재대와,
    상기 외통 전체면을 덮도록, 상기 외통과 밀접하게 설치되고, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 피복 부재와,
    상기 개구부 및 상기 내통의 내부를 통해, 상기 적재대의 이면에 장착되고, 상기 구동 기구에 의해 구동되는 구동 부재를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 지지대의 구조.
  2. 진공 용기 내에서 부식성 가스를 사용하는 처리 장치에 사용되고, 처리 대상인 기판의 위치를 변경하는 구동 기구를 구비한 기판 지지대의 구조이며,
    상기 진공 용기의 저부의 개구부의 주위에, 제1 시일 부재를 통해 하단부측이 장착된 원통 형상의 내통과,
    상기 내통의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 내통의 상단부측에, 제2 시일 부재를 통해 상단부측이 장착된 벨로우즈와,
    상기 벨로우즈의 외주측에 배치되는 동시에, 상기 벨로우즈의 하단부측에, 제3 시일 부재를 통해 하단부측이 장착된 원통 형상의 외통과,
    상기 외통의 상단부측의 개구부를 폐색하도록, 제4 시일 부재를 통해 장착되고, 상기 기판을 적재하는 원반 형상의 적재대와,
    상기 외통 전체면을 덮도록, 상기 외통과 밀접하게 설치되고, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 원통 형상의 피복 부재와,
    상기 개구부 및 상기 내통의 내부를 통해, 상기 적재대의 이면에 장착되고, 상기 구동 기구에 의해 구동되는 구동 부재를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 지지대의 구조.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 시일 부재 대신에 상기 내통과 상기 벨로우즈 사이를 용착하거나, 상기 제3 시일 부재 대신에 상기 벨로우즈와 상기 외통 사이를 용착하거나, 적어도 한쪽을 용착한 것을 특징으로 하는, 기판 지지대의 구조.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 부식 내성이 있는 재료로 이루어지는 원통 형상의 외장 부재를, 상기 피복 부재의 외주측에 상기 피복 부재 전체면을 덮도록 더 설치한 것을 특징으로 하는, 기판 지지대의 구조.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리 장치를 플라즈마 처리 장치로 하는 것을 특징으로 하는, 기판 지지대의 구조.
  6. 제1항 또는 제2항에 기재된 기판 지지대의 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 처리 장치.
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