KR101354657B1 - 유리기판 열처리용 세터 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은, 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하여도 쉽게 변형되지 않는 유리기판 열처리용 세터를 제공하는 데 있다. 본 발명의 유리기판 열처리용 세터는, 세라믹 소결체로 이루어진 유리기판 열처리용 세터에 있어서, 세라믹 소결체는, 600℃에서의 열처리 후의 흡수율(吸水率)이 0∼0.14질량％임을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 유리기판 열처리용 세터의 제조방법은, 원료분말을 소결시킴으로써 원판을 제작하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법에 있어서, 원료분말이, 결정분말 및/또는 결정화 유리분말과, 프릿분말을 함유하며, 결정분말 또는 결정화 유리분말과, 프릿분말과의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K 이하임을 특징으로 한다.

Description

유리기판 열처리용 세터{SETTER FOR HEAT TREATMENT OF GLASS SUBSTRATE}
본 발명은, 대형 유리기판 열처리용 세터에 관한 것이며, 특히 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라 함) 등에 사용되는 대형 유리기판을, 재치면(載置面)에 직접 올려놓고 가열로에 도입하는 평판형상의 유리기판 열처리용 세터에 관한 것이다.
최근, 표시장치의 다양화가 진행되는 가운데, CRT를 대신하여 대화면의 평면 디스플레이가 표시장치의 주류가 되고 있다. 그 대표격인 PDP는, 전면과 후면에 2장의 유리기판을 대향되게 배치하고, 상하가 양 유리기판에 의해, 그리고 측방이 격벽에 의해 끼워진 100∼150㎛의 셀에 He, Ne 등의 희가스를 봉입하고 전압을 인가함으로써 가스방전시켜 문자나 화상을 표시하는 것으로서, 표시화면의 크기에 비해 박형인 것을 특징으로 한다. 예컨대, 표시화면이 42인치인 PDP 모듈은, 세로 520㎜, 가로 920㎜, 안길이 50㎜ 정도의 직사각형 패널이다.
PDP용 유리기판에는, 일반적으로 3㎜에 약간 모자라는 두께인 평판형상의 소다라임계 유리나 변형점이 높은 유리가 이용되며, 상기 유리기판 상에 전극, 유전체, 형광체 등을 형성하기 위해 페이스트가 도포된다. 도포된 페이스트를 유리기판에 정착시키기 위해, 유리기판은 열처리용 세터 상에 놓여지며, 롤러하스킬른 등 의 가열로를 통해 450∼650℃의 온도영역에서 열처리가 실시된다.
상기 유리기판 열처리용 세터로서, 예컨대, SiO2, Al2O3, Li2O, P2O5, TiO2, ZrO2를 주성분으로 하고, 열팽창계수가 15×10-7/K 이하인 결정화 유리로 이루어지며, 재치면의 평탄도가 0.3％이하이고, 또한 재치면의 표면조도가 Ra값으로 0.1∼1㎛의 범위에 있는 세터가 개시되어 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
또한, 다른 열처리용 세터로서, 결정상으로서 β-스포듀민 고용체(固溶體)를 함유하는 Li2O-Al2O3-SiO2계 결정화 유리판으로 이루어지며, 유리기판을 올려놓는 면의 표면적이 14000㎠이상인 세터가 개시되어 있다(예컨대, 특허문헌 2 참조).
또 다른 열처리용 세터로서는, 표면의 광택도가 5도 이상이며, 페탈라이트(Li2O·Al2O3·8SiO2)계 세라믹스, β-스포듀민(Li2O·Al2O3·4SiO2)계 세라믹스 또는 β-유크립타이트(Li2O·Al2O3·2SiO2)계 세라믹스로 이루어진 세터가 개시되어 있다(예컨대, 특허문헌 3 참조).
또한, 특허문헌 4 및 5에는, 열팽창율이 낮은 세라믹스 및 그 제조방법이 개시되어 있다.
[특허문헌 1] 일본국 특허공개공보 제2002-114537호
[특허문헌 2] 일본국 특허공개공보 제2004-192205호
[특허문헌 3] 일본국 특허공개공보 제2005-180743호
[특허문헌 4] 일본국 특허공개공보 H9-30860호
[특허문헌 5] 일본국 특허공개공보 H4-130053호
상기한 특허문헌 3에 기재된 열처리용 세터는, 상술한 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하면 세터가 파손되기 쉬워진다는 문제점을 가지고 있었다. 즉, 이와 같은 세터를 이용하여, 롤러하스킬른에서 열처리를 수행하면, 최악의 경우, 세터가 파손되어 롤러 간에 세터가 떨어져 들어가거나, 파손된 세터에 의해 롤러가 절손되어, 소성로를 정지시켜야 하는 사태로 빠지게 될 우려가 있었다.
본 발명은, 상기와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하더라도 쉽게 파손되지 않는 유리기판 열처리용 세터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기의 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 흡수율(吸水率)이 낮은 세라믹스계 세터를 사용함으로써, 450∼650℃라는 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하여도 쉽게 파손되지 않게 됨을 발견하고, 본 발명으로서 제안하는 것이다.
즉, 본 발명의 유리기판 열처리용 세터는, 세라믹 소결체로 이루어진 유리기판 열처리용 세터에 있어서, 세라믹 소결체는 600℃에서의 열처리 후의 흡수율이 0∼0.14질량％인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 유리기판 열처리용 세터의 제조방법은, 원료분말을 소결시킴으로써 원판을 제작하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법에 있어서, 원료분말이, 결정분말 및/또는 결정화 유리분말과, 프릿분말을 함유하며, 결정분말 또는 결정화 유리분말과, 프릿분말과의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K 이하인 것을 특징으로 한다.
(발명의 효과)
본 발명의 유리기판 열처리용 세터는, 세라믹 소결체로 이루어진 유리기판 열처리용 세터에 있어서, 세라믹 소결체는, 600℃에서의 열처리 후의 흡수율(吸水率)이 0∼0.14질량％이기 때문에, 450∼650℃라는 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하여도 쉽게 파손되지 않게 된다. 즉, 흡수율은, 세라믹 소결체에 있어서의 크랙 등의 결함의 양을 나타내며, 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하더라도, 크랙 등의 결함이 적기 때문에, 기계적 강도가 쉽게 저하되지 않으며, 구체적으로는, 600℃에서의 열처리 후의 기계적 강도가 80㎫ 이상이기 때문에, 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하여도 쉽게 파손되지 않게 된다. 또한, 재치면의 표면조도가 Ra값으로 0.1∼3㎛가 되도록 세라믹 소결체의 표면을 습식연마하는데, 흡수율이 낮으면, 연마 후의 세정 시에 연마제가 남기 어려워서, 연마 후의 건조시간을 단축시킬 수 있다. 흡수율의 바람직한 범위는 0∼0.1질량％이며, 보다 바람직한 범위는 0∼0.07질량％이다.
상기한 구성에서, 세라믹 소결체는, 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수가 -20∼20×10-7/K인 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하였을 때 발생하는 휨 변형을 억제할 수 있다. 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 바람직한 범위는, -10∼10×10-7/K이다.
상기한 구성에서, 세라믹 소결체는, 주 결정으로서 페탈라이트, β-유크립타이트, β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체), β-스포듀민 및 β-스포듀민 고용체의 군으로부터 선택된 1종류 또는 2종류 이상의 결정을 함유하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 세라믹 소결체의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수가 -20∼20×10-7/K로 되기 쉽다.
또한, 유리기판을 올려놓는 면(재치면)의 면적이 8500㎠이상인 대형 세터의 경우, 열처리시의 파손이 발생하기 쉽기 때문에, 상기한 구성으로 함에 따른 효과가 한층 커진다. 또한, 유리기판의 두께가 2㎜이하인 경우에도, 열처리시의 세터의 파손이 더욱 발생하기 쉽기 때문에, 상기한 구성으로 함에 따른 효과가 한층 더 커진다.
또한, 본 발명의 유리기판 열처리용 세터의 제조방법은, 원료분말을 소결시킴으로써 원판을 제작하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법에 있어서, 원료분말이, 결정분말 및/또는 결정화 유리분말과, 프릿분말을 함유하며, 결정분말 또는 결정화 유리분말과, 프릿분말과의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K 이하이기 때문에, 결정과 매트릭스 유리와의 경계 근방에서 응력이 발생하기 어렵고, 600℃에서의 열처리 후의 크랙 등의 결함이 적으며, 450∼650℃라는 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하여도 쉽게 파손되지 않게 된다. 결정분말 또는 결정화 유리분말과, 프릿분말과의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 차이는 30×10-7/K 이하인 것이 바람직하다.
상기한 구성에 있어서, 원료분말 이외에 벤토나이트, 카올린 등의 점토광물을 포함하는 가소제를 5∼15질량％ 첨가하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 프레스 성형 등의 성형방법의 경우, 성형성이 향상되는데, 15질량％보다 많이 첨가하면, 세터의 열팽창계수를 높이고, 내열충격성을 저하시키기 때문에 바람직하지 않다.
상기한 구성에서, 프릿분말의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수는, 50×10-7/K 이하인 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, Li2O-Al2O3-SiO2계 결정을 주 결정으로서 함유하는 경우, Li2O-Al2O3-SiO2계 결정과 매트릭스 유리상(相)과의 열팽창계수 차이가 작아져 유리기판의 열처리 온도영역에서 반복적으로 사용하더라도, 크랙 등의 결함이 발생하기 어려우며, 기계적 강도의 저하를 억제할 수 있다. 프릿분말의 30∼600℃에 있어서의 평균 열팽창계수의 바람직한 범위는, 20∼40×10-7/K이다.
상기한 구성에서, 원료분말이, 결정분말 및/또는 결정화 유리분말을 50∼90질량％ 함유하는 것이 바람직하다. 상기 분말이 50질량％보다 적으면 세터의 내열성이 저하되고, 90질량％보다 많으면 소결되기 어려워져, 충분한 기계적 강도를 얻기 어려워진다.
상기한 구성에 있어서, 결정분말은, 페탈라이트, β-유크립타이트, β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체), β-스포듀민 및 β-스포듀민 고용체의 군으로부터 선택된 1종류 또는 2종류 이상의 결정분말로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 결정화 유리분말은, 결정상으로서 β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체) 또는 β-스포듀민 고용체를 함유하는 것이 바람직하다.
프릿분말은, 비정질 유리분말 및/또는 결정성 유리분말을 포함하는 것이 바람직하다.
예컨대, 비정질 유리분말은, 질량 백분율로, SiO2 50∼70％, Al2O3 10∼25％, B2O3 3∼20％, MgO 0∼8％, CaO 0.1∼12％, SrO 0∼7％, BaO 0∼7％, ZnO 0∼10％, As2O3 0∼0.5％, SnO2 0.05∼1％, Sb2O3 0.05∼5％의 조성을 가지는 유리로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 결정성 유리분말은, 질량 백분율로, SiO2 55∼70％, Al2O3 15∼30％, Li2O 2.5∼6％, ZnO 0∼0.9％, BaO 0∼0.9％, TiO2 1.3∼2.9％, ZrO2 0.5∼4％, P2O5 0∼5％, MgO 0∼0.9％, Na2O 0∼4％, K2O 0∼4％의 조성을 가지며, 열처리하면 주결정으로서 β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체) 또는 β-스포듀민 고용체를 석출하는 유리로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 프릿분말로서 결정성 유리분말을 사용하는 경우, 그 열팽창계수는, 결정화 전의 열팽창계수를 나타낸다.
이하에서는, 본 발명의 유리기판 열처리용 세터를, 실시예를 이용하여 상세하게 설명한다.
표 1은 본 발명의 실시예 1∼7을, 표 2는 비교예 1∼3을 나타내고 있다. 또한, 표 3은 실시예 및 비교예의 프릿 A∼D의 분말 조성을 나타낸 것이다.
Figure 112008086992433-pct00001
Figure 112008086992433-pct00002
Figure 112008086992433-pct00003
표 1 및 2에 나타낸 조성이 되도록, 원료분말을 볼 밀에 투입하고, 분쇄조제로서의 물을 분말질량에 대해 0.1％ 첨가하여 평균입자 직경이 5㎛가 되도록 분쇄혼합하였다. 이어서, 분쇄혼합된 원료분말을, 건식 프레스기에서 프레스하여 압분체(壓粉體)를 제작한 후, 표 1 및 2에 나타낸 소성온도에서 3시간 동안 소성하여(온도승강속도는 120℃/시간), 실시예 1∼7 및 비교예 1∼3의 세라믹 소결체를 제작하였다.
또한, 원료분말 중의 결정분말로서, 페탈라이트 분말(비키타: 짐바브웨, 닛토산교가부시키가이샤, 80메시), 스포듀민 분말(호주, SONG OF GWALLIA LTD, Spodumene Concentrate)을 사용하고, 가소제로서 벤토나이트(시마네켄 이즈모시 생산, 카사넨고교가부시키가이샤, 상품명: 이즈모 벤토나이트, 300메시, 팽윤도: 4.5∼5.0)를 사용하였다. 상기 페탈라이트 분말의 평균 열팽창계수는, 30∼600℃에서 20×10-7/K이며, 스포듀민 분말의 평균 열팽창계수는, 30∼600℃에서 10×10-7/K였다.
또한, 프릿 A∼D는, 표 3에 나타낸 조성이 되도록, 조합한 원료 배치를, 1500℃∼1650℃에서 12시간 용융한 후, 필름형상으로 성형하고, 그 필름을 볼 밀에 의해 건식 분쇄하여 제작하였다. 또한, 프릿 A, C 및 D는, 비정질 유리로 이루어지고, 프릿 B는, 열처리하면 β-스포듀민 고용체를 석출하는 결정성 유리로 이루어지며, 이 결정성 유리를 1150℃로 열처리한 후의 평균 열팽창계수는 30∼600℃에서 12×10-7/K였다.
이어서, 실시예 1∼7 및 비교예 1∼3의 세라믹 소결체를 600℃로 1시간 동안 열처리하였다. 참고로, 본 열처리에 있어서의 온도승강속도는, 300℃/시간으로 하였다.
상기 세라믹 소결체 및 프릿의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수는, 팽창계(dilatometer; Bruker ASX사 제조)를 이용하여 측정하였다.
열처리 전과 열처리 후의 기계적 강도는, JIS R 1601(파인 세라믹스의 굽힘강도시험방법)에 따라, 3점 굽힘강도로 평가하였다.
열처리 후의 흡수율(吸水率)은, JIS A 5209(도자기질 타일)의 흡수시험(7.6항)에 기재된 방법에 따라 구하였다.
표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼7은, 결정분말과 프릿분말의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K이하이며, 열처리 후의 흡수율이 0.14질량％이하였기 때문에, 기계적 강도는, 열처리 전후에 있어서 거의 변화가 없었다.
한편, 표 2에 나타낸 바와 같이, 비교예 1∼3은, 결정분말과 프릿분말의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K보다도 크고, 열처리 후의 흡수율이 0.14질량％보다도 높았기 때문에, 열처리 후에 기계적 강도가 저하되었다.
본 발명을 특정한 양태를 참조하면서 상세히 설명하였으나, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않는 한 여러 가지로 변경 및 수정이 가능함은, 당업자에게 명백하다.
또한, 본 출원은, 2006년 7월 10일자로 출원된 일본 특허출원(일본특허출원 2006-188856호)에 기초한 것이며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한, 여기에 인용되는 모든 참조는 전체적으로 포함된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 유리기판 열처리용 세라믹스제 세터는, PDP 뿐만 아니라, 액정 디스플레이, FED 등의 플랫 패널 디스플레이에 사용되는 유리기판의 열처리용 세터로서 적합하다.

Claims (11)

  1. 결정 분말, 결정화 유리 분말 또는 이들의 혼합물과, 프릿 분말을 소결시켜 형성되는 세라믹 소결체로 이루어지는 유리기판 열처리용 세터에 있어서,
    상기 결정 분말 또는 결정화 유리 분말과, 상기 프릿 분말의 30~600℃에서의 평균 열팽창 계수의 차가 40×10-7K 이하이며,
    상기 세라믹 소결체의 600℃에서의 열처리 후의 흡수율(吸水率)이 0∼0.14질량％임을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    세라믹 소결체의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수가 -20∼20×10-7/K임을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터.
  4. 제 1항에 있어서,
    세라믹 소결체가, 주 결정으로서, 페탈라이트, β-유크립타이트, β-석영 고용체(固溶體)(β-유크립타이트 고용체), β-스포듀민 및 β-스포듀민 고용체의 군으로부터 선택된 1종류 또는 2종류 이상의 결정을 함유함을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터.
  5. 삭제
  6. 원료분말을 소결시킴으로써 원판을 제작하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법에 있어서,
    원료분말이, 결정분말, 결정화 유리분말 또는 이들의 혼합물과, 프릿분말을 함유하며, 결정분말 또는 결정화 유리분말과, 프릿분말과의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수의 차이가 40×10-7/K 이하임을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    프릿분말의 30∼600℃에서의 평균 열팽창계수가 50×10-7/K 이하임을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
  8. 제 6항 또는 7항에 있어서,
    원료분말이, 결정분말, 결정화 유리분말 또는 이들의 혼합물을 50∼90질량％ 함유함을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
  9. 제 6항에 있어서,
    결정분말이, 페탈라이트, β-유크립타이트, β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체), β-스포듀민 및 β-스포듀민 고용체의 군으로부터 선택된 1종류 또는 2종류 이상의 결정분말로 이루어짐을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
  10. 제 6항에 있어서,
    결정화 유리분말이, 결정상으로서 β-석영 고용체(β-유크립타이트 고용체) 또는 β-스포듀민 고용체를 함유함을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
  11. 제 6항에 있어서,
    프릿분말이, 비정질 유리분말, 결정성 유리분말 또는 이들의 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 유리기판 열처리용 세터의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6822501B2 (ja) * 2018-02-28 2021-01-27 Ｊｆｅスチール株式会社 絶縁被膜付き方向性電磁鋼板の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246177A (ja) * 1988-03-26 1989-10-02 Inax Corp 超耐熱衝撃性セラミックス材
JPH11322409A (ja) * 1998-05-13 1999-11-24 Taiheiyo Cement Corp βスポジューメンセラミックス及びその製造方法
JP2005180743A (ja) * 2003-12-17 2005-07-07 Inax Corp フラットパネルディスプレイ基板製造用棚板及び検査方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63319219A (ja) * 1987-06-22 1988-12-27 Inax Corp 結晶化ガラス焼結体の製造方法
JPH04182349A (ja) * 1990-11-13 1992-06-29 Sumitomo Cement Co Ltd 低熱膨張磁器組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246177A (ja) * 1988-03-26 1989-10-02 Inax Corp 超耐熱衝撃性セラミックス材
JPH11322409A (ja) * 1998-05-13 1999-11-24 Taiheiyo Cement Corp βスポジューメンセラミックス及びその製造方法
JP2005180743A (ja) * 2003-12-17 2005-07-07 Inax Corp フラットパネルディスプレイ基板製造用棚板及び検査方法

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