KR101274540B1 - 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법 - Google Patents

탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI) 또는, 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)을 산성분(Diacid)으로 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 디올성분(Diol)으로 제조되는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르에 관한 것이다.

Description

탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법{COPOLYESTER HAVING ELASTIC RECOVERY PROPERTIES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는 낮은 온도에서 용융되어 접착성을 가지는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르에 관한 것이다.
일반적으로 탄성중합체는 스판덱스로 통칭되는 폴리우레탄계 탄성중합체가 많이 사용되고 있다. 폴리우레탄 섬유는 분자구조내에 염착좌석이 없기 때문에 산성염료에 염색이 잘되지 않아 분산염료를 사용하여 염색을 하지만 산성염료에 비해 견뢰도가 현저히 떨어져 사용상의 문제점이 있으며, 열에 약하여 폴리아미드계 섬유나 폴리에스테르계 섬유 등 타소재와 혼방하여 사용시 고온 염색이 힘들고 직물제직 후의 후가공에도 제한이 많이 있다.
또한, 폴리우레탄 섬유는 대기중에 노출되면 일광에 의하여 탄성섬유 고유의 물성 및 색상이 변하고, 대기중의 폐가스 등에 의해서도 쉽게 변색되며, 또 자연적인 외기에서도 쉽게 산화되어 그의 고유물성이 저하되어 그 자체로 직물의 원사로 사용할 수 없다.
상기와 같은 폴리우레탄게 탄성중합체의 문제점으로 제조가 용이하고 제조단가가 저렴한 폴리에스테르계 탄성중합체의 개발이 진행되고 있으며, 현재 많은 탄성력을 가지는 공중합 폴리에스테르가 제조되어 판매되고 있다.
또한, 대한민국 특허출원 제1996-0030520호, 제1996-080489호 등 다수의 문헌에서 폴리에테르에스테르계 탄성체의 중합방법으로 산성분(Diacid)으로 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)를 디올성분(Diol)으로 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD)과 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethylene glycol: PTMG)을 사용하고 있다.
상기와 같이 디올성분으로 1,4-부탄디올의 사용하여 제조되는 탄성력을 가지는 공중합 폴리에스테르는 1,4-부탄디올이 고가의 재료로 1,4-부탄디올의 사용량이 많아질 수록 제조원가가 상승하는 문제가 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 발명된 것으로 1,4-부탄디올의 사용량을 최소화하여 저가의 원료물질로 제조되는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 저융점 기능으로 접착성능이 우수한 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르 및 그의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI) 또는, 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)을 산성분(Diacid)으로 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 디올성분(Diol)으로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 산성분과 디올성분은 몰비 0.9~1.1: 0.9~1.1로 중합되어 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 산성분은 디메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)가 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 산성분은 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)이 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 디올성분은 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)이 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 분자량은 1500~2000인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 상기 공중합 폴리에스테르의 융점은 150~180℃인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
상기 공중합 폴리에스테르의 탄성회복률은 50~80%인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제공한다.
또한, 본 발명은 산성분(Diacid)과 디올성분(Diol)으로 제조되는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법에 있어서, 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI) 또는, 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)을 산성분(Diacid)으로 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 디올성분을 혼합하는 혼합공정; 상기 혼합물을 2.0~2.5 ㎏f/㎠압력하에서 220~250℃, 2~4시간동안 에스테르화시키는 에스테르화반응공정; 상기 에스테르 반응물을 0.1~1 Torr이하의 진공상태에서 250~295℃, 40~120분 동안 중합하는 중합공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 산성분은 디메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)가 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 산성분은 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)이 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 디올성분은 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)이 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 분자량은 1500~2000인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법을 제공한다.
이하 본 발명에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명하기로 한다. 우선, 도면들 중, 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호를 나타내고 있음에 유의하여야 한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.
본 명세서에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다.
본 발명은 산성분(Diacid)와 디올성분(Diol)성분으로 제조되는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르에 관한 것이다.
상기 산성분(Diacid)은 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)과 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI) 또는 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)을 사용하는 것으로 디메틸테레프탈레이트(DMT)와 테레프탈산(TPA)는 디올성분과 반응하여 결정영역을 형성하고 디메틸이소프탈레이트(DMI)와 이소프탈산(IPA)은 디올성분과 반응하여 비결정영역을 형성하여 본 발명인 공중합 폴리에스테르의 저융점 기능과 탄성력을 부여한다.
상기 디메틸테레프탈레이트(DMT)와 디메틸이소프탈레이트(DMI)의 혼합비는 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것이 바람직하며, 테레프탈산(TPA)과 이소프탈산(IPA)의 혼합비도 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 제조되는 것이 바람직하다.
상기 디메틸이소프탈레이트(DMI)와 이소프탈산(IPA)의 몰비가 상기 범위보다 적게 사용되며 탄성회복률이 저하될 수 있으며, 저융점기능이 나타나지 않을 수 있으며, 디메틸이소프탈레이트(DMI)와 이소프탈산(IPA)의 몰비가 상기 범위보다 많이 사용하게 되면 공중합 폴리에스테르의 물성이 저하되어 사용용도가 제한될 수 있다.
상기 디올성분(Diol)은 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 사용하는 것으로 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올은 산성분과 반응하여 결정영역을 형성하고 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)는 산성분과 반응하여 비결정영역을 형성하여 본 발명인 공중합 폴리에스테르의 저융점 기능과 탄성력을 부여한다.
상기 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 혼합비는 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 제조되는 것이 바람직하다. 상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 몰비가 상기 범위보다 적게 사용되며 탄성회복률이 저하될 수 있으며, 저융점기능이 나타나지 않을 수 있으며, 디폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 몰비가 상기 범위보다 많이 사용하게 되면 공중합 폴리에스테르의 물성이 저하되어 사용용도가 제한될 수 있다.
또한, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 분자량은 1500~2000인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)가 상기 분자량의 범위를 벗어나면 제조되는 공중합 폴리에스테르의 탄성력 및 물성이 사용에 적합하지 않을 수 있다.
상기 산성분과 디올성분은 몰비 0.9~1.1: 0.9~1.1로 혼합되어 중합되는 것이 바람직할 것이다.
상기 산성분과 디올성분 중 어느 하나의 성분이 너무 많이 혼합되면 중합에 사용되지 않고 버려지게 되는 것으로 상기 산성분과 디올성분은 비슷한 양으로 혼합되는 것이 바람직할 것이다.
상기와 같이 메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)을 산성분(Diacid)으로 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)을 디올성분(Diol)으로 제조되는 본 발명에 따른 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르는 융점 150~180℃, 탄성회복률 50~80%로 제조된다.
상기와 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르는 혼합공정, 에스테르화공정, 중합공정으로 제조된다.
상기 혼합공정은 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI) 또는, 테레프탈산(Terephthalic Acid: TPA)과 이소프탈산(Isophthalic Acid: IPA)을 산성분(Diacid)으로 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 디올성분을 혼합하는 공정으로 다음 공정인 에스테르화반응공정을 원할히 진행하기 위해 200~230℃에서 혼합공정을 실시하는 것이 바람직할 것이다.
상기 혼합공정에서 산성분과 디올성분은 상기에서 설명된 바와 같이 몰비 0.9~1.1: 0.9~1.1로 혼합되는 것이 바람직할 것이다.
또한, 상기 산성분은 디메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)는 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 또는, 테레프탈산(TPA)과 이소프탈산(IPA)의 혼합비도 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 혼합되며, 상기 디올성분은 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)이 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 혼합되어 제조되는 것이 바람직할 것이다.
상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)은 분자량이 1500~2000인 것이 바람직하다.
상기 에스테르화반응공정은 디메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)의 산성분과 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 디올성분을 에스테르화하여 올리고머인 에스테르반응물을 생성시키는 공정으로 상기 혼합공정의 혼합물을 2.0~2.5 ㎏f/㎠압력하에서 220~270℃, 2~4시간동안 에스테르화시키는 공정이다.
상기 중합공정은 상기 에스테르화반응공정에서 생성되는 에스테르 반응물을 중합하여 저융점 폴리에스테르를 중합하는 공정으로 0.1~1 Torr이하의 진공상태에서 250~295℃, 40~120분 동안 중합하는 공정이다.
상기 에스테르화 반응 및 중합공정에서 반응촉매를 사용할 수 있으며, 반응촉매는 삼산화안티몬(Sb2O3)과 같은 안티몬계 촉매나 테트라부틸 티타네이트(Tetrabutyl titanate: TBT)같은 티탄계 촉매, 마그네슘 아세테이트(Magnesium Acetate), 칼슘 아세테이트(Calcium Acetate) 같은 아세테이트계 촉매를 사용할 수 있다.
또한, 중합 중에 열분해되는 것을 방지하기 위해 인계 화화물인 열안정제 및 산화방지제 첨가할 수 있다.
본 발명은 고가의 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD)의 사용량을 최소화 하면서도 탄성회복력이 우수하여 저가의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르는 융점이 150~180℃로 저융점 기능으로 바인더 섬유로 사용가능하며, 다양한 산업분야에 활용할 수 있는 효과가 있다.
이하 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조하기 위한 방법의 실시예를 나타내지만, 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 내지 4
하기 표 1에 나타난 바와 같이 디메틸테레프탈레이트(DMT), 디메틸이소프탈레이트(DMI)의 산성분과 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 디올성분의 몰비로 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조하였다. 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)는 분자량 2,000인 것을 사용하였다.
상기 산성분과 디올성분을 220℃에서 혼합하고, 2.1~2.3 ㎏f/㎠압력하에서 220~250℃, 2시간 40분동안 에스테르화시킨 후, 에스테르화의 에스테르화 반응물을 0.3 Torr이하의 진공상태에서 270~283℃에서 중합하여 본 발명에 따른 저탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조하였다.
상기 에스테르화공정, 중합공정에서 티탄계 반응촉매를 사용하였다.
◎ 실시예 1 내지 4의 산성분과 디올성분의 몰비
구분 DMT DMI EG 1,4-BD PTMG
실시예 1 0.7 0.3 0.9 0.05 0.05
실시예 2 0.7 0.3 0.8 0.1 0.1
실시예 3 0.75 0.25 0.9 0.05 0.05
실시예 4 0.75 0.25 0.8 0.1 0.1
실시예 5 내지 6
하기 표 2에 나타난 바와 같이 테레프탈산(TPA), 이소프탈산(IPA))의 산성분과 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 디올성분의 몰비로 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조하였다. 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)는 분자량 2,000인 것을 사용하였다.
상기 산성분과 디올성분을 220℃에서 혼합하고, 2.1~2.3 ㎏f/㎠압력하에서 240~260℃, 2시간 40분동안 에스테르화시킨 후, 에스테르화의 에스테르화 반응물을 0.3 Torr이하의 진공상태에서 278~283℃에서 중합하여 본 발명에 따른 저탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르를 제조하였다.
상기 에스테르화공정, 중합공정에서 티탄계 반응촉매를 사용하였다.
◎ 실시예 5 내지 6의 산성분과 디올성분의 몰비
구분 TPA IPA EG 1,4-BD PTMG
실시예 5 0.7 0.3 0.9 0.05 0.05
실시예 6 0.75 0.25 0.9 0.05 0.05
상기에서 제조된 본 발명에 따른 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 융점, 탄성회복률을 하기의 방법으로 측정하여 표 2에 나타내었다.
융점은 시차주사열량계(Pertain Elmer DSC-7)를 사용하여 승온속도 20℃/min으로 측정하였다.
탄성회복률은 인스트론(Instron)을 사용하여, 덤벨(Dumbbell)모양의 두께 2㎜, 길이 10cm의 시료를 200%/분의 속도로 200%신장후 5초대기후 동일 속도로 회복 후 신장된 길이를 측정하여 하기 식으로 구하였다.
탄성회복률(%) = {[20-(L-10)]/20]}x100
L: 신장된 길이
구분 융점(℃) 탄성회복률(%)
실시예 1 157 52
실시예 2 154 63
실시예 3 164 58
실시예 4 156 71
실시예 5 150 50
실시예 6 159 56
상기 표 3에서 나타나 바와 같이 본 발명의 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르는 실시예 1 내지 6 모두가 탄성회복률이 50%를 이상으로 탄성회복률이 우수한 것을 알 수 있으며, 융점이 150~170℃로 저융점 기능을 가지는 것을 알 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 명백할 것이다.

Claims (14)

  1. 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT), 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI)가 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 혼합된 산성분과, 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)이 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 혼합된 디올성분으로 형성되어 융점이 150~180℃인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 산성분과 디올성분은 몰비 0.9~1.1: 0.9~1.1로 중합되어 제조되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 분자량은 1500~2000인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 공중합 폴리에스테르의 융점은 150~180℃인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 공중합 폴리에스테르의 탄성회복률은 50~80%인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르.
  9. 산성분(Diacid)과 디올성분(Diol)으로 제조되는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법에 있어서,
    디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI)를 산성분(Diacid)으로 혼합하되, 디메틸테레프탈레이트(Dimethyl Terephthalate: DMT)와 디메틸이소프탈레이트(Dimethyl isophthalate: DMI)는 몰비 0.65~0.80 : 0.2~0.35로 혼합되고, 에틸렌글리콜(Ethylene glycol: EG), 1,4-부탄디올(1,4-Butanediol: 1,4-BD), 분자량 1500~2000인 폴리테트라메틸렌글리콜(Polytetramethyleneglycol: PTMG)을 디올성분을 혼합하되, 상기 에틸렌글리콜(EG), 1,4-부탄디올(1,4-BD), 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)이 몰비 0.7~0.9 : 0.05~0.15: 0.05~0.15로 혼합하는 혼합공정;
    상기 혼합물을 2.0~2.5 ㎏f/㎠압력하에서 220~270℃, 2~4시간동안 에스테르화시키는 에스테르화반응공정;
    상기 에스테르 반응물을 0.1~1 Torr이하의 진공상태에서 250~295℃, 40~120분 동안 중합하는 중합공정을 포함하여 제조되어 융점이 150~180℃인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 혼합공정에서 산성분과 디올성분은 몰비 0.9~1.1: 0.9~1.1로 혼합되는 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법.
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 제9항에 있어서,
    상기 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG)의 분자량은 1500~2000인 것을 특징으로 하는 탄성회복률을 가지는 공중합 폴리에스테르의 제조방법.
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