KR101266566B1 - 광학 요소 구동장치, 투영 광학계, 노광 장치, 및디바이스의 제조 방법 - Google Patents

광학 요소 구동장치, 투영 광학계, 노광 장치, 및디바이스의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

경통 유닛 (14c) 내에 아우터링 (21) 이 배치된다. 아우터링에 설치된 구동기구 (25) 는 광학 요소 (M) 를 이동시켜, 광학 요소의 위치와 자세를 조정한다. 진동이 광학 요소에 전파되는 것을 억제하는 댐퍼 기구 (31) 는 아우터링에 장착되어 있다.
Figure R1020077004397
노광 장치, 투영 광학계, 광학 요소 구동장치

Description

광학 요소 구동장치, 투영 광학계, 노광 장치, 및 디바이스의 제조 방법{OPTICAL ELEMENT DRIVING APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
기술분야
본 발명은, 예를 들어 반도체 소자, 액정 표시 소자 등의 디바이스의 제조 프로세스 및 레티클, 포토마스크 등의 마스크의 제조 프로세스에 있어서의 리소그래피 공정에서 사용되는 노광 장치의 광학 요소를 구동하는 광학 요소 구동장치, 광학 요소 구동장치를 구비한 투영 광학계 및 노광 장치, 그리고, 노광 장치를 이용한 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.
배경기술
일반적으로, 반도체소자, 액정 표시 소자 등의 디바이스를 제조하기 위한 리소그래피 공정에서는, 레티클, 포토마스크 등의 마스크에 형성된 소정의 패턴을 투영 광학계를 통하여, 레지스트가 도포된 웨이퍼나 유리 플레이트 등의 기판 상에 전사하는 노광 장치가 사용된다. 전사할 패턴이 고집적화 요구에 대응하도록 미세화되어 있는 점에서, 노광 장치의 노광 정밀도의 향상 및 해상 성능의 향상에 추가하여, 노광 장치에 포함되는 광학 요소의 위치 맞춤 정밀도의 향상이 불가피하다.
그런데, 종래의 노광 장치에서는, 노광 장치의 외부나 내부로부터의 진동이 노광 장치에 포함되는 광학 요소 (렌즈, 미러 등) 에 전달되는 일이 있다. 진동의 전달에 의해, 광학 요소의 위치나 자세가 변화되어, 광학 요소의 위치 맞춤 정밀도가 저하될 우려가 있었다. 그래서, 진동 감쇠 기능을 갖는 댐퍼 기구를 구비한 노광 장치가 제안되고 있다. 예를 들어 특허 문헌 1 참조.
특허 문헌 1 의 노광 장치에서는, 투영 광학계내에 고정된 고정부로서의 고정 블록에 패럴렐 링크 기구로 이루어지는 자세 조정 기구를 통하여 중간 블록이 지지되고 있다. 이 중간 블록에 광학 요소가 유지되어 있다. 자세 조정 기구는, 중간 블록의 위치와 자세를 6 자유도로 조정한다. 이 자세 조정 기구의 구동에 의해 광학 요소는 중간 블록과 함께 변위된다. 이로써, 광학 요소의 위치와 자세가 조정된다.
중간 블록에는, 베어링을 통하여 추가 질량이 지지된다. 중간 블록은 추가 질량과 대향하고 이간되어 있다. 중간 블록과 추가 질량의 대향면에는 서로 흡인하도록 복수개의 자석이 배치되어 있다. 중간 블록의 자석과 추가 질량의 자석 사이에는, 고정 블록 (또는 중간 블록) 에 지지된 도체판이 배치되어 있다. 진동 전파시에는, 이 도체판과 자석이 상대 이동하고, 와전류를 발생시킨다. 이 와전류는 진동을 감쇠하는 힘을 발생시키는데 이용된다. 도체판과 자석은 자기 댐퍼로서 기능한다.
특허 문헌 1: 일본 공개특허공보 제2004-340372호 (미국 특허출원공개 제 2004/212794호 명세서)
발명의 개시
특허 문헌 1 의 노광 장치에서는, 복수개의 자석이 중간 블록과 추가 질량에 고정되어 있다. 각 자석에 대면하는 도체판은, 고정 블록에 지지되거나, 각 자석과 함께 중간 블록이나 추가 질량에 지지된다. 즉, 특허 문헌 1 의 노광 장치에서는, 댐퍼 기구 (자기 댐퍼) 는, 중간 블록 (가동부) 과 고정 블록 (고정부) 에 걸쳐서 설치되거나, 또는, 중간 블록 (가동부) 에만 설치된다.
그 때문에, 특허 문헌 1 의 노광 장치에서는, 자세 조정 기구가 광학 요소의 위치와 자세를 조정할 때에, 다음의 문제가 발생한다.
(i) 자세 조정 기구는 광학 요소와 함께, 추가 질량이나 자석도 구동해야 하기 때문에, 자세 조정 기구의 구동 부담 (중량) 이 과대하게 되어, 광학 요소의 위치와 자세를 고정밀도로 조정하는 것이 곤란하게 된다.
(ii) 특히 댐퍼 기구가 중간 블록과 고정 블록에 걸쳐 설치된 상태에서, 자세 조정 기구가 중간 블록 및 추가 질량을 변위시킬 때, 중간 블록에 고정된 각 자석과 고정 블록에 지지된 도체판이 상대 이동한다. 이 경우, 도체판에 있어서는 상대 이동 방향과는 역방향으로 작용하는 제진력이 발생한다. 이 제진력은 광학 요소의 위치와 자세를 조정하기 위해서 구동된 자세 조정 기구의 본래적인 구동력에 영향을 미쳐, 광학 요소의 위치와 자세의 조정을 더욱 곤란하게 한다.
본 발명의 목적은, 광학 요소에 대한 진동 전파를 억제하면서, 광학 요소의 위치 및 자세 중 적어도 일방을 양호하게 조정할 수 있고, 광학 요소의 위치 결정 정밀도를 향상시킬 수 있는 광학 요소 구동장치, 상기 광학 요소 구동장치를 구비한 투영 광학계, 상기 투영 광학계를 구비한 노광 장치, 및, 상기 노광 장치를 이 용한 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일측면에 의하면, 고정부와, 광학 요소를 이동시켜, 고정부에 대한 광학 요소의 위치 및 자세의 적어도 하나를 조정하는 구동 기구와, 고정부에 설치되어 광학 요소 및 구동 기구 중 적어도 일방에 진동이 전달되는 것을 억제하는 댐퍼 기구를 구비한 광학 요소 구동장치가 제공된다.
일 실시형태에서는, 댐퍼 기구는 질량체와, 질량체를 고정부에 대해서 변위 가능하게 지지하는 탄성체와, 탄성체가 탄성 변형했을 때에 질량체가 변위하는 것을 억제하는 제진부재를 구비한다.
일 실시형태에서는, 댐퍼 기구는 질량체, 탄성체 및 제진부재를 수용하는 기밀실을 구획하는 케이싱을 추가로 구비한다.
일 실시형태에서는, 댐퍼 기구는, 기밀실을 구획하는 케이싱과, 케이싱의 외측에 배치되어, 고정부가 진동했을 때에 탄성 변형하는 탄성체와, 기밀실에 배치되는 질량체와, 기밀실에 있어서, 질량체와 케이싱 사이에 배치되어 질량체의 진동을 흡수하는 제진부재를 구비하고, 질량체는 제진부재에만 접촉되어 있다.
일 실시형태에서는, 광학 요소는, 구동 기구를 통하여 고정부에 장착되어 있다.
일 실시형태에서는, 구동 기구는, 광학 요소를 고정부에 대해서 6 방향으로 구동하는, 6 자유도를 갖는 패럴렐 링크 기구를 포함하고, 패럴렐 링크 기구는 각각이 2 개 1 조의 링크로 이루어지는 복수의 링크 쌍을 포함하며, 복수의 링크 쌍 은 고정부에 분산되어 장착되어 있고, 댐퍼 기구는 고정부에 분산되어 장착된 복수의 댐퍼 기구 중 하나이고, 각 댐퍼 기구는 구동 기구가 인접하는 2 개의 링크 쌍 사이에 배치되어 있다.
일 실시형태에서는, 구동 기구와 댐퍼 기구의 양방이 고정부에 고정되어 있고, 구동 기구가 광학 요소를 이동시킬 때에 고정부는 부동이다.
일 실시형태에서는, 댐퍼 기구는 구동 기구로부터 떨어진 위치에 있어서 고정부에 고정되어 있다.
일 실시형태에서는, 댐퍼 기구는 고정부에만 고정되어 있다.
본 발명의 다른 측면에 의하면, 소정의 패턴을 기판 상에 투영하는 투영 광학계가 제공된다. 그 투영 광학계는, 광학 요소의 위치 및 자세 중 적어도 일방을 조정하는 상기의 광학 요소 구동장치를 구비한다.
일 실시형태에서는, 투영 광학계는, 광학 요소를 수용하는 경통 유닛을 추가로 구비하고, 고정부는 경통 유닛의 일부에 부동으로 고정되어 있다.
일 실시형태에서는, 경통 유닛과 고정부 사이에 배치되고 경통 유닛에 대한 고정부의 위치를 조정하는 위치 조정 부재를 추가로 구비한다.
일 실시형태에서는, 고정부는 광학 요소를 수용하는 경통 유닛이다.
일 실시형태에서는, 광학 요소를 수용하는 경통 유닛을 추가로 구비하고, 댐퍼 기구는 고정부와 경통 유닛의 양방에 접촉되고, 고정부는 댐퍼 기구를 통하여 경통 유닛에 장착되어 있다.
본 발명은, 또한, 상기의 투영 광학계를 통하여 소정의 패턴을 기판 상에 노 광하는 노광 장치를 제공한다. 본 발명은 또한, 노광 장치를 이용하여 노광을 실시하는 리소그래피 공정을 포함한 디바이스의 제조 방법을 제공한다.
도면의 간단한 설명
도 1 은 본 발명의 제 1 실시 형태에 따른 노광 장치의 개략도.
도 2 는 투영 광학계를 구성하는 미러의 배치 구성을 나타내는 개략도.
도 3 은 투영 광학계에 포함되는 하나의 경통 유닛의 부분 파단 사시도.
도 4 는 도 3 의 경통 유닛의 평면도.
도 5 는 댐퍼 기구의 설명도.
도 6 은 본 발명의 제 2 실시 형태에 따른 댐퍼 기구의 설명도.
도 7 은 디바이스의 제조 공정의 플로우차트.
도 8 은 반도체 디바이스의 제조 공정의 플로우차트.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
도 1 내지 도 5 를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시 형태에 따른 주사형 노광 장치를 설명한다. 주사형 노광 장치는 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식이고, 반도체소자의 제조에 사용된다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 노광 장치 (10) 는, 감압 가능한 진공 챔버 (도시 생략) 내에 설치되는 것으로서, 베이스 플레이트 (BP) 상에 설치된 칼럼 프레임 (11) 을 갖고 있다. 칼럼 프레임 (11) 의 측부 (도 1 에서는 좌측부) 에는 광원 (12) 이 배치된다. 칼럼 프레임 (11) 내의 대략 중앙부에는 투영 광학계 (PO) 가 배치되어 있다. 투영 광학계 (PO) 와 광원 (12) 사이에는 도시하지 않는 조명 광학계가 배치되어 있다.
베이스 플레이트 (BP) 와 칼럼 프레임 (11) 사이에는, 제진장치 (5) 가 배치되어 있다. 따라서, 베이스 플레이트 (BP) 를 통하여, 노광 장치 (10) 가 설치되는 바닥에서부터 진입하는 외란(外亂)진동을 저감시킬 수 있다. 광원 (12) 은 칼럼 프레임 (11) 과는 독립적으로 배치해도 된다.
광원 (12) 은, EUV의 노광광 (연X선 파장의 광) (EL) 을 조명 광학계를 향해 출사한다. 일 실시형태에서는, 광원 (12) 은 노광광 (EL) 을 수평 방향 (도 1 에서는 Y축 방향) 으로 출사한다. 광원 (12) 의 예는, 주로 파장 5∼20㎚, 예를 들어 파장 11㎚ 의 노광광 (EL) 을 출사하는 레이저 여기 플라즈마 광원이다.
투영 광학계 (PO) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 경통 (14) 을 구비한다. 경통 (14) 은, 투영 광학계 (PO) 에 있어서의 광축 (AX) 과 평행한 Z축 방향을 따라 적층된 복수 (예를 들어 5 개) 의 경통 유닛 (14a∼14e) 에 의해 구성된다. 복수 (예를 들어 7 개) 의 미러 (광학 요소) (M), (M1∼M6) 이 경통 (14) 내에 수용되어 있다. 미러 (M) 는, 투영 광학계 (PO) 의 경통 (14) 내에 배치되어 있지만, 조명 광학계의 일부를 구성하는 광학 요소이다. 미러 (M) 를 제외한 6 개의 미러 (M1∼M6) 는 투영 광학계 (PO) 를 구성하는 광학 요소이다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 6 개의 미러 (M1∼M6) 는, 위에서부터 순서대로 미러 (M2), 미러 (M4), 미러 (M3), 미러 (M1), 미러 (M6), 미러 (M5) 의 순서로 경통 (14) 내에 배치되어 있다. 미러 (M2) 및 미러 (M4) 는 최상단의 경통 유닛 (14a) 내에 수용되어 있다. 미러 (M3) 는 위에서부터 두번째 경통 유닛 (14b) 내에 수용되어 있다. 미러 (M1) 은 중단의 경통 유닛 (14c) 내에 수용되어 있다. 미러 (M6) 는 밑에서부터 두번째의 경통 유닛 (14d) 내에 수용되어 있다. 미러 (M5) 는 최하단의 경통 유닛 (14e) 내에 수용되어 있다. 미러 (M5, M6) 는 노광광 (EL) 의 광로상에 절결을 갖는다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 경통 (14) 의 측벽과 상벽에는, 개구 (15a, 15b) 가 각각 형성되어 있다. 일례로는, 개구 (15a) 는 경통 유닛 (14a) 과 경통 유닛 (14b) 에 걸쳐 형성된 직사각형 형상의 개구이다. 광원 (12) 으로부터 출사된 노광광 (EL) 은, 개구 (15a) 를 통하여, 투영 광학계 (PO) 의 경통 (14) 내에 일단 입사된다. 경통 (14) 내에 있어서, 개구 (15a) 의 근방에는 상기 기술한 미러 (M) 가 배치되어 있다. 미러 (M) 는, 입사된 노광광 (EL) 을 상방을 향해 반사한다. 노광광 (EL) 은 개구 (15b) 를 통하여, 경통 (14) 의 외부로 출사된다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 칼럼 프레임 (11) 의 상방에 레티클 베이스 정반(定盤) (16) 이 XY면에 평행하게 배치되어 있다. 레티클 베이스 정반 (16) 의 상방에는, 레티클 스테이지 (RST) 가 부상 배치된다. 레티클 스테이지 (RST) 는, 예를 들어 자기 부상형 이차원 리니어 액추에이터 등으로 이루어지는 레티클 스테이지 구동부 (17R) 에 의해 구동된다. 레티클 베이스 정반 (16) 은, 개구 (15b) 로부터 출사된 노광광 (EL) 의 통과를 허용하는 개구 (도시 생략) 를 갖는다.
레티클 스테이지 (RST) 의 하면에는, 소정의 패턴 (예를 들어 회로 패턴) 이 형성된 패턴면을 갖는 반사형 레티클 (R) 이 패턴면을 하측을 향한 상태에서 배치되고, 레티클 홀더 (도시 생략) 에 의해 유지되고 있다. 레티클 스테이지 구동부 (17R) 는, 레티클 스테이지 (RST) 를 주로 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시킨다. 레티클 레이저 간섭계 (18R) 는 레티클 스테이지 (RST) 의 위치를 상시 검출한다.
칼럼 프레임 (11) 내의 하부에는, 웨이퍼 베이스 정반 (19) 이 XY평면을 따르도록 배치되어 있다. 웨이퍼 베이스 정반 (19) 의 상방에는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 가 부상 배치되어 있다. 웨이퍼 스테이지 (WST) 는, 예를 들어 자기 부상형 이차원 리니어 액추에이터 등으로 이루어지는 웨이퍼 스테이지 구동부 (17W) 에 의해 구동된다. 웨이퍼 스테이지 (WST) 상에는, 레지스트가 도포된 상면을 갖는 웨이퍼 (기판) (W) 가 웨이퍼 홀더 (도시 생략) 에 의해 유지되고 있다. 웨이퍼 스테이지 구동부 (17W) 는 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 주로 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시킨다. 웨이퍼 레이저 간섭계 (18W) 는 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 위치를 상시 검출한다.
도 3 을 참조하여, 미러 (M1∼M6) 의 위치와 자세를 조정하는 광학 요소 구동장치를 설명한다.
도 3 은, 경통 (14) 에 포함되는 중단의 경통 유닛 (14c) 을 나타낸다. 경통 유닛 (14c) 의 하부에는, 내측에 수평으로 연장되는 플랜지부 (20) 가 형성되어 있다. 원환상의 아우터링 (고정부) (21) 은 위치 조정 부재로서의 복수의 조정용 와셔 (22) 를 통하여 플랜지부 (20) 에 지지되고 있다. 아우터링 (21) 은 미러 (M) 의 위치나 자세를 조정할 때여도 플랜지부 (20) 에 대해서 부동이다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 복수의 조정용 와셔 (22) 는, 등각도 간격 (예를 들어 120도) 으로 분산 배치되고, 아우터링 (21) 의 둘레방향의 등분점 (예를 들어 3 등분점) 을 지지한다. 각 조정용 와셔 (22) 의 높이를 조정함으로써, 플랜지부 (20) 에 대한 아우터링 (21) 의 위치를 조정할 수 있는 본 실시 형태에서는, 아우터링 (21) 을 플랜지부 (20) 에 대해서 수평이 되도록 조정하고 있다.
아우터링 (21) 상에는, 패럴렐 링크 기구 (23) 와 이너링 (24) 을 포함한 구동 기구 (25) 가 설치되어 있다. 패럴렐 링크 기구 (23) 는 이너링 (24) 을 변위 가능하게 지지한다. 이너링 (24) 은 원환상이다. 이너링 (24) 상에는, 복수 (예를 들어 3 개) 의 미러 유지 부재 (26a, 26b, 26c) 를 통하여 미러 (M1) 가 유지되고 있다. 패럴렐 링크 기구 (23) 는, 이너링 (24) 을 변위시킴으로써, 아우터링 (21) 에 대한 미러 (M1) 의 위치와 자세 중 적어도 일방을 조정한다.
패럴렐 링크 기구 (23) 는, 이너링 (24) 을 아우터링 (21) 에 대해서 변위 가능하게 연결한다. 패럴렐 링크 기구 (23) 는, 이너링 (24) 을 아우터링 (21) 에 대해서 6 방향으로 즉 6 자유도로 구동한다. 6 자유도는, X축 방향의 변위 (Δx), Y축 방향의 변위 (Δy), Z축 방향의 변위 (Δz), X축 둘레의 회전 (θx), Y축 둘레의 회전 (θy), 및 Z축 둘레의 회전 (θz) 이 가능한 것을 의미한다. 도 3 의 예에서는, 패럴렐 링크 기구 (23) 는, 아우터링 (21) 에 분산되어 배치된 3 개의 링크 쌍에 의해 구성된다. 각 링크 쌍은 2 개 1 조의 링크 (27) 에 의해 구성된다. 각 링크 (27) 의 양단은 아우터링 (21) 과 이너링 (24) 에 구면 대우(球面對偶)를 통하여 접속되어 있다.
각 링크 (27) 는, 제 1 축 부재 (28) 와 제 1 축 부재 (28) 에 접속 또는 연결된 제 2 축 부재 (29) 를 포함한다. 제 1 축 부재 (28) 의 일단 (하단) 은 아우터링 (21) 에 볼 조인트 (30) 를 통하여 장착되어 있다. 제 2 축 부재 (29) 의 일단 (상단) 은 이너링 (24) 에 볼 조인트 (도시 생략) 를 통하여 장착되어 있다. 제 1 축 부재 (28) 및 제 2 축 부재 (29) 중 적어도 일방에는, 링크 (27) 의 길이, 즉, 제 1 축 부재 (28) 의 하단과 제 2 축 부재 (29) 의 상단의 거리를 변경 가능한 액추에이터 (예를 들어, 압전 소자 등) 가 설치되어 있다. 따라서, 각 링크 (27) 는 신축 가능하다.
도 3 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 복수 (예를 들어 3 개) 의 댐퍼 기구 (31) 는 등각도 간격 (예를 들어 120도) 으로 아우터링 (21) 에 분산되어 배치된다. 각 댐퍼 기구 (31) 는 인접하는 2 개의 링크 쌍 사이에 배치된다. 도 4 의 예에서는, 3 개의 댐퍼 기구 (31) 와, 패럴렐 링크 기구 (23) 의 3 개의 링크 쌍은, 등각도 간격 (60도 간격) 으로 배치되어 있다. 댐퍼 기구 (31) 및 구동 기구 (25) 에 의해 광학 요소 구동장치 (50) 가 구성된다.
도 5 에 나타내는 바와 같이, 각 댐퍼 기구 (31) 는, 아우터링 (21) 상에 고정되는 직사각형 베이스 부재 (32) 와, 베이스 부재 (32) 상에 고정되는 커버 (33) 를 포함한다. 베이스 부재 (32) 와 커버 (33) 는 대기압 분위기의 기밀실 (35) 을 구획하는 케이싱 (34) 으로서 기능한다. 베이스 부재 (32) 와 커버 (33) 사이에는, 기밀성을 향상시키기 위해서 기밀용 시일재를 배치하는 것이 바람직하다. 각 댐퍼 기구 (31) 는, 기밀실 (35) 내에 수용된 소정 질량의 질량체 (36), 아이솔레이터 기능을 갖는 탄성체 (37), 및, 댐퍼 기능을 갖는 제진부재 (38) 를 추가로 포함한다. 아이솔레이터 기능을 갖는 탄성체 (37) 의 예는 스프링이다. 댐퍼 기능을 갖는 제진부재 (38) 의 예는 러버 폼이다. 스프링 (37) 과 러버 폼 (38) 은 질량체 (36) 를 케이싱 (34) 내로 부상 지지한다. 아우터링 (21) 이 진동했을 때, 질량체 (36) 는 스프링 (37) 의 탄성 변형을 수반해 관성적으로 진동 방향으로 변위하고, 그 후, 그 진동 방향의 변위는 러버 폼 (38) 에 의해 감쇠된다.
경통 유닛 (14c) 이외의 다른 경통 유닛 (14a, 14b, 14d, 14e) 에 있어서도, 경통 유닛 (14c) 와 마찬가지로, 각 미러 (M2∼M6) 가 각각 구동 기구 (25) 를 통하여 고정부로서의 아우터링 (21) 상에 위치 및 자세 중 적어도 일방을 조정 가능하게 지지되어 있다. 그 아우터링 (21) 상에는 구동 기구 (25) 에 있어서의 패럴렐 링크 기구 (23) 의 3 쌍의 링크 쌍 사이에 위치하도록 하여 3 개의 댐퍼 기구 (31) 가 배치되어 있다.
다음에, 노광 장치 (10) 의 작용을 설명한다.
광원 (12) 이 사출한 노광광 (EL) 은, 투영 광학계 (PO) 의 경통 (14) 에 형성된 개구 (15a) 를 통하여 경통 (14) 내에 입사하고, 또한, 미러 (M) 에 의해 상방으로 반사되어 경통 (14) 의 개구 (15b) 를 통하여 레티클 (R) 에 소정의 입사각으로 입사된다. 이 때, 노광광 (EL) 은 원호 슬릿 형상의 조명광이 되어, 레티클 (R) 의 패턴면을 조명한다.
레티클 (R) 의 패턴면에서 반사된 노광광 (EL) 은, 재차 투영 광학계 (PO) 의 경통 (14) 내에 입사한다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 노광광 (EL) 은 미러 (M1, M2, M3, M4, M5) 에서 순차적으로 반사되고 미러 (M6) 에서 집광되어, 웨이퍼 (W) 상에 조사된다. 따라서, 웨이퍼 (W) 상의 복수의 쇼트 영역의 각각에 레티클 (R) 에 형성된 소정의 패턴 (회로 패턴 등) 이 스텝ㆍ앤드ㆍ스캔 방식에 의해 전사된다.
예를 들어 노광 장치 (10) 가 설치된 건물 (도시 생략) 이 진동했을 경우, 또는 웨이퍼 스테이지 (WST) 나 레티클 스테이지 (RST) 의 구동에 수반해 칼럼 프레임 (11) 이 진동했을 경우, 제진장치 (5) 에 의해 그 진동이 저감되지만, 노광 정밀도에 영향을 미치는 근소한 진동이 투영 광학계 (PO) 에 있어서의 경통 (14) 으로 전파될 가능성이 있다. 도 3 에 나타내는 경통 유닛 (14c) 를 예로 하면, 플랜지부 (20) 상에 조정용 와셔 (22) 를 통하여 지지된 아우터링 (21) 이 진동한다. 그러나, 아우터링 (21) 의 진동은, 댐퍼 기구 (31) 에 의해 감쇠되기 때문에, 구동 기구 (25) 를 통하여 미러 (M1) 에 전파되지 않는다.
댐퍼 기구 (31) 의 진동 감쇠 기능을 설명한다.
댐퍼 기구 (31) 에서는, 케이싱 (34) 내의 질량체 (36) 가 아우터링 (21) 의 진동에 수반되어 스프링 (37) 을 탄성 변형시키면서 아우터링 (21) 의 진동을 억제하는 방향으로 관성적으로 변위된다. 러버 폼 (38) 은 질량체 (36) 의 아우터링 (21) 에 대한 상대적인 변위 에너지를 흡수한다. 이로 인해, 질량체 (36) 의 변위량은 점차 감쇠된다. 이로 인해, 경통 (14) (경통 유닛 (14c)) 으로부 터 아우터링 (21) 에 전파된 진동이, 아우터링 (21) 으로부터 구동 기구 (25) 를 통하여 미러 (M1) 로 다시 전파되는 것이 억제된다.
노광 장치 (10) 의 경통 (14) (각 경통 유닛 (14a∼14e)) 내는, 불활성 가스 또는 진공 분위기이지만, 제 1 실시 형태에서는, 댐퍼 기구 (31) 가 기밀실 (35) 을 구비한 케이싱 (34) 을 갖고 있고, 그 케이싱 (34) 의 기밀실 (35) 내에, 댐퍼 기구 (31) 의 요부(要部)가 되는 질량체 (36), 스프링 (37), 러버 폼 (38) 이 수용되어 있다. 그 때문에, 경통 (14) 내와 케이싱 (34) 의 기밀실 (35) 내의 사이에서 가스 교환이 없고, 상호의 기능을 열화시키는, 예를 들어 상호의 분위기에 영향을 미치는 일이 없다.
제 1 실시 형태의 노광 장치 (10) 에 의하면, 이하의 작용 효과를 얻을 수 있다.
(1) 노광 장치 (10) 의 외부 (건물 등) 나 내부 (웨이퍼 스테이지 (WST) 등) 로부터의 진동이 투영 광학계 (PO) 의 경통 (14) 에 전달되고, 그 진동이 아우터링 (21) 을 통하여 미러 (M1∼M6) 에 전파하려고 해도, 아우터링 (21) 에 설치된 댐퍼 기구 (31) 가 진동 감쇠 기능을 발휘하여, 미러 (M1∼M6) 에 대한 진동 전파를 억제한다. 그 때문에, 그러한 진동에서 기인한 미러 (M1∼M6) 의 위치나 자세의 변위가 없어져, 투영 광학계 (PO) 에 있어서의 각 미러 (M1∼M6) 의 위치 결정 정밀도의 저하를 알맞게 억제할 수 있다.
(2) 댐퍼 기구 (31) 는 고정부로서의 아우터링 (21) 에 지지되어 있기 때문에, 댐퍼 기구 (31) 의 중량이 투영 광학계 (PO) 의 각 미러 (M1∼M6) 의 위치나 자세를 조정하는 구동 기구 (25) 의 구동의 부하가 되지 않는다. 따라서, 투영 광학계 (PO) 에서는 구동 기구 (25) 에 의해 각 미러 (M1∼M6) 의 위치나 자세를 양호하게 조정할 수 있다.
(3) 댐퍼 기구 (31) 는 소정 질량의 질량체 (36) 와, 질량체 (36) 를 변위 가능하게 지지하는 스프링 (37) 과, 스프링 (37) 의 탄성 변형에 수반하는 질량체 (36) 의 변위 (진동) 를 억제하는 방향으로 감쇠시키는 러버 폼 (38) 으로 이루어진 간단한 구성이기 때문에, 양호한 감쇠 기능을 발휘하는 댐퍼 기구 (31) 을 저렴하게 얻을 수 있다.
(4) 댐퍼 기구 (31) 는, 그 요부구성이 되는 질량체 (36) 나 스프링 (37) 및 러버 폼 (38) 이 케이싱 (34) 의 기밀실 (35) 내에 수용되어 있기 때문에, 경통 (14) 내와의 사이에 가스 교환이 없다. 따라서, 댐퍼 기구 (31) 의 구성 재료의 선택에 있어서, 경통 (14) 내의 분위기에 대한 영향을 고려할 필요는 없다. 따라서, 원하는 감쇠 기능에 따라 댐퍼 기구 (31) 의 구성 재료 (질량체 (36) 나 러버 폼 (38) 등) 를 자유롭게 선택할 수 있다.
(5) 각 광학 요소 구동장치 (50) 에 포함되는 패럴렐 링크 기구 (23) 는 대응하는 미러 (M1∼M6) 를 아우터링 (21) 에 대해서 6 방향으로 구동하기 때문에, 각 미러 (M1∼M6) 의 위치 및 자세 중 적어도 일방을 정치(精緻)하게 조정하는 것이 가능해져, 노광 정밀도의 향상에 기여한다.
(6) 아우터링 (21) 상에 있어서 각 댐퍼 기구 (31) 는 구동 기구 (25) 에 있어서의 각 패럴렐 링크 기구 (23) 의 3 개의 링크 쌍 사이에 배치되어 있다. 이 때문에, 댐퍼 기구 (31) 가 각 패럴렐 링크 기구 (23) 의 링크 (27) 의 움직임에 지장을 주는 일도 없이, 양호한 구동 상태를 실현할 수가 있다.
(7) 아우터링 (21) 상에 있어서 댐퍼 기구 (31) 와 패럴렐 링크 기구 (23) 는, 투영 광학계 (PO) 에 있어서의 광축 (AX) 을 중심으로서 등각도 간격 (60도 간격) 으로 배치되어 있다. 이 때문에, 댐퍼 기구 (31) 의 중량에 의해 각 경통 유닛 (14a∼14e) 내에서의 광학 요소 구동장치 (50) 의 중심의 치중이 방지된다.
다음에, 본 발명의 제 2 실시 형태에 대해 설명한다.
제 2 실시 형태에서는, 댐퍼 기구의 구체적 구성에 있어서만 제 1 실시 형태와 다르다. 이하의 설명에서는 댐퍼 기구를 중심으로 설명하고, 제 1 실시 형태의 구성과 동일 구성에 대해서는 동일 부호를 붙임으로써 중복 설명을 생략한다.
도 6 에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시 형태의 댐퍼 기구 (41) 에서는, 케이싱 (34) 은 아우터링 (21) 상에 고정되는 직사각형의 베이스 부재 (32) 와, 베이스 부재 (32) 상에 고정되는 커버 (33) 를 포함하고, 대기압 분위기의 기밀실 (35) 을 갖는다. 베이스 부재 (32) 와 커버 (33) 사이에는, 기밀성을 향상시키기 위해서 기밀용 시일재를 배치하는 것이 바람직하다. 기밀실 (35) 내에는 소정 질량의 질량체 (36) 가 배치되어 있다. 질량체 (36) 와 베이스 부재 (32) 사이에는 질량체 (36) 의 연직 방향의 변위를 억제하는 러버체 (42a) 가 배치되어 있다. 질량체 (36) 와 커버 (33) 의 측면 사이에는 질량체 (36) 의 수평 방향의 변위를 억제하는 러버체 (42b, 42c) 가 배치되어 있다. 커버 (33) 상벽 (33a) 에는 관통공 (43) 이 형성되어 있다. 천판부 (44b) 와 샤프트 (44a) 를 포함한 T자 단면을 갖는 가압 부재 (44) 는 커버 (33) 상벽 (33a) 에 대해서 이동 가능하게 지지되고 있다. 관통공 (43) 에는 가압 부재 (44) 의 샤프트 (44a) 가 삽입통과되고 있다. 샤프트 (44a) 와 관통공 (43) 사이에 배치된 시일재 (45) 는 기밀실 (35) 의 기밀을 유지한다.
기밀실 (35) 내에 있어서 가압 부재 (44) 의 샤프트 (44a) 의 가장자리에는, 천판부 (44b) 와 대략 평행 평탄한 가압판 (46) 이 고정되어 있다. 가압판 (46) 과 질량체 (36) 사이에는 질량체 (36) 의 연직 방향의 변위를 억제하는 러버체 (42d) 가 배치되어 있다. 러버체 (42a∼42d) 는 댐퍼 기능을 갖는 제진부재로서 기능한다. 도 6 의 예에서는, 질량체 (36) 는 러버체 (42a∼42d) 와만 접촉되어 있다. 커버 (33) 의 상벽 (33a) 과, 가압 부재 (44) 의 천판부 (44b) 사이에는 아이솔레이터 기능을 갖는 탄성체 (37) 가 배치되어 있다. 탄성체 (37) 의 예는 스프링이다. 아우터링 (21) 의 진동시에는 질량체 (36) 가 스프링 (37) 을 탄성 변형시키면서 진동 방향으로 변위된다. 러버체 (42a∼42d) 는 질량체 (36) 의 변위량을 점차 감쇠시킨다. 따라서, 제 2 실시 형태에 의하면, 제 1 실시 형태의 (1)∼(7) 과 거의 동일한 작용 효과를 얻을 수 있다.
각 실시 형태는 이하와 같이 변경해도 된다.
댐퍼 기구 (31,41) 는, 경통 유닛 (14a∼14e) 에 있어서의 플랜지부 (20) 에 배치되어도 된다. 이 경우, 경통 유닛 (14a∼14e) 의 일부 (플랜지부 (20)) 가 고정부로서 기능한다. 경통 (14) 에 전파된 진동은, 경통 유닛 (14a∼14e) 에 설치된 댐퍼 기구 (31,41) 에 의해 감쇠된다. 따라서, 각 미러 (M1∼M6) 에 대 한 진동 전파가 억제된다.
경통 유닛 (14a∼14e) 에 있어서의 플랜지부 (20) 와 아우터링 (21) 사이에는 위치 조정 부재로서의 조정용 와셔 (22) 를 개재시키지 않고, 플랜지부 (20) 상에 아우터링 (21) 을 직접 지지해도 된다.
조정용 와셔 (22) 를 대신해, 케이싱 (34) 을 갖는 댐퍼 기구 (31,41) 를 경통 유닛 (14a∼14e) 의 일부 (플랜지부 (20)) 와 아우터링 (21) 사이에 배치해도 된다. 이 경우, 고정부로서의 아우터링 (21) 은, 댐퍼 기구 (31,41) 를 통하여 경통 유닛 (14a∼14e) 의 일부에 장착된다.
광학 요소 구동장치 (50) 의 구동 기구 (25) 는, 각 미러 (M1∼M6) 의 위치 및 자세의 어느 일방을 조정하는 것이어도 된다.
광학 요소 구동장치 (50) 의 구동 기구 (25) 에 있어서, 이너링 (24) 을 생략하고, 패럴렐 링크 기구 (23) 의 각 링크 쌍에 의해 각 미러 (M1∼M6) 를 직접 지지해도 된다.
댐퍼 기구 (31,41) 를 갖는 광학 요소 구동장치 (50) 는, 경통 (14) 의 경통 유닛 (14a∼14e) 내에 수용된 미러 (M1∼M6) 중 적어도 하나의 미러 (예를 들어, 경통 유닛 (14c) 내의 미러 (M1)) 를 조정해도 된다.
경통 유닛 (14a∼14e) 내에 있어서 고정부로서의 아우터링 (21) 상에 배치되는 댐퍼 기구 (31,41) 의 개수는, 3 개 이외의 개수 (예를 들어 1 개, 2 개 또는 4 개 이상) 이어도 된다. 또, 댐퍼 기구 (31,41) 는 등각도 간격 이외의 간격으로 배치되어도 된다.
댐퍼 기구 (31,41) 의 케이싱 (34) 내의 기밀실 (35) 은, 대기압 분위기가 아닌 진공 분위기이어도 된다. 이 경우, 대기압 분위기하에서 댐퍼 기구 (31,41) 를 제조하고, 그 후, 기밀실 (35) 을 감압시키면 된다.
제 1 실시 형태의 댐퍼 기구 (31) 에 있어서, 커버 (33) 를 생략해도 된다. 이 경우, 질량체 (36) 는 스프링 (37) 및 러버 폼 (38) 를 통하여 경통 (14) 내에 노출된 베이스 부재 (32) 상에 지지된다.
댐퍼 기구 (31,41) 의 제진부재로서 러버 폼 (38) 이나 러버체 (42a∼42d) 외에, 겔, 오일, 그리스 등의 점성체를 이용할 수 있다.
각 실시 형태에 있어서 광학 요소는 미러 (M1∼M6) 로 한정되지 않고, 평행 평판, 렌즈, 하프 미러 등의 다른 광학 요소이어도 된다.
각 실시 형태에 있어서 광학 요소 구동장치 (50) 는, 조명 광학계에 설치되어 있어도 되고, 예를 들어 현미경, 간섭계 등의 광학계의 광학 요소를 구동시켜도 된다.
노광 장치 (10) 에 있어서의 투영 광학계 (PO) 는, 전반사 타입에 한정되지 않고, 반사 굴절 타입, 전체 굴절 타입이어도 된다. 노광 장치 (10) 는, 축소 노광형에 한정되지 않고, 등배 노광형 또는 확대 노광형이어도 되고, 또한 스텝ㆍ앤드ㆍ리피트 방식인 것이어도 된다.
노광 장치 (10) 의 광원 (12) 으로부터 출사되는 노광광은, EUV 광으로 한정되지 않고, 예를 들어 g선 (436㎚), i선 (365㎚), KrF 엑시머 레이저 (248㎚), Kr2 레이저 (146㎚), ArF 엑시머 레이저 (193㎚), F2 레이저 (157㎚), Ar2 레이저 (126㎚) 등을 이용해도 된다.
노광 장치 (10) 는, 액정 표시 소자 (LCD) 등을 포함한 디스플레이의 제조에 이용되어 디바이스 패턴을 유리 플레이트상에 전사하는 노광 장치, 또는 박막 자기 헤드 등의 제조에 이용되어 디바이스 패턴을 세라믹 웨이퍼 등에 전사하는 노광 장치, 또는 CCD 등의 촬상 소자의 제조에 이용되는 노광 장치 등이어도 된다. 예를 들어 국제공개공보 제 WO99/49504호 팜플렛에 개시되어 있는 액침형의 노광 장치이어도 된다.
다음으로, 노광 장치 (10) 를 리소그래피 공정에서 사용한 디바이스의 제조 방법을 설명한다.
도 7 은, 디바이스 (IC나 LSI 등의 반도체 소자, 액정 표시 소자, 촬상 소자 (CCD등), 박막 자기 헤드, 마이크로 머신 등) 의 제조예의 플로우 차트를 나타내는 도면이다. 도 7 에 나타내는 바와 같이, 우선, 단계 S101 (설계 단계) 에 있어서, 디바이스 (마이크로 디바이스) 의 기능과 성능 설계 (예를 들어, 반도체 디바이스의 회로설계 등) 를 실시하고, 그 기능을 실현하기 위한 패턴 설계를 실시한다. 이어서, 단계 S102 (마스크 제작 단계) 에 있어서, 설계한 회로 패턴을 형성한 마스크 (레티클 (R) 등) 를 제작한다. 한편, 단계 S103 (기판 제조 단계) 에 있어서, 실리콘, 유리 플레이트 등의 재료를 이용하여 기판 (실리콘 재료를 이용했을 경우에는 웨이퍼 (W) 가 됨) 을 제조한다.
다음으로, 단계 S104 (기판 처리 단계) 에 있어서, 단계 S101∼S103 에서 준비한 마스크와 기판을 사용하여, 후술하는 바와 같이, 리소그래피 기술 등에 의해 기판 상에 실제의 회로 등을 형성한다. 이어서, 단계 S105 (디바이스 조립 단계) 에 있어서, 단계 S104 에서 처리된 기판을 이용하여 디바이스 조립을 실시한다. 단계 S105 에는, 다이싱 공정, 본딩 공정, 및 팩키징 공정 (칩 봉입 등) 등의 공정이 필요에 따라 포함된다.
마지막으로, 단계 S106 (검사 단계) 에 있어서, 단계 S105 에서 제작된 디바이스의 동작 확인 테스트, 내구성 테스트 등의 검사를 실시한다. 이러한 공정을 거친 후에 디바이스가 완성되어, 이것이 출하된다.
도 8 은, 반도체 디바이스의 경우에 있어서의, 도 7 의 단계 S104 의 상세한 플로우의 일례를 나타내는 도면이다. 도 8 에 있어서, 단계 S111 (산화 단계) 에서는, 웨이퍼 (W) 의 표면을 산화시킨다. 단계 S112 (CVD 단계) 에서는 웨이퍼 (W) 표면에 절연막을 형성시킨다. 단계 S113 (전극 형성 단계) 에서는 웨이퍼 (W) 상에 전극을 증착에 의해 형성시킨다. 단계 S114 (이온 주입 단계) 에서는 웨이퍼 (W) 에 이온을 주입한다. 이상의 단계 S111∼S114 의 각각은, 웨이퍼 처리의 각 단계의 전(前)처리 공정을 구성하고 있고, 각 단계에 있어서 필요한 처리에 따라 선택되어 실행된다.
웨이퍼 프로세스의 각 단계에 있어서, 상기 기술한 전처리 공정이 종료되면, 이하와 같이 하여 후처리 공정이 실행된다. 후처리 공정에서는, 우선, 단계 S115 (레지스트 형성 단계) 에 있어서, 웨이퍼 (W) 에 감광제를 도포한다. 이 어서, 단계 S116 (노광 단계) 에 있어서, 먼저 설명한 리소그래피 시스템 (노광 장치 (10)) 에 의해 마스크 (레티클 (R)) 의 회로 패턴을 웨이퍼 (W) 상에 전사한다. 다음에, 단계 S117 (현상 단계) 에서는 노광된 웨이퍼 (W) 를 현상하여, 단계 S118 (에칭 단계) 에 있어서, 레지스트가 잔존하고 있는 부분 이외의 부분의 노출 부재를 에칭에 의해 제거한다. 단계 S119 (레지스트 제거 단계) 에 있어서, 에칭이 완료되어 불필요해진 레지스트를 제거한다.
이들의 전처리 공정과 후처리 공정을 반복하여 실시함으로써, 웨이퍼 (W)상에 다중으로 회로 패턴이 형성된다. 이상 설명한 실시 형태의 디바이스 제조 방법을 이용하면, 노광 공정 (단계 S116) 에 있어서 상기의 노광 장치 (10) 가 이용되어 진공 자외역의 노광광에 의해 해상력의 향상이 가능해지고, 또한 노광량 제어를 고정밀도로 실시할 수 있다. 따라서, 결과적으로 최소 선폭이 O.1㎛ 정도의 고집적도의 디바이스를 수율 좋게 생산할 수 있다.

Claims (16)

  1. 고정부와,
    광학 요소를 이동시켜, 상기 고정부에 대한 광학 요소의 위치 및 자세의 적어도 하나를 조정하는 구동 기구와,
    상기 고정부에 설치되고 상기 광학 요소 및 상기 구동 기구 중 적어도 일방에 진동이 전달되는 것을 억제하는 댐퍼 기구를 구비하고,
    상기 구동 기구 및 상기 댐퍼 기구는 상기 고정부에 고정된, 광학 요소 구동장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 댐퍼 기구는, 질량체와, 상기 질량체를 상기 고정부에 대해서 변위 가능하게 지지하는 탄성체와, 상기 탄성체가 탄성 변형되었을 때에 상기 질량체가 변위되는 것을 억제하는 제진부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 요소 구동장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 댐퍼 기구는 상기 질량체, 상기 탄성체 및 상기 제진부재를 수용하는 기밀실을 구획하는 케이싱을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 요소 구동장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 댐퍼 기구는,
    기밀실을 구획하는 케이싱과,
    상기 케이싱의 외측에 배치되고, 상기 고정부가 진동했을 때에 탄성 변형되는 탄성체와,
    상기 기밀실에 배치되는 질량체와,
    상기 기밀실에 있어서, 상기 질량체와 상기 케이싱 사이에 배치되어, 상기 질량체의 진동을 흡수하는 제진부재를 구비하고,
    상기 질량체는 상기 제진부재에만 접촉되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 요소 구동장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 요소는, 상기 구동 기구를 통하여 상기 고정부에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 요소 구동장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 기구는, 상기 광학 요소를 상기 고정부에 대해서 서로 다른 6 개의 방향으로 구동시키는, 6 자유도를 갖는 패럴렐 링크 기구를 포함하고,
    상기 패럴렐 링크 기구는, 각각이 2 개 1 조의 링크로 이루어지는 복수의 링크 쌍을 포함하며, 상기 복수의 링크 쌍은 상기 고정부에 분산되어 장착되어 있고,
    상기 댐퍼 기구는 상기 고정부에 분산되어 장착된 복수의 댐퍼 기구 중 하나이며, 각 댐퍼 기구는 상기 구동 기구의 인접하는 2 개의 링크 쌍 사이에 배치되어 있는, 광학 요소 구동장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 기구와 상기 댐퍼 기구의 양방이 상기 고정부에 고정되어 있고, 상기 구동 기구가 상기 광학 요소를 이동시킬 때에 상기 고정부는 부동인, 광학 요소 구동장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 댐퍼 기구는 상기 구동 기구로부터 떨어진 위치에 있어서 상기 고정부에 고정되어 있는, 광학 요소 구동장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 댐퍼 기구는 상기 고정부에만 고정되어 있는, 광학 요소 구동장치.
  10. 소정의 패턴을 기판 상에 투영하는 투영 광학계로서,
    광학 요소와,
    상기 광학 요소의 위치 및 자세 중 적어도 일방을 조정하는 제 1 항 내지 제 9 항에 중 어느 한 항에 기재된 광학 요소 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 광학 요소를 수용하는 경통 유닛을 추가로 구비하고,
    상기 고정부는 상기 경통 유닛의 일부에 부동으로 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 경통 유닛과 상기 고정부 사이에 배치되고, 상기 경통 유닛에 대한 상기 고정부의 위치를 조정하는 위치 조정 부재를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 고정부는 상기 광학 요소를 수용하는 경통 유닛인 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 광학 요소를 수용하는 경통 유닛을 추가로 구비하고, 상기 댐퍼 기구는 상기 고정부와 상기 경통 유닛의 양방에 접촉되고, 상기 고정부는, 상기 댐퍼 기구를 통하여 상기 경통 유닛에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 광학계.
  15. 제 10 항에 기재된 투영 광학계를 통하여 소정의 패턴을 기판 상에 노광하는, 노광 장치.
  16. 제 15 항에 기재된 노광 장치를 이용하여 노광을 실시하는 리소그래피 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스의 제조 방법.
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