KR101249479B1 - Resin composition and copper foil with resin obtained by using the resin composition - Google Patents

Resin composition and copper foil with resin obtained by using the resin composition Download PDF

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Abstract

프린트 배선판 제조용 동박과의 사이에서의 양호한 밀착성을 구비하고, 또한 난연성을 구비하는 절연 수지층의 형성이 가능한 수지 조성물 및 수지부착 동박 등의 제공을 목적으로 한다. 이 목적을 달성하기 위하여, 프린트 배선판의 절연층을 형성하는 수지 조성물로서, A성분으로서 에폭시 당량이 200 이하이고, 25℃에서 액상인 비스페놀계 에폭시 수지, B성분으로서 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머, C성분으로서 가교제, D성분으로서 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판, E성분으로서 난연성 에폭시 수지, F성분으로서 다작용 에폭시 수지, 이것들의 각 성분을 기본 조성으로 하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물을 채용한다.It aims at providing the resin composition which can provide formation of the insulated resin layer which has favorable adhesiveness with the copper foil for printed wiring board manufactures, and is equipped with a flame-retardant, copper foil with resin, etc. In order to achieve this object, a resin composition for forming an insulating layer of a printed wiring board, comprising: a bisphenol-based epoxy resin which is an epoxy equivalent of 200 or less as an A component, a liquid at 25 ° C, a crosslinkable functional group as a B component, Crosslinking agent as C component, 4,4'-diaminodiphenylsulfone or 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane as D component, flame-retardant epoxy resin as E component, polyfunctional as F component An epoxy resin and a resin composition characterized by having each of these components as a basic composition are employed.

Description

수지 조성물 및 그 수지 조성물을 이용하여 얻어진 수지부착 동박{RESIN COMPOSITION AND COPPER FOIL WITH RESIN OBTAINED BY USING THE RESIN COMPOSITION}Copper foil with resin obtained using the resin composition and this resin composition RESIN COMPOSITION AND COPPER FOIL WITH RESIN OBTAINED BY USING THE RESIN COMPOSITION

본 발명은, 프린트 배선판의 절연층 구성용 수지 조성물 및 수지부착 동박 및 수지부착 동박의 제조 방법 등에 관한 것이다.This invention relates to the resin composition for insulating layer constitution of a printed wiring board, the manufacturing method of copper foil with resin, copper foil with resin, etc.

수지부착 동박은 프린트 배선판 제조 분야에서 다양한 사용 목적하에 이용되어 왔다. 예를 들어, 특허 문헌 1에는, 주변의 동박이 노출된 여백부가 있게 수지를 동박의 표면에 형성한 수지부착 동박을 채용하여 수지부착 동박의 뒷면에서의 타흔(打痕)의 발생을 방지하는 것이 개시되며, 수지부착 동박의 형태를 프레스 가공시의 타흔의 방지에 이용하고 있다.Resin-clad copper foil has been used for various purposes in the manufacture of printed wiring boards. For example, Patent Literature 1 employs a resin-clad copper foil in which resin is formed on the surface of the copper foil with a marginal portion where the surrounding copper foil is exposed to prevent occurrence of scars on the back surface of the resin-clad copper foil. It discloses and uses the form of the resin foil copper foil for prevention of the damage at the time of a press working.

또한, 특허 문헌 2에는, 빌드업 프린트 배선판에서 빌드업층을 형성하기 위하여 수지부착 동박을 코어층에 적층하는 제조 방법에 있어서, 적층 시 코어층 IVH 근방의 동박 함몰을 억제하여 레지스트용 드라이 필름의 밀착성이 양호하여 기포의 발생이 없어 결과적으로 미세 패턴을 높은 정밀도로 얻는 것을 목적으로 하여, 코어층 IVH에 수지부착 동박의 수지층의 수지 성분을 유입시켜 영향을 받지 않는 함몰로 억제하기 위하여 필요한 두께의 동박의 수지부착 동박을 이용하는 것이 개시 되어 있다.In addition, Patent Document 2 discloses a method for laminating a resin-clad copper foil to a core layer in order to form a build-up layer in a build-up printed wiring board, wherein the adhesion of the dry film for resist is suppressed by suppressing copper foil depression near the core layer IVH during lamination. This is satisfactory, and there is no bubble, and consequently, a fine pattern can be obtained with high accuracy, and the resin component of the resin layer of the resin-clad copper foil is introduced into the core layer IVH to suppress depressions that are not affected. The use of the copper foil with resin of copper foil is disclosed.

그 밖에, 수지부착 동박은 그 수지층에 골격재를 이용하지 않기 때문에 내(耐)마이그레이션성이 뛰어나고, 유리 천(glass cloth)을 골격재로서 이용한 프리프레그와 달리 천의 눈이 기판 표면에 도드라지는 것을 방지하는 용도 등으로 이용되어 왔다. 예를 들어, 특허 문헌 3에는, 고전압에서 사용해도 절연 열화의 우려가 없고, 또한 비용 증가가 충분히 억제가능하게 한 프린트 배선판 등의 제공을 목적으로 하여, 유리 섬유 기판재와 배선층 및 배선 패턴 사이에 유리 섬유를 포함하지 않은 절연막을 마련하여, 배선층 및 배선 패턴이 유리 섬유 기판재 내에 있는 유리 섬유에 접촉하지 않게 함에 있어, 상기 유리 섬유를 포함하지 않는 절연막이 절연 수지부착 동박의 절연 수지 부분에 형성되고, 상기 배선 패턴이 형성된 동박층이 이 절연 수지부착 동박의 동박 부분에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판을 채용하는 것이 개시되어 있다. 이 결과, 내마이그레이션성이 향상되고, 절연층과 배선층 및 배선 패턴의 접착 강도가 향상되어, 높은 신뢰성과 긴 수명을 얻을 수 있다.In addition, since the copper foil with resin does not use a skeleton material for the resin layer, it has excellent migration resistance, and unlike the prepreg that uses a glass cloth as a skeleton material, the eyes of the cloth are draped on the substrate surface. It has been used for the purpose of preventing losing. For example, Patent Document 3 is provided between a glass fiber substrate material, a wiring layer, and a wiring pattern for the purpose of providing a printed wiring board which has no fear of insulation deterioration even when used at a high voltage, and which can increase the cost sufficiently. The insulating film which does not contain glass fiber is provided, and the wiring layer and wiring pattern do not contact the glass fiber in a glass fiber substrate material, and the insulating film which does not contain the said glass fiber is formed in the insulating resin part of copper foil with insulating resin. It is disclosed that the copper foil layer in which the said wiring pattern was formed is formed in the copper foil part of this insulated resin copper foil, and employ | adopts the printed wiring board characterized by the above-mentioned. As a result, migration resistance improves, the adhesive strength of an insulating layer, a wiring layer, and a wiring pattern improves, and high reliability and a long lifetime can be obtained.

이상으로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 수지부착 동박은 프린트 배선판의 형상에 기인하는 단점을 보완하는 용도로 사용되어 왔다. 그런데 최근에는 그 수지부착 동박을 구성하는 동박의 로우 프로파일화가 요구되어 왔다. 즉, 동박의 수지층을 형성하는 측의 동박의 표면 거칠기가 낮은 제품이 요구되어 왔다. 동박을 에칭 가공하여 회로를 형성할 때의 에칭 정밀도를 향상시켜, 미세 피치 회로의 형성을 용이하게 할 수 있기 때문이다. 또한, 고주파 신호의 전송을 행하는 경우에, 전 송 손실이 적은 프린트 배선판을 제공할 수 있기 때문이다.As can be understood from the above, the resin-clad copper foil has been used for the purpose of supplementing the disadvantage caused by the shape of a printed wiring board. By the way, the low profile of the copper foil which comprises this resin foil with resin has been calculated | required in recent years. That is, the product with the low surface roughness of the copper foil of the side which forms the resin layer of copper foil has been calculated | required. It is because the etching precision at the time of etching a copper foil and forming a circuit can be improved, and formation of a fine pitch circuit can be made easy. It is also possible to provide a printed wiring board with less transmission loss when transmitting high frequency signals.

이와 같은 요구에 대하여, 동박의 접합면에 조화(粗化) 처리를 실시하지 않은 무조화(無粗化) 동박이 사용되게 되어 왔다. 당초, 이 무조화 동박은 FR-4 그레이드의 프리프레그 등의 절연층 구성 재료에 대하여 가열을 행하고 프레스 가공하여 접합되어 동장 적층판(銅張積層板)으로 가공되어 이용되고 있었다. 이와 같은 일반적인 방법으로 동장 적층판을 제조하면, 무조화 동박과 프리프레그 등의 절연층 구성 재료 사이에서의 밀착 안정성에 관련한 문제가 있었다.In response to such a demand, an unharmonized copper foil which has not been subjected to a roughening treatment on the bonding surface of the copper foil has been used. Initially, this unharmonized copper foil was heated, pressed, and bonded to insulating layer constituent materials such as FR-4 grade prepreg, and then processed into a copper clad laminate. When manufacturing a copper clad laminated board by such a general method, there existed a problem regarding adhesive stability between insulation layer component materials, such as an unharmonized copper foil and a prepreg.

그래서, 특허 문헌 4에 개시되어 있는 바와 같이, 무조화 동박을 수지부착 동박의 형태로 이용하는 것이 제창되어 왔다. 이 특허 문헌 4에는, 조화 동박을 이용한 경우에 필적하는 박리 강도와 에칭 처리 후에 동 입자가 수지 중에 남지 않는 회로 형성에 뛰어난 동장 적층판용 동박의 제공을 목적으로 하여, 무조화 동박에 2층 이상의 접착층을 마련하여 이루어지는 동장 적층판용 동박에 있어서, 상기 접착층의 1층이 폴리비닐아세탈 수지 100중량부에 에폭시 수지 1 ~ 50 미만 중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 동장 적층판용 동박이 개시되어 있다.Therefore, as disclosed in Patent Literature 4, it has been suggested to use an uncoated copper foil in the form of a resin-clad copper foil. In this patent document 4, an adhesive layer of two or more layers is provided on an uncoated copper foil for the purpose of providing a copper foil for copper-clad laminates excellent in circuit formation in which copper particles do not remain in the resin after etching treatment and comparable peeling strength when a roughened copper foil is used. In the copper foil for copper clad laminated board which provides a WHEREIN, 1 layer of the said contact bonding layers contains 1-50 weight part of epoxy resins in 100 weight part of polyvinyl acetal resins, The copper foil for copper clad laminated boards is disclosed.

또한, 수지부착 동박에 대해서는 그 수지층에 대한 난연화의 요구도 행해져 왔다. 이 요구에 부응하기 위하여 본 출원인은 바람직한 수지부착 동박으로서 특허 문헌 5에 개시한 발명을 제안하였다. 특허 문헌 5에는, 할로겐 원소를 포함하지 않고, 또한 높은 난연성을 가지고, 우수한 내수성, 내열성, 및 기재와 동박 사이의 양호한 박리 강도를 가지는 수지부착 동박의 제공을 목적으로 하여, 질소가 5 ~ 25중량%인 에폭시 수지 경화제를 포함하는 에폭시계 수지와, 열경화성을 가지는 말레 이미드 화합물을 포함하고, 할로겐 원소를 함유하지 않는 조성을 가지는 것을 특징으로 하는 수지 화합물을 수지부착 동박의 수지층 구성용으로 이용하였다.Moreover, about the resin foil copper foil, the request | requirement of the flame retardance to the resin layer has also been performed. In order to meet this demand, the present applicant has proposed the invention disclosed in Patent Document 5 as a preferred resin-clad copper foil. Patent Document 5 contains 5 to 25 weights of nitrogen for the purpose of providing a resin-containing copper foil that does not contain a halogen element and has high flame retardancy and has excellent water resistance, heat resistance, and good peel strength between the substrate and the copper foil. The resin compound containing the epoxy resin containing the epoxy resin hardening | curing agent which is%, and the maleimide compound which has thermosetting, and does not contain a halogen element was used for the resin layer structure of the resin foil copper foil. .

또한, 특허 문헌 6에는, 에칭 잔류물이나 할로잉(haloing) 현상의 원인이 되는 동박의 조화 처리를 행하지 않아도 동박 표면에 견고하게 밀착되고, 동박과 기재의 높은 접착성이 도모되고, 또한 취급성이 뛰어난 접착제 및 접착제 부착 동박이 개시되어 있다. 특허 문헌 6에서 말하는 접착제는, 수지 성분 총량에 대하여 에폭시 수지 40 ~ 70중량%, 폴리비닐아세탈 수지 20 ~ 50중량%, 멜라민 수지 또는 우레탄 수지 0.1 ~ 20중량%를 함유하고, 이 에폭시 수지의 5 ~ 80중량%가 고무 변성 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, even if it does not carry out the roughening process of the copper foil which causes an etching residue and a halo phenomenon, patent document 6 adhere | attaches firmly to the copper foil surface, high adhesiveness of copper foil and a base material is attained, and also handleability This outstanding adhesive agent and an adhesive copper foil with an adhesive are disclosed. The adhesive agent mentioned in patent document 6 contains 40-70 weight% of epoxy resins, 20-50 weight% of polyvinyl acetal resins, melamine resin or urethane resin 0.1-20 weight% with respect to the resin component total amount, and 5 of this epoxy resin ~ 80% by weight is characterized in that the rubber-modified epoxy resin.

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 평11-348177호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-348177

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 제2001-24324호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-24324

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 제2001-244589호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open No. 2001-244589

특허 문헌 4: 일본 특허 공개 평11-10794호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-10794

특허 문헌 5: 일본 특허 공개 제2002-179772호 공보Patent Document 5: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-179772

특허 문헌 6: 일본 특허 공개 평08-193188호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-193188

[발명이 해결하고자 하는 과제][Problems to be solved by the invention]

그렇지만, 상기 특허 문헌 4에 개시된 발명에서는, 무조화 동박에 2층 이상의 접착층을 마련할 필요가 있어, 제1층의 수지층을 형성하고 또한 제2층의 수지층을 형성하기 위하여 수지층 제조 공정이 길어져 생산 비용이 상승함과 함께 생산성이 낮아진다.However, in the invention disclosed in Patent Document 4, it is necessary to provide an adhesive layer of two or more layers on an uncoated copper foil, and to form a resin layer of the first layer and to form a resin layer of the second layer. This increases production costs and lowers productivity.

또한, 상기 특허 문헌 5에 개시된 발명에서는, 동박의 수지층 형성면의 조도(粗度)가 낮아지면 경화된 수지층과 동박 사이의 박리 강도가 불충분해져, 미세 피치 회로 형성용 동장 적층판으로의 사용에는 불만이 남게 되어, 한층 더 박리 강도의 향상 및 저조도 동박의 사용이 가능한 수지 조성물이 요구되어 왔다.In addition, in the invention disclosed in Patent Document 5, when the roughness of the resin layer forming surface of the copper foil is lowered, the peeling strength between the cured resin layer and the copper foil becomes insufficient, and it is used as a copper clad laminate for forming a fine pitch circuit. Dissatisfaction left, and the resin composition which can improve the peeling strength and can use the low roughness copper foil further was calculated | required.

또한, 최근에는 무조화 동박을 이용하는 것이 일반화되고 있으며, 수지부착 동박의 동박으로서도 이용되고 있다. 이와 같은 경우, 무조화 동박과 수지층과의 박리 강도가 0.6kgf/㎝ 이상이면 사용 가능하다고 일컬어져 왔지만, 한층 더 절연 수지 기재와의 밀착성 향상이 요구되고 있다. 이 관점에서만 고려하면 상술한 특허 문헌 6에 개시된 수지 조성은, 조화 처리를 행하지 않은 동박 표면에서도 견고하게 밀착되고, 동박과 기재와의 높은 접착성이 도모되는 접착제 및 접착제부착 동박이 개시되어 있다. 그러나, 특허 문헌 6에 개시된 접착제로서 이용하는 수지 조성물은 난연성이 떨어지기 때문에, 프린트 배선판용으로서의 사용이 곤란하였다.Moreover, in recent years, using a non-harmonic copper foil is common and it is used also as copper foil of a copper foil with resin. In such a case, it has been said that it can be used if the peeling strength of an unharmonized copper foil and a resin layer is 0.6 kgf / cm or more, but the improvement of adhesiveness with an insulated resin base material is calculated | required further. Considering only from this viewpoint, the resin composition disclosed in patent document 6 mentioned above is firmly adhered also to the copper foil surface which has not performed roughening process, and the adhesive agent and adhesive bond copper foil which high adhesiveness of copper foil and a base material are aimed at are disclosed. However, since the resin composition used as an adhesive agent disclosed in Patent Document 6 is poor in flame retardancy, its use as a printed wiring board was difficult.

이상으로부터 본 발명은, 이 밀착성 향상의 요구에 부응할 수 있고, 또한 난연성, 내(耐)흡습성 등의 제 특성이 뛰어난 경화 수지층의 형성이 가능한 수지 조성물 및 수지부착 동박의 제공을 목적으로 한다.As mentioned above, an object of this invention is to provide the resin composition which can respond to the request | requirement of this adhesive improvement, and the formation of the cured resin layer excellent in the characteristics, such as flame retardance and hygroscopic resistance, and a copper foil with resin. .

[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]

그래서, 본 발명자들은 연구를 거듭한 결과, 상술한 바와 같은 문제점을 해결할 수 있는 수지 조성물에 이르렀다. 이하, 이 본 발명의 개요에 관하여 기술한다.Therefore, the inventors of the present invention have repeatedly studied, and have come to a resin composition that can solve the problems described above. Hereinafter, the outline | summary of this invention is described.

본 발명에 따른 수지 조성물: 본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 프린트 배선판의 절연층을 형성하기 위하여 이용하는 수지 조성물로서, 이하의 A성분 내지 F성분의 각 성분을 포함하는 것을 특징으로 한다.Resin composition concerning this invention: The resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention is a resin composition used in order to form the insulating layer of a printed wiring board, It is characterized by including each component of the following A component-F component.

A성분: 에폭시 당량이 200 이하이고, 25℃에서 액상인 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 AD형 에폭시 수지로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상.A component: 1 type (s) or 2 or more types selected from the group which consists of bisphenol-A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, and bisphenol AD-type epoxy resin which are liquid equivalent at 25 degreeC and are liquid at 25 degreeC.

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머.Component B: Linear polymer having a crosslinkable functional group.

C성분: 가교제(단, A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능.)C component: Crosslinking agent (However, if A component functions as a crosslinking agent of B component, it can be omitted.)

D성분: 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판.D-component: 4,4'-diaminodiphenylsulfone or 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane.

E성분: 난연성 에폭시 수지. E component: Flame-retardant epoxy resin.

F성분: 다작용 에폭시 수지.F component: Multifunctional epoxy resin.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 상기 B성분인 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로 폴리비닐아세탈 수지, 폴리아미드이미드 수지를 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention uses polyvinyl acetal resin and polyamideimide resin as a linear polymer which has a crosslinkable functional group which is said B component.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 상기 C성분인 가교제로 우레탄계 수지를 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable that urethane resin is used for the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention as a crosslinking agent which is said C component.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 상기 E성분인 난연성 에폭시 수지로서, 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 구비하는 테트라브로모비스페놀 A로부터의 유도체로서 얻어지는 화학식 7에 나타내는 구조식을 구비하는 브롬화 에폭시 수지, 화학식 8에 나타내는 구조식을 구비하는 브롬화 에폭시 수지의 1종 또는 2종을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다.The resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention is a flame-retardant epoxy resin which is the said E component, The brominated epoxy resin provided with the structural formula shown in General formula (7) obtained as a derivative from tetrabromobisphenol A which has two or more epoxy groups in a molecule | numerator, It is preferable to mix and use 1 type or 2 types of brominated epoxy resin which has a structural formula shown in General formula (8).

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 상기 E성분인 난연성 에폭시 수지로서, 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 구비하는 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌(phosphaphenanthrene)-10-옥사이드 유도체인 인(燐) 함유 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다.The resin composition for manufacturing a printed wiring board according to the present invention is a flame-retardant epoxy resin which is the E component, and has 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 having two or more epoxy groups in a molecule thereof. It is preferable to use the phosphorus containing epoxy resin which is an oxide derivative.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 상기 E성분인 난연성 에폭시 수지로서, 화학식 10 내지 화학식 12 중 어느 하나에 나타내는 구조식을 구비하는 인 함유 에폭시 수지의 1종 또는 2종을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다.The resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention is a flame-retardant epoxy resin which is said E component, It is preferable to mix and use 1 type or 2 types of the phosphorus containing epoxy resin which has a structural formula shown in any one of general formula (10)-(12). Do.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, F성분의 다작용 에폭시 수지로서 오르토(ortho) 크레졸 노볼락형 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable that the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention uses an ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin of F component.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이며, E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위로 함유하게 E성분의 첨가량을 정하는 것이 바람직하다.When the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention makes the weight of a resin composition 100 weight part, A component 3 weight part-20 weight part, B component 3 weight part-30 weight part, C component 3 weight part- 10 parts by weight (can be omitted when component A functions as a crosslinking agent of component B), 5 parts by weight to 20 parts by weight of D component, 3 parts by weight to 20 parts by weight of F component, and a bromine atom derived from E component. It is preferable to determine the addition amount of E component so that it may contain in the range of 12 weight%-18 weight%.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이며, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 E성분의 첨가량을 정하는 것이 바람직하다.When the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention makes the weight of a resin composition 100 weight part, A component 3 weight part-20 weight part, B component 3 weight part-30 weight part, C component 3 weight part- 10 parts by weight (can be omitted when A component functions as a crosslinking agent of B component), 5 parts by weight to 20 parts by weight of D component, 3 parts by weight to 20 parts by weight of F component, and 100% by weight of the resin composition It is preferable to determine the addition amount of E component so that the phosphorus atom derived from E component may be contained in 0.5 weight%-3.0 weight% when it is set to.

또한, 본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, G성분으로서 경화 촉진제를 첨가하는 것도 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention adds a hardening accelerator as G component.

본 발명에 따른 수지부착 동박의 제조 방법: 본 발명에 따른 수지부착 동박의 제조 방법에 있어서, 이하의 공정 a, 공정 b의 순서로 수지층의 형성에 이용하는 수지 바니시를 조제하고, 당해 수지 바니시를 동박의 표면에 도포하고 건조시킴으로써 평균 두께 5㎛ ~ 100㎛의 반경화 수지막으로서 수지부착 동박으로 하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박의 제조 방법이다.The manufacturing method of the copper foil with resin which concerns on this invention: In the manufacturing method of the copper foil with resin which concerns on this invention, the resin varnish used for formation of a resin layer is prepared in the order of the following process a and the process b, and the said resin varnish is prepared. It is a manufacturing method of the resin foil copper foil for printed wiring board manufacture which apply | coats to the surface of copper foil, and makes it the resin foil copper foil as a semi-hardened resin film of average thickness of 5 micrometers-100 micrometers.

공정 a: 상기 A성분, B성분, C성분(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능), D성분, E성분, F성분, G성분 중, A성분 내지 F성분을 필수 성분으로 한 수지 조성물의 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위 또는 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 각 성분을 혼합하여 수지 조성물로 한다.Process a: The said A component, B component, C component (it can omit when A component functions as a crosslinking agent of B component), D component, E component, F component, G component, A component-F component are essential components When the weight of the resin composition is 100% by weight, each component is mixed so as to contain a bromine atom derived from E component in a range of 12% to 18% by weight or a phosphorus atom in a range of 0.5% to 3.0% by weight. It is set as the resin composition.

공정 b: 상기 수지 조성물을, 유기용제를 이용해 용해하여 수지 고형분량이 25중량% ~ 50중량%인 수지 바니시로 한다.Process b: The said resin composition is melt | dissolved using an organic solvent, and it is set as the resin varnish whose resin solid content is 25 weight%-50 weight%.

그리고, 상기 공정 a의 수지 조성물에, G성분으로서 경화 촉진제를 첨가하는 것도 바람직하다.And it is also preferable to add a hardening accelerator to the resin composition of the said process a as G component.

그리고, 여기에서 이용하는 상기 동박은, 그 반경화 수지층의 형성면이 표면 거칠기(Rzjis)가 3.0㎛ 이하인 저조도 표면을 구비하는 것을 이용하는 것이 바람직하다.And as for the said copper foil used here, it is preferable to use what has the low roughness surface whose surface roughness Rzjis is 3.0 micrometers or less in the formation surface of the semi-hardened resin layer.

또한, 상기 동박의 반경화 수지층을 형성하는 표면에 실란 커플링 처리층을 구비하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to provide a silane coupling process layer in the surface which forms the semi-hardened resin layer of the said copper foil.

본 발명에 따른 프린트 배선판: 본 발명에 따른 프린트 배선판은, 상술한 수지 조성물을 이용하여 절연층을 구성한 것을 특징으로 하는 것이다.Printed wiring board which concerns on this invention: The printed wiring board which concerns on this invention comprised the insulating layer using the resin composition mentioned above, It is characterized by the above-mentioned.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명에 따른 수지 조성물은, 상술한 A성분, B성분, C성분(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능), D성분, E성분, F성분, G성분 중, A성분 내지 F성분을 필수 성분으로 하고, G성분을 필요에 따라서 첨가한 조성을 구비한다. 그리고, 이때의 각 성분으로서, 특성의 성분 및 적정한 배합량을 채용한다. 특히, D성분인 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판을 이용하는 점에 특징을 가진다. 이와 같은 수지 조성을 채용함으로써, 무조화 동박과 이 수지 조성물로 구성한 수지층은 프레스하여 경화시키면 당해 무조화 동박과 경화 수지층 사이에서 박리 강도로서 0.8kgf/㎝ 이상의 레벨로 밀착성이 향상되고, 동시에 난연성, 내흡습성 등의 제 특성이 뛰어난 경화 수지층이 얻어진다. 따라서, 본 발명에 따른 수지 조성물을 이용하여 동박의 표면에 반경화 수지층을 형성한 수지부착 동박을 제조하면, 미세 피치 회로의 형성에 이용하는 저조도의 동박 사용이 적극적으로 가능하여, 고품질의 수지부착 동박을 얻을 수 있다.The resin composition which concerns on this invention is A component, B component, C component (can be omitted when A component functions as a crosslinking agent of B component), D component, E component, F component, and G component among A component. It is equipped with the composition which made F-component as an essential component and added G component as needed. And as each component at this time, the component of a characteristic and the appropriate compounding quantity are employ | adopted. In particular, it is characterized by using 4,4'-diaminodiphenylsulfone or 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane which is a D component. By employing such a resin composition, when the uncoated copper foil and the resin layer composed of this resin composition are pressed and cured, the adhesion is improved to a level of 0.8 kgf / cm or more as peel strength between the uncoated copper foil and the cured resin layer, and at the same time, flame retardant properties are achieved. The cured resin layer excellent in the agent characteristics, such as moisture absorption and the like, is obtained. Therefore, when manufacturing the resin-clad copper foil which formed the semi-hardened resin layer on the surface of copper foil using the resin composition which concerns on this invention, use of the low roughness copper foil used for formation of a fine pitch circuit is possible, and high quality resin adhesion is carried out. Copper foil can be obtained.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 관하여 항목별로 기술한다.Best Mode for Carrying Out the Invention Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described item by item.

<수지 조성물의 형태><Form of Resin Composition>

본 발명에 따른 수지 조성물은, 프린트 배선판의 절연층 구성용으로 이용하는 것으로, 동박과의 밀착성이 뛰어나고, 경화된 후의 경화 수지층은 난연성, 내흡습성 등의 제 특성이 뛰어난 것이 된다. 이하, 본 발명에 따른 수지 조성물로 형성한 절연 수지층과 동박과의 밀착성을 중심으로 기술한다. 그리고, 이 수지 조성물은 이하의 A성분 내지 F성분의 각 성분을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이하, 각 성분별로 설명한다.The resin composition which concerns on this invention is used for the insulation layer structure of a printed wiring board, and is excellent in adhesiveness with copper foil, and the cured resin layer after hardening becomes excellent in the characteristics, such as flame retardance and moisture absorption resistance. Hereinafter, the adhesiveness of the insulated resin layer formed from the resin composition concerning this invention, and copper foil is described mainly. And this resin composition is characterized by including each component of the following A component-F component. Hereinafter, each component is demonstrated.

A성분: 이 A성분은, 소위 비스페놀계 에폭시 수지이다. 그리고, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 AD형 에폭시 수지로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다. 여기서, 비스페놀계 에폭시 수지를 선택 사용하는 것은 25℃에서 액상인 에폭시 수지로 취급이 용이하고, 반경화 상태의 수지층을 구비하는 수지부착 동박을 제조하면, 수지부착 동박의 휨(컬(Curl) 현상)의 억제 효과가 현저하게 얻어지기 때문이다. 또한, 경화 후의 수지막과 동박과의 양호한 밀착성을 얻는 것이 가능하기 때문이다. 한편, 액상 에폭시가 고순도인 경우에는 과냉되면 상온으로 되돌려도 결정화 상태가 유지되어 외관상은 고형으로 보이는 것도 있다. 이 경우에는 액상으로 되돌 려 사용하는 것이 가능하기 때문에. 여기서 말하는 액상 에폭시 수지에 포함된다. 또한, 여기서 25℃라는 온도를 명기한 것은 실온 부근에서라는 의미를 명확하게 하기 위해서이다.A component: This A component is what is called a bisphenol-type epoxy resin. And it is preferable to mix and use 1 type (s) or 2 or more types chosen from the group which consists of a bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, and a bisphenol AD-type epoxy resin. Here, the use of the bisphenol-based epoxy resin is easy to handle with a liquid epoxy resin at 25 ° C., and when the resin-clad copper foil having a semi-cured resin layer is produced, the warpage of the resin-clad copper foil (Curl) This is because the effect of suppressing the phenomenon) is remarkably obtained. Moreover, it is because it is possible to obtain favorable adhesiveness of the resin film after hardening, and copper foil. On the other hand, in the case where the liquid epoxy is of high purity, the crystallization state is maintained even when the liquid epoxy is returned to normal temperature, and the appearance may appear to be solid. In this case, it is possible to use the liquid back. It is contained in the liquid epoxy resin here. In addition, the temperature of 25 degreeC was specified here in order to clarify the meaning in the vicinity of room temperature.

그리고, 에폭시 당량이 200 이하인 경우에는, 25℃의 온도에서 액체 상태를 유지할 수 있으므로 수지 조성물의 조제가 용이하고, 수지부착 동박을 제조했을 때의 컬 현상의 억제에도 기여할 수 있다. 여기서, 에폭시 당량의 하한값을 명기하고 있지 않지만, 비스페놀 F형의 최소 단위의 에폭시 당량이 가장 작은 것을 고려하면, 하한값은 150 정도이다. 한편, 여기서 말하는 에폭시 당량이란, 1그램 당량의 에폭시기를 포함하는 수지의 그램수(g/eq)이다. 또한, 상술한 비스페놀계 에폭시 수지이면, 1종을 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 또한, 2종 이상을 혼합하여 이용하는 경우에는 그 혼합비에 관해서도 특별한 한정은 없다.And when epoxy equivalent is 200 or less, since a liquid state can be maintained at the temperature of 25 degreeC, preparation of a resin composition is easy and it can contribute also to suppression of the curl phenomenon at the time of manufacturing copper foil with resin. Although the lower limit of epoxy equivalent is not specified here, when considering that the epoxy equivalent of the minimum unit of bisphenol F type is the smallest, a lower limit is about 150. In addition, the epoxy equivalent here is the number of grams (g / eq) of resin containing a 1-gram equivalent epoxy group. In addition, as long as it is a bisphenol-type epoxy resin mentioned above, you may use individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types. In addition, when mixing 2 or more types and using it, there is no restriction | limiting in particular also about the mixing ratio.

이 비스페놀계 에폭시 수지는 본 발명에서 말하는 수지 조성물을 100중량부로 했을 때 3중량부 ~ 20중량부의 배합 비율로 이용된다. 당해 에폭시 수지가 3중량부 미만인 경우에는 경화 후의 경화 수지층이 취약해져 수지 갈라짐을 일으키기 쉬워진다. 한편, 20중량부를 넘으면 실온에서 반경화 상태인 수지면에 점착성을 발생시키기 때문에 핸들링성이 떨어지고, 오염성도 커져서 바람직하지 않다.This bisphenol-type epoxy resin is used in the compounding ratio of 3 weight part-20 weight part when the resin composition used by this invention is 100 weight part. When the said epoxy resin is less than 3 weight part, the cured resin layer after hardening becomes weak and it will become easy to produce resin splitting. On the other hand, when it exceeds 20 weight part, since adhesiveness will generate | occur | produce on the resin surface which is semi-hardened at room temperature, handling property will fall and contamination will also become large, and it is unpreferable.

B성분: 이 B성분은, 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머이다. 여기서, 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머는 수산기, 카르복실기 등의 에폭시 수지의 경화 반응에 기여하는 작용기를 구비하는 것이 바람직하다. 그리고, 이 가교 가 능한 작용기를 가지는 선형 폴리머는 비점이 50℃ ~ 200℃인 유기용제에 가용인 것이 더욱 바람직하다. 여기서 말하는 작용기를 가지는 선형 폴리머로서, 폴리비닐아세탈 수지, 페녹시 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리아미드이미드 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐아세탈 수지, 폴리아미드이미드 수지의 사용이 바람직하다. 수지 바니시로 가공했을 때의 점도 조정이 용이하기 때문이다.B component: This B component is a linear polymer which has a crosslinkable functional group. Here, it is preferable that the linear polymer which has a crosslinkable functional group is equipped with the functional group which contributes to hardening reaction of epoxy resins, such as a hydroxyl group and a carboxyl group. And it is more preferable that the linear polymer which has this crosslinkable functional group is soluble in the organic solvent whose boiling point is 50 degreeC-200 degreeC. As a linear polymer which has a functional group here, a polyvinyl acetal resin, a phenoxy resin, a polyether sulfone resin, a polyamideimide resin, etc. can be used. Especially, use of polyvinyl acetal resin and polyamide-imide resin is preferable. This is because the viscosity adjustment when processed with a resin varnish is easy.

이 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머는 수지 조성물을 100중량부로 했을 때, 3중량부 ~ 30중량부의 배합 비율로 이용하는 것이 바람직하다. 당해 선형 폴리머가 3중량부 미만인 경우에는 열간 프레스 시에 수지 흐름이 커져 절연 수지층의 두께 제어가 곤란해진다. 이 결과, 제조된 동장 적층판의 단부로부터 수지 분말의 발생이 많이 관찰되어, 분진 발생 방지의 관점에서 바람직하지 않다. 한편, 30중량부를 넘으면 수지 흐름이 작아지지만, 제조된 동장 적층판의 절연층 내에 보이드 등의 결함을 일으키기 쉬워진다.It is preferable to use this linear polymer which has a crosslinkable functional group at the compounding ratio of 3 weight part-30 weight part when making a resin composition 100 weight part. When the said linear polymer is less than 3 weight part, resin flow will become large at the time of hot press, and it will become difficult to control the thickness of an insulated resin layer. As a result, generation | occurrence | production of resin powder is observed a lot from the edge part of the manufactured copper clad laminated board, and it is undesirable from a viewpoint of dust generation prevention. On the other hand, when it exceeds 30 weight part, resin flow will become small, but it becomes easy to produce defects, such as a void, in the insulating layer of the manufactured copper clad laminated board.

또한, 여기에서 말하는 비점이 50℃ ~ 200℃인 유기용제에 가용인 것이 바람직하다고 하고 있는데, 여기에서 말하는 유기용제란, 메탄올, 에탄올, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 시클로헥사논, 에틸셀로솔브 등으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종의 단독 용제 또는 2종 이상의 혼합 용제이다. 비점이 50℃ 미만인 경우에는 가열에 의한 용제의 기산(氣散)이 현저하여 수지 바니시 상태로부터 반경화 수지로 하는 경우에 양호한 반경화 상태의 수지층이 얻기 어려워진다. 한편, 비점이 200℃를 넘는 경우에는 반경화 상태에서의 잔류 용제량이 많아져, 통상 요구되는 휘발 속도를 만족하 지 않아 공업 생산성을 만족하지 않는다.Moreover, although it is said that it is preferable to be soluble in the organic solvent whose boiling point here is 50 degreeC-200 degreeC, The organic solvent here is methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether, and dimethylformamide. , Dimethylacetamide, cyclohexanone, ethyl cellosolve, and the like. One kind of single solvent or two or more kinds of mixed solvents. When boiling point is less than 50 degreeC, the base acid of a solvent by heating becomes remarkable, and when it is set as semi-hardened resin from a resin varnish state, it becomes difficult to obtain a favorable semi-hardened resin layer. On the other hand, when a boiling point exceeds 200 degreeC, the amount of residual solvent in a semi-hardened state will become large and it will not satisfy | fill the required volatilization rate normally, and will not satisfy industrial productivity.

C성분: 이 C성분은, B성분과 가교 반응을 일으키기 위한 가교제이다. 이 가교제로는 우레탄계 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 이 가교제를 첨가하는 경우에는 A성분과 B성분과의 혼합량에 따라 첨가되는 것이며, 본래 엄밀하게 그 배합 비율을 명기할 필요성은 없다고 생각한다. 그렇지만, 수지 조성물을 100중량부로 했을 때 10중량부 이하의 배합 비율로 이용하는 것이 바람직하다. 10중량부를 초과하여 우레탄계 수지인 C성분이 존재하면 반경화 상태에서의 수지층의 내흡습성이 열화되어 경화 후의 수지층이 취약해지기 때문이다. 한편, 이 C성분을 3중량부 미만의 배합 비율로 이용하면, 상기 A성분과 B성분의 혼합량을 고려하면 가교제로서의 효과를 충분히 발휘하지 않게 된다. 따라서, 3중량부 이상 배합하는 것이 바람직하다.C component: This C component is a crosslinking agent for causing crosslinking reaction with B component. It is preferable to use a urethane type resin as this crosslinking agent. When this crosslinking agent is added, it is added according to the mixing amount of A component and B component, and it is thought that there is no need to specify the compounding ratio strictly strictly originally. However, when using a resin composition as 100 weight part, it is preferable to use with the compounding ratio of 10 weight part or less. It is because the hygroscopic resistance of the resin layer in a semi-cured state will deteriorate when C component which is a urethane type resin exceeding 10 weight part becomes weak, and the resin layer after hardening becomes weak. On the other hand, when this C component is used in a blending ratio of less than 3 parts by weight, the effect as a crosslinking agent will not be sufficiently exhibited in consideration of the mixing amount of the A component and the B component. Therefore, it is preferable to mix | blend 3 weight part or more.

그러나, C성분을 생략하는 것이 가능한 경우도 있어 C성분은 필수 성분은 아니다. 즉, A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 C성분의 첨가를 생략할 수 있다. 보다 구체적으로 말하면, 폴리아미드이미드 수지는 에폭시 수지와 가교하는 성질이 있어, B성분에 폴리아미드이미드 수지를 이용하는 경우에는 폴리아미드이미드의 아민 부분이 에폭시 수지와 가교하기 때문에 가교제의 첨가가 불필요해지는 경우가 있다. 그리고, A성분이 B성분의 가교제로서 기능하고 있어도 반응에 충분한 양의 B성분이 존재하지 않는 경우에는 C성분을 병용하는 것도 가능하다. 이와 같은 경우에는 C성분의 첨가량은 수지 조성물을 100중량부로 했을 때, 0중량부 ~ 10중량부의 범위로 이용할 수 있다. 이 범위이면 반경화 상태에서의 수지층의 내흡 습성, 경화 후의 수지층의 가요성(flexibility) 등의 특성에 악영향을 미치지 않기 때문이다. 또한, 보다 바람직하게, A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우의 C성분을 0중량부 ~ 3중량부 미만의 배합 비율로 이용한다. 상술한 A성분 및 B성분의 배합량으로부터 판단하여 C성분이 3중량부를 초과해도 현저한 수지 특성의 향상은 얻어지지 않기 때문이다.However, in some cases, the C component may be omitted, and the C component is not an essential component. That is, when A component functions as a crosslinking agent of B component, addition of C component can be abbreviate | omitted. More specifically, the polyamideimide resin has a property of crosslinking with an epoxy resin, and when the polyamideimide resin is used as the B component, since the amine portion of the polyamideimide crosslinks with the epoxy resin, the addition of a crosslinking agent is unnecessary. There is. And even if A component functions as a crosslinking agent of B component, when B component of quantity sufficient for reaction does not exist, it is also possible to use C component together. In such a case, the amount of the component C added can be used in the range of 0 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin composition. If it is this range, it will not adversely affect the characteristics, such as moisture resistance of the resin layer in a semi-hardened state, the flexibility of the resin layer after hardening. Moreover, More preferably, C component when A component functions as a crosslinking agent of B component is used by the compounding ratio of 0 weight part-less than 3 weight part. It is because remarkable improvement of the resin characteristic is not acquired even if C component exceeds 3 weight part judged from the compounding quantity of A component and B component mentioned above.

D성분: 이 D성분은, 에폭시 수지 경화제이며, 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판을 이용한다. 본 발명에 따른 수지 조성물에서는, 반경화 상태의 수지층의 무조화 동박의 접합면에의 밀착성, 내층 회로를 구비한 내층 코어재에 당해 수지부착 동박의 수지층을 접합할 때의 경화된 수지 표면 및 내층 회로 표면에의 밀착성을 향상시키는 관점에서, 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판을 선택적으로 이용하는 것이 중요하다. 한편, 에폭시 수지에 대한 에폭시 수지 경화제의 첨가량은 반응 당량으로부터의 계산량 또는 실험상 얻어지는 최적량을 채용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 수지 조성물을 100중량부로 하여 이 에폭시 수지 경화제를 5중량부 ~ 20중량부의 범위로 함유하는 것이 바람직하다. 에폭시 수지 경화제가 5중량부 미만인 경우에는, 상기 에폭시 수지의 최저량을 이용해도 충분히 경화된 수지층을 얻기 어려워진다. 한편, 20중량부를 초과하여 에폭시 수지 경화제를 첨가하면, 경화제로서의 양이 과잉해지고, 또한 경화 속도가 너무 빨라 취약한 경화 수지층이 된다.D component: This D component is an epoxy resin hardening | curing agent and uses 4,4'- diamino diphenyl sulfone or 2, 2-bis (4- (4-amino phenoxy) phenyl) propane. In the resin composition which concerns on this invention, the hardened resin surface at the time of bonding the resin layer of the said copper foil with a resin to the inner-layer core material provided with the adhesiveness to the joint surface of the non-harmonic copper foil of the semi-hardened resin layer, and an inner layer circuit. And 4,4'-diaminodiphenylsulfone or 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane is important to improve the adhesion to the inner circuit surface. On the other hand, it is preferable that the addition amount of the epoxy resin hardening | curing agent with respect to an epoxy resin employ | adopts calculation amount from reaction equivalent or the optimal amount obtained experimentally. It is preferable to make this epoxy resin hardening | curing agent into the range of 5 weight part-20 weight part using the resin composition which concerns on this invention as 100 weight part. When an epoxy resin hardener is less than 5 weight part, even if it uses the minimum amount of the said epoxy resin, it will become difficult to obtain the fully hardened resin layer. On the other hand, when an epoxy resin hardening | curing agent is added exceeding 20 weight part, the quantity as a hardening | curing agent becomes excessive, and the hardening rate is too fast, and it becomes a weak hardened resin layer.

E성분: 이 E성분은, 난연성 에폭시 수지이며, 할로겐계의 난연성 에폭시 수지 및 할로겐 프리(Halogen-free)계의 난연성 에폭시 수지의 쌍방의 사용이 가능하 다. 이하, 이것들을 분별하여 설명한다.E component: This E component is a flame-retardant epoxy resin, and can use both a halogen-type flame-retardant epoxy resin and a halogen-free flame-retardant epoxy resin. Hereinafter, these will be classified and described.

할로겐계의 난연성 에폭시 수지로서는, 소위 브롬화 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 브롬화 에폭시 수지란, 에폭시 골격 내에 브롬을 포함한 에폭시 수지를 총칭하는 것이다. 그리고, 본 발명에 따른 수지 조성물의 브롬 원자 함유량을, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 브롬 원자가 12중량% ~ 18중량%의 범위가 되게 할 수 있는 브롬화 에폭시 수지이면 어느 것이나 사용 가능하다. 특히, 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 구비하는 테트라브로모비스페놀 A 또는 그 테트라브로모비스페놀 A의 유도체로서 얻어지는 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 브롬화 에폭시 수지 중에서도 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 경화된 후에도 난연성 효과가 높고, 얻어지는 수지 경화물의 기계 물성이 향상되기 때문에 바람직하다. 참고로 테트라브로모비스페놀 A의 구조식을 화학식 6으로 예시해 둔다. 그리고, 화학식 7에는 테트라브로모비스페놀 A로부터의 유도체로서 얻어지는 비스페놀계 브롬화 에폭시 수지의 구조식을 예시한다.As the halogen flame-retardant epoxy resin, it is preferable to use a so-called brominated epoxy resin. A brominated epoxy resin is generically the epoxy resin containing bromine in an epoxy skeleton. And if the bromine atom content of the resin composition concerning this invention makes the weight of a resin composition 100 weight%, any bromine epoxy resin which can make bromine atom derived from E component be 12 to 18 weight% range. Can be used In particular, it is preferable to use the epoxy resin obtained as tetrabromobisphenol A which has two or more epoxy groups in a molecule | numerator, or derivative of this tetrabromobisphenol A. Among brominated epoxy resins, it is preferable because it is excellent in stability of resin quality in a semi-cured state, a flame retardant effect is high even after curing, and the mechanical properties of the cured resin obtained are improved. For reference, the structural formula of tetrabromobisphenol A is exemplified by the formula (6). In addition, the structural formula of the bisphenol-type brominated epoxy resin obtained as a derivative from tetrabromobisphenol A is illustrated in General formula (7).

Figure 112009079442751-pct00001
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Figure 112009079442751-pct00002
Figure 112009079442751-pct00002

또한, E성분의 브롬화 에폭시 수지로서, 화학식 8에 나타내는 구조식을 구비하는 화합물도 바람직하다. 화학식 7에 나타내는 비스페놀계 브롬화 에폭시 수지와 마찬가지로, 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 동시에 높은 난연성의 부여가 가능하기 때문에 바람직하다. Moreover, as the brominated epoxy resin of E component, the compound provided with the structural formula shown in General formula (8) is also preferable. Similar to the bisphenol-based brominated epoxy resin represented by the formula (7), it is preferable because it is excellent in the stability of the resin quality in the semi-cured state and at the same time can impart high flame retardancy.

Figure 112009079442751-pct00003
Figure 112009079442751-pct00003

그리고, 본 발명에 따른 수지 조성물을 구성하는 E성분은 1종류의 브롬화 에폭시 수지를 단독으로 이용해도 되고 2종류 이상의 브롬화 에폭시 수지를 혼합하여 이용해도 된다. 단, E성분의 총량을 고려하여 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 브롬 원자가 12중량% ~ 18중량%의 범위가 되게 첨가량을 정하는 것이 바람직하다.And the E component which comprises the resin composition which concerns on this invention may be used individually by 1 type of brominated epoxy resin, or may mix and use 2 or more types of brominated epoxy resins. However, when the weight of the resin composition is 100% by weight in consideration of the total amount of the E component, it is preferable to determine the addition amount so that the bromine atom derived from the E component is in the range of 12% by weight to 18% by weight.

여기서 브롬화 에폭시 수지를 이용하는 경우의 수지 조성물이, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위로 함유한다고 하는 것은 경화 후의 수지층으로서의 난연성을 확보하는 관점에서이다. 당해 브롬 원자의 함유량이 12중량% 미만인 경우에는 양호한 난연성을 얻는 것이 어려워진다. 한편, 당해 브롬 원자의 함유량이 18중량%를 초과하게 함유시켜도 경화 후의 수지층의 난연성이 향상되지 않아 자원 낭비가 된다. 브롬화 에폭시 수지는 그 종류에 따라 에폭시 골격 내에 함유하는 브롬 원자량이 다르기 때문에, 상술한 바와 같이 브롬 원자의 함유량을 기재하여 E성분의 첨가량을 대신하였다.Herein, when the resin composition in the case of using a brominated epoxy resin contains a bromine atom derived from the E component in the range of 12% by weight to 18% by weight when the weight of the resin composition is 100% by weight, the flame retardance as the resin layer after curing In terms of securing. When the content of the bromine atom is less than 12% by weight, it is difficult to obtain good flame retardancy. On the other hand, even if content of the said bromine atom exceeds 18 weight%, the flame retardance of the resin layer after hardening does not improve and it is a waste of resources. Since the amount of bromine atoms contained in an epoxy skeleton differs according to the kind, brominated epoxy resin replaced the addition amount of E component by describing content of a bromine atom as mentioned above.

이어서, 할로겐 프리계의 난연성 에폭시 수지로서는, 소위 인 함유 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 인 함유 에폭시 수지란, 에폭시 골격 내에 인을 포함한 에폭시 수지의 총칭이다. 그리고, 본 발명에 따른 수지 조성물의 인 원자 함유량을, 수지 조성물을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 할 수 있는 인 함유 에폭시 수지이면 어느 것이나 사용 가능하다. 그러나, 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 구비하는 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 유도체인 인 함유 에폭시 수지를 이용하는 것이, 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 동시에 난연성 효과가 높기 때문에 바람직하다. 참고로 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드의 구조식을 화학식 9에 나타낸다.Subsequently, it is preferable to use what is called a phosphorus containing epoxy resin as a halogen-free flame-retardant epoxy resin. Phosphorus containing epoxy resin is a generic term of the epoxy resin containing phosphorus in an epoxy skeleton. And any phosphorus containing epoxy resin which can make the phosphorus atom derived from E component into 0.5 weight%-3.0 weight% when the phosphorus atom content of the resin composition which concerns on this invention is made into 100 weight% Can be used However, the use of a phosphorus-containing epoxy resin, which is a 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide derivative having two or more epoxy groups in a molecule, stabilizes the resin quality in a semi-cured state. This is preferable because of its excellent and high flame retardant effect. For reference, the structural formula of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide is shown in Chemical Formula 9.

Figure 112009079442751-pct00004
Figure 112009079442751-pct00004

그리고 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 유도체인 인 함유 에폭시 수지를 구체적으로 예시하면, 화학식 10에 나타내는 구조식을 구비하는 화합물의 사용이 바람직하다. 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 동시에 난연성 효과가 높기 때문에 바람직하다.And when a phosphorus containing epoxy resin which is a 9,10- dihydro-9-oxa-10- phosphapefenthren-10-oxide derivative is concretely illustrated, use of the compound which has a structural formula shown in General formula (10) is preferable. It is preferable because it is excellent in the stability of resin quality in a semi-hardened state, and at the same time, a flame retardant effect is high.

Figure 112009079442751-pct00005
Figure 112009079442751-pct00005

또한, E성분의 인 함유 에폭시 수지로서, 화학식 11에 나타내는 구조식을 구비하는 화합물도 바람직하다. 화학식 10에 나타내는 인 함유 에폭시 수지와 마찬가지로, 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 동시에 높은 난연성의 부여가 가능하기 때문에 바람직하다.Moreover, as a phosphorus containing epoxy resin of E component, the compound provided with the structural formula shown in General formula (11) is also preferable. Like the phosphorus containing epoxy resin shown by General formula (10), since it is excellent in stability of the resin quality in a semi-hardened state, and at the same time, provision of high flame retardance is possible, it is preferable.

Figure 112009079442751-pct00006
Figure 112009079442751-pct00006

또한, E성분의 인 함유 에폭시 수지로서, 화학식 12에 나타내는 구조식을 구비하는 화합물도 바람직하다. 화학식 10 및 화학식 11에 나타내는 인 함유 에폭시 수지와 마찬가지로, 반경화 상태에서의 수지 품질의 안정성이 뛰어나고, 동시에 높은 난연성의 부여가 가능하기 때문에 바람직하다.Moreover, as a phosphorus containing epoxy resin of E component, the compound provided with the structural formula shown in General formula (12) is also preferable. Similar to the phosphorus-containing epoxy resins shown in the formulas (10) and (11), the resin is preferable because it is excellent in stability of the resin quality in the semi-cured state and at the same time, imparting high flame retardancy.

Figure 112009079442751-pct00007
Figure 112009079442751-pct00007

이 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드로부터의 유도체로서 얻어지는 에폭시 수지는 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드에 나프토퀴논이나 하이드로퀴논을 반응시켜 화학식 13 (HCA-NQ) 또는 화학식 14 (HCA-HQ)에 나타내는 화합물로 한 후에 그 OH기의 부분에 에폭시 수지를 반응시켜 인 함유 에폭시 수지로 한 것을 들 수 있다.The epoxy resin obtained as a derivative from this 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide is 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10- Naphthoquinone or hydroquinone was reacted with an oxide to give a compound represented by Formula 13 (HCA-NQ) or Formula 14 (HCA-HQ), and then an epoxy resin was reacted with a portion of the OH group to obtain a phosphorus-containing epoxy resin. Can be mentioned.

Figure 112009079442751-pct00008
Figure 112009079442751-pct00008

Figure 112009079442751-pct00009
Figure 112009079442751-pct00009

여기서 인 함유 에폭시 수지를 이용하는 경우의 수지 조성물은, E성분으로서의 인 함유 에폭시 수지의 1종류를 단독으로 이용해도 되고 2종류 이상의 인 함유 에폭시 수지를 혼합하여 이용해도 된다. 단, E성분으로서의 인 함유 에폭시 수지의 총량을 고려하여 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위가 되게 첨가량을 정하는 것이 바람직하다. 인 함유 에폭시 수지는 그 종류에 따라 에폭시 골격 내에 함유하는 인 원자량이 다르기 때문에, 상술한 바와 같이 인 원자의 함유량을 기재하여 E성분의 첨가량을 대신하였다.The resin composition in the case of using a phosphorus containing epoxy resin here may be used individually by 1 type of phosphorus containing epoxy resin as E component, or may mix and use two or more types of phosphorus containing epoxy resin. However, when the weight of the resin composition is 100% by weight in consideration of the total amount of the phosphorus-containing epoxy resin as the E component, the amount of the phosphorus atom derived from the E component is preferably set to be 0.5% by weight to 3.0% by weight. Since the amount of phosphorus atoms contained in an epoxy skeleton differs in the phosphorus containing epoxy resin according to the kind, the content of phosphorus atoms was described as above and the addition amount of E component was replaced.

F성분: 이 F성분은, 다작용 에폭시 수지이다. 여기서 말하는 다작용 에폭시 수지란, 예를 들어 트리스하이드록시페닐메탄형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등이다. 그리고, 이 F성분에 관해서는 수지 조성물을 100중량부로 했을 때 3중량부 ~ 20중량부의 배합 비율로 이용하는 것이 바람직하다. F성분이 3중량부 미만인 경우에는 내열 특성을 향상시키기 어렵다. 한편, F성분이 20중량부를 초과한 경우 경화 수지가 취약해진다.F component: This F component is a polyfunctional epoxy resin. Polyfunctional epoxy resin here is a trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, an ortho cresol novolak-type epoxy resin, etc., for example. And when it makes 100 weight part of resin compositions about this F component, it is preferable to use it at the compounding ratio of 3 weight part-20 weight part. When the F component is less than 3 parts by weight, it is difficult to improve the heat resistance characteristics. On the other hand, when F component exceeds 20 weight part, cured resin becomes weak.

상술한 A성분 내지 F성분으로 구성되는 수지 조성물은 할로겐계의 난연성 수지 조성물과 할로겐 프리계의 난연성 수지 조성물로 분별할 수 있다. 이하, 이것들을 구체적 조성으로 나타낸다.The resin composition comprised from the above-mentioned A component-F component can be classified into a halogen-type flame-retardant resin composition and a halogen-free flame-retardant resin composition. Hereinafter, these are shown with a specific composition.

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 할로겐계의 난연성 수지 조성물은, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 0중량부 ~ 10중량부로 하는 것도 가능하다.), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이고, E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위로 함유하게 E성분의 첨가량을 정한 것이다.The halogen-based flame retardant resin composition for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, when the weight of the resin composition is 100 parts by weight, A component 3 parts by weight to 20 parts by weight, B component 3 parts by weight to 30 parts by weight, C component 3 parts by weight to 10 parts by weight (when component A functions as a crosslinking agent of component B, it may also be 0 parts by weight to 10 parts by weight), 5 parts by weight to 20 parts by weight of D component, and 3 parts by weight of F component It is-20 weight part and the addition amount of E component is determined so that the bromine atom derived from E component may be contained in 12 weight%-18 weight%.

그리고, 본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 할로겐 프리계의 난연성 수지 조성물은, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 0중량부 ~ 10중량부로 하는 것도 가능하다.), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이고, E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 E성분의 첨가량을 정한 것이다.And when the halogen-free flame-retardant resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention makes the weight of a resin composition 100 weight part, A component is 3 weight part-20 weight part, B component is 3 weight part-30 weight part, 3 parts by weight to 10 parts by weight of C component (if the component A functions as a crosslinking agent of B component, it can also be 0 parts by weight to 10 parts by weight), 5 parts by weight to 20 parts by weight of D component, F component It is this 3 weight part-20 weight part, and the addition amount of E component is decided so that the phosphorus atom derived from E component may be contained in 0.5 weight%-3.0 weight%.

또한, 본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물은, G성분으로서 경화 촉진제를 첨가하는 것도 바람직하다. 따라서, 이 G성분은 임의의 첨가 성분이다. 그리고, 단순히 수지 경화를 촉진하는 것뿐이면 경화 촉진제로서 기능하는 모든 화합물의 사용이 가능하지만, 일반적인 열 프레스 조건을 이용하여 본 수지계를 경화시키는데 원활하게 진행시키는 관점에서, 이미다졸계의 경화 촉진제인 2-메틸이미다졸 또는 2-에틸-4-메틸이미다졸을 이용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention adds a hardening accelerator as G component. Therefore, this G component is an arbitrary addition component. And all compounds which function as a curing accelerator can be used as long as it merely promotes resin curing, but from the viewpoint of proceeding smoothly to cure the present resin system using general heat press conditions, it is an imidazole series curing accelerator. Preference is given to using 2-methylimidazole or 2-ethyl-4-methylimidazole.

이상, 본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지 조성물에 관하여 기술하였지만, 본 발명의 기술적 사상의 취지를 일탈하지 않는 한 다른 성분의 첨가, 추가 배합이 가능함을 만약을 위하여 명기해 둔다.As mentioned above, although the resin composition for printed wiring board manufacture which concerns on this invention was described, it adds for the case that addition and addition of another component are possible, unless deviating from the meaning of the technical idea of this invention.

<수지부착 동박의 형태><Form of copper foil with resin>

본 발명에 따른 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박은, 동박의 편면에 반경화 상태의 수지층을 구비한 것이다. 그리고, 이 수지층을 상술한 수지 조성물을 이용하여 평균 두께 5㎛ ~ 100㎛의 반경화 수지막으로서 형성한 것이다. 이와 같이 상술한 수지 조성물을 이용하여 형성한 수지층은 동박과의 밀착성이 뛰어나고, 내열 특성도 뛰어나다.The resin foil with resin for printed wiring board manufacture which concerns on this invention is equipped with the resin layer of the semi-hardened state on the single side | surface of copper foil. And this resin layer is formed as a semi-hardened resin film with an average thickness of 5 micrometers-100 micrometers using the resin composition mentioned above. Thus, the resin layer formed using the resin composition mentioned above is excellent in adhesiveness with copper foil, and also excellent in heat resistance characteristics.

여기서, 당해 수지층의 평균 두께가 5㎛ 미만인 경우에는 내층 회로를 구비하는 내층 코어재의 외층에 대하여 당해 수지부착 동박을 접합시킬 때에 내층 회로가 형성하는 요철 형상과의 접합이 불가능해진다. 한편, 당해 수지층의 평균 두께가 100㎛를 초과하는 것으로 해도 문제는 없지만, 도포하여 두꺼운 수지막을 형성하는 것은 곤란하여 생산성이 떨어진다. 또한, 수지층을 두껍게 하면 프리프레그와 비교하여 차이가 없어져, 수지부착 동박 형태의 제품을 채용하는 의의가 없어진다.Here, when the average thickness of the said resin layer is less than 5 micrometers, joining with the uneven | corrugated shape which an inner layer circuit forms when joining the said copper foil with resin with respect to the outer layer of the inner core material provided with an inner layer circuit becomes impossible. On the other hand, even if the average thickness of the said resin layer exceeds 100 micrometers, there is no problem, but it is difficult to apply | coat and form a thick resin film, and productivity falls. In addition, when the resin layer is thickened, there is no difference in comparison with the prepreg, and the significance of adopting a product in the form of a copper foil with resin disappears.

그리고, 동박에는 전해법 또는 압연법 등 그 제조 방법에는 구애받지 않으며 모든 제조 방법의 사용이 가능하다. 그리고, 그 두께에 관해서도 특별한 한정은 없다. 또한, 이 동박의 수지층을 형성하는 면에는 조화 처리를 반드시 실시할 필요는 없다. 상기 수지 조성물은 무조화 동박을 이용한 수지부착 동박의 제조에 적합하기 때문이다. 따라서, 조화 처리를 실시하면 동박과 수지층의 밀착성이 향상되지만, 동박의 표면에 조화 처리를 실시하지 않아도 문제는 없다. 무조화 동박의 접합면은 평탄한 표면이기 때문에 미세 피치 회로의 형성능이 향상된다. 또한, 당해 동박의 표면에는 녹방지 처리를 실시해도 된다. 녹방지 처리에 관해서는 공지의 아연, 아연계 합금 등을 이용한 무기 녹방지, 또는 벤조이미다졸, 트리아졸 등의 유기 단분자 피막에 의한 유기 녹방지 등을 채용하는 것이 가능하다. 또한, 당해 동박의 수지층을 형성하는 최표면(最表面)에는 실란 커플링 처리층을 구비하는 것이 바람직하다.And copper foil can be used for all manufacturing methods, regardless of the manufacturing method, such as an electrolytic method or a rolling method. And there is no special limitation also regarding the thickness. In addition, it is not necessary to necessarily give a roughening process to the surface which forms the resin layer of this copper foil. It is because the said resin composition is suitable for manufacture of the resin bonding copper foil which used the unharmonic copper foil. Therefore, although roughening process improves the adhesiveness of copper foil and a resin layer, there is no problem even if it does not provide a roughening process to the surface of copper foil. Since the joining surface of an unharmonized copper foil is a flat surface, the formation ability of a fine pitch circuit improves. In addition, you may perform a rust prevention process on the surface of the said copper foil. Concerning the rust prevention treatment, it is possible to employ inorganic rust prevention using known zinc, zinc-based alloys, or the like, or organic rust prevention by organic monomolecular coatings such as benzoimidazole and triazole. Moreover, it is preferable to provide a silane coupling process layer in the outermost surface which forms the resin layer of the said copper foil.

그리고, 여기서 이용하는 상기 동박의 반경화 수지층의 형성면이 표면 거칠기를 수치로 나타내면 Rzjis의 값이 3.0㎛ 이하의 저조도 표면을 구비하는 것을 이 용하는 것이 바람직하다. Rzjis의 값이 3.0㎛ 이하가 되면 에칭 팩터가 뛰어난 미세 피치 회로의 형성능이 비약적으로 높아지기 때문이다.And when the formation surface of the semi-hardened resin layer of the said copper foil used here shows numerical value of surface roughness, it is preferable to use what has a low roughness surface whose value of Rzjis is 3.0 micrometers or less. When the value of Rzjis becomes 3.0 micrometers or less, the formation ability of the fine pitch circuit excellent in the etching factor will increase remarkably.

또한, 특히 조화 처리하지 않은 동박의 경우, 그 접합면과 수지층과의 젖음성을 개선하고, 기재 수지에 프레스 가공했을 때의 밀착성을 향상시키기 위하여, 그 접합면에 실란 커플링제층을 마련하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 동박의 조화를 실시하지 않고, 녹방지 처리를 실시하고, 실란 커플링제 처리에 에폭시 작용성 실란 커플링제, 올레핀 작용성 실란, 아크릴 작용성 실란, 아미노 작용성 실란 커플링제 또는 머캅토 작용성 실란 커플링제 등 여러 종류를 이용하는 것이 가능하며, 용도에 따라 적합한 실란 커플링제를 선택 사용함으로써 박리 강도가 한층 향상된다.Moreover, in the case of the copper foil which is not especially roughening process, in order to improve the wettability of the joining surface and a resin layer, and to improve the adhesiveness at the time of press-processing to base resin, it is to provide a silane coupling agent layer in the joining surface. More preferred. For example, without roughening copper foil, antirust treatment is performed, and an epoxy functional silane coupling agent, an olefin functional silane, an acrylic functional silane, an amino functional silane coupling agent or a mercapto is applied to the silane coupling agent treatment. It is possible to use various kinds, such as a functional silane coupling agent, and peeling strength improves further by selecting and using a suitable silane coupling agent according to a use.

여기서 이용할 수 있는 실란 커플링제를 보다 구체적으로 명시한다. 프린트 배선판용으로 프리프레그의 유리 천에 이용되는 것과 같은 커플링제를 중심으로 비닐트리메톡시실란, 비닐페닐트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 4-글리시딜부틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-3-(4-(3-아미노프로폭시)프톡시)프로필-3-아미노프로필트리메톡시실란, 이미다졸실란, 트리아진실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 이용하는 것이 가능하다.The silane coupling agent which can be used here is specified more specifically. Vinyltrimethoxysilane, vinylphenyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl tree mainly on the coupling agent used for the glass cloth of prepreg for a printed wiring board Methoxysilane, 4-glycidylbutyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-3- (4- (3- Amino propoxy) propyl) propyl-3-aminopropyl trimethoxysilane, imidazole silane, triazine silane, (gamma)-mercaptopropyl trimethoxysilane, etc. can be used.

이 실란 커플링제층의 형성은 일반적으로 이용되는 침지법, 샤워링법, 분무법 등 특별히 방법은 한정되지 않는다. 공정 설계에 맞추어 가장 균일하게 동박과 실란 커플링제를 포함한 용액을 접촉시키고 흡착시킬 수 있는 방법을 임의로 채용 하면 된다. 이들 실란 커플링제는 용매로서 25℃ 정도의 물에 0.5 ~ 10g/1가 되게 용해시킨다. 실란 커플링제는 동박의 표면에 돌출된 OH기와 축합 결합함으로써 피막을 형성하는 것이며, 쓸데없이 진한 농도의 용액을 이용해도 그 효과는 현저하게 증대되지 않는다. 따라서, 본래는 공정의 처리 속도 등에 따라 결정되어야 하는 것이다. 단, 0.5g/1를 하회하는 경우에는 실란 커플링제의 흡착 속도가 늦어서 일반적인 상업적 채산에 맞지 않고, 흡착도 불균일해진다. 또한, 10g/1를 넘는 농도여도 특별히 흡착 속도가 빨라지지 않아 비경제적이다.Formation of this silane coupling agent layer is not particularly limited in particular the immersion method, the showering method, the spraying method and the like. What is necessary is just to employ | adopt the method which can contact and adsorb | suck the solution containing copper foil and a silane coupling agent most uniformly according to process design. These silane coupling agents are dissolved in water at about 25 ° C as 0.5 to 10 g / 1 as a solvent. A silane coupling agent forms a film by condensation-bonding the OH group which protruded on the surface of copper foil, and the effect does not remarkably increase even if it uses the solution of thick concentration unnecessarily. Therefore, it should be originally determined according to the processing speed of the process or the like. However, when it is less than 0.5g / 1, adsorption rate of a silane coupling agent will be slow and it will not meet general commercial profit, and adsorption will also become nonuniform. In addition, even if the concentration is more than 10g / 1 is not economical because the adsorption rate is not particularly fast.

상술한 수지부착 동박의 반경화 수지층은 경화 반응 후에 이하와 같이 하여 측정한 경우에 3.0GPa 미만의 저장 탄성률을 구비하여 저탄성 특성을 구비하는 것이 바람직하다. 이때의 저장 탄성률이란, 2장의 동종의 수지부착 동박을 이용하여 각각의 수지부착 동박의 수지면끼리 맞추어 당접시키고, 소정의 조건으로 열간 프레스 성형을 행하여 동장 적층판으로 하고, 당해 동장 적층판의 양면에 있는 동박층을 에칭 제거하여 수지 필름으로 하고, 이 수지 필름을 동적 점탄성(粘彈性) 측정 장치(DMA)로 동적 점탄성을 측정하여 얻은 30℃에서의 저장 탄성률이다. 여기에서의 열간 프레스 조건에 관해서는 실시예 중에서 후술한다. 저장 탄성률이 3.0GPa 미만이 되면 경화된 수지층이 양호한 가요성과 탄성 특성을 구비한다. 그 결과, 본 발명에 따른 수지부착 동박을 이용하여 제조한 프린트 배선판은, 전자 제품 등에 삽입된 후에 당해 제품의 의도하지 않는 낙하에 의한 충격, 수송 중의 진동을 받은 경우 등에도 경화된 수지층에의 크랙이 발생하기 어렵고, 전자 부품 및 회로의 손상이 일어나기 어려워, 내충격성 및 내(耐)진동성이 뛰어난 제품이 된다.It is preferable that the semi-hardened resin layer of the above-mentioned copper foil with a resin has a storage elastic modulus of less than 3.0 GPa, and has low elasticity property, when it measures as follows after hardening reaction. The storage elastic modulus at this time is the resin surface of each copper foil with resin using two sheets of the same kind of resin foil with resin, and abuts, and makes it a copper clad laminated board by carrying out hot press molding on predetermined conditions, and is made of copper foil on both sides of the said copper clad laminated board. The layer is etched away to obtain a resin film, and the resin film is a storage modulus at 30 ° C. obtained by measuring dynamic viscoelasticity with a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA). The hot press conditions here will be described later in Examples. When the storage modulus is less than 3.0 GPa, the cured resin layer has good flexibility and elasticity. As a result, a printed wiring board manufactured using the resin-clad copper foil according to the present invention is applied to a cured resin layer even after being inserted into an electronic product or the like, even when an impact due to unintentional drop of the product or vibration during transportation is received. It is hard to generate cracks, it is hard to cause damage to electronic components and circuits, and it is a product excellent in impact resistance and vibration resistance.

<수지부착 동박의 제조 방법의 형태><The form of the manufacturing method of the copper foil with resin>

본 발명에 따른 수지부착 동박의 제조 방법은, 먼저 이하의 공정 a, 공정 b의 순서로 수지 바니시를 조제한다.In the method for producing a resin-clad copper foil according to the present invention, first, a resin varnish is prepared in the order of the following steps a and b.

공정 a에서는, 상기 A성분, B성분, C성분(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 생략 가능), D성분, E성분, F성분, G성분 중, A성분 내지 F성분을 필수 성분으로 한 수지 조성물의 중량을 100중량%로 했을 때 E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위 또는 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 각 성분을 혼합하여 수지 조성물로 한다. 이때의 각 성분의 혼합 순서, 혼합 수단 등에 특별한 한정은 없다. 따라서, 공지된 모든 혼합 방법을 채용하는 것이 가능하다. 그리고, 이들 각 성분에 관해서는 상술하였으므로 여기에서의 설명은 생략한다.In process a, A component, B component, C component (can be omitted when A component functions as a crosslinking agent of B component), D component, E component, F component, A component-F component among G components are essential. When the weight of the resin composition containing the component is 100% by weight, each component is mixed so as to contain the bromine atom derived from the E component in the range of 12% to 18% by weight or the phosphorus atom in the range of 0.5% to 3.0% by weight. To a resin composition. There is no particular limitation on the mixing order, mixing means, and the like of each component at this time. Thus, it is possible to employ all known mixing methods. In addition, since each of these components was mentioned above, the description here is abbreviate | omitted.

또한, 상기 공정 a에서는, 필요에 따라서 적당량의 G성분(경화 촉진제)을 혼합 사용하는 것도 바람직하다. 여기서 말하는 경화 촉진제는, 이미다졸계의 경화 촉진제인 2-메틸이미다졸을 이용한다. 경화 촉진제는 동장 적층판 제조의 열간 프레스 조건 등의 생산 조건을 고려하여 제조자가 임의로 선택적으로 첨가량을 정해야 하는 것이지만, 굳이 기재한다면 본 발명에 따른 수지 조성물 100중량부에 대하여 G성분을 0.1중량부 ~ 1.5중량부 정도가 된다. G성분이 0.1중량부 미만인 경우에는 경화 속도를 촉진할 수 없어서 첨가하는 의의가 없기 때문이다. 한편, G성분이 1.5중량부를 초과한 경우 경화가 너무 촉진되어 반경화 상태로 안정된 품질로 장기간 보존하는 것이 곤란해진다.Moreover, in said process a, it is also preferable to mix and use a suitable amount of G component (hardening accelerator) as needed. As a hardening accelerator here, 2-methylimidazole which is a hardening accelerator of imidazole series is used. Although the curing accelerator is to be determined by the manufacturer optionally in consideration of the production conditions, such as hot pressing conditions of copper-clad laminate production, if it is stated that the G component 0.1 parts by weight to 1.5 to 100 parts by weight of the resin composition according to the present invention It is about a weight part. This is because when the G component is less than 0.1 part by weight, the curing rate cannot be accelerated and there is no meaning to add. On the other hand, when G component exceeds 1.5 weight part, hardening is accelerated | stimulated too much and it becomes difficult to hold | maintain for a long time with stable quality in a semi-hardened state.

공정 b에서는, 상기 수지 조성물을, 유기용제를 이용해 용해하여 수지 고형분량이 25중량% ~ 50중량%인 수지 바니시로 한다. 이때의 유기용제로는 상술한 바와 같이 비점이 50℃ ~ 200℃의 범위에 있는 용제인 것이 바람직하고, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 시클로헥사논, 에틸 셀로솔브 등으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종의 단독 용제 또는 2종 이상의 혼합 용제를 이용하는 것이 바람직하다. 상술한 것과 같은 이유 때문이다. 그리고, 여기서 수지 고형분량을 25중량% ~ 50중량%의 수지 바니시로 한다. 한편, 수지 고형분이란, 수지 바니시를 가열하여 휘발분을 제거했을 때에 잔류하는 고형분을 말한다. 여기에 나타낸 수지 고형분량의 범위가, 동박의 표면에 도포했을 때에 막 두께를 가장 높은 정밀도로 제어할 수 있는 범위이다. 수지 고형분이 25중량% 미만인 경우에는 점도가 너무 낮아서 동박 표면으로의 도포 직후에 흘러 막 두께 균일성을 확보하기 어렵다. 이에 대하여, 수지 고형분이 50중량%를 넘으면 점도가 높아져서 동박 표면에의 박막 형성이 곤란해진다. 한편, 여기에 구체적으로 예를 든 용제 이외에도 본 발명에서 이용하는 모든 수지 성분을 용해할 수 있는 것이면 사용이 가능하다.In the process b, the said resin composition is melt | dissolved using the organic solvent, and it is set as the resin varnish whose resin solid content is 25 weight%-50 weight%. The organic solvent at this time is preferably a solvent having a boiling point in the range of 50 ° C. to 200 ° C. as described above. For example, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether, dimethylformamide, It is preferable to use one single solvent or two or more mixed solvents selected from the group consisting of dimethylacetamide, cyclohexanone, ethyl cellosolve and the like. It is for the same reason as mentioned above. In addition, let resin solid content be 25 to 50 weight% of resin varnish here. In addition, resin solid content means solid content which remains when a resin varnish is heated and volatile matter is removed. The range of resin solid content shown here is a range which can control a film thickness with the highest precision, when apply | coating to the surface of copper foil. In the case where the resin solid content is less than 25% by weight, the viscosity is too low to flow immediately after the application to the copper foil surface, making it difficult to ensure film thickness uniformity. On the other hand, when resin solid content exceeds 50 weight%, a viscosity will become high and thin film formation on the copper foil surface will become difficult. In addition, it can use if it can melt | dissolve all the resin components used by this invention other than the solvent specifically mentioned here.

이상과 같이 하여 얻어지는 수지 바니시를 동박의 편면에 도포하는 경우에는 특별히 도포 방법에 관해서는 한정되지 않는다. 그러나, 목적으로 하는 두께분을 높은 정밀도로 도포해야 함을 고려하면, 형성할 막 두께에 따른 도포 방법, 도포 장치를 적절히 선택하여 사용하면 된다. 또한, 동박의 표면에 수지 피막을 형성한 후의 건조는 수지 용액의 성질에 따라 반경화 상태로 할 수 있는 가열 조건을 적절 히 채용하면 된다. 그리고, 이 건조 후에 평균 두께 5㎛ ~ 100㎛의 반경화 수지층이 되어 본 발명에 따른 수지부착 동박이 된다.When apply | coating the resin varnish obtained by the above to the single side | surface of copper foil, it does not specifically limit about a coating method. However, considering that the target thickness should be applied with high precision, the coating method and the coating device according to the film thickness to be formed may be appropriately selected and used. In addition, what is necessary is just to employ | adopt the heating conditions which can be made into the semi-hardened state suitably according to the property of the resin solution for drying after forming a resin film on the surface of copper foil. And after this drying, it becomes a semi-hardened resin layer of 5 micrometers-100 micrometers in average thickness, and becomes the resin foil with resin which concerns on this invention.

프린트 배선판의 형태: 본 발명에 따른 프린트 배선판은, 상술한 수지 조성물을 이용하여 절연층을 구성한 것을 특징으로 하는 것이다. 즉, 본 발명에 따른 수지 조성물을 수지 바니시로 하고, 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조한다. 그리고, 이 수지부착 동박을 이용해 내층 코어 배선판에 접합하여 다층화한 동장 적층판으로 하여, 다층 프린트 배선판으로 가공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 수지 조성물을 수지 바니시로 하고, 이 수지 바니시를 유리 천, 유리 부직포 등의 골격재에 함침시켜 프리프레그로 하고, 공지의 방법으로 동장 적층판을 제조하고, 프린트 배선판으로 가공할 수도 있다. 즉, 상기 수지 조성물을 이용함으로써, 공지의 모든 제조 방법으로 프린트 배선판의 제조가 가능해진다. 한편, 본 발명에서 말하는 프린트 배선판이란, 소위 편면판, 양면판, 3층 이상의 다층판을 포함하는 것이다. 이하, 실시예에 관하여 설명한다.Form of printed wiring board: The printed wiring board which concerns on this invention comprised the insulating layer using the resin composition mentioned above. It is characterized by the above-mentioned. That is, the resin composition which concerns on this invention is made into the resin varnish, and a resin foil copper foil is manufactured using this resin varnish. And it can be processed into a multilayer printed wiring board as the copper clad laminated board laminated | stacked using this resin foil copper foil with resin by bonding to an inner layer core wiring board, and multilayered. Further, the resin composition according to the present invention is used as a resin varnish, and the resin varnish is impregnated into a skeleton such as a glass cloth or a glass nonwoven fabric to form a prepreg, a copper clad laminate is produced by a known method, and processed into a printed wiring board. It may be. That is, by using the said resin composition, manufacture of a printed wiring board is attained by all the well-known manufacturing methods. In addition, the printed wiring board as used in this invention includes what is called a single-sided board, a double-sided board, and a multilayer board of three or more layers. Hereinafter, an Example is described.

실시예 lExample l

이 실시예에서는, 이하에 기술하는 수지 조성물을 조제하여 수지 바니시로 하고 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조하고, 평가를 행하였다.In this Example, the resin composition described below was prepared, it was set as the resin varnish, the resin foil copper foil with a resin was manufactured using this resin varnish, and it evaluated.

수지 조성물의 조제: 이하의 A성분 내지 F성분을 혼합하여 수지 조성물을 100중량%로 했을 때의 브롬 원자의 비율이 15.1중량%인 수지 조성물을 얻고, 또한 G성분을 첨가하여 할로겐계의 수지 조성물을 조제하였다. 여기에서는, E성분인 난연성 에폭시 수지로서 2종류의 브롬화 에폭시 수지를 이용하고 있다. 또한, G성분 의 배합량은 A성분 내지 F성분을 혼합한 수지 조성물을 100중량부로 하여 이에 대한 첨가량을 나타낸다.Preparation of resin composition: The resin composition whose ratio of bromine atom is 15.1 weight% when the following A component-F component are mixed and the resin composition is 100 weight% is obtained, Furthermore, G component is added and halogen-type resin composition Was prepared. Here, two types of brominated epoxy resins are used as the flame-retardant epoxy resin which is an E component. In addition, the compounding quantity of G component makes 100 weight part of resin compositions which mixed A component-F component, and shows the addition amount to this.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서의 폴리비닐아세탈 수지(상품명: 덴카 부티랄 5000A, 덴키카가쿠공업사제)/10중량부B component: Polyvinyl acetal resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group (brand name: Denka Butyral 5000A, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) / 10 parts by weight

C성분: 가교제로서의 우레탄 수지(상품명: 코로네이트 AP 스테이블, 일본폴리우레탄공업사제)/4중량부C component: Urethane resin as a crosslinking agent (brand name: Coronate AP Stable, the product made by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) / 4 weight part

D성분: 4,4′-디아미노디페닐설폰(상품명: 세이카큐어S, 와카야마세이카공업주식회사)/15중량부D component: 4,4'- diamino diphenyl sulfone (brand name: Seikacure S, Wakayama Seika Co., Ltd.) / 15 parts by weight

E성분: 난연성 에폭시 수지로서의 브롬화 에폭시 수지 1(상품명: 에피크론 1121N-80M, 대일본잉크화학공업사제)/30중량부E component: Brominated epoxy resin 1 (brand name: epicron 1121N-80M, product made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) / 30 weight part as a flame-retardant epoxy resin

난연성 에폭시 수지로서의 브롬화 에폭시 수지 2(상품명: BREN-304, 일본화약사제)/20중량부Brominated epoxy resin 2 (trade name: BREN-304, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) / 20 parts by weight as a flame-retardant epoxy resin

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/6중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan Ink Chemical Co., Ltd.) / 6 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-메틸이미다졸(상품명: 2MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.4중량부G component: 2-methylimidazole (brand name: 2MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) /0.4 weight part as a hardening accelerator

수지 바니시의 조제: 상기 조성의 수지 조성물을 메틸에틸케톤과 디메틸포름아미드의 혼합 용제(혼합비(체적비): 메틸에틸케톤/디메틸포름아미드=1/1)에 용해 하여 수지 고형분량 35중량%의 수지 바니시를 조제하였다.Preparation of Resin Varnish: The resin composition of the above composition was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethyl formamide (mixing ratio (volume ratio): methyl ethyl ketone / dimethylformamide = 1/1) to give a resin solid content of 35% by weight The varnish was prepared.

수지부착 동박의 제조: 상술한 수지 바니시를 공칭 두께 18㎛의 전해 동박의 조면(Rzjis=2.8㎛)에 균일하게 도포하고, 풍건 후, 140℃×5분간의 가열 처리를 행하여 반경화 상태의 수지층을 구비한 수지부착 동박을 얻었다. 이때의 수지층의 평균 두께는 85㎛로 하였다. 이하, 평가 내용을 상세하게 기술한다.Production of Resin Copper Foil: The above-described resin varnish was uniformly applied to the rough surface (Rzjis = 2.8 μm) of an electrolytic copper foil having a nominal thickness of 18 μm, and then subjected to heat treatment at 140 ° C. for 5 minutes after air drying to give a number of semi-cured states. Copper foil with resin provided with a stratified layer was obtained. The average thickness of the resin layer at this time was 85 micrometers. Hereinafter, the content of the evaluation will be described in detail.

밀착성 평가: 당해 수지부착 동박의 수지층을 100㎛ 두께의 FR-4 그레이드의 프리프레그의 표면에 당접시켜, 압력 20kgf/㎠, 온도 180℃×1시간의 열간 프레스 성형을 행하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 에칭법으로 10㎜ 폭의 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 후술하는 비교예 1과의 대비가 가능하게 표 1에 나타낸다.Adhesion evaluation: The resin layer of the said copper foil with resin was made to contact the surface of the prepreg of FR-4 grade of 100 micrometers thick, and hot press molding of pressure 20kgf / cm <2> and temperature 180 degreeC * 1 hour was performed, and the copper clad laminated board was manufactured. . And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement of 10 mm width was formed by the etching method. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 1 in contrast with the comparative example 1 mentioned later.

경화 수지로서의 탄성률 측정: 당해 수지부착 동박을 2장 이용하여 각각의 수지부착 동박의 수지면끼리 맞추어 당접시켜, 압력 20kgf/㎠, 온도 180℃×1시간의 조건으로 열간 프레스 성형을 행하여 동장 적층판을 제조하였다. 그 후, 이 동장 적층판의 양면에 있는 동박층을 에칭하여 용해 제거함으로써 수지 필름을 얻었다. 그리고, 이 수지 필름을 이용하여 동적 점탄성 측정 장치(DMA)로 동적 점탄성을 측정하고, 30℃에서의 저장 탄성률(영률(Young's modulus)이라고 칭하는 경우도 있다. 이하, 간단히 ‘탄성률’이라고 칭한다.)을 구하였다.Measurement of elastic modulus as cured resin: Using two sheets of the said resin foil copper foil, the resin surface of each resin foil copper resin was made to contact each other, and hot press molding was performed on the conditions of 20 kgf / cm <2> and temperature 180 degreeC * 1 hour, and a copper clad laminated board was manufactured. It was. Then, the resin film was obtained by etching and melt | dissolving the copper foil layer in both surfaces of this copper clad laminated board. And using this resin film, dynamic viscoelasticity is measured with a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMA), and it is called storage elastic modulus (Young's modulus in 30 degreeC. In some cases, it will only be called "elasticity."). Was obtained.

실시예 2Example 2

이 실시예에서는, 이하에 기술하는 수지 조성물을 조제하여 수지 바니시로 하고 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조하고, 평가를 행하였다.In this Example, the resin composition described below was prepared, it was set as the resin varnish, the resin foil copper foil with a resin was manufactured using this resin varnish, and it evaluated.

수지 조성물의 조제: 이하의 A성분 내지 F성분을 혼합하여 수지 조성물을 100중량%로 했을 때의 브롬 원자의 비율이 15.3중량%인 수지 조성물을 얻고, 또한 G성분을 첨가하여 할로겐계의 수지 조성물을 조제하였다. 여기에서는, E성분인 난연성 에폭시 수지로서 2종류의 브롬화 에폭시 수지를 이용하고 있다. 또한, G성분의 배합량은 A성분 내지 F성분을 혼합한 수지 조성물을 100중량부로 하여 이에 대한 첨가량을 나타낸다.Preparation of Resin Composition: The following A component to F component were mixed to obtain a resin composition having a bromine atom ratio of 15.3% by weight when the resin composition was 100% by weight, and a G component was added to the halogen-based resin composition. Was prepared. Here, two types of brominated epoxy resins are used as the flame-retardant epoxy resin which is an E component. In addition, the compounding quantity of G component makes 100 weight part of resin compositions which mixed A component-F component, and shows the addition amount to this.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서의 폴리비닐아세탈 수지(상품명: 덴카 부티랄 5000A, 덴키카가쿠공업사제)/10중량부B component: Polyvinyl acetal resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group (brand name: Denka Butyral 5000A, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) / 10 parts by weight

C성분: 가교제로서의 우레탄 수지(상품명: 코로네이트 AP 스테이블, 일본폴리우레탄공업사제)/4중량부C component: Urethane resin as a crosslinking agent (brand name: Coronate AP Stable, the product made by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) / 4 weight part

D성분: 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판(상품명: BAPP, 와카야마세이카공업주식회사)/24중량부D-component: 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (brand name: BAPP, Wakayama Seika Co., Ltd.) / 24 parts by weight

E성분: 난연성 에폭시 수지로서의 브롬화 에폭시 수지 1(상품명: 에피크론 1121N-80M, 대일본잉크화학공업사제)/10중량부E component: Brominated epoxy resin 1 (brand name: epicron 1121N-80M, product made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) / 10 weight part as a flame-retardant epoxy resin

난연성 에폭시 수지로서의 브롬화 에폭시 수지 2(상품명: BREN-304, 일본화약사제)/30중량부Brominated epoxy resin 2 (brand name: BREN-304, Japan Chemicals Co., Ltd.) / 30 weight part as a flame-retardant epoxy resin

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품 명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/7중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan ink chemical company make) / 7 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-에틸-4-메틸이미다졸(상품명: 2E4MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.2중량부G component: 2-ethyl-4-methylimidazole (brand name: 2E4MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) / 0.2 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 후술하는 비교예 1과의 대비가 가능하게 표 1에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 1 in contrast with the comparative example 1 mentioned later.

실시예 3Example 3

이 실시예에서는, 이하에 기술하는 수지 조성물을 조제하여 수지 바니시로 하고 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조하고, 평가를 행하였다.In this Example, the resin composition described below was prepared, it was set as the resin varnish, the resin foil copper foil with a resin was manufactured using this resin varnish, and it evaluated.

수지 조성물의 조제: 이하의 A성분 내지 F성분을 혼합하여 수지 조성물을 100중량%로 했을 때의 인 원자의 비율이 1.0중량%인 수지 조성물을 얻고, 또한 G성분을 첨가하여 할로겐 프리계의 수지 조성물을 조제하였다. 여기에서는, E성분인 난연성 에폭시 수지로서 이하에 기술하는 합성 방법으로 얻은 인 함유 에폭시 수지를 이용하고 있다. 또한, G성분의 배합량은 A성분 내지 F성분을 혼합한 수지 조성물을 100중량부로 하여 이에 대한 첨가량을 나타낸다.Preparation of resin composition: The resin composition whose ratio of the phosphorus atom when the following A component-F component were mixed to make a resin composition 100 weight% is 1.0 weight%, The G component was added, and halogen-free resin was added. The composition was prepared. Here, the phosphorus containing epoxy resin obtained by the synthesis method described below is used as a flame-retardant epoxy resin which is E component. In addition, the compounding quantity of G component makes 100 weight part of resin compositions which mixed A component-F component, and shows the addition amount to this.

인 함유 에폭시 수지의 합성: 여기에서는, 일본 특허 공개 평11-279258의 합성예 6을 참고로 하여, 인 함유 에폭시 수지(E성분)를 다음과 같이 하여 합성하였다. 즉, 교반 장치, 온도계, 냉각관, 질소 가스 도입 장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크(separable flask)에 141중량부의 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(산코사제 상품명 HCA)와 300중량부의 에틸 셀로솔브를 넣고 가열하여 용해하였다. 그 후, 96.3중량부의 1,4-나프토퀴논(시약)을 반응열에 의한 승온에 주의하면서 분할 투입하였다. 이때, 1,4-나프토퀴논과 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드의 몰비는 [1,4-나프토퀴논]/‘9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드’=0.93이었다. 반응 후, 262.7중량부의 에포토토 YDPN-638(토토카세이사제 페놀 노볼락형 에폭시 수지) 및 409.6중량부의 YDF-170(토토카세이사제 비스페놀 F형 에폭시 수지)을 넣고 질소 가스를 도입하면서 교반하고, 120℃까지 가열하여 용해하였다. 그리고, 0.24중량부의 트리페닐포스핀을 첨가하여 130℃×4시간의 반응을 시켰다. 이때 얻어진 인 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은 327.Og/eq, 인 함유율은 2.0중량%였다. 여기서 얻어진 인 함유 에폭시 수지를 이용하여 이하의 수지 조성물을 조제하였다.Synthesis of phosphorus containing epoxy resin: Here, with reference to the synthesis example 6 of Unexamined-Japanese-Patent No. 11-279258, the phosphorus containing epoxy resin (E component) was synthesize | combined as follows. That is, 141 parts by weight of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 in a four-neck glass-separable flask equipped with a stirring device, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introduction device. -An oxide (trade name HCA manufactured by Sanko Co., Ltd.) and 300 parts by weight of ethyl cellosolve were added thereto, and heated to dissolve. Thereafter, 96.3 parts by weight of 1,4-naphthoquinone (reagent) was added in portions while paying attention to the temperature rise due to the heat of reaction. In this case, the molar ratio of 1,4-naphthoquinone and 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide is [1,4-naphthoquinone] / '9,10-dihydro. -9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide '= 0.93. After the reaction, 262.7 parts by weight of Efototo YDPN-638 (phenol novolac type epoxy resin manufactured by Totokasei Co., Ltd.) and 409.6 parts by weight of YDF-170 (bisphenol F type epoxy resin manufactured by Totokasei Co., Ltd.) were added and stirred while introducing nitrogen gas. It melt | dissolved by heating to 120 degreeC. And 0.24 weight part of triphenylphosphines were added, and reaction of 130 degreeC * 4 hours was carried out. The epoxy equivalent of the obtained phosphorus containing epoxy resin was 327.Og / eq, and phosphorus content rate was 2.0 weight%. The following resin composition was prepared using the phosphorus containing epoxy resin obtained here.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서의 폴리비닐아세탈 수지(상품명: 덴카 부티랄 5000A, 덴키카가쿠공업사제)/10중량부B component: Polyvinyl acetal resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group (brand name: Denka Butyral 5000A, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) / 10 parts by weight

C성분: 가교제로서의 우레탄 수지(상품명: 코로네이트 AP 스테이블, 일본폴리우레탄공업사제)/4중량부C component: Urethane resin as a crosslinking agent (brand name: Coronate AP Stable, the product made by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) / 4 weight part

D성분: 4,4′-디아미노디페닐설폰(상품명: 세이카큐어S, 와카야마세이카공업주식회사)/16중량부D component: 4,4'- diamino diphenyl sulfone (brand name: Seikacure S, Wakayama Seika Co., Ltd.) / 16 parts by weight

E성분: 난연성 에폭시 수지로서 상기의 방법으로 합성한 인 함유 에폭시 수지/50중량부E component: Phosphorus containing epoxy resin synthesize | combined by said method as flame-retardant epoxy resin / 50 weight part

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/5중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan Ink Chemical Co., Ltd. product) / 5 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-메틸이미다졸(상품명: 2MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.4중량부G component: 2-methylimidazole (brand name: 2MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) /0.4 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 후술하는 비교예 2와의 대비가 가능하게 표 2에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 2 compared with the comparative example 2 mentioned later.

실시예 4Example 4

이 실시예에서는, 이하에 기술하는 수지 조성물을 조제하여 수지 바니시로 하고 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조하고, 평가를 행하였다.In this Example, the resin composition described below was prepared, it was set as the resin varnish, the resin foil copper foil with a resin was manufactured using this resin varnish, and it evaluated.

수지 조성물의 조제: 이하의 A성분 내지 F성분을 혼합하여 수지 조성물을 100중량%로 했을 때의 인 원자의 비율이 1.0중량%인 수지 조성물을 얻고, 또한 G성분을 첨가하여 할로겐 프리계의 수지 조성물을 조제하였다. 여기에서는, B성분의 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서 이하에 기술하는 방법으로 합성한 폴리아미드이미드 수지를 이용하였다. 따라서, 폴리아미드이미드 수지는 A성분의 에폭시 수지와 가교하기 때문에 C성분(가교제)을 생략하였다. 또한, E성분인 난연 성 에폭시 수지로서 실시예 3에 기술한 합성 방법으로 얻은 인 함유 에폭시 수지를 이용하고 있다. 또한, G성분의 배합량은 A성분 내지 F성분을 혼합한 수지 조성물을 100중량부로 하여 이에 대한 첨가량을 나타낸다.Preparation of resin composition: The resin composition whose ratio of the phosphorus atom when the following A component-F component were mixed to make a resin composition 100 weight% is 1.0 weight%, The G component was added, and halogen-free resin was added. The composition was prepared. Here, the polyamideimide resin synthesize | combined by the method described below was used as a linear polymer which has a crosslinkable functional group of B component. Therefore, since polyamideimide resin crosslinks with the epoxy resin of A component, C component (crosslinking agent) was abbreviate | omitted. Moreover, the phosphorus containing epoxy resin obtained by the synthesis | combining method described in Example 3 is used as a flame-retardant epoxy resin which is E component. In addition, the compounding quantity of G component makes 100 weight part of resin compositions which mixed A component-F component, and shows the addition amount to this.

이 실시예에서 이용한 폴리아미드이미드 수지는 이하의 방법으로 제조하였다. 즉, 반응 용기에 192g의 무수 트리메리트산(trimellitic anhydride), 211g의 o-톨리딘디이소시아네이트, 50g의 4,4′-디페닐메탄디이소시아네이트, 365g의 N-메틸-2-피롤리돈(증류된 것)을 넣어 혼합하고, 또한 1L의 N,N-디메틸아세트아미드를 넣어 혼합하고, 질소 분위기하에서 교반하면서 70℃에서 약 2시간, 또한 100℃에서 약 3시간 반응시켰다. 그 후, N,N-디메틸아세트아미드를 1L 첨가하고, 약 2시간에 걸쳐 160℃까지 승온시키고, 또한 160℃에서 약 1시간 교반하여 반응을 정지함으로써 폴리아미드이미드 용액을 얻었다. 이 폴리아미드이미드 용액을 이용하여 이하의 수지 조성을 채용하였다.The polyamideimide resin used in this Example was manufactured by the following method. In other words, 192 g of trimellitic anhydride, 211 g of o-tolidedine diisocyanate, 50 g of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 365 g of N-methyl-2-pyrrolidone (distilled) 1L of N, N-dimethylacetamide was added and mixed, and the mixture was reacted at 70 ° C. for about 2 hours and at 100 ° C. for about 3 hours with stirring under a nitrogen atmosphere. Then, 1 L of N, N-dimethylacetamide was added, the temperature was raised to 160 degreeC over about 2 hours, and it stirred at 160 degreeC for about 1 hour, and stopped the reaction, and the polyamide-imide solution was obtained. The following resin composition was employ | adopted using this polyamideimide solution.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서 상술한 폴리아미드이미드 수지/15중량부B component: The above-mentioned polyamideimide resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group / 15 parts by weight

D성분: 4,4′-디아미노디페닐설폰(상품명: 세이카큐어S, 와카야마세이카공업주식회사)/16중량부D component: 4,4'- diamino diphenyl sulfone (brand name: Seikacure S, Wakayama Seika Co., Ltd.) / 16 parts by weight

E성분: 난연성 에폭시 수지로서 실시예 3과 마찬가지로 합성한 인 함유 에폭시 수지/50중량부E component: Phosphorus containing epoxy resin synthesize | combined similarly to Example 3 as a flame-retardant epoxy resin / 50 weight part

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/4중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan Ink Chemical Co., Ltd.) / 4 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-메틸이미다졸(상품명: 2MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.4중량부G component: 2-methylimidazole (brand name: 2MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) /0.4 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 후술하는 비교예 2와의 대비가 가능하게 표 2에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 2 compared with the comparative example 2 mentioned later.

실시예 5Example 5

이 실시예에서는, 이하에 기술하는 수지 조성물을 조제하여 수지 바니시로 하고 이 수지 바니시를 이용하여 수지부착 동박을 제조하고, 평가를 행하였다. 한편, 이 실시예 5의 수지 조성은 A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에 해당하기 때문에, C성분을 이용하지 않는 수지 조성을 채용하고 있다.In this Example, the resin composition described below was prepared, it was set as the resin varnish, the resin foil copper foil with a resin was manufactured using this resin varnish, and it evaluated. On the other hand, since the resin composition of Example 5 corresponds to the case where A component functions as a crosslinking agent of B component, the resin composition which does not use C component is employ | adopted.

수지 조성물의 조제: 이하의 A성분 내지 F성분(C성분을 제외한다)을 혼합하여 수지 조성물을 100중량%로 했을 때의 인 원자의 비율이 1.0중량%인 수지 조성물을 얻고, 또한 G성분을 첨가하여 할로겐 프리계의 수지 조성물을 조제하였다. 여기에서는, B성분의 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서 실시예 4에서 기술한 방법으로 합성한 폴리아미드이미드 수지를 이용하였다. 따라서, 폴리아미드이미드 수지는 A성분의 에폭시 수지와 가교하기 때문에, C성분(가교제)을 생략하였다. 또한, E성분인 난연성 에폭시 수지로서 실시예 3에 기술한 합성 방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지를 이용하고 있다. 또한, G성분의 배합량은 A성분 내지 F성분을 혼합한 수지 조성물을 100중량부로 하여 이에 대한 첨가량을 나타낸다.Preparation of resin composition: When the following A component-F component (except C component) were mixed and the resin composition made 100 weight%, the ratio of the phosphorus atom is 1.0 weight%, the resin composition is obtained, and G component is further It added and prepared the halogen-free resin composition. Here, polyamideimide resin synthesized by the method described in Example 4 was used as the linear polymer having a crosslinkable functional group of B component. Therefore, since polyamideimide resin crosslinks with the epoxy resin of A component, C component (crosslinking agent) was abbreviate | omitted. Moreover, the phosphorus containing epoxy resin obtained by the synthesis | combining method described in Example 3 is used as a flame-retardant epoxy resin which is E component. In addition, the compounding quantity of G component makes 100 weight part of resin compositions which mixed A component-F component, and shows the addition amount to this.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 165인 비스페놀 F형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YDF-170, 토토카세이사제)/10중량부A component: Bisphenol F-type epoxy resin (brand name: Efototo YDF-170, Totokasei Co., Ltd.) / 10 weight part which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 165.

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서 실시예 4에서 합성한 폴리아미드이미드 수지/14중량부Component B: Polyamide-imide resin synthesized in Example 4 as a linear polymer having a crosslinkable functional group / 14 parts by weight

D성분: 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판(상품명: BAPP, 와카야마세이카공업주식회사)/22중량부D-component: 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (brand name: BAPP, Wakayama Seika Co., Ltd.) / 22 parts by weight

E성분: 난연성 에폭시 수지로서 실시예 3에서 합성한 인 함유 에폭시 수지/50중량부E component: Phosphorus containing epoxy resin synthesize | combined in Example 3 as a flame-retardant epoxy resin / 50 weight part

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/4중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan Ink Chemical Co., Ltd.) / 4 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-에틸-4-메틸이미다졸(상품명: 2E4MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.2중량부G component: 2-ethyl-4-methylimidazole (brand name: 2E4MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) / 0.2 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 후술하는 비교예 2와의 대비가 가능하게 표 2에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 2 compared with the comparative example 2 mentioned later.

비교예Comparative example

[비교예 1]Comparative Example 1

이 비교예 1은, 할로겐계 수지 조성물을 이용한 상기 실시예 1 및 실시예 2와의 대비를 하기 위한 것이다. 따라서, 실시예 1에서 이용하는 수지 조성물의 조성이 다를 뿐이며, 그 밖의 수지 바니시의 조제, 수지부착 동박의 제조, 당해 수지부착 동박을 이용한 동장 적층판의 제조는 같다. 따라서, 상이한 수지 조성물의 조성에 관해서만 기술한다.This comparative example 1 is for contrast with the said Example 1 and Example 2 using a halogen-type resin composition. Therefore, only the composition of the resin composition used in Example 1 differs, and preparation of the other resin varnish, manufacture of the resin foil copper foil, and manufacture of the copper clad laminated board using the said resin foil copper foil are the same. Therefore, only the composition of the different resin composition is described.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서의 폴리비닐아세탈 수지(상품명: 덴카 부티랄 5000A, 덴키카가쿠공업사제)/10중량부B component: Polyvinyl acetal resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group (brand name: Denka Butyral 5000A, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) / 10 parts by weight

C성분: 가교제로서의 우레탄 수지(상품명: 코로네이트 AP 스테이블, 일본폴리우레탄공업사제)/4중량부C component: Urethane resin as a crosslinking agent (brand name: Coronate AP Stable, the product made by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) / 4 weight part

D성분: 에폭시 수지 경화제로서의 노볼락형 페놀 수지(상품명: 페노라이트 TD-2131, 대일본잉크화학공업사제)/24중량부D component: Novolak-type phenol resin as a epoxy resin hardener (brand name: phenorite TD-2131, product made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) / 24 weight part

E성분: 브롬화 에폭시 수지 1(상품명: 에피크론 1121N-80M, 대일본잉크화학공업사제)/10중량부E component: Brominated epoxy resin 1 (brand name: epicron 1121N-80M, product made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) / 10 parts by weight

브롬화 에폭시 수지 2(상품명: BREN-304, 일본화약사제)/30중량부Brominated epoxy resin 2 (trade name: BREN-304, manufactured by Nippon Chemical Industries, Ltd.) / 30 parts by weight

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/7중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan ink chemical company make) / 7 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-에틸-4-메틸이미다졸(상품명: 2E4MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.2중량부 G component: 2-ethyl-4-methylimidazole (brand name: 2E4MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) / 0.2 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를 상기 실시예 1 및 실시예 2와의 대비가 가능하게 표 1에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The results are shown in Table 1 to enable comparison with Example 1 and Example 2 above.

Figure 112009079442751-pct00010
Figure 112009079442751-pct00010

[비교예 2]Comparative Example 2

이 비교예 2는, 할로겐 프리계 수지 조성물을 이용한 상기 실시예 3 내지 실시예 5와의 대비를 하기 위한 것이다. 따라서, 실시예 3에서 이용하는 수지 조성물의 조성이 다를 뿐이며, 그 밖의 수지 바니시의 조제, 수지부착 동박의 제조, 당해 수지부착 동박을 이용한 동장 적층판의 제조는 같다. 따라서, 상이한 수지 조성물의 조성에 관해서만 기술한다.This comparative example 2 is for contrast with the said Example 3-Example 5 using a halogen free resin composition. Therefore, only the composition of the resin composition used in Example 3 differs, and preparation of another resin varnish, manufacture of resin foil copper foil, and manufacture of the copper clad laminated board using the said resin foil copper foil are the same. Therefore, only the composition of the different resin composition is described.

A성분: 25℃에서 액상이고 에폭시 당량이 188인 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명: 에포토토 YD-128, 토토카세이사제)/15중량부A component: Bisphenol-A epoxy resin which is liquid at 25 degreeC, and has an epoxy equivalent of 188 (brand name: Efototo YD-128, manufactured by Totokasei Co., Ltd.) / 15 parts by weight

B성분: 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머로서의 폴리비닐아세탈 수지(상품명: 덴카 부티랄 5000A, 덴키카가쿠공업사제)/10중량부B component: Polyvinyl acetal resin as a linear polymer having a crosslinkable functional group (brand name: Denka Butyral 5000A, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) / 10 parts by weight

C성분: 가교제로서의 우레탄 수지(상품명: 코로네이트 AP 스테이블, 일본폴리우레탄공업사제)/4중량부C component: Urethane resin as a crosslinking agent (brand name: Coronate AP Stable, the product made by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) / 4 weight part

D성분: 에폭시 수지 경화제(25% 디메틸포름아미드 용액으로서 조제한 디시안디아미드(시약)/4중량부(고형분 환산)D component: Epoxy resin hardener (Dicyandiamide (reagent) / 4 weight part (solid content conversion) prepared as a 25% dimethylformamide solution)

E성분: 실시예 3과 같은 방법으로 합성한 인 함유 에폭시 수지/50중량부E component: 50 weight part of phosphorus containing epoxy resin synthesize | combined by the method similar to Example 3

F성분: 다작용 에폭시 수지로서의 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명: 에피크론 N-680, 대일본잉크화학공업사제)/17중량부F component: Ortho cresol novolak-type epoxy resin as a multifunctional epoxy resin (brand name: epicron N-680, the Japan ink chemical company make) / 17 weight part

G성분: 경화 촉진제로서 2-에틸-4-메틸이미다졸(상품명: 2E4MZ, 시코쿠카세이공업사제)/0.2중량부G component: 2-ethyl-4-methylimidazole (brand name: 2E4MZ, product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) / 0.2 weight part as a hardening accelerator

이하, 실시예 1과 마찬가지로 수지 바니시를 조제하고, 수지부착 동박을 제조하고, 당해 수지부착 동박을 이용하여 동장 적층판을 제조하였다. 그리고, 이 동장 적층판을 워크 사이즈로 커팅하여 박리 강도 측정용 직선 회로를 형성하였다. 그 후, 그 시험용 직선 회로를 이용하여 박리 강도를 측정하였다. 그 결과를, 상기 실시예 3 내지 실시예 5와의 대비가 가능하게 표 2에 나타낸다.Hereinafter, the resin varnish was prepared like Example 1, the copper foil with resin was manufactured, and the copper clad laminated board was manufactured using the said copper foil with resin. And this copper clad laminated board was cut into the work size, and the linear circuit for peeling strength measurement was formed. Then, peeling strength was measured using the test linear circuit. The result is shown in Table 2 so that contrast with Example 3-Example 5 is possible.

Figure 112009079442751-pct00011
Figure 112009079442751-pct00011

<실시예와 비교예의 대비><Contrast of Example and Comparative Example>

할로겐계 수지 조성물을 이용한 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1을 대비하면, 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 및 실시예 2의 경우에는 박리 강도가 0.9kgf/㎝를 초과하고 있어, 조화 처리를 실시한 동박을 이용한 경우와 비교해도 손색이 없는 밀착성을 나타냄을 알 수 있다. 이에 대하여, 비교예 1의 경우에는 박리 강도가 0.4kgf/㎝로, 실용상 요구되는 밀착성을 만족하지 않음을 이해할 수 있다.Compared with Example 1 and Example 2 and Comparative Example 1 using a halogen-based resin composition, as can be seen from Table 1, in the case of Example 1 and Example 2, the peel strength exceeds 0.9kgf / cm In addition, it turns out that adhesiveness without inferiority is exhibited even compared with the case of using the copper foil which performed the roughening process. On the other hand, in the case of the comparative example 1, it is understood that peeling strength is 0.4 kgf / cm and it does not satisfy the adhesiveness required practically.

또한, 마찬가지로 할로겐 프리계 수지 조성물을 이용한 실시예 3 내지 실시예 5와 비교예 2를 대비하면, 표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 3의 박리 강도가 0.8kgf/㎝, 실시예 4의 박리 강도가 1.0kgf/㎝, 실시예 5의 박리 강도가 1.0kgf/㎝로, 조화 처리를 실시한 동박을 이용한 경우와 비교해도 손색이 없는 밀착성을 나타냄을 알 수 있다. 이에 대하여, 비교예 2의 경우에는 박리 강도가 0.5kgf/㎝로, 실시예와 비교하여 분명하게 떨어진다.Similarly, in comparison with Examples 3 to 5 and Comparative Example 2 using a halogen-free resin composition, as can be seen from Table 2, the peel strength of Example 3 is 0.8 kgf / cm, It turns out that peeling strength is 1.0 kgf / cm and the peeling strength of Example 5 is 1.0 kgf / cm, and the adhesiveness without any inferiority is exhibited even compared with the case of using the copper foil which performed the roughening process. On the other hand, in the case of the comparative example 2, peeling strength is 0.5 kgf / cm and it falls clearly compared with an Example.

또한, 실시예 1 내지 실시예 5, 비교예 1, 비교예 2의 수지 조성물로 구성한 절연 수지층의 탄성률(영률)을 대비한다. 이것들의 탄성률을 표 3에 나타낸다.Moreover, the elasticity modulus (Young's modulus) of the insulated resin layer comprised from the resin composition of Examples 1-5, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 is compared. These elastic modulus are shown in Table 3.

Figure 112009079442751-pct00012
Figure 112009079442751-pct00012

표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 5의 탄성률은 2.6GPa ~ 2.8GPa의 범위에 있어 탄성률이 3.0GPa 미만이 되어 있다. 이에 대하여, 비교예 1 및 비교예 2의 탄성률은 3.0GPa 이상이 되어 있다. 따라서, 비교예에 비하여, 실시예의 수지 조성물로 구성한 절연 수지층은 저탄성임을 이해할 수 있다. 이와 같은 저탄성의 성능을 구비하는 절연 수지층을 구비하는 프린트 배선판은 내충격성이 뛰어나다. 따라서, 이 프린트 배선판은 전자 제품 등에 삽입된 후에도 당해 제품의 의도하지 않은 낙하 등으로 충격을 받아도 전자 부품 및 회로의 손상이 적어서 내충격성이 뛰어나게 된다.As can be seen from Table 3, the modulus of elasticity of Examples 1 to 5 is less than 3.0 GPa in the range of 2.6 GPa to 2.8 GPa. On the other hand, the elasticity modulus of the comparative example 1 and the comparative example 2 is 3.0 GPa or more. Therefore, compared with the comparative example, it can be understood that the insulated resin layer comprised from the resin composition of the Example is low elasticity. The printed wiring board provided with the insulated resin layer which has such a low elasticity performance is excellent in impact resistance. Therefore, even after being inserted into an electronic product or the like, even if the printed wiring board is impacted by an unintentional fall of the product or the like, damage to the electronic components and circuits is small, thereby providing excellent impact resistance.

이상으로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 수지 조성물의 조성 범위에 들어가는 경우에는 동박과 경화된 난연성을 구비하는 수지층과의 양호한 밀착성을 나타내고, 본 발명에 따른 기술 사상의 개념을 일탈한 조성의 경우에는 동박과 경화된 수지층과의 사이에서의 양호한 밀착성은 얻어지지 않음을 이해할 수 있다.As can be understood from the above, in the case of entering the composition range of the resin composition according to the present invention, the composition exhibits good adhesion between the copper foil and the resin layer having cured flame retardancy, and is a composition deviating from the concept of the technical idea according to the present invention. In the case of, it is understood that good adhesion between the copper foil and the cured resin layer is not obtained.

본 발명에 따른 수지 조성물은, 난연성을 구비함과 함께, 여기에 접합하는 동박과의 사이에서의 양호한 밀착성을 구비한다. 따라서, 동장 적층판 및 프린트 배선판의 절연층 구성 재료로서 적합하다. 또한, 이때의 동박은 무조화 동박이어도 충분히 사용 가능하다. 따라서, 에칭 팩터가 뛰어난 미세 피치 회로를 형성하기 위한 동장 적층판의 제조에 적합하다. 또한, 이 수지 조성물을 이용하여 동박의 표면에 수지층을 구성함으로써 양호한 품질의 수지부착 동박의 제공이 가능해진다. 따라서, 이 수지부착 동박을 이용함으로써 내(耐)마이그레이션성이 뛰어나고, 미세 피치 회로를 구비하고, 높은 신뢰성을 구비하는 고품질의 빌드업 프린트 배선판 등의 제공도 가능해진다.The resin composition which concerns on this invention is equipped with flame retardance, and is equipped with favorable adhesiveness with the copper foil joined here. Therefore, it is suitable as an insulating layer constitution material of a copper clad laminated board and a printed wiring board. In addition, even if it is an uncoated copper foil, copper foil at this time can fully be used. Therefore, it is suitable for manufacture of the copper clad laminated board for forming the fine pitch circuit which is excellent in an etching factor. Moreover, provision of the resin foil with resin of favorable quality is attained by forming a resin layer on the surface of copper foil using this resin composition. Therefore, by using this resin foil with resin, it is possible to provide a high quality build-up printed wiring board which is excellent in migration resistance, is provided with a fine pitch circuit, and has high reliability.

Claims (19)

프린트 배선판의 절연층을 형성하기 위하여 이용하는 수지 조성물로서, 이하의 A성분, B성분, 및 D성분 내지 F성분의 각 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The resin composition used for forming the insulating layer of a printed wiring board, Comprising: Each component of the following A component, B component, and D component-F component is contained, The resin composition for manufacturing a printed wiring board. A성분: 에폭시 당량이 200 이하이고, 25℃에서 액상인 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 AD형 에폭시 수지로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상.A component: 1 type (s) or 2 or more types selected from the group which consists of bisphenol-A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, and bisphenol AD-type epoxy resin which are liquid equivalent at 25 degreeC and are liquid at 25 degreeC. B성분: A성분, E성분 또는 F성분 중 적어도 하나 이상의 에폭시 수지의 경화 반응에 기여하는 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머.B component: Linear polymer which has a crosslinkable functional group which contributes to hardening reaction of at least 1 or more epoxy resin of A component, E component, or F component. D성분: 4,4′-디아미노디페닐설폰 또는 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)프로판.D-component: 4,4'-diaminodiphenylsulfone or 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane. E성분: 브롬화 에폭시 수지 또는 인 함유 에폭시 수지.E component: Brominated epoxy resin or phosphorus containing epoxy resin. F성분: 다작용 에폭시 수지.F component: Multifunctional epoxy resin. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 B성분인 가교 가능한 작용기를 가지는 선형 폴리머는, 폴리비닐아세탈 수지 또는 폴리아미드이미드 수지를 이용하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The linear polymer which has a crosslinkable functional group which is said B component uses polyvinyl acetal resin or a polyamide-imide resin, The resin composition for printed wiring board manufacture. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 조성물은, B성분과, A 성분, E성분 또는 F성분 중 적어도 하나 이상의 에폭시 수지의 가교 반응을 위한 가교제인 C성분을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The composition further comprises a component B, a component C, which is a crosslinking agent for the crosslinking reaction of at least one epoxy resin among the component A, the component E or the component F. The resin composition for producing a printed wiring board. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 E성분은, 분자 내에 2 이상의 에폭시기를 구비하는 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 유도체인 인(燐) 함유 에폭시 수지를 이용하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The said E component uses the phosphorus containing epoxy resin which is a 9,10- dihydro-9-oxa-10- phosphaphenanthrene-10-oxide derivative which has two or more epoxy groups in a molecule | numerator. Resin composition for wiring board manufacture. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 E성분은, 이하에 나타내는 화학식 3 내지 화학식 5 중 어느 하나에 나타내는 구조식을 구비하는 인 함유 에폭시 수지의 1종 또는 2종을 혼합하여 이용하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The said E component mixes and uses 1 type or 2 types of the phosphorus containing epoxy resin which has a structural formula shown in any one of following formula (3)-(5), The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. [화학식 3](3)
Figure 112012096093914-pct00020
Figure 112012096093914-pct00020
[화학식 4][Formula 4]
Figure 112012096093914-pct00021
Figure 112012096093914-pct00021
[화학식 5][Chemical Formula 5]
Figure 112012096093914-pct00022
Figure 112012096093914-pct00022
상기 식에서,Where n은 0 내지 10의 정수이다.n is an integer of 0-10.
제1항에 있어서,The method of claim 1, F성분의 다작용 에폭시 수지로서 오르토 크레졸 노볼락형 에폭시 수지를 첨가한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The ortho cresol novolak-type epoxy resin was added as a multifunctional epoxy resin of F component, The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제1항 또는 제3항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 0중량부 ~ 10중량부), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이며,When the weight of the resin composition is 100 parts by weight, the A component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, the B component is 3 parts by weight to 30 parts by weight, and the C component is 3 parts by weight to 10 parts by weight (the A component is a crosslinking agent of the B component). In case of functioning as 0 to 10 parts by weight), D component is 5 parts by weight to 20 parts by weight, and F component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때, E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위로 함유하게 E성분의 중량부를 정하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.When the weight of a resin composition is 100 weight%, the weight part of E component is determined so that the bromine atom derived from E component may be contained in the range of 12 weight%-18 weight%, The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제1항 또는 제3항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 0중량부 ~ 10중량부), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이며,When the weight of the resin composition is 100 parts by weight, the A component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, the B component is 3 parts by weight to 30 parts by weight, and the C component is 3 parts by weight to 10 parts by weight (the A component is a crosslinking agent of the B component). In case of functioning as 0 to 10 parts by weight), D component is 5 parts by weight to 20 parts by weight, and F component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때, E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 E성분의 중량부를 정하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.When the weight of a resin composition is 100 weight%, the weight part of E component is determined so that the phosphorus atom derived from E component may be contained in the range of 0.5 weight%-3.0 weight%, The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제1항 또는 제3항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 수지 조성물 중량을 100중량부로 했을 때, A성분이 3중량부 ~ 20중량부, B성분이 3중량부 ~ 30중량부, C성분이 3중량부 ~ 10중량부(A성분이 B성분의 가교제로서 기능하는 경우에는 0중량부 ~ 3중량부 미만), D성분이 5중량부 ~ 20중량부, F성분이 3중량부 ~ 20중량부이며,When the weight of the resin composition is 100 parts by weight, the A component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, the B component is 3 parts by weight to 30 parts by weight, and the C component is 3 parts by weight to 10 parts by weight (the A component is a crosslinking agent of the B component). When it functions as 0 parts by weight to less than 3 parts by weight), D component is 5 parts by weight to 20 parts by weight, F component is 3 parts by weight to 20 parts by weight, 수지 조성물 중량을 100중량%로 했을 때, E성분 유래의 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 E성분의 중량부를 정하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.When the weight of a resin composition is 100 weight%, the weight part of E component is determined so that the phosphorus atom derived from E component may be contained in the range of 0.5 weight%-3.0 weight%, The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,The method of claim 1, G성분으로서 경화 촉진제를 첨가한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.The hardening accelerator was added as G component, The resin composition for printed wiring board manufacture. 동박의 편면에 반경화 수지층을 구비한 수지부착 동박에 있어서,In the copper foil with resin provided with the semi-hardened resin layer on the single side | surface of copper foil, 당해 반경화 수지층은, 제1항의 수지 조성물을 이용하여 5㎛ ~ 100㎛의 평균 두께로써 형성한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박.The said semi-hardened resin layer was formed with the average thickness of 5 micrometers-100 micrometers using the resin composition of Claim 1, The copper foil with resin for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 동박은, 그 반경화 수지층의 형성면이 표면 거칠기(Rzjis)가 3.0㎛ 이하의 저조도 표면을 구비하는 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박.The said copper foil uses that the formation surface of the semi-hardened resin layer has the low roughness surface whose surface roughness (Rzjis) is 3.0 micrometers or less, The copper foil with resin for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 동박의 반경화 수지층을 형성하는 표면에 실란 커플링 처리층을 구비하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박.The copper foil with resin for printed wiring board manufacture characterized by including a silane coupling process layer in the surface which forms the semi-hardened resin layer of the said copper foil. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 2장의 상기 수지부착 동박의 1종을 이용하여 각각의 수지부착 동박의 수지면끼리 맞추어 당접시키고, 압력 20kgf/㎠, 온도 180℃×1시간의 조건으로 열간 프레스 성형을 행하여 동장 적층판으로 하고, 당해 동장 적층판의 양면에 있는 동박층을 에칭 제거하여 수지 필름으로 하고, 이 수지 필름을 동적 점탄성 측정 장치(DMA)로 동적 점탄성을 측정하여 얻어지는 30℃에서의 저장 탄성률이 3.0GPa 미만이 되는 반경화 수지층을 구비하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박.One surface of each of the resin-clad copper foils was brought into contact with each other using one type of the above-described resin-clad copper foils, and hot pressing was formed under a condition of a pressure of 20 kgf / cm 2 and a temperature of 180 ° C. × 1 hour to obtain a copper-clad laminate. Semi-hardened resin layer whose storage elastic modulus in 30 degreeC obtained by etching dynamic copper viscoelasticity measuring apparatus (DMA) by etching and removing the copper foil layers on both surfaces of a laminated board to this resin film is less than 3.0 GPa. Copper foil with resin for manufacture of printed wiring boards characterized by including the above. 제12항의 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박의 제조 방법으로서,As a manufacturing method of the copper foil with resin for manufacturing a printed wiring board of Claim 12, 이하의 공정 a, 공정 b의 순서로 수지층의 형성에 이용하는 수지 바니시를 조제하고, 당해 수지 바니시를 동박의 표면에 도포하고 건조시킴으로써 5㎛ ~ 100㎛의 평균 두께의 반경화 수지막을 형성하여 수지부착 동박으로 하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박의 제조 방법.The resin varnish used for formation of a resin layer is prepared in the following process a and the process b, and the semi-hardened resin film of the average thickness of 5 micrometers-100 micrometers is formed by apply | coating this resin varnish to the surface of copper foil, and resin The copper foil with resin for printed wiring board manufacture characterized by using an attached copper foil. 공정 a: 상기 A성분 내지 F성분을 필수 성분으로 한 수지 조성물의 중량을 100중량%로 했을 때, E성분 유래의 브롬 원자를 12중량% ~ 18중량%의 범위 또는 인 원자를 0.5중량% ~ 3.0중량%의 범위로 함유하게 각 성분을 혼합하여 수지 조성물로 한다.Process a: When the weight of the resin composition which made the said A component-F component into an essential component is 100 weight%, the range of 12 weight%-18 weight% of the bromine atom derived from E component, or 0.5 weight%-of the phosphorus atom- Each component is mixed so as to contain in a range of 3.0 wt% to obtain a resin composition. 공정 b: 상기 수지 조성물을, 유기용제를 이용해 용해하여 수지 고형분량이 25중량% ~ 50중량%인 수지 바니시로 한다.Process b: The said resin composition is melt | dissolved using an organic solvent, and it is set as the resin varnish whose resin solid content is 25 weight%-50 weight%. 제16항에 있어서,17. The method of claim 16, 상기 공정 a의 수지 조성물에, G성분으로서 경화 촉진제를 첨가하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지부착 동박의 제조 방법.The hardening accelerator is added as a G component to the resin composition of the said process a, The manufacturing method of the resin foil copper foil for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned. 제1항의 수지 조성물을 이용하여 절연층을 구성한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판.The insulating layer was comprised using the resin composition of Claim 1, The printed wiring board characterized by the above-mentioned. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 C성분은 우레탄계 수지를 이용하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판 제조용 수지 조성물.Said C component uses urethane type resin, The resin composition for printed wiring board manufacture characterized by the above-mentioned.
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