KR102172297B1 - Epoxy resin composite and printed curcuit board comprising insulating layer using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함한다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention includes 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers.

Description

에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 절연층을 포함하는 인쇄회로기판{EPOXY RESIN COMPOSITE AND PRINTED CURCUIT BOARD COMPRISING INSULATING LAYER USING THE SAME}A printed circuit board including an epoxy resin composition and an insulating layer using the same TECHNICAL FIELD [EPOXY RESIN COMPOSITE AND PRINTED CURCUIT BOARD COMPRISING INSULATING LAYER USING THE SAME}

본 발명은 에폭시 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 절연층을 포함하는 인쇄회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition, and more particularly to a printed circuit board including an epoxy resin composition and an insulating layer using the same.

인쇄회로기판은 절연층 상에 형성된 회로 패턴을 포함하며, 인쇄회로기판 상에는 다양한 전자 부품이 탑재될 수 있다.The printed circuit board includes a circuit pattern formed on the insulating layer, and various electronic components may be mounted on the printed circuit board.

인쇄회로기판 상에 탑재되는 전자 부품은, 예를 들면 발열 소자일 수 있다. 발열 소자가 방출하는 열은 인쇄회로기판의 성능을 떨어뜨릴 수 있다.The electronic component mounted on the printed circuit board may be, for example, a heating element. The heat emitted by the heating element may degrade the performance of the printed circuit board.

전자 부품의 고집적화 및 고용량화에 따라, 인쇄회로기판의 방열 문제에 대한 관심이 더욱 커지고 있다. 인쇄회로기판의 방열 문제를 해결하기 위하여 열전도도가 높고 유전상수가 낮은 절연층이 필요하다. 일반적으로 비스페놀 A 형 에폭시 화합물 또는 비스페놀 F 형 에폭시 화합물 등을 포함하는 에폭시 수지 조성물을 유리섬유에 함침시켜 인쇄회로기판의 절연층으로 사용하고 있으나, 이러한 절연층은 열전도도가 높지 못한 문제가 있다.As electronic components become highly integrated and have higher capacity, interest in the heat dissipation problem of a printed circuit board is increasing. In order to solve the heat dissipation problem of a printed circuit board, an insulating layer having high thermal conductivity and low dielectric constant is required. In general, an epoxy resin composition including a bisphenol A type epoxy compound or a bisphenol F type epoxy compound is impregnated with glass fiber to be used as an insulating layer of a printed circuit board, but such an insulating layer has a problem in that thermal conductivity is not high.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 절연층을 포함하는 인쇄회로기판을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a printed circuit board including an epoxy resin composition and an insulating layer using the same.

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함한다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention includes 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers.

상기 유리섬유는 상기 에폭시 수지 조성물의 25 내지 55wt%로 포함될 수 있다.The glass fiber may be included in 25 to 55wt% of the epoxy resin composition.

상기 무기 충전재는 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.The inorganic filler may further include at least one of boron nitride and alumina.

상기 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나는 상기 에폭시 수지 조성물의 1 내지 25wt%로 포함될 수 있다.At least one of the boron nitride and alumina may be included as 1 to 25 wt% of the epoxy resin composition.

상기 유리섬유 10 중량부에 대하여 상기 질화붕소 3 내지 7 중량부를 포함할 수 있다.It may contain 3 to 7 parts by weight of the boron nitride based on 10 parts by weight of the glass fiber.

상기 유리섬유 10 중량부에 대하여 상기 알루미나 3 내지 5 중량부를 더 포함할 수 있다.It may further include 3 to 5 parts by weight of the alumina based on 10 parts by weight of the glass fiber.

상기 결정성 에폭시 화합물은 메조겐 구조를 포함할 수 있다.The crystalline epoxy compound may include a mesogen structure.

상기 경화제는 디아미노디페닐술폰을 포함할 수 있다.The curing agent may include diaminodiphenylsulfone.

상기 에폭시 화합물은 비결정성 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다.The epoxy compound may further include an amorphous epoxy compound.

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 금속 플레이트, 상기 금속 플레이트 상에 형성되는 절연층, 그리고 상기 절연층 상에 형성되는 회로패턴을 포함하며, 상기 절연층은 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 그리고 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 포함한다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention includes a metal plate, an insulating layer formed on the metal plate, and a circuit pattern formed on the insulating layer, and the insulating layer includes a crystalline epoxy compound. An epoxy resin composition comprising 3 to 60 wt% of an epoxy compound, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers.

본 발명의 다른 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 순차적으로 배치되는 복수의 회로패턴층, 그리고 상기 복수의 회로패턴층 사이에 형성되는 복수의 절연층을 포함하며, 상기 복수의 절연층 중 적어도 일부의 절연층은 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 그리고 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 포함한다.The epoxy resin composition according to another embodiment of the present invention includes a plurality of circuit pattern layers that are sequentially arranged, and a plurality of insulating layers formed between the plurality of circuit pattern layers, and at least some of the plurality of insulating layers The insulating layer includes an epoxy resin composition comprising 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers.

본 발명의 실시예에 따르면, 열전도도가 높으며, 유전상수가 낮은 에폭시 수지 조성물을 얻을 수 있다. 이를 이용하여 방열 효과가 우수한 절연 소재를 얻을 수 있으며, 인쇄회로기판의 방열 성능 및 신뢰도를 높일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, an epoxy resin composition having high thermal conductivity and low dielectric constant can be obtained. By using this, an insulating material having excellent heat dissipation effect can be obtained, and heat dissipation performance and reliability of the printed circuit board can be improved.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. The present invention is intended to illustrate and describe specific embodiments in the drawings, as various changes may be made and various embodiments may be provided. However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it is to be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. Terms including ordinal numbers, such as second and first, may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a second component may be referred to as a first component, and similarly, a first component may be referred to as a second component. The term and/or includes a combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.

층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the case where the other part is "directly above", but also the case where there is another part in the middle. Conversely, when one part is "right above" another part, it means that there is no other part in the middle.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same reference numerals are assigned to the same or corresponding components regardless of the reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted.

본 명세서에서 wt%는 중량부로 대체될 수 있다.In the present specification, wt% may be replaced by parts by weight.

본 발명의 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 에폭시 화합물, 경화제, 그리고 무기 충전재를 포함한다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention includes an epoxy compound, a curing agent, and an inorganic filler.

보다 상세하게는, 본 발명의 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 그리고 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함한다. More specifically, the epoxy resin composition according to the embodiment of the present invention comprises 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers. Include.

에폭시 수지 조성물에 에폭시 화합물이 3 내지 60wt%로 포함되면, 강도가 양호하여 밀착성이 우수할 뿐만 아니라 두께 조절이 용이하다. 그리고, 에폭시 수지 조성물에 경화제가 0.5 내지 22wt%로 포함되면, 경화가 용이하며, 강도가 양호하여 밀착성이 우수하다. 그리고, 에폭시 수지 조성물에 유리섬유를 포함하는 무기 충전재가 18 내지 96.5wt%로 포함되면, 열전도도가 우수할 뿐만 아니라 전기전도도도 낮은 효과를 가지며, 저열팽창성, 고내열성, 성형성이 우수하다.When the epoxy resin composition contains 3 to 60 wt% of the epoxy compound, the strength is good, so that adhesion is excellent, and thickness control is easy. In addition, when the curing agent is contained in an amount of 0.5 to 22 wt% in the epoxy resin composition, curing is easy, strength is good, and adhesion is excellent. In addition, when the epoxy resin composition contains 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler containing glass fibers, not only has excellent thermal conductivity but also has a low electrical conductivity effect, and is excellent in low thermal expansion, high heat resistance, and moldability.

여기서, 결정성 에폭시 화합물은 메조겐(mesogen) 구조를 포함할 수 있다. 메조겐(mesogen)은 액정(liquid crystal)의 기본 단위이며, 강성(rigid) 구조를 포함한다. 메조겐은, 예를 들면 하기 (a) 내지 (e)등과 같은 강성 구조를 포함할 수 있다.Here, the crystalline epoxy compound may include a mesogen structure. Mesogen is a basic unit of a liquid crystal and includes a rigid structure. Mesogen may contain, for example, a rigid structure such as the following (a) to (e).

(a)(a)

Figure 112014036823719-pat00001
Figure 112014036823719-pat00001

(b)(b)

Figure 112014036823719-pat00002
Figure 112014036823719-pat00002

(c)(c)

Figure 112014036823719-pat00003
Figure 112014036823719-pat00003

(d)(d)

Figure 112014036823719-pat00004
Figure 112014036823719-pat00004

(e)(e)

Figure 112014036823719-pat00005
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본 발명의 실시예에서, 메조겐 구조를 포함하는 결정성 에폭시 화합물은, 예를 들면 4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르(4,4'-biphenolether diglycidyl ether), 즉 SE-4280를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In an embodiment of the present invention, the crystalline epoxy compound containing a mesogenic structure is, for example, 4,4'-biphenolether diglycidyl ether, that is, SE-4280 It may include, but is not limited thereto.

본 발명의 실시예에서, 결정성 에폭시 화합물은, 예를 들면 화학식 1 내지 12 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the crystalline epoxy compound may contain at least one of Formulas 1 to 12, for example.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112014036823719-pat00006
Figure 112014036823719-pat00006

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112014036823719-pat00007
Figure 112014036823719-pat00007

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112014036823719-pat00008
Figure 112014036823719-pat00008

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112014036823719-pat00009
Figure 112014036823719-pat00009

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112014036823719-pat00010
Figure 112014036823719-pat00010

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112014036823719-pat00011
Figure 112014036823719-pat00011

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112014036823719-pat00012
Figure 112014036823719-pat00012

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112014036823719-pat00013
Figure 112014036823719-pat00013

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112014036823719-pat00014
Figure 112014036823719-pat00014

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112014036823719-pat00015
Figure 112014036823719-pat00015

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112014036823719-pat00016
Figure 112014036823719-pat00016

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112014036823719-pat00017
Figure 112014036823719-pat00017

그리고, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 비결정성 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. 비결정성 에폭시 화합물은 결정성 에폭시 화합물 10 중량부에 대하여 비결정성 에폭시 화합물 1 내지 40 중량부를 포함할 수 있다. 이와 같은 비율로 결정성 에폭시 화합물과 비결정성 에폭시 화합물이 포함되면, 상온 안정성을 높일 수 있다.And, the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may further include an amorphous epoxy compound. The amorphous epoxy compound may include 1 to 40 parts by weight of an amorphous epoxy compound based on 10 parts by weight of the crystalline epoxy compound. When the crystalline epoxy compound and the amorphous epoxy compound are included in such a ratio, room temperature stability can be improved.

비결정성 에폭시 화합물은 분자 중 에폭시기를 2개 이상 가지는 통상의 비결정성 에폭시 화합물일 수 있다.The amorphous epoxy compound may be a conventional amorphous epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule.

비결정성 에폭시 화합물은, 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 F, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐술폰, 4,4'-디히드록시디페닐술피드, 4,4'-디히드록시디페닐케톤, 플루오렌비스페놀, 4,4'-비페놀,3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디히드록시비페닐, 2,2'-비페놀, 레조르신, 카테콜, t-부틸카테콜, 히드로퀴논, t-부틸히드로퀴논, 1,2-디히드록시나프탈렌, 1,3-디히드록시나프탈렌, 1,4-디히드록시나프탈렌, 1,5-디히드록시나프탈렌, 1,6-디히드록시나프탈렌, 1,7-디히드록시나프탈렌, 1,8-디히드록시나프탈렌, 2,3-디히드록시나프탈렌, 2,4-디히드록시나프탈렌, 2,5-디히드록시나프탈렌, 2,6-디히드록시나프탈렌, 2,7-디히드록시나프탈렌, 2,8-디히드록시나프탈렌, 상기 디히드록시나프탈렌의 알릴화물 또는 폴리알릴화물, 알릴화비스페놀A, 알릴화비스페놀F, 알릴화페놀노볼락 등의 2가의 페놀류, 혹은 페놀노볼락, 비스페놀A노볼락, o-크레졸노볼락, m-크레졸노볼락, p-크레졸노볼락, 크실레놀노볼락, 폴리-p-히드록시스티렌, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 플루오로글리시놀, 피로갈롤, t-부틸피로갈롤, 알릴화피로갈롤, 폴리알릴화피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 2,3,4-트리히드록시벤조페논, 페놀아랄킬수지, 나프톨아랄킬수지, 디시클로펜타디엔계 수지 등의3가 이상의 페놀류, 테트라브로모비스페놀A 등의 할로겐화비스페놀류 및 이들로부터 선택된 혼합물 중 하나로부터 유도되는 글리시딜에테르화물일 수 있다.An amorphous epoxy compound is, for example, bisphenol A, bisphenol F, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenyl Sulfone, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxydiphenylketone, fluorenebisphenol, 4,4'-biphenol,3,3',5,5'-tetra Methyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol, t-butylcatechol, hydroquinone, t-butylhydroquinone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1 ,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydr Roxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2, Divalent phenols such as 8-dihydroxynaphthalene, allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolac, or phenol novolac, bisphenol A novolac , o-cresol novolac, m-cresol novolac, p-cresol novolac, xylenol novolac, poly-p-hydroxystyrene, tris-(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1,2,2 -Tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallyled pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2, One of trivalent or higher phenols such as 3,4-trihydroxybenzophenone, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene resin, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, and mixtures selected from these It may be a glycidyl ether product derived from.

비결정성 에폭시 화합물의 일 예는 화학식 13과 같다.An example of the amorphous epoxy compound is the same as in Formula 13.

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112014036823719-pat00018
Figure 112014036823719-pat00018

그리고, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물에 포함되는 경화제는 아민계 경화제, 페놀계 경화제, 산무수물계 경화제, 폴리메르캅탄계 경화제, 폴리아미노아미드계 경화제, 이소시아네이트계 경화제 및 블록 이소시아네이트계 경화제 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. In addition, the curing agent included in the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention is an amine-based curing agent, a phenolic curing agent, an acid anhydride-based curing agent, a polymercaptan-based curing agent, a polyaminoamide-based curing agent, an isocyanate-based curing agent and a block isocyanate-based It may contain at least one of curing agents.

아민계 경화제는, 예를 들면 4, 4'-디아미노디페닐설폰(diamino diphenyl sulfone)일 수 있다. 하기 화학식 14는 디아미노디페닐설폰의 일 예이다. The amine-based curing agent may be, for example, 4, 4'-diamino diphenyl sulfone. Formula 14 below is an example of diaminodiphenylsulfone.

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112014036823719-pat00019

Figure 112014036823719-pat00019

아민계 경화제의 다른 예는, 지방족 아민류, 폴리에테르폴리아민류, 지환식 아민류, 방향족 아민류 등일 수 있으며, 지방족 아민류로서는, 에틸렌디아민, 1,3-디아미노프로판, 1,4-디아미노프로판, 헥사메틸렌디아민, 2,5-디메틸헥사메틸렌디아민, 트리메틸헥사메틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 이미노비스프로필아민, 비스(헥사메틸렌)트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 펜타에틸렌헥사민, N-히드록시에틸에틸렌디아민, 테트라(히드록시에틸)에틸렌디아민 등을 들 수 있다. 폴리에테르폴리아민류로서는, 트리에틸렌글리콜디아민, 테트라에틸렌글리콜디아민, 디에틸렌글리콜비스(프로필아민), 폴리옥시프로필렌디아민, 폴리옥시프로필렌트리아민류 및 이들로부터 선택된 혼합물 중 하나일 수 있다. 지환식 아민류로서는, 이소포론디아민, 메타센디아민, N-아미노에틸피페라진, 비스(4-아미노-3-메틸디시클로헥실)메탄, 비스(아미노메틸)시클로헥산, 3,9-비스(3-아미노프로필)2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸, 노르보르넨디아민 등을 들 수 있다. 방향족 아민류로서는, 테트라클로로-p-크실렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, m-페닐렌디아민, o-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 2,4-디아미노아니솔, 2,4-톨루엔디아민, 2,4-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 2,4-디아미노디페닐술폰, m-아미노페놀, m-아미노벤질아민, 벤질디메틸아민, 2-디메틸아미노메틸)페놀, 트리에탄올아민, 메틸벤질아민, α-(m-아미노페닐)에틸아민, α-(p-아미노페닐)에틸아민, 디아미노디에틸디메틸디페닐메탄, α,α'-비스(4-아미노페닐)-p-디이소프로필벤젠 및 이들로부터 선택된 혼합물 중 하나일 수 있다.Other examples of the amine curing agent may be aliphatic amines, polyether polyamines, alicyclic amines, aromatic amines, and the like, and examples of the aliphatic amines include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexa Methylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis(hexamethylene)triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-hydroxyethylethylenediamine, tetra(hydroxyethyl)ethylenediamine, etc. are mentioned. As the polyether polyamine, it may be one of triethylene glycol diamine, tetraethylene glycol diamine, diethylene glycol bis (propylamine), polyoxypropylene diamine, polyoxypropylene triamine, and a mixture selected from these. As alicyclic amines, isophoronediamine, metasenediamine, N-aminoethylpiperazine, bis(4-amino-3-methyldicyclohexyl)methane, bis(aminomethyl)cyclohexane, 3,9-bis(3 -Aminopropyl) 2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane, norbornenediamine, and the like. As aromatic amines, tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2 ,4-toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 2,4-diaminodi Phenylsulfone, m-aminophenol, m-aminobenzylamine, benzyldimethylamine, 2-dimethylaminomethyl)phenol, triethanolamine, methylbenzylamine, α-(m-aminophenyl)ethylamine, α-(p-amino Phenyl)ethylamine, diaminodiethyldimethyldiphenylmethane, α,α'-bis(4-aminophenyl)-p-diisopropylbenzene, and a mixture selected from these.

페놀계 경화제는, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-디히드록시디페닐에테르, 1,4-비스(4-히드록시페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-히드록시페녹시)벤젠, 4,4'-디히드록시디페닐술피드, 4,4'-디히드록시디페닐케톤, 4,4'-디히드록시디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시디페닐에스터, 4,4'-디히드록시비페닐, 2,2'-디히드록시비페닐, 10-(2,5-디히드록시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 페놀노볼락, 비스페놀A노볼락, o-크레졸노볼락, m-크레졸노볼락, p-크레졸노볼락, 크실레놀노볼락, 폴리-p-히드록시스티렌, 히드로퀴논, 레조르신, 카테콜, t-부틸카테콜, t-부틸히드로퀴논, 플루오로글리시놀, 피로갈롤, t-부틸피로갈롤, 알릴화피로갈롤, 폴리알릴화피로갈롤, 1,2,4-벤젠트리올, 2,3,4-트리히드록시벤조페논, 1,2-디히드록시나프탈렌, 1,3-디히드록시나프탈렌, 1,4-디히드록시나프탈렌, 1,5-디히드록시나프탈렌, 1,6-디히드록시나프탈렌, 1,7-디히드록시나프탈렌, 1,8-디히드록시나프탈렌, 2,3-디히드록시나프탈렌, 2,4-디히드록시나프탈렌, 2,5-디히드록시나프탈렌, 2,6-디히드록시나프탈렌, 2,7-디히드록시나프탈렌, 2,8-디히드록시나프탈렌, 상기 디히드록시나프탈렌의 알릴화물 또는 폴리알릴화물, 알릴화비스페놀A, 알릴화비스페놀F, 알릴화페놀노볼락, 알릴화피로갈롤 및 이들로부터 선택된 혼합물 중 하나일 수 있다.The phenolic curing agent is, for example, bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis(4-hydroxyphenoxy). )Benzene, 1,3-bis(4-hydroxyphenoxy)benzene, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxydiphenylketone, 4,4'-dihydr Roxydiphenylsulfone, 4,4'-dihydroxydiphenylester, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl, 10-(2,5-dihydroxyphenyl )-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolac, bisphenol A novolac, o-cresol novolac, m-cresol novolac, p-cresol novolac, xylenol novolac , Poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallyl Hwapirogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydro Roxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2, 4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allyl of the dihydroxynaphthalene It may be one of a cargo or polyallylate, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolac, allylated pyrogallol, and mixtures selected from these.

산무수물계 경화제는, 예를 들면 도데세닐무수숙신산, 폴리아디핀산무수물, 폴리아젤라인산무수물, 폴리세바신산무수물, 폴리(에틸옥타데칸이산)무수물, 폴리(페닐헥사데칸이산)무수물, 메틸테트라히드로무수프탈산, 메틸헥사히드로무수프탈산, 헥사히드로무수프탈산, 무수메틸하이믹산, 테트라히드로무수프탈산, 트리알킬테트라히드로무수프탈산, 메틸시클로헥센디카르본산무수물, 메틸시클로헥센테트라카르본산무수물, 무수프탈산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 벤조페논테트라카르본산무수물, 에틸렌글리콜비스트리멜리테이트, 무수헤트산, 무수나딕산, 무수메틸나딕산, 5-(2,5-디옥소테트라히드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-시클로헥산-1,2-디카르본산무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라히드로-1-나프탈렌숙신산이무수물, 1-메틸-디카르복시-1,2,3,4-테트라히드로-1-나프탈렌숙신산이무수물 및 이들로부터 선택된 혼합물 중 하나일 수 있다.Acid anhydride-based curing agents include, for example, dodecenyl succinic anhydride, polyadipic anhydride, polyazeleic anhydride, polysebacic anhydride, poly(ethyloctadecanedioic acid) anhydride, poly(phenylhexadecanedioic acid) anhydride, methyltetrahydro Phthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, methylcyclohexenedicarboxylic anhydride, methylcyclohexenetetracarboxylic anhydride, phthalic anhydride, Trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bistrimelitate, hetic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydro-3 -Furanyl)-3-methyl-3-cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic anhydride, 1- It may be one of methyl-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic anhydride and mixtures selected from these.

2 종류 이상의 경화제를 혼합하여 사용할 수도 있다.It is also possible to mix and use two or more types of hardeners.

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 경화 촉진제를 더 포함할 수 있다. 경화 촉진제는, 예를 들면 아민류 경화 촉진제, 이미다졸류 경화 촉진제, 유기 포스핀류 경화 촉진제, 루이스산 경화 촉진제 등이 있고, 구체적으로는, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3급 아민, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 등의 이미다졸류, 트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀, 페닐포스핀 등의 유기 포스핀류, 테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄·에틸트리페닐보레이트, 테트라부틸포스포늄·테트라부틸보레이트 등의 테트라 치환포스포늄·테트라 치환 보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트, N-메틸모르폴린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등이 있다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may further include a curing accelerator. The curing accelerator includes, for example, an amine curing accelerator, an imidazole curing accelerator, an organic phosphine curing accelerator, a Lewis acid curing accelerator, and the like. Specifically, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) Tertiary amines such as sen-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl- Imidazoles such as 4-methylimidazole and 2-heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, Tetra-substituted phosphonium-tetra-substituted borates such as tetraphenylphosphonium-tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium-ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium-tetrabutylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole-tetra And tetraphenyl boron salts such as phenyl borate and N-methylmorpholine tetraphenyl borate.

화학식 15는 이미다졸계 경화촉진제의 예를 나타낸다. Formula 15 shows an example of an imidazole-based hardening accelerator.

[화학식 15][Formula 15]

Figure 112014036823719-pat00020
Figure 112014036823719-pat00020

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물이 화학식 15의 경화촉진제를 포함하는 경우, 금속과의 밀착성을 높일 수 있다. 이에 따라, 절연층 및 구리 등으로 이루어진 회로 패턴 간의 접착력이 높아지며, 회로 패턴의 이탈 가능성 및 단선 가능성이 낮아지므로, 인쇄회로기판의 가공이 용이하게 되고, 인쇄회로기판의 신뢰성이 높아진다. When the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention contains the curing accelerator of Formula 15, adhesion with metal may be improved. Accordingly, the adhesion between the insulating layer and the circuit pattern made of copper or the like is increased, and the possibility of separation and disconnection of the circuit pattern is lowered, thereby facilitating processing of the printed circuit board and increasing the reliability of the printed circuit board.

그리고, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 유리섬유를 포함하는 무기충전재를 18 내지 96.5wt%로 포함한다. 유리섬유를 포함하는 무기충전재가 이와 같은 함량으로 포함되면, 유전상수가 낮으면서도 열전도도가 우수한 에폭시 수지 조성물을 얻을 수 있다.And, the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention comprises 18 to 96.5wt% of an inorganic filler containing glass fibers. When the inorganic filler including glass fibers is included in such an amount, an epoxy resin composition having a low dielectric constant and excellent thermal conductivity can be obtained.

여기서, 유리섬유는 전체 에폭시 수지 조성물의 25 내지 55wt%, 바람직하게는 30 내지 50wt%로 포함될 수 있다. 유리섬유가 25wt% 미만으로 포함되면, 유전상수가 낮아 절연층으로 이용되기 어려운 문제가 있다. 유리섬유가 55wt%를 초과하여 포함되면, 원하는 수준의 열전도도를 얻을 수 없고, 가공이 용이하지 않을 수 있다. Here, the glass fiber may be included in 25 to 55 wt%, preferably 30 to 50 wt% of the total epoxy resin composition. When the glass fiber is contained in an amount of less than 25wt%, there is a problem that it is difficult to use as an insulating layer due to a low dielectric constant. When the glass fiber is contained in an amount exceeding 55wt%, a desired level of thermal conductivity may not be obtained, and processing may not be easy.

한편, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 무기충전재로서 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. 여기서, 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나는 전체 에폭시 수지 조성물의 1 내지 25wt%, 바람직하게는 5 내지 25wt%, 더욱 바람직하게는 10 내지 20wt%로 포함될 수 있다. 여기서, 함량은 에폭시 수지 조성물이 질화붕소 또는 알루미나를 포함하는 경우 질화붕소 또는 알루미나의 함량을 의미하고, 에폭시 수지 조성물이 질화붕소 및 알루미나를 포함하는 경우 질화붕소와 알루미나를 합한 함량을 의미할 수 있다. 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나가 전체 에폭시 수지 조성물의 1wt% 미만으로 포함되면, 원하는 수준의 열전도도를 얻기 어려운 문제가 있다. 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나가 전체 에폭시 수지 조성물의 25wt%를 초과하여 포함되면, 유전상수가 높아지는 문제가 있다.Meanwhile, the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may further include at least one of boron nitride and alumina as an inorganic filler. Here, at least one of boron nitride and alumina may be included in an amount of 1 to 25 wt%, preferably 5 to 25 wt%, and more preferably 10 to 20 wt% of the total epoxy resin composition. Here, the content may mean the content of boron nitride or alumina when the epoxy resin composition contains boron nitride or alumina, and when the epoxy resin composition contains boron nitride and alumina, it may mean the combined content of boron nitride and alumina. . When at least one of boron nitride and alumina is contained in an amount of less than 1 wt% of the total epoxy resin composition, there is a problem in that it is difficult to obtain a desired level of thermal conductivity. When at least one of boron nitride and alumina is contained in excess of 25 wt% of the total epoxy resin composition, there is a problem that the dielectric constant is increased.

이때, 유리섬유 10 중량부에 대하여 질화붕소 3 내지 7 중량부가 포함될 수 있고, 유리섬유 10 중량부에 대하여 알루미나 3 내지 5 중량부가 더 포함될 수 있다. 유리섬유, 질화붕소 및 알루미나가 이러한 수치 범위 내에서 포함되는 경우, 열전도도가 높으면서도 유전상수가 양호한 에폭시 수지 조성물을 얻을 수 있다.At this time, 3 to 7 parts by weight of boron nitride may be included based on 10 parts by weight of the glass fiber, and 3 to 5 parts by weight of alumina may be further included based on 10 parts by weight of the glass fiber. When glass fibers, boron nitride, and alumina are included within these numerical ranges, an epoxy resin composition having high thermal conductivity and good dielectric constant can be obtained.

그리고, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 무기충전재로서 질화알루미늄 및 실리카 중 적어도 하나를 더 포함할 수도 있다. In addition, the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may further include at least one of aluminum nitride and silica as an inorganic filler.

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 인쇄회로기판에 적용될 수 있다. 도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may be applied to a printed circuit board. 1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 인쇄회로기판(100)은 금속 플레이트(110), 절연층(120) 및 회로 패턴(130)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the printed circuit board 100 includes a metal plate 110, an insulating layer 120, and a circuit pattern 130.

금속 플레이트(110)는 구리, 알루미늄, 니켈, 금, 백금 및 이들로부터 선택된 합금으로 이루어질 수 있다.The metal plate 110 may be made of copper, aluminum, nickel, gold, platinum, and an alloy selected from these.

금속 플레이트(110) 상에는 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물로 이루어진 절연층(120)이 형성된다.An insulating layer 120 made of an epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention is formed on the metal plate 110.

절연층(120) 상에는 회로 패턴(130)이 형성된다. 회로 패턴(130)은 구리, 니켈 등의 금속으로 이루어질 수 있다.A circuit pattern 130 is formed on the insulating layer 120. The circuit pattern 130 may be made of a metal such as copper or nickel.

절연층(120)은 금속 플레이트(110)와 회로 패턴(130) 사이를 절연한다.The insulating layer 120 insulates between the metal plate 110 and the circuit pattern 130.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 다층 인쇄회로기판(200)은 순차적으로 배치되는 복수의 회로패턴층(210), 그리고 복수의 회로패턴층(210) 사이에 형성되는 복수의 절연층(220)을 포함한다. 즉, 인쇄회로기판(200)은 하면에 회로패턴층(210-1)이 형성된 절연층(220-1), 상면 및 하면에 회로패턴층(210-2, 210-3)이 형성된 절연층(220-2) 및 상면에 회로패턴층(210-4)이 형성된 절연층(220-3)을 포함한다. Referring to FIG. 2, the multilayer printed circuit board 200 includes a plurality of circuit pattern layers 210 that are sequentially disposed, and a plurality of insulating layers 220 formed between the plurality of circuit pattern layers 210. . That is, the printed circuit board 200 includes an insulating layer 220-1 with a circuit pattern layer 210-1 formed on the lower surface thereof, and an insulating layer with circuit pattern layers 210-2 and 210-3 formed on the upper and lower surfaces thereof ( 220-2) and an insulating layer 220-3 on which the circuit pattern layer 210-4 is formed on the upper surface.

여기서, 절연층(220)은 회로패턴층(210)을 절연한다. 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 절연층(220-1, 220-2, 220-3) 중 적어도 하나에 적용될 수 있다. Here, the insulating layer 220 insulates the circuit pattern layer 210. The epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may be applied to at least one of the insulating layers 220-1, 220-2, and 220-3.

그리고, 회로패턴층(210)은 구리, 니켈 등의 금속으로 이루어질 수 있다. 도시되지 않았으나, 다층 인쇄회로기판(200)은 금속 플레이트 상에 형성될 수 있다. 여기서, 금속 플레이트는 구리, 알루미늄, 니켈, 금, 백금 및 이들로부터 선택된 합금을 포함할 수 있다.In addition, the circuit pattern layer 210 may be made of a metal such as copper or nickel. Although not shown, the multilayer printed circuit board 200 may be formed on a metal plate. Here, the metal plate may include copper, aluminum, nickel, gold, platinum, and an alloy selected from these.

설명의 편의를 위하여 4층 인쇄회로기판을 예로 들어 설명하고 있으나, 본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물은 10층 인쇄회로기판, 12층 인쇄회로기판 등에도 다양하게 적용될 수 있다.For convenience of explanation, a four-layer printed circuit board is described as an example, but the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention may be variously applied to a 10-layer printed circuit board, a 12-layer printed circuit board, and the like.

본 발명의 한 실시예에 따른 에폭시 수지 조성물을 경화하여 절연층으로 이용함으로써, 방열 성능이 우수한 인쇄회로기판을 얻을 수 있다.By curing the epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention and using it as an insulating layer, a printed circuit board having excellent heat dissipation performance can be obtained.

이하, 실시예 및 비교예를 이용하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, it will be described in more detail using Examples and Comparative Examples.

<실시예 1><Example 1>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 50wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 1의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 50wt% of glass fiber was added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 1.

<실시예 2><Example 2>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 40wt% 및 질화붕소 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 2의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 40 wt% of glass fiber and 10 wt% of boron nitride were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 2.

<실시예 3><Example 3>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 20wt%, 화학식 13의 비결정성 에폭시 화합물 15wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 40wt% 및 질화붕소 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 3의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.20 wt% of a crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether), 15 wt% of an amorphous epoxy compound of formula 13, 12.5 wt% of 4,4'-diaminodiphenylsulfone, and 2.5 wt of a curing accelerator % Was dissolved in MEK (Methyl Ethly Ketone) for 20 minutes, and then 40wt% of glass fiber and 10wt% of boron nitride were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 3.

<실시예 4><Example 4>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 30wt%, 화학식 13의 비결정성 에폭시 화합물 5wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 40wt% 및 질화붕소 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 4의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 30wt%, amorphous epoxy compound of formula 13 5wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt % Was dissolved in MEK (Methyl Ethly Ketone) for 20 minutes, and then 40 wt% of glass fiber and 10 wt% of boron nitride were added and stirred for 2 hours. The solution after the completion of stirring was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 4.

<실시예 5><Example 5>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 40wt% 및 알루미나 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 5의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 40 wt% of glass fiber and 10 wt% of alumina were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 5.

<실시예 6><Example 6>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 30wt% 및 질화붕소 20wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 6의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 30 wt% of glass fiber and 20 wt% of boron nitride were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 6.

<실시예 7><Example 7>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 30wt% 및 알루미나 20wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 7의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 30 wt% of glass fiber and 20 wt% of alumina were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 7.

<실시예 8><Example 8>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 30wt%, 질화붕소 10wt% 및 알루미나 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 실시예 8의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 30wt% of glass fiber, 10wt% of boron nitride, and 10wt% of alumina were added and stirred for 2 hours. The solution after the completion of stirring was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Example 8.

<비교예 1><Comparative Example 1>

화학식 13의 비결정성 에폭시 화합물 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 50wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 비교예 1의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.After dissolving 35wt% of the amorphous epoxy compound of Formula 13, 12.5wt% of 4,4'-diaminodiphenylsulfone and 2.5wt% of a hardening accelerator for 20 minutes in MEK (Methyl Ethly Ketone), 50wt% of glass fiber was added And stirred for 2 hours. After the stirring was completed, the solution was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Comparative Example 1.

<비교예 2><Comparative Example 2>

화학식 13의 비결정성 에폭시 화합물 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 30wt%, 질화붕소 10wt% 및 알루미나 10wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 비교예 2의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.After dissolving 35wt% of the amorphous epoxy compound of Formula 13, 12.5wt% of 4,4'-diaminodiphenylsulfone and 2.5wt% of a curing accelerator for 20 minutes in MEK (Methyl Ethly Ketone), 30wt% of glass fiber, nitriding Boron 10wt% and alumina 10wt% were added and stirred for 2 hours. After the stirring was completed, the solution was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Comparative Example 2.

<비교예 3><Comparative Example 3>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 알루미나 50wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 비교예 3의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 50wt% of alumina was added and stirred for 2 hours. The solution after the completion of stirring was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Comparative Example 3.

<비교예 4><Comparative Example 4>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 35wt%, 4,4'-디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 20wt%, 질화붕소 15wt% 및 알루미나 15wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 비교예 4의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 35wt%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) 20 After dissolving for a minute, 20 wt% of glass fiber, 15 wt% of boron nitride, and 15 wt% of alumina were added and stirred for 2 hours. After the solution having been stirred was coated on a copper plate, it was pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain an epoxy resin composition of Comparative Example 4.

<비교예 5><Comparative Example 5>

결정성 에폭시 화합물(4,4'-바이페놀 에테르 디글리시딜 에테르) 25wt%, 4,4'디아미노디페닐설폰 12.5wt% 및 경화촉진제 2.5wt%를 MEK(Methyl Ethly Ketone)에서 20분 동안 용해시킨 후, 유리섬유 60wt%를 첨가하여 2시간 동안 교반시켰다. 교반이 완료된 용액을 구리판에 코팅한 후 150℃에서 1시간 30분동안 가압하여 비교예 5의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.Crystalline epoxy compound (4,4'-biphenol ether diglycidyl ether) 25wt%, 4,4'diaminodiphenylsulfone 12.5wt% and curing accelerator 2.5wt% in MEK (Methyl Ethly Ketone) for 20 minutes After dissolving during, 60wt% of glass fiber was added and stirred for 2 hours. After the stirring was completed, the solution was coated on a copper plate and then pressurized at 150° C. for 1 hour and 30 minutes to obtain the epoxy resin composition of Comparative Example 5.

<실험예><Experimental Example>

실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3로부터 얻은 조성물을 경화시킨 후, NETZSCH사 제품 LFA447형 열전도율계를 사용하여 비정상 열선법에 의하여 열전도도를 측정하였으며, Agilent Technologies사 제품 E4991A RF 임피던스/재료 분석 장비를 사용하여 RF/IV 기법을 사용하여 유전상수를 측정하였다.After curing the compositions obtained from Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, thermal conductivity was measured by an abnormal heating wire method using an LFA447 type thermal conductivity meter manufactured by NETZSCH, and E4991A RF impedance/material analysis manufactured by Agilent Technologies. The dielectric constant was measured using the RF/IV technique using an instrument.

표 1 내지 3은 실시예 및 비교예의 열전도도 및 유전상수를 비교한 결과이다.Tables 1 to 3 are results of comparing the thermal conductivity and dielectric constant of Examples and Comparative Examples.

실험번호Experiment number 수직 열전도도(W/mK)Vertical thermal conductivity (W/mK) 수평 열전도도(W/mK)Horizontal thermal conductivity (W/mK) 유전상수Dielectric constant 실시예 1Example 1 2.2342.234 2.3432.343 3.683.68 비교예 1 Comparative Example 1 0.4430.443 0.5020.502 3.503.50

실험번호Experiment number 수직 열전도도(W/mK)Vertical thermal conductivity (W/mK) 수평 열전도도(W/mK)Horizontal thermal conductivity (W/mK) 유전상수Dielectric constant 실시예 8Example 8 5.2315.231 5.9265.926 4.184.18 비교예 2 Comparative Example 2 2.632.63 2.712.71 4.144.14

실험번호Experiment number 수직 열전도도(W/mK)Vertical thermal conductivity (W/mK) 수평 열전도도(W/mK)Horizontal thermal conductivity (W/mK) 유전상수Dielectric constant 실시예 1Example 1 2.2342.234 2.3432.343 3.683.68 실시예 2 Example 2 4.0024.002 4.5364.536 3.803.80 실시예 3Example 3 3.1423.142 3.2773.277 3.713.71 실시예 4Example 4 3.4033.403 3.8513.851 3.783.78 실시예 5Example 5 3.6433.643 3.8253.825 4.544.54 실시예 6Example 6 5.0135.013 5.3165.316 4.114.11 실시예 7Example 7 3.8243.824 4.0024.002 4.734.73 실시예 8Example 8 5.2315.231 5.9265.926 4.184.18 비교예 3Comparative Example 3 5.8315.831 5.9375.937 5.585.58 비교예 4Comparative Example 4 5.4565.456 6.0026.002 5.125.12 비교예 5Comparative Example 5 0.7620.762 0.9310.931 3.623.62

표 1을 참조하면, 결정성 에폭시 화합물, 경화제 및 무기충전재로서 유리섬유를 포함하는 실시예 1의 에폭시 수지 조성물은 동일한 함량비로 비결정성 에폭시 화합물, 경화제 및 무기충전재로서 유리섬유를 포함하는 비교예 1의 에폭시 수지 조성물과 유전상수는 유사하나, 열전도도가 높음을 알 수 있다.Referring to Table 1, the epoxy resin composition of Example 1 including glass fibers as a crystalline epoxy compound, a curing agent, and an inorganic filler was Comparative Example 1 including an amorphous epoxy compound, a curing agent, and glass fibers as an inorganic filler at the same content ratio. Although the dielectric constant of the epoxy resin composition is similar, it can be seen that the thermal conductivity is high.

표 2를 참조하면, 결정성 에폭시 화합물, 경화제 및 무기충전재로서 유리섬유를 포함하는 실시예 8의 에폭시 수지 조성물은 동일한 함량비로 비결정성 에폭시 화합물, 경화제 및 무기충전재로서 유리섬유를 포함하는 비교예 2의 에폭시 수지 조성물과 유전상수는 유사하나, 열전도도가 높음을 알 수 있다.Referring to Table 2, the epoxy resin composition of Example 8 including glass fibers as a crystalline epoxy compound, a curing agent, and an inorganic filler was Comparative Example 2 including an amorphous epoxy compound, a curing agent and glass fibers as an inorganic filler at the same content ratio. Although the dielectric constant of the epoxy resin composition is similar, it can be seen that the thermal conductivity is high.

그리고, 표 3을 참조하면, 무기충전재로서 유리섬유를 포함하는 실시예 1 내지 8의 에폭시 수지 조성물은 상용 가능한 범위의 유전상수(5미만)를 가짐을 알 수 있다. 무기충전재로서 유리섬유를 포함하지 않는 비교예 3의 에폭시 수지 조성물은 실시예 1 내지 8의 에폭시 수지 조성물에 비하여 열전도도는 높으나, 유전상수(5.58)가 상용 가능한 범위 밖에 있으므로, 절연층으로 사용되기에 적절하지 않음을 알 수 있다. 그리고, 유리섬유가 에폭시 수지 조성물의 25wt% 미만으로 포함되는 비교예 4는 유전상수(5.12)가 상용 가능한 범위 밖에 있으므로, 절연층으로 사용되기에 적절하지 않음을 알 수 있다. 유리섬유가 에폭시 수지 조성물의 55wt%를 초과하여 포함되는 비교예 5는 유전상수(3.62)는 상용 가능한 범위이나, 열전도도가 낮음을 알 수 있다.In addition, referring to Table 3, it can be seen that the epoxy resin compositions of Examples 1 to 8 including glass fibers as inorganic fillers have a dielectric constant (less than 5) in a commercially available range. The epoxy resin composition of Comparative Example 3, which does not contain glass fibers as an inorganic filler, has higher thermal conductivity than the epoxy resin compositions of Examples 1 to 8, but the dielectric constant (5.58) is outside the commercially available range, so it is used as an insulating layer. You can see it is not appropriate In addition, it can be seen that Comparative Example 4 in which the glass fiber is contained in an amount of less than 25 wt% of the epoxy resin composition is not suitable for use as an insulating layer because the dielectric constant (5.12) is outside the commercially available range. In Comparative Example 5, in which the glass fiber is contained in an amount exceeding 55wt% of the epoxy resin composition, it can be seen that the dielectric constant (3.62) is a commercially available range, but the thermal conductivity is low.

계속하여 표 3을 참조하면, 무기충전재로서 유리섬유만을 포함하는 실시예 1의 에폭시 수지 조성물에 비하여 질화붕소 및/또는 알루미나를 더 포함하는 실시예 2 내지 8의 에폭시 수지 조성물의 열전도도가 더욱 높음을 알 수 있다. 그리고, 유리섬유 10 중량부에 대하여 질화붕소 3 내지 7 중량부를 포함하는 실시예 6의 에폭시 수지 조성물 및 알루미나 3 내지 5 중량부를 더 포함하는 실시예 8의 에폭시 수지 조성물은 실시예 2 내지 5 및 실시예 7의 에폭시 수지 조성물과 유전상수는 유사하나 열전도도는 더 높음을 알 수 있다. Continuing to refer to Table 3, the thermal conductivity of the epoxy resin compositions of Examples 2 to 8 further containing boron nitride and/or alumina was higher than that of the epoxy resin composition of Example 1 containing only glass fibers as an inorganic filler. Can be seen. In addition, the epoxy resin composition of Example 6 containing 3 to 7 parts by weight of boron nitride and 3 to 5 parts by weight of alumina with respect to 10 parts by weight of glass fibers further included in Examples 2 to 5 and It can be seen that the dielectric constant of the epoxy resin composition of Example 7 is similar, but the thermal conductivity is higher.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will variously modify and change the present invention within the scope not departing from the spirit and scope of the present invention described in the following claims. You will understand that you can do it.

100: 인쇄회로기판
110: 금속 플레이트
120: 절연층
130: 회로패턴
100: printed circuit board
110: metal plate
120: insulating layer
130: circuit pattern

Claims (11)

메조겐 구조를 포함하는 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%,
경화제 0.5 내지 22wt%,
유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함하고,
상기 무기 충전재는 상기 유리섬유 10 중량부에 대하여 3 내지 7 중량부의 질화붕소 및 3 내지 5 중량부의 알루미나를 포함하는 에폭시 수지 조성물.
3 to 60 wt% of an epoxy compound comprising a crystalline epoxy compound containing a mesogenic structure,
0.5 to 22 wt% of a curing agent,
Including 18 to 96.5wt% of an inorganic filler containing glass fiber,
The inorganic filler is an epoxy resin composition comprising 3 to 7 parts by weight of boron nitride and 3 to 5 parts by weight of alumina based on 10 parts by weight of the glass fiber.
제1항에 있어서,
상기 유리섬유는 상기 에폭시 수지 조성물의 25 내지 55wt%로 포함되는 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The glass fiber is an epoxy resin composition containing 25 to 55wt% of the epoxy resin composition.
삭제delete 제2항에 있어서,
상기 질화붕소 및 알루미나 중 적어도 하나는 상기 에폭시 수지 조성물의 1 내지 25wt%로 포함되는 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 2,
At least one of the boron nitride and alumina is an epoxy resin composition containing 1 to 25wt% of the epoxy resin composition.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 경화제는 디아미노디페닐술폰을 포함하는 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The curing agent is an epoxy resin composition containing diaminodiphenylsulfone.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 화합물은 비결정성 에폭시 화합물을 더 포함하는 에폭시 수지 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy compound is an epoxy resin composition further comprising an amorphous epoxy compound.
금속 플레이트,
상기 금속 플레이트 상에 형성되는 절연층, 그리고
상기 절연층 상에 형성되는 회로패턴을 포함하며,
상기 절연층은 메조겐 구조를 포함하는 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 그리고 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함하고, 상기 무기 충전재는 상기 유리섬유 10 중량부에 대하여 3 내지 7 중량부의 질화붕소 및 3 내지 5 중량부의 알루미나를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 포함하는 인쇄회로기판.
Metal plate,
An insulating layer formed on the metal plate, and
It includes a circuit pattern formed on the insulating layer,
The insulating layer includes 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound containing a mesogenic structure, 0.5 to 22 wt% of a curing agent, and 18 to 96.5 wt% of an inorganic filler including glass fibers, and the inorganic filler A printed circuit board comprising an epoxy resin composition comprising 3 to 7 parts by weight of boron nitride and 3 to 5 parts by weight of alumina based on 10 parts by weight of the glass fiber.
순차적으로 배치되는 복수의 회로패턴층, 그리고
상기 복수의 회로패턴층 사이에 형성되는 복수의 절연층을 포함하며,
상기 복수의 절연층 중 적어도 일부의 절연층은 메조겐 구조를 포함하는 결정성 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 화합물 3 내지 60wt%, 경화제 0.5 내지 22wt%, 그리고 유리섬유를 포함하는 무기 충전재 18 내지 96.5wt%를 포함하고, 상기 무기 충전재는 상기 유리섬유 10 중량부에 대하여 3 내지 7 중량부의 질화붕소 및 3 내지 5 중량부의 알루미나를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 포함하는 인쇄회로기판.
A plurality of circuit pattern layers sequentially arranged, and
And a plurality of insulating layers formed between the plurality of circuit pattern layers,
At least some of the insulating layers of the plurality of insulating layers are 3 to 60 wt% of an epoxy compound including a crystalline epoxy compound having a mesogenic structure, 0.5 to 22 wt% of a hardener, and 18 to 96.5 wt of an inorganic filler including glass fibers %, wherein the inorganic filler comprises 3 to 7 parts by weight of boron nitride and 3 to 5 parts by weight of alumina based on 10 parts by weight of the glass fiber.
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