KR101233932B1

KR101233932B1 - Coating apparatus

Info

Publication number: KR101233932B1
Application number: KR1020110014131A
Authority: KR
Inventors: 류스케 이토; 유키히로 다카무라; 슈이치 사가라; 무네아키 오에
Original assignee: 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Priority date: 2010-03-30
Filing date: 2011-02-17
Publication date: 2013-02-15
Also published as: JP5537223B2; KR20110109829A; JP2011206715A

Abstract

(과제) 왕복 이동하는 노즐에 대해서 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에 있어서도, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능한 도포 장치를 제공하는 것이다.
(해결수단) 유리 기판에 대해서 도포액을 토출하는 복수의 노즐(23)과, 이 노즐(23)을 유리 기판의 표면에 대해서 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부(24)로부터 복수의 노즐(23)에 대해서 도포액을 송액하기 위한 가요성의 도포액 공급관(64)과, 각 노즐(23)과 도포액 공급관(64)의 사이에 설치되고, 노즐(23)과 일체로 되어 이동함과 더불어, 거기를 통과하는 도포액의 압력 변동을 흡수하는 압력 변동 흡수 기구(70)를 구비한다.(Problem) The application apparatus which can apply | coat a coating liquid uniformly by maintaining the flow volume of a coating liquid even when the coating liquid is sent from a coating liquid storage part with a flexible coating liquid supply pipe with respect to the nozzle which reciprocates. To provide.
(Solution means) A plurality of nozzles 23 for discharging the coating liquid to the glass substrate, a main scanning direction moving mechanism for reciprocating the nozzle 23 in a parallel main scanning direction with respect to the surface of the glass substrate, and coating liquid storage It is provided between the flexible coating liquid supply pipe 64 for sending a coating liquid to the some nozzle 23 from the part 24, and between each nozzle 23 and the coating liquid supply pipe 64, and the nozzle 23 And a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 which moves in unison and absorbs the pressure fluctuation of the coating liquid passing therethrough.

Description

Coating device {COATING APPARATUS}

본 발명은, 유기 EL 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 장치용 유리 기판, PDP용 유리 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 혹은 반도체 제조 장치용 마스크 기판 등의 기판에 도포액을 도포하는 도포 장치에 관한 것이다.This invention is a coating apparatus which apply | coats a coating liquid to board | substrates, such as the glass substrate for organic electroluminescent display devices, the glass substrate for liquid crystal display devices, the glass substrate for PDPs, the solar cell substrate, the substrate for electronic paper, or the mask substrate for semiconductor manufacturing apparatuses. It is about.

예를 들면, 고분자 유기 EL(Electro Luminescence) 재료를 이용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 유기 EL 표시 장치를 제조할 때는, 유리 기판에 대해서, TFT(Thin Film Transistor) 회로의 형성 공정, 양극이 되는 ITO(Indium Tin Oxide) 전극의 형성 공정, 격벽의 형성 공정, 정공 수송 재료를 포함하는 유동성 재료의 도포 공정, 가열 처리에 의한 정공 수송층의 형성 공정, 유기 EL 재료를 포함하는 유동성 재료의 도포 공정, 가열 처리에 의한 유기 EL층의 형성 공정, 음극의 형성 공정, 및, 절연막의 형성에 의한 밀봉 공정이 순차적으로 실행된다.For example, when manufacturing an active matrix drive type organic EL display device using a polymer organic EL (Electro Luminescence) material, a process of forming a thin film transistor (TFT) circuit for a glass substrate, and ITO (Indium) serving as an anode Tin Oxide) electrode formation step, partition wall formation step, flowable material containing hole transporting material, hole transporting layer forming step by heat treatment, flowable material containing organic EL material, heat treatment The formation process of the organic EL layer, the formation process of the cathode, and the sealing process by formation of the insulating film are sequentially performed.

이러한 유기 EL 표시 장치의 제조 시에, 정공 수송 재료를 포함하는 유동성 재료나 유기 EL 재료를 포함하는 유동성 재료 등의 도포액을 기판에 도포하는 도포 장치로서, 도포액을 연속적으로 토출하는 복수의 노즐을, 기판에 대해서 주주사 방향 및 부주사 방향으로 상대 이동시킴으로써, 기판 상의 도포 영역에 도포액을 스트라이프상으로 도포하는 장치가 알려져 있다.In the manufacture of such an organic EL display device, a coating apparatus for applying a coating liquid, such as a fluid material containing a hole transport material or a fluid material containing an organic EL material, to a substrate, wherein the plurality of nozzles continuously discharge the coating liquid. The apparatus which apply | coats a coating liquid in stripe form to the application | coating area | region on a board | substrate is known by making the relative movement to the board | substrate direction and a subscanning direction with respect to a board | substrate.

또한, 특허 문헌 1에는, 복수의 노즐을 가지는 도포 헤드를 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 헤드 이동 기구로서, 주주사 방향으로 신장하는 가이드부에 걸어맞추면서 가이드부와의 사이에 에어를 분출함으로써, 비접촉 상태로 가이드부에 지지되는 슬라이더를 채용한 것이 제안되어 있다. 이 특허 문헌 1에 기재된 도포 장치에 있어서는, 슬라이더에 에어 공급관을 통하여 에어가 공급된다. 또한, 이 슬라이더에 장착되는 도포 헤드에 있어서의 복수의 노즐에는, 도포액 저류부와 접속된 가요성의 도포액 공급관을 통하여 도포액이 공급된다.Further, Patent Document 1 is a head moving mechanism for reciprocating a coating head having a plurality of nozzles in the main scanning direction, in which a non-contact state is caused by blowing air between the guide portions while engaging the guide portions extending in the main scanning direction. The use of the slider supported by the guide part is proposed. In the coating device of this patent document 1, air is supplied to a slider through an air supply pipe. Further, the coating liquid is supplied to the plurality of nozzles in the coating head attached to the slider via a flexible coating liquid supply pipe connected to the coating liquid storage portion.

일본국 특허공개 2009－131735호 공보Japanese Patent Publication No. 2009-131735

이러한 도포 장치에 있어서는, 도포액의 막 두께의 균일성이 요구된다. 이와 같이 도포액의 막 두께를 균일하게 하기 위해서는, 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 균일하게 할 필요가 있다.In such a coating apparatus, the uniformity of the film thickness of a coating liquid is calculated | required. In this way, in order to make the film thickness of the coating liquid uniform, it is necessary to make the flow rate of the coating liquid discharged from the nozzle uniform.

그러나, 도포 헤드에 있어서의 복수의 노즐과 도포액 저류부를 가요성의 도포액 공급관을 통하여 접속한 상태에서, 고속으로 왕복 이동하는 노즐에 도포액을 공급한 경우에는, 노즐의 이동에 따른 도포액 공급관의 변형이나, 도포액 공급관 내의 도포액에 부여되는 관성력 등의 영향에 의해, 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 유지하는 것이 곤란해진다.However, when a coating liquid is supplied to the nozzle which reciprocates at high speed in the state which connected the some nozzle and coating liquid storage part in a coating head via the flexible coating liquid supply pipe, the coating liquid supply pipe according to the movement of a nozzle It is difficult to keep the flow rate of the coating liquid discharged from the nozzle constant due to the deformation and the influence of inertia force or the like applied to the coating liquid in the coating liquid supply pipe.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 왕복 이동하는 노즐에 대해서 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에 있어서도, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능한 도포 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, Even when the coating liquid is sent from a coating liquid storage part with a flexible coating liquid supply pipe with respect to the nozzle which moves back and forth, the flow volume of a coating liquid is kept constant and a coating liquid is carried out. It is an object of the present invention to provide a coating apparatus capable of uniformly applying a powder.

청구항 1에 기재된 발명은, 기판에 도포액을 도포하는 도포 장치로서, 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대해서 도포액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을, 기판의 표면에 대해서 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 상기 기판 유지부를, 상기 주주사 방향과 직교하고, 또한, 기판의 표면에 대해서 평행한 부주사 방향으로, 상기 노즐에 대해서 상대적으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부로부터 상기 노즐에 대해서 도포액을 송액하기 위한 가요성의 도포액 공급관과, 상기 노즐과 상기 도포액 공급관의 사이에 설치되고, 상기 노즐과 일체로 되어 이동함과 더불어, 거기를 통과하는 도포액의 압력 변동을 흡수하는 압력 변동 흡수 기구를 구비한 것을 특징으로 한다.Invention of Claim 1 is a coating device which apply | coats a coating liquid to a board | substrate, The board | substrate holding part which hold | maintains a board | substrate, the nozzle which discharges a coating liquid with respect to the board | substrate hold | maintained by the said board | substrate holding part, and the said nozzle, A main scanning direction moving mechanism for reciprocating in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate holding portion, and the substrate holding portion in a sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate, relative to the nozzle. It is provided between the sub-scan direction moving mechanism to move, the flexible coating liquid supply pipe for conveying a coating liquid with respect to the said nozzle from a coating liquid storage part, and the said nozzle and the said coating liquid supply pipe, and are integrated with the said nozzle, In addition to the movement, the pressure fluctuation absorbing mechanism for absorbing the pressure fluctuation of the coating liquid passing therethrough is provided.

청구항 2에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 변동 흡수 기구는, 상기 노즐과 연통하는 도포액의 송액로와, 당해 도포액의 송액로에 연통한 상태에서 분기되고, 그 단부가 폐지된 관형상 부재를 구비한 T자형 관로로 구성된다.In the invention according to claim 2, in the invention according to claim 1, the pressure fluctuation absorbing mechanism is branched in a state in which the liquid supply passage of the coating liquid communicates with the nozzle and in a state of communicating with the liquid feeding passage of the coating liquid. It consists of a T-shaped line with a closed tubular member.

청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 변동 흡수 기구는, 개구부를 구비하고 상기 노즐과 연통하는 챔버와, 상기 개구부에 설치된 탄성 변형 가능한 박막을 구비한다.In the invention according to claim 3, in the invention according to claim 1, the pressure fluctuation absorbing mechanism includes a chamber having an opening and communicating with the nozzle, and a thin film capable of elastic deformation provided in the opening.

청구항 4에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 변동 흡수 기구는, 상기 노즐과 연통함과 더불어, 그 내압에 의해 탄성 변형하는 연질 튜브로 구성된다.In the invention according to claim 4, in the invention according to claim 1, the pressure fluctuation absorbing mechanism communicates with the nozzle and is composed of a soft tube elastically deformed by the internal pressure.

청구항 5에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 변동 흡수 기구는, 상기 노즐과 연통된 미소 오리피스를 가지는 관로로 구성된다.Invention of Claim 5 is invention of Claim 1 WHEREIN: The said pressure fluctuation absorption mechanism is comprised from the conduit which has the micro orifice communicated with the said nozzle.

청구항 6에 기재된 발명은, 청구항 5에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 변동 흡수 기구가 래버린스 구조를 가진다.In invention of Claim 6, in the invention of Claim 5, the said pressure fluctuation absorption mechanism has a labyrinth structure.

청구항 7에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 6중 어느 하나에 기재된 발명에 있어서, 상기 노즐은, 상기 부주사 방향에 관해서 소정의 피치로 복수개 설치되어 있고, 상기 도포액 공급관과 상기 압력 변동 흡수 기구는, 각 노즐에 대응하여 설치됨과 더불어, 상기 복수의 도포액 공급관은, 각각, 상기 도포액 저류부로부터 도포액을 압송하는 펌프와 매스플로우 콘트롤러를 통하여 연결되어 있다.In the invention according to claim 7, in the invention according to any one of claims 1 to 6, a plurality of nozzles are provided at a predetermined pitch with respect to the sub-scan direction, and the coating liquid supply pipe and the pressure fluctuation absorption mechanism In addition, the plurality of coating liquid supply pipes are provided in correspondence with the respective nozzles, respectively, and are connected through a pump and a mass flow controller for feeding the coating liquid from the coating liquid storage unit.

청구항 1 내지 청구항 6에 기재된 발명에 의하면, 왕복 이동하는 노즐에 대해서 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에 있어서도, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.According to the invention of Claims 1 to 6, even when the coating liquid is fed from the coating liquid storage part by the flexible coating liquid supply pipe to the nozzle which reciprocates, the flow rate of the coating liquid is kept constant and the coating liquid is It becomes possible to apply | coat uniformly.

청구항 7에 기재된 발명에 의하면, 복수의 노즐에 대해서 펌프의 작용으로 도포액을 압송한 경우에 있어서도, 각 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다.According to the invention of claim 7, even when the coating liquid is pumped to the plurality of nozzles by the action of the pump, the flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle can be kept constant and the coating liquid can be uniformly applied. .

도 1은 본 발명에 관련된 도포 장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명에 관련된 도포 장치의 정면도이다.
도 3은 헤드 이동 기구(21)에 있어서의 슬라이더(31) 부근의 단면도이다.
도 4는 도포액 저류부(24)와 복수의 노즐(23)의 접속 관계를 나타내는 모식도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.
도 8은 미소 오리피스와 압력 변동의 관계를 나타내는 설명도이다.
도 9는 본 발명의 제4 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.1 is a plan view of a coating apparatus according to the present invention.
2 is a front view of the coating apparatus according to the present invention.
3 is a sectional view of the vicinity of the slider 31 in the head moving mechanism 21.
4 is a schematic diagram illustrating a connection relationship between the coating liquid storage part 24 and the plurality of nozzles 23.
5 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the first embodiment of the present invention.
6 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the second embodiment of the present invention.
7 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the third embodiment of the present invention.
It is explanatory drawing which shows the relationship between a micro orifice and a pressure fluctuation.
9 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the fourth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시의 형태를 도면에 의거하여 설명한다. 도 1은 본 발명에 관련된 도포 장치의 평면도이며, 도 2는 그 정면도이다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a plan view of the coating apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a front view thereof.

이 도포 장치는, 직사각형 형상의 유리 기판(100)에 대해서 도포액을 도포하기 위한 것이다. 보다 상세하게는, 이 도포 장치는, 액티브 매트릭스 구동 방식의 유기 EL(Electro Luminescence) 표시 장치용 유리 기판(100)에, 휘발성의 용매(본 실시의 형태에서는, 방향족 유기 용매의 하나인 4―메틸아니솔), 및, 발광 재료로서의 유기 EL 재료를 포함하는 도포액을 도포하기 위한 것이다.This coating device is for apply | coating a coating liquid to the glass substrate 100 of a rectangular shape. In more detail, this coating device is a volatile solvent (4-methyl which is one of aromatic organic solvents in this embodiment) in the glass substrate 100 for organic electroluminescent (EL) displays of an active-matrix drive system. Anisole) and a coating liquid containing an organic EL material as a light emitting material.

이 도포 장치는, 유리 기판(100)을 이동시키기 위한 기판 이동 기구(11)를 구비한다. 이 기판 이동 기구(11)는, 도 2에 도시하는 바와같이, 유리 기판(100)을 그 이면으로부터 유지하는 기판 유지부(10)를 가진다. 이 기판 유지부(10)는, 한쌍의 레일(12)을 따라 이동하는 기대(13)와, 이 기대(13) 상에 설치된 회전대(14)에 의해 지지되어 있다. 이 때문에, 이 기판 유지부(10)는, 도 1에 도시하는 Y방향으로, 유리 기판(100)의 표면과 평행하게 이동 가능하게 되어 있다. 이 Y방향은, 후술하는 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향인 주주사 방향(도 1에 있어서의 X방향)과 직교하는 방향이다. 이하, 이 Y방향을 「부주사 방향」이라고도 부른다. 또한, 이 기판 유지부(10)는, 연직 방향(도 1에 있어서의 Z방향)을 향하는 축을 중심으로, 회전 가능하게 되어 있다.This coating device is provided with the substrate movement mechanism 11 for moving the glass substrate 100. This board | substrate movement mechanism 11 has the board | substrate holding part 10 which holds the glass substrate 100 from the back surface, as shown in FIG. This board | substrate holding part 10 is supported by the base 13 which moves along a pair of rail 12, and the swivel table 14 provided on this base 13. As shown in FIG. For this reason, this board | substrate holding part 10 is movable in parallel with the surface of the glass substrate 100 in the Y direction shown in FIG. This Y direction is a direction orthogonal to the main scanning direction (X direction in FIG. 1) which is a reciprocating direction of the application | coating head 20 mentioned later. Hereinafter, this Y direction is also called "sub scanning direction." Moreover, this board | substrate holding part 10 is rotatable about the axis | shaft toward a perpendicular direction (Z direction in FIG. 1).

이 기판 유지부(10)는, 유리 기판(100)을 하측으로부터 가열하는 히터를 그 내부에 구비한다. 이 유리 기판(100)의 표면에는, 각각이 X방향으로 신장하는 복수의 도포 영역이, Y방향으로, 예를 들면 100∼150μm의 피치로 배열 형성되어 있다. 이 도포 영역은, 예를 들면, X방향으로 배치된 격벽 등에 의해 형성되어 있다.This board | substrate holding part 10 is equipped with the heater which heats the glass substrate 100 from the lower side inside. On the surface of this glass substrate 100, the some application | coating area | region which each extends to an X direction is formed in the Y direction, for example at a pitch of 100-150 micrometers. This application | coating area | region is formed by the partition etc. which are arrange | positioned in the X direction, for example.

또한, 이 도포 장치는, 유리 기판(100) 상에 형성된, 도시하지 않은 얼라이먼트 마크를 촬상하여 검출함과 더불어, 후술하는 도포 궤적을 촬상하기 위한 좌우 한쌍의 촬상부(15)를 구비한다. 이 한쌍의 촬상부(15)에는, 각각, CCD 카메라가 설치되어 있다. 또한, 이 도포 장치는, 도포 궤적의 시험적인 도포에 사용되는 좌우 한쌍의 시험 도포 스테이지부(16)를 구비한다.In addition, this coating device is provided with a pair of left and right imaging sections 15 for imaging and detecting an alignment mark (not shown) formed on the glass substrate 100 and for imaging the coating trace described later. The pair of imaging units 15 is provided with CCD cameras, respectively. In addition, the coating device includes a pair of left and right test coating stages 16 used for the test coating of the coating trace.

기판 유지부(10)에 유지된 유리 기판(100)의 표면을 향해 도포액을 토출하는 도포 헤드(20)는, 헤드 이동 기구(21)에 의해, 한쌍의 가이드부(22)를 따라, 유리 기판(100) 표면에 평행한 주주사 방향(도 1에 있어서의 X방향)으로 왕복 이동된다. 이 도포 헤드(20)에는, 동일 종류의 도포액을 연속적으로 토출하기 위한 복수의 노즐(23)이 부주사 방향에 관해 등간격으로 설치되어 있다. 도 1 및 도 2에서는 도시의 형편상, 5개의 노즐(23)만을 도시하고 있는데, 노즐(23)의 개수는, 더 다수여도 되고, 또한, 1개여도 된다. 또한, 노즐(23)의 배치는 소정 피치이면 등간격이 아니어도 된다.The coating head 20 which discharges a coating liquid toward the surface of the glass substrate 100 hold | maintained by the board | substrate holding part 10 is a glass along the pair of guide part 22 by the head moving mechanism 21, It reciprocates in the main scanning direction (X direction in FIG. 1) parallel to the board | substrate 100 surface. In this coating head 20, a plurality of nozzles 23 for continuously discharging the same kind of coating liquid are provided at equal intervals in the sub-scan direction. In FIG. 1 and FIG. 2, only five nozzles 23 are shown for convenience of illustration, and the number of the nozzles 23 may be further larger or may be one. In addition, as long as the arrangement | positioning of the nozzle 23 is a predetermined pitch, it may not be equal intervals.

도포 헤드(20)는, 후술하는 에어 공급관 및 후술하는 복수의 도포액 공급관(64)을 하나로 합친 공급관군(26)을 통하여, 도포액 저류부(24) 및 에어 공급원(25)과 접속되어 있다. 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향(X방향)에 관해서 기판 유지부(10)의 양측에는, 도포 헤드(20)에 있어서의 노즐(23)로부터의 도포액을 받는 2개의 수액부(17, 18)가 설치되어 있다. 또한, 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향(X방향)에 관해서 한쪽의 수액부(18)의 측방에는, 상술한 복수의 노즐(23)의 부주사 방향의 피치를 조정하기 위한 노즐 피치 조정 기구(19)가 설치되어 있다.The coating head 20 is connected with the coating liquid storage part 24 and the air supply source 25 through the supply pipe group 26 which combined the air supply pipe mentioned later and the some coating liquid supply pipe 64 mentioned later as one. . On both sides of the substrate holding portion 10 with respect to the reciprocating direction (X direction) of the coating head 20, two fluid parts 17 receiving the coating liquid from the nozzle 23 in the coating head 20, 18) is installed. Moreover, the nozzle pitch adjustment mechanism for adjusting the pitch of the sub-scanning direction of the some nozzle 23 mentioned above in the side of one infusion part 18 with respect to the reciprocating direction (X direction) of the application head 20. (19) is provided.

도 3은, 헤드 이동 기구(21)에 있어서의 슬라이더(31) 부근의 단면도이다.3 is a sectional view of the vicinity of the slider 31 in the head moving mechanism 21.

도 1에 도시하는 헤드 이동 기구(21)에 있어서의 가이드 부재(22)에는, 슬라이더(31)가 슬라이드 가능하게 설치되어 있다. 이 슬라이더(31)에는, 가이드 부재(22)가 관통하는 관통공(32)이 형성되어 있다. 이 슬라이더(31)에는, 도 1에 도시하는 바와같이, 공급관군(26)에 포함되는 에어 공급관을 통하여, 에어 공급원(25)으로부터 일정 압력의 에어가 공급된다. 이 때문에, 도 3에 도시하는 바와같이, 관통공(32)의 내주면과 가이드부(22)의 외주면의 사이에 에어가 분출된다. 도 3에서는, 에어의 분출 방향을 부호 A1를 붙이는 화살표로 표시하고 있다. 이에 따라, 슬라이더(31)가 가이드부(22)에 비접촉 상태로 걸어맞추면서, 주주사 방향으로 이동 가능하게 지지된다.The slider 31 is slidably provided in the guide member 22 in the head movement mechanism 21 shown in FIG. The slider 31 is provided with a through hole 32 through which the guide member 22 penetrates. As shown in FIG. 1, the slider 31 is supplied with air of a constant pressure from the air supply source 25 through the air supply pipe included in the supply pipe group 26. For this reason, as shown in FIG. 3, air blows off between the inner peripheral surface of the through hole 32, and the outer peripheral surface of the guide part 22. As shown in FIG. In FIG. 3, the direction of blowing of air is indicated by an arrow to which A1 is indicated. As a result, the slider 31 is movably supported in the main scanning direction while engaging the guide portion 22 in a non-contact state.

도 1을 참조하여, 한쌍의 가이드부(22)의 양단부 부근에는, Z축 방향을 향하는 축을 중심으로 회전 가능한 한쌍의 풀리(33)가 설치되어 있다. 이 한쌍의 풀리(33)에는, 무단상의 동기 벨트(34)가 감겨져 있다. 슬라이더(31)의 일단은, 이 동기 벨트(34)에 고정되어 있다. 한편, 슬라이더(31)의 타단에는, 상술한 도포 헤드(20)가 고정되어 있다. 이 때문에, 도시하지 않은 모터의 구동에 의해 동기 벨트(34)를 시계방향 혹은 반시계방향으로 회전시킴으로써, 도포 헤드(20)를 (－X) 방향 또는 (＋X)방향으로 왕복 이동시킬 수 있다. 이 때, 상술한 기체의 작용에 의해, 슬라이더(31)를 가이드부(22)에 대해 비접촉 상태로 지지할 수 있으므로, 도포 헤드(20)의 왕복 이동을, 고속으로 또한 원활하게 하는 것이 가능해진다.Referring to FIG. 1, a pair of pulleys 33 rotatable about an axis in the Z-axis direction are provided near the both ends of the pair of guide portions 22. An endless synchronous belt 34 is wound around this pair of pulleys 33. One end of the slider 31 is fixed to this synchronous belt 34. On the other hand, the application head 20 mentioned above is being fixed to the other end of the slider 31. For this reason, the application | coating head 20 can be reciprocated in (-X) direction or (+ X) direction by rotating the synchronous belt 34 clockwise or counterclockwise by the drive of the motor which is not shown in figure. At this time, the slider 31 can be supported in the non-contact state with respect to the guide portion 22 by the action of the above-described gas, so that the reciprocating movement of the application head 20 can be smoothly and at high speed. .

이 도포 장치에 있어서는, 이 헤드 이동 기구(21)가, 도포 헤드(20)를 주주사 방향으로 이동시키는 주주사 방향 이동 기구로 되고, 기판 이동 기구(11)가, 기판 유지부를 부주사 방향으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구가 된다. 이 도포 장치에 있어서는, 도포 헤드(20)의 주주사 방향으로의 이동이 완료할 때마다, 유리 기판(100)을 부주사 방향으로 이동시킴으로써, 유리 기판(100)의 표면의 도포 영역에 대해서 도포액의 도포를 실행한다. 또한, 도포 헤드(20)의 주주사 시에는, 수액부(17, 18)의 근방에서 가속 또는 감속이 완료하고, 유리 기판(100)의 상방에 있어서는, 도포 헤드(20)는, 예를 들면, 매초 3∼5m 정도의 일정 속도로 이동한다.In this coating device, the head moving mechanism 21 is a main scanning direction moving mechanism for moving the coating head 20 in the main scanning direction, and the substrate moving mechanism 11 moves the substrate holding part in the sub scanning direction. It becomes a sub scanning direction moving mechanism. In this coating device, whenever the movement of the coating head 20 in the main scanning direction is completed, the coating liquid is applied to the coating area of the surface of the glass substrate 100 by moving the glass substrate 100 in the sub scanning direction. Carry out the application. In addition, at the time of the main scanning of the coating head 20, acceleration or deceleration is completed in the vicinity of the fluid parts 17 and 18, and above the glass substrate 100, the coating head 20 is, for example, It moves at a constant speed of 3 to 5m every second.

도 4는, 도 1에 나타내는 도포액 저류부(24)와 복수의 노즐(23)의 접속 관계를 나타내는 모식도이다.FIG. 4: is a schematic diagram which shows the connection relationship of the coating liquid storage part 24 and the some nozzle 23 shown in FIG.

상술한 도포액 저류부(24)는, 도포액을 압송하기 위한 단일 펌프(61)와 연결되어 있다. 이 펌프는, 분기관을 통하여 복수의 매스플로우 콘트롤러(62)와 연결되어 있다. 도포 헤드(20)에 있어서 부주사 방향으로 등간격으로 설치된 복수의 노즐(23)은, 각각, 이 발명의 특징 부분인 압력 변동 흡수 기구(70)와, 상술한 가요성의 도포액 공급관(64)과, 전자 개폐 밸브(63)를 통하여, 매스플로우 콘트롤러(62)와 접속되어 있다.The coating liquid storage part 24 mentioned above is connected with the single pump 61 for conveying a coating liquid. The pump is connected to a plurality of mass flow controllers 62 through branch pipes. The plurality of nozzles 23 provided at equal intervals in the sub-scan direction in the application head 20 are each a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 which is a feature of the present invention, and the flexible coating liquid supply pipe 64 described above. And the mass flow controller 62 via the electromagnetic opening / closing valve 63.

또한, 각 노즐(23) 및 압력 변동 흡수 기구(70)는, 도포 헤드(20)에 설치되어 있고, 복수의 노즐(23)과 압력 변동 흡수 기구(70)는, 일체로 되어 주주사 방향으로 왕복 이동하는 구성으로 되어 있다.Moreover, each nozzle 23 and the pressure fluctuation absorption mechanism 70 are provided in the application | coating head 20, The some nozzle 23 and the pressure fluctuation absorption mechanism 70 are integrated, and reciprocate to the main scanning direction. It is a moving structure.

펌프(61)의 작용에 의해 도포액 저류부(24)에 저류된 도포액은, 매스플로우 콘트롤러(62)를 향해 압송된다. 그리고, 이 도포액은 매스플로우 콘트롤러(62)에 있어서 그 유량이 조정된 후, 전자 개폐밸브(63) 및 가요성의 도포액 공급관(64)을 통하여 압력 변동 흡수 기구(70)에 보내진다. 이 때, 도포 헤드(20)가 고속으로 왕복 이동함에 의한 도포액 공급관(64)의 변형이나, 도포액 공급관(64) 내의 도포액에 부여되는 관성력 등의 영향에 의해, 도포액 공급관(64)에 의해 송액되는 도포액의 압력이 변동하여, 그 유량을 일정하게 유지하는 것이 곤란해진다. 이 때문에, 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서, 이 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하고 있다.The coating liquid stored in the coating liquid storage part 24 by the action of the pump 61 is pumped toward the mass flow controller 62. After the flow rate of the coating liquid is adjusted in the mass flow controller 62, the coating liquid is sent to the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 through the electromagnetic opening / closing valve 63 and the flexible coating liquid supply pipe 64. At this time, the coating liquid supply pipe 64 is affected by the deformation of the coating liquid supply pipe 64 due to the reciprocating movement of the coating head 20 at high speed, the inertia force applied to the coating liquid in the coating liquid supply pipe 64, and the like. This causes the pressure of the coating liquid to be fed to fluctuate, making it difficult to keep the flow rate constant. For this reason, in the pressure fluctuation absorption mechanism 70, the fluctuation | variation of the pressure of this coating liquid is absorbed, and the flow volume of the coating liquid discharged | emitted from each nozzle 23 is made constant.

다음에, 이 압력 변동 흡수 기구(70)의 구성에 대해서 설명한다. 도 5는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.Next, the structure of this pressure fluctuation absorption mechanism 70 is demonstrated. 5 is a schematic diagram of a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the first embodiment of the present invention.

이 제1 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고, 그 타단이 노즐(23)과 연통하는 도포액의 송액로(71)와, 당해 도포액의 송액로(71)에 연통한 상태로 상방으로 세워져 설치되고, 그 상단이 폐지 부재(73)에 의해 폐지된 관형상 부재(72)를 구비한 T자형 관로로 구성된다. 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서는, 관형상 부재(72)에 있어서의 도포액의 상부에 형성된 영역(74)에, 기체가 밀봉되어 있다. 그리고 이 기체의 체적 변동에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수할 수 있다.The pressure fluctuation absorption mechanism 70 which concerns on this 1st Embodiment has the liquid feed path 71 of the coating liquid whose one end communicates with the coating liquid supply pipe 64, and the other end communicates with the nozzle 23, It is set up upwards in communication with the liquid feed passage 71 of a coating liquid, and the upper end is comprised by the T-shaped pipe line provided with the tubular member 72 closed by the closure member 73. As shown in FIG. In this pressure fluctuation absorption mechanism 70, gas is sealed in the area | region 74 formed in the upper part of the coating liquid in the tubular member 72. As shown in FIG. The pressure variation of the coating liquid can be absorbed by the volume variation of the gas.

즉, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 올라간 경우에는, 도 5(a)에 도시하는 바와같이, 관형상 부재(72)에 있어서의 도포액의 상부에 형성된 영역(74)에 밀봉된 기체가 압축되어 영역(74)의 체적이 작아지고, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 내려간 경우에는, 도 5(b)에 나타내는 바와같이, 관형상 부재(72)에 있어서의 도포액의 상부에 형성된 영역(74)에 밀봉된 기체가 개방되어 영역(74)의 체적이 커진다. 이에 따라, 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다. 또한, 도 5에 있어서는, 관형상 부재(72)는 상방으로 세워져 설치되어 있는데, 밀봉된 기체가 송액로(71)에 영향을 주지 않는 경우에는, 상방에 한정되지 않고, 횡방향이어도 상관없고, 또한, 송액 방향으로 직교해 있지 않아도 된다.That is, when the pressure of the coating liquid supplied to the nozzle 23 rises, it seals in the area | region 74 formed in the upper part of the coating liquid in the tubular member 72, as shown to FIG. 5 (a). When the compressed gas is compressed to decrease the volume of the region 74 and the pressure of the coating liquid supplied to the nozzle 23 decreases, as shown in FIG. 5B, the tubular member 72 The gas sealed in the area 74 formed on top of the coating liquid is opened to increase the volume of the area 74. Thereby, in this pressure fluctuation absorption mechanism 70, it becomes possible to absorb the fluctuation | variation of the pressure of coating liquid, and to make the flow volume of the coating liquid discharged | emitted from each nozzle 23 constant. In addition, in FIG. 5, although the tubular member 72 is installed upright, when the sealed gas does not affect the liquid feeding path 71, it is not limited to the upper direction and may be a transverse direction, Moreover, it does not need to orthogonally cross a liquid feeding direction.

도 6은, 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.6 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the second embodiment of the present invention.

이 제2 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고 그 타단이 노즐(23)과 연통하는 도포액의 유로(76)와, 그 상부에 개구부가 형성됨과 더불어 도포액의 저류부(77)를 구비한 챔버(75)와, 이 챔버(75)에 있어서의 개구부에 설치된 탄성 변형 가능한 박막(78)에 의해 구성된다. 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서는, 탄성 변형 가능한 박막(78)의 작용에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수할 수 있다.The pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the second embodiment has a flow path 76 of the coating liquid whose one end communicates with the coating liquid supply pipe 64 and the other end communicates with the nozzle 23, and an upper portion thereof. An opening is formed, and the chamber 75 is provided with the storage part 77 of coating liquid, and the elastically deformable thin film 78 provided in the opening part in this chamber 75 is comprised. In the pressure fluctuation absorbing mechanism 70, the pressure fluctuation of the coating liquid can be absorbed by the action of the thin film 78 that can elastically deform.

즉, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 올라간 경우에는, 도 6(a)에 도시하는 바와같이, 박막(78)이 상방으로 부풀어 올라 도포액의 저류부(77)의 체적이 커지고, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 내려간 경우에는, 도 6(b)에 나타내는 바와같이, 박막(78)이 하방으로 오목하게 들어가 도포액의 저류부(77)의 체적이 작아진다. 이에 따라, 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다.That is, when the pressure of the coating liquid supplied to the nozzle 23 rises, as shown to FIG. 6 (a), the thin film 78 swells upwards and the volume of the storage part 77 of the coating liquid becomes large. When the pressure of the coating liquid supplied to the nozzle 23 decreases, as shown in FIG. 6 (b), the thin film 78 is recessed downward to reduce the volume of the storage portion 77 of the coating liquid. . Thereby, in this pressure fluctuation absorption mechanism 70, it becomes possible to absorb the fluctuation | variation of the pressure of coating liquid, and to make the flow volume of the coating liquid discharged | emitted from each nozzle 23 constant.

또한, 도 6에 도시하는 실시 형태와 같이, 챔버(75)에 있어서의 개구부에 설치된 탄성 변형 가능한 박막(78)의 작용에 의해 압력 변동을 흡수하는 대신에, 도포액 공급관로(64)와 연통하는 도포액의 유로 자체를 탄성 변형 가능한 튜브에 의해 구성하고, 이 튜브 자체의 탄성 변형에 의해 도포액의 압력 변동을 흡수하도록 해도 된다.In addition, as shown in the embodiment shown in FIG. 6, instead of absorbing the pressure fluctuation due to the action of the elastically deformable thin film 78 provided in the opening portion in the chamber 75, it communicates with the coating liquid supply pipe 64. The flow path of the coating liquid itself may be constituted by a tube capable of elastic deformation, and the pressure variation of the coating liquid may be absorbed by the elastic deformation of the tube itself.

도 7은, 본 발명의 제3 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.7 is a schematic diagram of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the third embodiment of the present invention.

도 7(a)에 나타내는 압력 변동 흡수 기구(70)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고 그 타단이 노즐(23)과 연통함과 더불어, 그 내부에 격벽(82)에 의한 미소 오리피스가 형성된 관로(81)로 구성되어 있다. 또한, 도 7(b)에 도시하는 압력 변동 흡수 기구(70)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고 그 타단이 노즐(23)과 연통함과 더불어, 그 내부에 복수의 격벽(84)에 의해, 오리피스 구조의 미소 오리피스가 형성된 관로(83)로 구성되어 있다. 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서는, 미소 오리피스의 작용에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수할 수 있다.In the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 shown in FIG. 7A, one end thereof communicates with the coating liquid supply pipe 64, the other end thereof communicates with the nozzle 23, and a partition 82 is formed therein. It consists of the conduit 81 in which the micro orifice was formed. In addition, the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 shown in FIG. 7B has one end in communication with the coating liquid supply pipe 64 and the other end in communication with the nozzle 23, and a plurality of partition walls therein. 84, it consists of the conduit 83 in which the micro orifice of an orifice structure was formed. In this pressure fluctuation absorption mechanism 70, the pressure fluctuation of a coating liquid can be absorbed by the action of a micro orifice.

도 8은, 미소 구멍과 압력 변동의 관계를 나타내는 설명도이다. 또한, 도 8(a)는 관로의 내경과 유속의 관계를 나타내고, 도 8(b)는 이 때의 압력 변동을 나타내고 있다.8 is an explanatory diagram showing a relationship between micropores and pressure fluctuations. 8A shows the relationship between the inner diameter of the pipe and the flow velocity, and FIG. 8B shows the pressure fluctuation at this time.

도 8(a)에 나타내는 바와같이, 관로의 내경이 어느 값으로부터 작아진 후에, 다시, 원래의 내경으로 되돌아간 경우에는, 거기를 통과하는 도포액의 평균적인 유속은, V1으로부터, 일단, V1보다 빠른 V2로 되고, 그 후, 다시 V1으로 된다. 이 때에, 도포액과 관로 내벽의 마찰에 의한 관로를 흐르는 도포액의 압력 손실은, 그 유속의 제곱에 비례한다. 이 때문에, 관로 내에 미소 오리피스를 형성함으로써, 압력 변동을 압력 손실에 의해 흡수할 수 있다. 이 때문에, 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다.As shown in Fig. 8 (a), when the inner diameter of the pipe becomes smaller from a certain value and then returns to the original inner diameter, the average flow velocity of the coating liquid passing therethrough is from V1 to V1 once. It becomes faster V2, and then becomes V1 again. At this time, the pressure loss of the coating liquid flowing through the pipeline by friction between the coating liquid and the inner wall of the pipeline is proportional to the square of the flow velocity. For this reason, by forming a micro orifice in the conduit, the pressure fluctuation can be absorbed by the pressure loss. For this reason, in this pressure fluctuation absorption mechanism 70, it becomes possible to absorb the fluctuation | variation of the pressure of a coating liquid, and to make the flow volume of the coating liquid discharged | emitted from each nozzle 23 constant.

도 9는, 본 발명의 제4 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.9 is a schematic view of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the fourth embodiment of the present invention.

이 제4 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고 그 타단이 노즐(23)과 연통하는 다수의 연질 튜브(85)로 구성되어 있다. 이들 다수의 연질 튜브(85)는, 마찬가지로 연질의 외측 튜브(86)에 의해 모아져 있다. 이 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서는, 상술한 제3 실시 형태와 마찬가지로, 소직경의 연질 튜브(85)가 미소 오리피스를 구성하게 되고, 이 소직경의 연질 튜브(85)에 의한 관로 저항에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수하는 것이 가능해진다.The pressure fluctuation absorption mechanism 70 which concerns on this 4th Embodiment is comprised by the many soft tube 85 whose one end communicates with the coating liquid supply pipe 64, and the other end communicates with the nozzle 23. As shown in FIG. Many of these soft tubes 85 are similarly collected by a soft outer tube 86. In the pressure fluctuation absorbing mechanism 70, similarly to the above-described third embodiment, the small diameter soft tube 85 constitutes a micro orifice, and the pipe resistance by the small diameter soft tube 85 is reduced. This makes it possible to absorb the pressure fluctuation of the coating liquid.

이상과 같은 구성을 가지는 도포 장치에 있어서, 도포액의 도포를 개시하는 경우에 있어서는, 최초에, 유리 기판(100)이 기판 유지부(10)에 유지된다. 그리고, 촬상부(15)에 의해 유리 기판(100)에 형성된 얼라인먼트 마크를 검출하고, 그 검출 결과에 의거하여 기판 유지부(10)가 이동 및 회전하고, 유리 기판(100)이 도 1에 있어서 실선으로 표시하는 도포 개시 위치에 배치된다. 이 상태에 있어서, 도포 헤드(20)에 있어서의 복수의 노즐(23)로부터 도포액의 토출이 개시됨과 더불어, 헤드 이동 기구(21)에 의해 도포 헤드(20)가 주주사 방향으로 이동된다.In the coating apparatus which has the above structures, when starting application | coating of a coating liquid, the glass substrate 100 is hold | maintained at the board | substrate holding part 10 initially. And the alignment mark formed in the glass substrate 100 is detected by the imaging part 15, the board | substrate holding part 10 moves and rotates based on the detection result, and the glass substrate 100 is shown in FIG. It is arrange | positioned at the application | coating start position shown by a solid line. In this state, discharge of the coating liquid is started from the plurality of nozzles 23 in the coating head 20, and the coating head 20 is moved in the main scanning direction by the head moving mechanism 21.

그리고, 복수의 노즐(23)의 각각으로부터 유리 기판(100)의 표면을 향해 도포액이 일정한 유량으로 연속적으로 토출됨과 더불어, 도포 헤드(20)가 주주사 방향으로 연속적으로 일정한 속도로 이동하고, 유리 기판(100)의 도포 영역의 복수의 선형상 영역에 도포액이 스트라이프형상으로 도포된다. 이 때에는, 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서 도포액의 압력의 변동이 흡수되므로, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다.Then, the coating liquid is continuously discharged from each of the plurality of nozzles 23 toward the surface of the glass substrate 100 at a constant flow rate, and the coating head 20 continuously moves at a constant speed in the main scanning direction, and the glass The coating liquid is applied in a stripe shape to a plurality of linear regions of the coating region of the substrate 100. At this time, since the fluctuation | variation of the pressure of a coating liquid is absorbed in the pressure fluctuation absorption mechanism 70, it becomes possible to make the flow volume of the coating liquid discharged | emitted from each nozzle 23 constant.

그리고, 도포 헤드(20)가 도 1 및 도 2 중에 2점 쇄선으로 표시하는 수액부(18)와 대향하는 대기 위치까지 이동함으로써, 도포액에 의한 스트라이프형상의 패턴이 형성된다. 도포 헤드(20)가 대기 위치까지 이동하면, 기판 이동 기구(11)가 구동되고, 유리 기판(100)이 기판 유지부(10)와 함께 부주사 방향으로 이동한다. 이 때, 도포 헤드(20)에서는, 복수의 노즐(23)로부터 수액부(18)를 향해 도포액이 연속적으로 토출되고 있다.And the application | coating head 20 moves to the standby position which opposes the infusion part 18 shown by the dashed-dotted line in FIG. 1 and FIG. 2, and the stripe-shaped pattern by coating liquid is formed. When the application head 20 moves to the standby position, the substrate moving mechanism 11 is driven, and the glass substrate 100 moves in the sub-scanning direction together with the substrate holding part 10. At this time, the coating liquid 20 continuously discharges the coating liquid from the plurality of nozzles 23 toward the fluid receiving portion 18.

이상과 같은 동작을 필요한 도포 동작이 완료할 때까지 계속한다. 그리고, 유리 기판(100)이 도포 종료 위치까지 이동하면, 복수의 노즐(23)로부터의 도포액의 토출이 정지되고, 도포 장치에 의한 유리 기판(100)에 대한 도포액의 도포 동작이 종료한다. 도포가 종료한 유리 기판(100)은, 다른 도포 장치 등으로 반송되고, 이 도포 장치에 의해 도포된 도포액 이외의 다른 2색의 도포액이 도포된다. 그리고, 유리 기판(100)에 대해서 소정의 도포 공정이 행해진 후, 다른 부품과 조합되어 유기 EL 표시 장치가 제조된다.The above operation is continued until the required coating operation is completed. And when the glass substrate 100 moves to the application | coating end position, discharge of the coating liquid from the some nozzle 23 will stop and the application | coating operation | movement of the coating liquid to the glass substrate 100 by a coating apparatus will complete | finished. . The glass substrate 100 after application | coating is conveyed to another coating apparatus etc., and the coating liquid of 2 colors other than the coating liquid apply | coated by this coating apparatus is apply | coated. And after a predetermined | prescribed coating process is performed with respect to the glass substrate 100, it combines with another component and an organic electroluminescence display is manufactured.

10 : 기판 유지부 11 : 기판 이동 기구
12 : 레일 13 : 기대
14 : 회전대 15 : 촬상부
16 : 시험 도포 스테이지부 17 : 수액부
18 : 수액부 19 : 노즐 피치 조정 기구
20 : 도포 헤드 21 : 헤드 이동 기구
22 : 가이드부 23 : 노즐
24 : 도포액 저류부 25 : 에어 공급원
31 : 슬라이더 32 : 관통공
33 : 풀리 34 : 동기 벨트
61 : 펌프 62 : 매스플로우 콘트롤러
63 : 전자 개폐 밸브 64 : 도포액 공급관
70 : 압력 변동 흡수 기구 71 : 송액로
72 : 관형상 부재 73 : 폐지(閉止) 부재
75 : 챔버 76 : 유로
77 : 저류부 78 : 박막
81 : 관로 82 : 격벽
83 : 관로 84 : 격벽
85 : 연질 튜브 86 : 외측 튜브
100 : 유리 기판10 substrate holding part 11 substrate moving mechanism
12: rail 13: expect
14: rotating table 15: imaging unit
16: test coating stage 17: infusion section
18: Infusion part 19: Nozzle pitch adjustment mechanism
20: application head 21: head moving mechanism
22: guide portion 23: nozzle
24: coating liquid storage portion 25: air supply source
31: slider 32: through hole
33: Pulley 34: Synchronous Belt
61 pump 62 mass flow controller
63: electromagnetic opening and closing valve 64: coating liquid supply pipe
70: pressure fluctuation absorption mechanism 71: feed path
72: tubular member 73: waste paper member
75: chamber 76: euro
77: reservoir 78: thin film
81: pipeline 82: bulkhead
83: pipeline 84: bulkhead
85: soft tube 86: outer tube
100: glass substrate

Claims

A coating device for applying a coating liquid to a substrate,
A substrate holding part for holding a substrate,
A nozzle for discharging the coating liquid to the substrate held by the substrate holding part;
A main scanning direction moving mechanism for reciprocating the nozzle in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate;
A sub-scan direction moving mechanism for moving the substrate holding portion relative to the nozzle in a sub-scan direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate;
A flexible coating liquid supply pipe for feeding the coating liquid from the coating liquid reservoir to the nozzle,
And a pressure fluctuation absorbing mechanism which is provided between the nozzle and the coating liquid supply pipe, moves integrally with the nozzle, and absorbs the pressure fluctuation of the coating liquid passing therethrough.

The method according to claim 1,
The pressure fluctuation absorption mechanism,
And a T-shaped conduit having a tubular member branched in a state of communicating with the liquid supply passage of the coating liquid in communication with the nozzle, and whose end is closed.

The method according to claim 1,
The pressure fluctuation absorption mechanism,
A chamber having an opening and communicating with the nozzle;
An application apparatus comprising an elastically deformable thin film provided in the opening.

The method according to claim 1,
The pressure fluctuation absorption mechanism,
An applicator comprising a flexible tube in communication with the nozzle and elastically deformed by the internal pressure thereof.

The method according to claim 1,
The pressure fluctuation absorption mechanism,
An applicator comprising a conduit having a micro orifice in communication with the nozzle.

The method according to claim 5,
And the pressure fluctuation absorbing mechanism has a labyrinth structure.

7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A plurality of nozzles are provided at a predetermined pitch in the sub-scan direction, and the coating liquid supply pipe and the pressure fluctuation absorbing mechanism are provided corresponding to each nozzle,
And the plurality of coating liquid supply pipes are connected to each other via a pump and a mass flow controller for feeding the coating liquid from the coating liquid storage unit.