JP2014180604A - Intermittent coating apparatus and intermittent coating method and method for manufacturing displaying member - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、例えばカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、有機EL、プラズマディスプレイ等のディスプレイ用部材を製造する分野に加えて、光学フィルタ、プリント基板、集積回路、半導体等の製造分野にも使用されるものである。より、詳しくはガラス基板などの被塗布部材表面に面状やストライプ状の塗布膜を間欠的に安定して高精度に形成できる間欠塗布装置および間欠塗布方法並びにディスプレイ用部材の製造方法の改良に関する。 The present invention is used in the field of manufacturing optical filters, printed circuit boards, integrated circuits, semiconductors, etc. in addition to the field of manufacturing display members such as color filters for color liquid crystal displays, organic EL, and plasma displays. It is. More specifically, the present invention relates to an intermittent coating apparatus and an intermittent coating method capable of intermittently stably and highly accurately forming a surface or stripe-shaped coating film on a surface of a coated member such as a glass substrate, and an improvement in a method for manufacturing a display member. .
従来から知られているように、カラー液晶用ディスプレイは、カラーフィルタ、TFT用アレイ基板などにより構成されている。カラーフィルタ、TFT用アレイ基板は、ともに、低粘度の液体材料を塗布して乾燥させ、塗布膜を形成する製造工程が多く含まれている。 As conventionally known, a color liquid crystal display is composed of a color filter, a TFT array substrate, and the like. Both the color filter and the TFT array substrate include many manufacturing processes in which a low-viscosity liquid material is applied and dried to form a coating film.
たとえば、カラーフィルタの製造工程では、ガラス基板上に黒色のフォトレジスト材の塗布膜を形成し、フォトリソ法により塗布膜を格子状に加工した後に、格子間に赤色、青色、緑色のフォトレジスト材の塗布膜を順次形成していく。 For example, in a color filter manufacturing process, a black photoresist material coating film is formed on a glass substrate, and the coating film is processed into a lattice shape by a photolithographic method, and then red, blue, and green photoresist materials are formed between the lattices. The coating film is sequentially formed.
この塗布膜形成のための塗布装置としては、スリットコータ(例えば特許文献1)が近年多く使用されている。この公知のスリットコータは塗布ヘッドすなわち塗布器としてスリットノズルを有し、このスリットノズルに設けられたスリット状の細長い吐出口から塗布液を吐出しながら、一方向に走行するガラス基板などの枚葉状の被塗布部材に塗布膜を形成するものとなっている。 As a coating apparatus for forming the coating film, a slit coater (for example, Patent Document 1) has been frequently used in recent years. This known slit coater has a slit nozzle as a coating head, that is, a coating device, and discharges the coating liquid from a slit-like long discharge port provided in the slit nozzle, while the sheet substrate such as a glass substrate traveling in one direction is used. A coating film is formed on the member to be coated.
また有機ELでは、等ピッチに配置されたポリイミドのバンク間に塗布液を充填し、直線ストライプ状に塗布膜を形成する工程がある。 In the organic EL, there is a step of filling a coating solution between polyimide banks arranged at equal pitches to form a coating film in a linear stripe shape.
このようなストライプ状の塗布膜をガラス基板等の被塗布部材上に塗布で形成する手段としては、ストライプの配置ピッチにあわせて設けられた多数の吐出口を有するノズルを塗布器として、塗布液を連続して吐出しながら、相対的に走行する被塗布部材に塗布する連続吐出ノズル法(例えば特許文献2)があり、それを具現化したコータが実用に供されている。 As a means for forming such a stripe-shaped coating film on a coated member such as a glass substrate by coating, a nozzle having a large number of discharge ports provided in accordance with the stripe arrangement pitch is used as a coating device. There is a continuous discharge nozzle method (e.g., Patent Document 2) that applies to a member to be applied that travels relatively while continuously discharging, and a coater that embodies it is put to practical use.
このようなノズルを用いてディスプレイを製造するにあたっては、2m角以上の超大型基板に、ディスプレイに相当する大きさの矩形状の塗布膜を複数形成する、いわゆる多面取りが、生産性向上や低コスト化の観点から、主流となっている。 In manufacturing a display using such a nozzle, so-called multi-sided processing, in which a plurality of rectangular coating films having a size corresponding to the display is formed on an ultra-large substrate of 2 m square or more, is improved in productivity and low. From the viewpoint of cost reduction, it has become mainstream.
この多面取りを行なう時の各面の塗布膜形成を、あたかも1枚の基板上に一つの塗布膜を形成するのと同じように、複数の各塗布膜ごとにノズルからの塗布液吐出/停止、被塗布部材の走行開始/終了を繰り返す方法もある。 The coating film formation on each surface when performing this multi-surface chamfering is performed by discharging / stopping the coating liquid from the nozzles for each of the plurality of coating films as if a single coating film is formed on one substrate. There is also a method of repeating the start / end of travel of the coated member.
しかしタクトタイムを短くして生産性を向上させるには、被塗布部材を一定速度で相対的に連続走行させ、各製品面に相当する位置でノズルから間欠的に塗布液を吐出/停止を行なう間欠塗布が必要となる。 However, in order to shorten the tact time and improve productivity, the member to be coated is relatively continuously driven at a constant speed, and the coating liquid is intermittently discharged / stopped from the nozzle at a position corresponding to each product surface. Intermittent application is required.
間欠塗布の最大の要求課題は、所定流量の塗布液を高精度に安定して間欠的にノズルに供給するとともに、瞬時に一定量の塗布液の供給開始と停止を行って、塗布開始と終了部にある目標膜厚からはずれる不良膜厚領域を最小にして、均一な膜厚の製品領域を大きくとれるようにすることである。 The greatest requirement for intermittent application is to supply a predetermined amount of application liquid stably and intermittently to the nozzle and to start and stop application by instantaneously starting and stopping the supply of a certain amount of application liquid. In other words, the defective film thickness region deviating from the target film thickness in the portion is minimized so that a product region having a uniform film thickness can be made large.
この点でポイントとなるのは、ノズルに塗布液を供給する塗布液供給手段である。このような間欠塗布を行うための公知の塗布液供給手段としては、タンクに貯蔵されている塗布液をポンプでノズルに供給する回路と、タンクに戻す循環回路を作っておき、切替えバルブの切替えによって、塗布時にはノズルに塗布液を供給し、ノズルへの塗布液の供給を停止する非塗布時には循環回路で塗布液を戻すものがある。 In this respect, the point is a coating liquid supply means for supplying the coating liquid to the nozzle. As a known application liquid supply means for performing such intermittent application, a circuit for supplying the application liquid stored in the tank to the nozzle with a pump and a circulation circuit for returning the liquid to the tank are prepared, and the switching valve is switched. In some cases, the coating liquid is supplied to the nozzle during coating, and the coating liquid is returned by a circulation circuit during non-coating in which the supply of the coating liquid to the nozzle is stopped.
この場合、塗布時と非塗布時とを問わず、ポンプは休むことなく連続に動作させている。さらに塗布開始/終了時に不良膜厚領域を短くするために、瞬時に一定量の塗布液の供給開始と停止を行えるように、上記の塗布液供給の回路のポンプとノズルの間に、容量調整可能なピストンを加えたもの(例えば特許文献3)や、ノズルへの塗布液遮断時にノズルに負圧を発生させる特殊バルブを加えたもの(例えば特許文献4)がある。 In this case, the pump is operated continuously without resting regardless of whether it is applied or not. Furthermore, in order to shorten the defective film thickness area at the start / end of coating, the capacity adjustment is made between the pump and nozzle of the above coating liquid supply circuit so that the supply of a constant amount of coating liquid can be started and stopped instantaneously. There are those to which a possible piston is added (for example, Patent Document 3) and those to which a special valve for generating a negative pressure at the nozzle when a coating liquid is blocked from the nozzle (for example, Patent Document 4).
公知の塗布液供給手段では、システムとして非塗布時の塗布液をもとのタンクに戻すので、塗布液を無駄にすることはないが、戻る途中で塗布液が空気と接触して劣化し、劣化した塗布液や時間履歴の異なる塗布液がタンクで混じることになるので、高品質が要求される塗布膜の形成には適用できないという問題がある。 In the known coating liquid supply means, the coating liquid at the time of non-coating is returned to the original tank as a system, so that the coating liquid is not wasted, but the coating liquid is in contact with air and deteriorated on the way back, Since a deteriorated coating solution or a coating solution having a different time history is mixed in the tank, there is a problem that it cannot be applied to formation of a coating film that requires high quality.
また連続ポンプにて塗布液の供給を行なっているが、連続ポンプで密閉性が高く定量性があるのはモーノポンプのみであるが、これにしても外筒には密閉性を維持するために弾性体を適用しており、負荷圧力が変動するとこの弾性体が変形して、シリンジポンプ等の間欠型定容量ポンプに比べると、定量性が低い。 Although the coating liquid is supplied by a continuous pump, only the MONO pump has high sealing performance and quantitativeness with the continuous pump, but even in this case, the outer cylinder is elastic to maintain the sealing performance. This elastic body is deformed when the load pressure fluctuates, and its quantitativeness is lower than that of an intermittent constant capacity pump such as a syringe pump.
さらにはモーノポンプでは、塗布液をその実条件で送液してその量を実測してキャリブレーションしないと、塗布膜形成に必要な塗布液の供給量や供給速度も設定できず、シリンジの内径とピストンの移動速度から簡単に塗布液の供給量や供給速度を算出できるシリンジポンプ等の間欠型定容量ポンプとくらべると、機能、性能、操作性の点で見劣りしてしまう。 Furthermore, with the MONO pump, if the coating solution is fed under the actual conditions and the amount is not measured and calibrated, the supply amount and supply speed of the coating solution necessary for forming the coating film cannot be set. Compared with an intermittent constant-capacity pump such as a syringe pump that can easily calculate the supply amount and supply speed of the coating liquid from the moving speed, it is inferior in terms of function, performance, and operability.
以上公知の間欠的に塗布液の供給を行なう塗布液供給手段では、シリンジポンプ等の定量性にすぐれた高精度の間欠型定容量ポンプを使用し、しかも劣化した塗布液や時間履歴の異なる塗布液が混入する循環回路を用いないで、瞬時に一定量の塗布液の供給開始と停止を繰り返し安定して行えるものはない、というのが実状である。 The known application liquid supply means for intermittently supplying the application liquid uses a high-precision intermittent constant capacity pump such as a syringe pump, which is excellent in quantitative performance, and is applied with deteriorated application liquids and different time histories. The actual situation is that there is no one that can repeatedly and stably start and stop supplying a constant amount of coating liquid instantaneously without using a circulation circuit in which the liquid is mixed.
間欠塗布に最適な塗布液供給手段がないために、タクトタイムが短くて生産性が高く、しかも不良膜厚領域が小さくて均一膜厚で高品質の製品領域を大きくとれる間欠塗布が実現できていない。 Since there is no optimal coating solution supply means for intermittent application, it is possible to realize intermittent application with a short tact time and high productivity, and with a small defective film thickness area and a uniform film thickness that can increase the quality of product areas. Absent.
この発明は、上述の事情に基づいて想到されたものである。本発明の目的とするところは、複数の間欠塗布された領域が塗布初め及び塗布終わりまでの区間で均一膜厚であり、劣化要因のない塗布液の塗布を保証し、高品質の製品領域を大きくとれる多面取りを短いタクトタイムで高い生産性で行える間欠塗布を実現することである。 The present invention has been conceived based on the above situation. The object of the present invention is that a plurality of intermittently applied areas have a uniform film thickness in the section from the beginning of application to the end of application, guaranteeing application of a coating solution without any deterioration factor, and providing a high quality product area. The aim is to achieve intermittent coating that can perform large chamfering with high productivity and short tact time.
そのために、本発明は、高精度で定量性の高い間欠型定容量ポンプを使用し、しかも劣化した塗布液や時間履歴の異なる塗布液が混入する循環回路を用いないで、瞬時に一定量の塗布液のノズルへの供給開始と停止を繰り返し安定して行える間欠塗布装置ならびに間欠塗布方法を提供する。さらにはこの間欠塗布方法を用いて、高い生産性で高品質のディスプレイ用部材を製造できるディスプレイ用部材の製造方法を提供する。 For this reason, the present invention uses an intermittent constant capacity pump with high accuracy and high quantitativeness, and without using a circulating circuit in which a deteriorated coating liquid or a coating liquid having a different time history is mixed. Provided are an intermittent coating apparatus and an intermittent coating method capable of repeatedly and stably starting and stopping the supply of a coating liquid to a nozzle. Furthermore, the manufacturing method of the display member which can manufacture a high quality display member with high productivity using this intermittent application method is provided.
上記本発明の目的は、以下に述べる手段によって達成される。 The object of the present invention is achieved by the means described below.
本発明になる間欠塗布装置は、
先端に塗布液を被塗布部材上に吐出する吐出口を備える塗布器と、
前記被塗布部材を保持する載置台と、
前記塗布器に間欠的に塗布液を供給する塗布液供給手段と、
前記塗布器および前記載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段と
を含んで、前記被塗布部材上に複数の塗布膜を間欠的に形成する間欠塗布装置であって、
前記塗布液供給手段は、
前記塗布器に所定流量の前記塗布液を供給する間欠型定容量ポンプと、
前記塗布液を貯蔵する貯蔵タンクと、
前記間欠型定容量ポンプの上流側に配置され、前記間欠型定容量ポンプと前記貯蔵タンクとを連通する上流側配管と、
前記上流側配管に設けられた上流開閉バルブと、
前記間欠型定容量ポンプの下流側に配置され、前記間欠型定容量ポンプと前記塗布器とを連通する下流側配管と、
前記下流側配管に設けられた、下流第1開閉バルブと下流第2開閉バルブの2個の開閉バルブと、
を備えていることを特徴とする。
The intermittent coating apparatus according to the present invention is
An applicator provided with a discharge port for discharging the coating liquid onto the coated member at the tip;
A mounting table for holding the coated member;
A coating liquid supply means for intermittently supplying the coating liquid to the applicator;
A moving means for relatively moving at least one of the applicator and the mounting table, and an intermittent coating apparatus that intermittently forms a plurality of coating films on the coated member,
The coating liquid supply means includes
An intermittent constant-capacity pump that supplies the coating liquid at a predetermined flow rate to the applicator;
A storage tank for storing the coating liquid;
An upstream pipe disposed on the upstream side of the intermittent constant capacity pump and communicating the intermittent constant capacity pump and the storage tank;
An upstream open / close valve provided in the upstream pipe;
A downstream pipe disposed on the downstream side of the intermittent constant capacity pump and communicating the intermittent constant capacity pump and the applicator;
Two on-off valves provided in the downstream pipe, a downstream first on-off valve and a downstream second on-off valve;
It is characterized by having.
ここで、前記下流第1開閉バルブは、前記下流第2開閉バルブより上流側に設けられ、バルブ閉時に塗布液を前記塗布器から上流側に引き戻すサックバックバルブであることが好ましい。 Here, it is preferable that the downstream first opening / closing valve is a suck-back valve that is provided upstream from the downstream second opening / closing valve, and draws the coating liquid upstream from the applicator when the valve is closed.
本発明になる間欠塗布方法は、
吐出口を備える塗布器と塗布液を貯蔵する貯蔵タンクの間の配管に、上流側より上流開閉バルブと間欠型定容量ポンプと下流第1開閉バルブと下流第2開閉バルブを備えた塗布手段によって被塗布部材上に複数の塗布膜を間欠的に形成する間欠塗布方法であって、
前記下流第1開閉バルブを開いたうえで、前記下流第2開閉バルブと前記上流開閉バルブを閉じて前記間欠型定容量ポンプから前記塗布液に圧力をかける塗布開始前工程と、
前記下流第2開閉バルブを開いて塗布を行う塗布工程と、
前記塗布液を上流側に引き込みながら前記下流第1開閉バルブを閉じる塗布終了工程を有することを特徴とする。
The intermittent coating method according to the present invention is:
The pipe between the applicator provided with the discharge port and the storage tank for storing the coating liquid is provided with an application means having an upstream open / close valve, an intermittent constant capacity pump, a downstream first open / close valve, and a downstream second open / close valve from the upstream side. An intermittent coating method for intermittently forming a plurality of coating films on a member to be coated,
Opening the downstream first opening / closing valve, closing the second downstream opening / closing valve and the upstream opening / closing valve, and applying pressure from the intermittent constant capacity pump to the coating liquid;
An application step of applying by opening the downstream second on-off valve;
It has a coating end process of closing the downstream first open / close valve while drawing the coating liquid upstream.
ここで、前記塗布終了工程では、さらに前記上流開閉バルブを開き、前記間欠型定容量ポンプから前記塗布液を前記貯蔵タンクに向かって送出することが好ましい。 Here, in the coating end step, it is preferable that the upstream opening / closing valve is further opened and the coating liquid is sent from the intermittent constant capacity pump toward the storage tank.
本発明になるディスプレイ用部材の製造方法は、上記の間欠塗布方法を用いてディスプレイ用部材を製造することを特徴とする。 The display member manufacturing method according to the present invention is characterized in that the display member is manufactured using the intermittent coating method described above.
本発明になる間欠塗布装置および間欠塗布方法を用いれば、高精度で定量性に優れる間欠型定容量ポンプから所定流量の塗布液を連続して供給しながら、間欠型定容量ポンプの上下流に配した開閉バルブの操作によって、塗布器への塗布液の供給を間欠的に行える。このようにしたので、高精度で均一な膜厚の複数の塗布膜を一枚の被塗布部材上に多面取りにて形成することができる。 By using the intermittent coating apparatus and the intermittent coating method according to the present invention, while supplying a predetermined flow rate of coating liquid continuously from an intermittent constant volume pump that is highly accurate and excellent in quantitative performance, By supplying the open / close valve, the application liquid can be intermittently supplied to the applicator. Since it did in this way, the several coating film of a highly accurate and uniform film thickness can be formed by multi-cham on one to-be-coated member.
また間欠塗布中の塗布器への塗布液供給停止時には、連続して稼動する間欠型定容量ポンプから塗布液を上流側へそのまま戻すようにした。このようにすることによって、空気接触による塗布液の劣化は、生じることがない。つまり、循環回路を用いた時のように劣化した塗布液や時間履歴の異なる塗布液が混入することは一切ない。したがって、高品質の塗布膜を間欠塗布にて形成できることが可能となる。 Further, when the supply of the coating liquid to the applicator during intermittent coating is stopped, the coating liquid is returned to the upstream side as it is from an intermittent constant capacity pump that operates continuously. By doing in this way, deterioration of the coating liquid by air contact does not arise. That is, there is no possibility that a deteriorated coating solution or a coating solution having a different time history is mixed as in the case of using a circulation circuit. Therefore, a high quality coating film can be formed by intermittent coating.
さらには、間欠塗布中の塗布器への塗布液供給停止を瞬時に行なうために、バルブ閉時に塗布液を塗布器から上流側に引き戻すサックバックバルブを導入した。しかも塗布器への塗布液の供給を間欠的に繰り返して行えるようにサックバルブを含む開閉バルブを配した。この構成によって塗布開始と終了部にある目標膜厚から許容値外となる不良膜厚領域を最小にして、均一な膜厚の製品領域を大きくとることが、間欠塗布でも可能となる。 Furthermore, in order to instantaneously stop the application liquid supply to the applicator during intermittent application, a suck back valve is introduced that draws the application liquid upstream from the applicator when the valve is closed. In addition, an open / close valve including a suck valve is provided so that the supply of the coating liquid to the applicator can be repeated intermittently. With this configuration, it is possible to minimize the defective film thickness region that is outside the allowable value from the target film thickness at the start and end of application, and to increase the product area with a uniform film thickness even by intermittent application.
本発明になるディスプレイ用部材の製造方法によれば、上記の優れた間欠塗布方法を用いてディスプレイ用部材を製造するのであるから、多面取りを間欠塗布で高い生産性で行えるとともに、均一な膜厚を有する高品質のディスプレイ用部材を、低コストで製造できる。 According to the method for producing a display member according to the present invention, the display member is produced by using the above-described excellent intermittent coating method. A high-quality display member having a thickness can be manufactured at low cost.
以下、この発明の好ましい一実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明は本発明の一実施形態を例示するのであり、下記の説明に限定されるものではない。本発明の主旨を逸脱しない範囲で、下記の実施形態は変更することができる。図1は、本発明に係るスリットコータ1の概略正面図である。 Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The following description exemplifies an embodiment of the present invention, and is not limited to the following description. The following embodiments can be modified without departing from the gist of the present invention. FIG. 1 is a schematic front view of a slit coater 1 according to the present invention.
まず図1を参照すると、本発明に係る塗布液供給装置40を備えた塗布装置であるスリットコータ1が示されている。このスリットコータ1は基台2を備えており、基台2上には、被塗布部材である基板Aの保持体として載置台6が配置されている。この載置台6の上面8は、真空吸引によって基板Aの下面である基板下面RPが吸着固定可能となるように、吸着孔や吸着溝が設けられており、吸着面として構成されている。 First, referring to FIG. 1, a slit coater 1 which is a coating apparatus provided with a coating liquid supply apparatus 40 according to the present invention is shown. The slit coater 1 includes a base 2, and a mounting base 6 is disposed on the base 2 as a holder for a substrate A that is a member to be coated. The upper surface 8 of the mounting table 6 is provided with suction holes and suction grooves so that the substrate lower surface RP, which is the lower surface of the substrate A, can be sucked and fixed by vacuum suction, and is configured as a suction surface.
基台2上には、さらに一対のガイドレール4が載置台6の紙面に垂直な方向である幅方向両側に設けられている。この一対のガイドレール4上には、これも一対の軸受14を介して、門型ガントリー10が矢印で示されるX方向に案内自在に搭載されている。 On the base 2, a pair of guide rails 4 are further provided on both sides in the width direction, which is a direction perpendicular to the paper surface of the mounting table 6. On the pair of guide rails 4, a portal gantry 10 is also mounted via a pair of bearings 14 so as to be guided in the X direction indicated by arrows.
門型ガントリー10は、一対の軸受14上に固定されている幅方向両側に一対の走行部16と、一対の走行部16間を連結するステー12とを備えて、門型に構成されている。門型ガントリー10の一対の走行部16には、塗布器であるスリットノズル20の長手方向両端に対応して昇降手段として機能する上下昇降ユニット70が一対設けられている。 The portal gantry 10 includes a pair of traveling portions 16 that are fixed on a pair of bearings 14 on both sides in the width direction, and a stay 12 that connects the pair of traveling portions 16 to each other, and is configured in a portal shape. . A pair of traveling units 16 of the portal gantry 10 is provided with a pair of vertical lifting units 70 that function as lifting means corresponding to both longitudinal ends of the slit nozzle 20 that is an applicator.
この一対の上下昇降ユニット70に吊り下げ保持台80を介して、スリットノズル20が載置台6の上方の位置にくるように取り付けられている。なおスリットノズル20の長手方向は紙面に垂直な方向であり、上記の幅方向とも一致する。門型ガントリー10は図示しないリニアモータで駆動されるので、これに搭載されているスリットノズル20は、図1に矢印で示されているX方向に自在に往復動することができる。 The slit nozzle 20 is attached to the pair of upper and lower lifting / lowering units 70 via a suspension holding base 80 so as to be positioned above the mounting table 6. The longitudinal direction of the slit nozzle 20 is a direction perpendicular to the paper surface and coincides with the width direction described above. Since the portal gantry 10 is driven by a linear motor (not shown), the slit nozzle 20 mounted on the portal gantry 10 can freely reciprocate in the X direction indicated by an arrow in FIG.
図1に示されるスリットノズル20は、X方向に直交する幅方向(紙面に垂直な方向)にのびているフロントリップ22とリアリップ24を、シム32を介してX方向に重ね合わせ、図示しない複数の連結ボルトにより一体的に結合して構成されている。スリットノズル20内の中央部にはマニホールド26が形成されており、このマニホールド26もスリットノズル20の長手方向、すなわち幅方向に延設されている。 A slit nozzle 20 shown in FIG. 1 has a front lip 22 and a rear lip 24 that extend in the width direction (perpendicular to the paper surface) perpendicular to the X direction, overlapped in the X direction via shims 32, and are not shown It is configured to be integrally coupled with a connecting bolt. A manifold 26 is formed at the center of the slit nozzle 20, and the manifold 26 also extends in the longitudinal direction of the slit nozzle 20, that is, in the width direction.
マニホールド26の下方には、スリット28が連通して形成されている。このスリット28もスリットノズル20の長手方向に延設されている。スリット28の下端は、スリットノズル20の最下端面、すなわち最も下側に位置する先端部である吐出口面36で開口して、吐出口34を形成する。 A slit 28 is formed below the manifold 26 so as to communicate therewith. The slit 28 is also extended in the longitudinal direction of the slit nozzle 20. The lower end of the slit 28 opens at the lowermost end surface of the slit nozzle 20, that is, the discharge port surface 36 which is the tip portion located on the lowermost side, thereby forming the discharge port 34.
なおスリット28はシム32を挟持することによって形成されるので、スリット28の間隙(X方向に測定)は、シム32の厚さと等しくなる。吐出口面36の両隣には、斜め上方に切り上がっている斜面38が設けられている。 Since the slit 28 is formed by sandwiching the shim 32, the gap (measured in the X direction) of the slit 28 is equal to the thickness of the shim 32. On both sides of the discharge port surface 36, slopes 38 are formed that are obliquely upward.
このスリットノズル20を昇降させる上下昇降ユニット70は、スリットノズル20を吊り下げる形で保持する吊り下げ保持台80を昇降させる昇降台78、昇降台78を上下方向に案内するガイド74、モータ72の回転運動を昇降台78の直線運動に変換するボールネジ76より構成されている。 The vertical lift unit 70 that lifts and lowers the slit nozzle 20 includes a lift 78 that lifts a suspension holding base 80 that holds the slit nozzle 20 in a suspended manner, a guide 74 that guides the lift 78 in the vertical direction, and a motor 72. The ball screw 76 converts the rotary motion into the linear motion of the lifting platform 78.
上下昇降ユニット70は、スリットノズル20の長手方向(塗布幅方向)の両端部をそれぞれ支持するよう左右一対配置されている。これに対応して、昇降台78、ガイド74、モータ72、ボールネジ76、もまた左右1対配置されている。 A pair of upper and lower lifting units 70 are arranged so as to support both ends of the slit nozzle 20 in the longitudinal direction (coating width direction). Corresponding to this, a pair of right and left elevators 78, guides 74, motors 72, and ball screws 76 are also arranged.
一対の上下昇降ユニット70は、塗布幅方向の左右で各々が独立に昇降できるので、スリットノズル20長手方向の水平に対する傾き角度を任意に設定することができる。これによってスリットノズル20の吐出口面36と基板Aの表面CPを、スリットノズル20の長手方向にわたって略平行にすることができる。 Since the pair of upper and lower lifting / lowering units 70 can be moved up and down independently on the left and right in the application width direction, an inclination angle with respect to the horizontal in the longitudinal direction of the slit nozzle 20 can be arbitrarily set. Accordingly, the discharge port surface 36 of the slit nozzle 20 and the surface CP of the substrate A can be made substantially parallel over the longitudinal direction of the slit nozzle 20.
さらに、この上下昇降ユニット70によって、スリットノズル20の吐出口面36と基板Aの表面CPとの間のすきま、すなわちクリアランス量CLが任意の大きさになるように、スリットノズル20の上下方向であるZ方向の位置を調整することができる。 Further, the vertical lift unit 70 allows the clearance between the discharge port surface 36 of the slit nozzle 20 and the surface CP of the substrate A, that is, the clearance CL to be an arbitrary size in the vertical direction of the slit nozzle 20. The position in a certain Z direction can be adjusted.
以上詳細を説明した上下昇降ユニット70とX方向に往復動自在な門型ガントリー10が、スリットノズル20を載置台6に対して相対的に移動させる移動手段となる。 The vertical elevating unit 70 described in detail above and the portal gantry 10 that can reciprocate in the X direction serve as moving means for moving the slit nozzle 20 relative to the mounting table 6.
さらに図1で基台2の左側端部を見ると、拭き取りユニット90が基台2上に取り付けられている。拭き取りユニット90の拭き取りヘッド92の上方まで、拭き取りヘッド92と係合するスリットノズル20は門型ガントリー10によって移動することができる。 Further, when the left end portion of the base 2 is viewed in FIG. 1, a wiping unit 90 is mounted on the base 2. The slit nozzle 20 that engages with the wiping head 92 can be moved by the portal gantry 10 to above the wiping head 92 of the wiping unit 90.
さて拭き取りユニット90は、スリットノズル20から塗布液66を吐出後、吐出口34の周辺部である吐出口面36と斜面38に残存する塗布液66を除去して、なおかつ吐出口34まで塗布液66が満たされた状態にする。スリットノズル20をこの状態にすることを、スリットノズル20の初期化と呼ぶ。 The wiping unit 90 discharges the coating liquid 66 from the slit nozzle 20, and then removes the coating liquid 66 remaining on the discharge port surface 36 and the inclined surface 38, which is the periphery of the discharge port 34. 66 is satisfied. Making the slit nozzle 20 in this state is called initialization of the slit nozzle 20.
このスリットノズル20の初期化を毎回の間欠塗布前に必ず実施することで、スリットノズル20は常に同じ状態で最初の間欠塗布を開始することができ、多数枚の基板に間欠塗布を行っても、すべての基板で同じ均一な塗布膜を再現性よく形成することができる。 By always performing the initialization of the slit nozzle 20 before each intermittent application, the slit nozzle 20 can always start the first intermittent application in the same state, and even if intermittent application is performed on a large number of substrates. The same uniform coating film can be formed with good reproducibility on all the substrates.
拭き取りユニット90には、スリットノズル20の吐出口34周辺に係合する形状を有する拭き取りヘッド92が、昇降シリンダー104とブラケット94を介してスライダー96に取り付けられている。 In the wiping unit 90, a wiping head 92 having a shape that engages with the periphery of the discharge port 34 of the slit nozzle 20 is attached to the slider 96 via an elevating cylinder 104 and a bracket 94.
拭き取りヘッド92は昇降シリンダー104によって、上下方向に自在に昇降可能である。スライダー96は駆動ユニット98により、スリットノズル20の長手方向、すなわちY方向に自在に移動する。駆動ユニット98とトレイ100は台102上に固定されている。 The wiping head 92 can be moved up and down freely by a lifting cylinder 104 in the vertical direction. The slider 96 is freely moved by the drive unit 98 in the longitudinal direction of the slit nozzle 20, that is, in the Y direction. The drive unit 98 and the tray 100 are fixed on a table 102.
また拭き取りを行う時は、スリットノズル20が拭き取りヘッド92に係合する位置まで門型ガントリー10をX方向に移動させ、昇降シリンダー104によって拭き取りヘッド92を上昇させてスリットノズル20に係合させる。 When wiping is performed, the portal gantry 10 is moved in the X direction to a position where the slit nozzle 20 is engaged with the wiping head 92, and the wiping head 92 is raised by the lifting cylinder 104 to be engaged with the slit nozzle 20.
そして、駆動ユニット98を駆動して拭き取りヘッド92をスリットノズル20の長手方向に摺動させると、スリットノズル20の吐出口34の周辺部に残存している塗布液66を除去して、スリットノズル20の初期化を行うことができる。 Then, when the drive unit 98 is driven to slide the wiping head 92 in the longitudinal direction of the slit nozzle 20, the coating liquid 66 remaining in the periphery of the discharge port 34 of the slit nozzle 20 is removed, and the slit nozzle 20 initializations can be performed.
除去した塗布液66はトレイ100で回収される。トレイ100は図示しない排出ラインに接続されており、内部にたまった塗布液66等の液体を外部に排出、回収することができる。またトレイ100は、スリットノズル20からエアー抜き等で吐出される塗布液66を回収するために使用することもできる。 The removed coating liquid 66 is collected in the tray 100. The tray 100 is connected to a discharge line (not shown) and can discharge and collect a liquid such as the coating liquid 66 accumulated inside. The tray 100 can also be used for recovering the coating liquid 66 discharged from the slit nozzle 20 by air bleeding or the like.
なお拭き取りヘッド92は、具体的にはスリットノズル20と線接触する合成樹脂製のブレードが好ましく用いられるが、スリットノズル20の表面に均等に係合できるようゴム等の弾性体のブレードであってもよい。さらに塗布液66が高粘度である場合は、拭き取りヘッド92は溶剤をしみ込ませた布を弾性体で保持するものであってもよい。 Specifically, the wiping head 92 is preferably a synthetic resin blade that is in line contact with the slit nozzle 20, but is an elastic blade such as rubber so that it can be evenly engaged with the surface of the slit nozzle 20. Also good. Further, when the coating liquid 66 has a high viscosity, the wiping head 92 may hold the cloth soaked with the solvent with an elastic body.
続いて図1でスリットノズル20を見ると、スリットノズル20のマニホールド26の上流側は、塗布液供給手段として機能する塗布液供給装置40に連なる供給ホース60に、内部通路(図示しない)を介して常時接続されている。これにより、マニホールド26へは塗布液供給装置40から塗布液66を供給することができる。マニホールド26に入った塗布液66はスリットノズル20の長手方向に均等に拡幅されて、スリット28を経て、吐出口34から吐出される。なお、本明細書および特許請求の範囲を含め、塗布液66が流れて来る方向を上流側といい、流れる方向を下流側と呼ぶ。すなわち、タンク64が最も上流にあたり、スリットノズル20の吐出口34が最も下流にあたる。 Next, when viewing the slit nozzle 20 in FIG. 1, the upstream side of the manifold 26 of the slit nozzle 20 is connected to a supply hose 60 connected to a coating liquid supply device 40 functioning as a coating liquid supply means via an internal passage (not shown). Always connected. Thereby, the coating liquid 66 can be supplied from the coating liquid supply apparatus 40 to the manifold 26. The coating liquid 66 that has entered the manifold 26 is uniformly widened in the longitudinal direction of the slit nozzle 20 and is discharged from the discharge port 34 through the slit 28. In addition, including the present specification and claims, the direction in which the coating liquid 66 flows is called the upstream side, and the flowing direction is called the downstream side. That is, the tank 64 is the most upstream, and the discharge port 34 of the slit nozzle 20 is the most downstream.
なお、塗布液供給装置40は、供給ホース60の上流側に、フィルター46、供給バルブ42、サックバックバルブ120、シリンジポンプ50、吸引バルブ44、吸引ホース62、タンク64を備えている。なお、供給ホース60は、下流側配管であり、吸引ホース62は、上流側配管である。またタンク64は貯蔵タンクである。 The coating liquid supply apparatus 40 includes a filter 46, a supply valve 42, a suck back valve 120, a syringe pump 50, a suction valve 44, a suction hose 62, and a tank 64 on the upstream side of the supply hose 60. The supply hose 60 is a downstream pipe, and the suction hose 62 is an upstream pipe. The tank 64 is a storage tank.
タンク64には塗布液66が蓄えられており、圧空源68に連結されて任意の大きさの背圧を塗布液66に付加することができる。タンク64内の塗布液66は、吸引ホース62を通じてシリンジポンプ50に供給される。シリンジポンプ50では、シリンジ52、ピストン54が本体56に取り付けられている。ここでピストン54は図示しない駆動源によって上下方向に自在に往復動できる。 A coating liquid 66 is stored in the tank 64, and a back pressure of an arbitrary magnitude can be applied to the coating liquid 66 by being connected to a pressure air source 68. The coating liquid 66 in the tank 64 is supplied to the syringe pump 50 through the suction hose 62. In the syringe pump 50, a syringe 52 and a piston 54 are attached to the main body 56. Here, the piston 54 can reciprocate freely in the vertical direction by a drive source (not shown).
シリンジポンプ50は、一定の内径を有するシリンジ52内に塗布液66を充填し、それをピストン54により押し出して、スリットノズル20に基板Aを一枚塗布する分量だの塗布液66を供給する間欠駆動定容量型、すなわち間欠型定容量のポンプである。 The syringe pump 50 intermittently supplies the coating liquid 66 into the syringe 52 having a constant inner diameter, pushes it out by the piston 54, and supplies the coating liquid 66 in an amount for coating one substrate A to the slit nozzle 20. It is a drive constant capacity type pump, that is, an intermittent constant capacity pump.
シリンジ52内に塗布液66を充填するときは、吸引バルブ44を開、供給バルブ42を閉として、ピストン54を下方に移動させる。この操作によってタンク64内の塗布液66はシリンジ52内に導入される。またシリンジ52内に充填された塗布液66をスリットノズル20に向かって供給するときは、吸引バルブ44を閉、サックバックバルブ120と供給バルブ42を開とし、ピストン54を上方に移動させる。この操作によって、シリンジ52内の塗布液66は排出され、スリットノズル20に向けて送液される。 When filling the syringe 52 with the coating liquid 66, the suction valve 44 is opened, the supply valve 42 is closed, and the piston 54 is moved downward. By this operation, the coating liquid 66 in the tank 64 is introduced into the syringe 52. When supplying the coating liquid 66 filled in the syringe 52 toward the slit nozzle 20, the suction valve 44 is closed, the suck back valve 120 and the supply valve 42 are opened, and the piston 54 is moved upward. By this operation, the coating liquid 66 in the syringe 52 is discharged and fed toward the slit nozzle 20.
以上で供給ホース60については、内圧上昇によって弾性変形して膨張し、塗布液66がたくわえられるように、テフロン(登録商標)等の樹脂製にすることが好ましい。 Thus, the supply hose 60 is preferably made of a resin such as Teflon (registered trademark) so that the supply hose 60 is elastically deformed and expanded due to an increase in internal pressure, and the coating liquid 66 is stored.
またバルブのうちで、供給バルブ42、吸引バルブ44については、塗布液66の通過(バルブ開)/遮断(バルブ閉)が切替え可能な開閉バルブなら、いかなる形式のものでもよいが、好ましくは塗布液66の通過/遮断の切替えによる容量変化が少ない形式のバルブにする。 Of the valves, the supply valve 42 and the suction valve 44 may be of any type as long as they can switch the passage (valve opening) / shutoff (valve closing) of the application liquid 66, but preferably the application valve. A valve with a small capacity change due to switching of passage / shutoff of the liquid 66 is used.
具体的なバルブとしては、ボールバルブや、コルクバルブ、さらには流路内で弁座が移動する形態のバルブが挙げられる。なおシリンジポンプ50の上流側に配置される吸引バルブ44は上流開閉バルブ、シリンジポンプ50の下流側でより上流側にあるサックバックバルブ120が下流第1開閉バルブ、その下流側にある供給バルブ42が下流第2開閉バルブとなる。 Specific examples of the valve include a ball valve, a cork valve, and a valve whose valve seat moves in a flow path. The suction valve 44 disposed on the upstream side of the syringe pump 50 is an upstream open / close valve, the suck back valve 120 on the upstream side downstream of the syringe pump 50 is the first downstream open / close valve, and the supply valve 42 on the downstream side thereof. Becomes the downstream second open / close valve.
またサックバックバルブ120には、塗布液66の通過を遮断する時、すなわちバルブを閉にする時に、下流側から塗布液66を引き戻す形態のバルブを使用する。具体的な構成を図2を用いて詳しく説明する。 Further, as the suck back valve 120, a valve is used that pulls back the coating liquid 66 from the downstream side when the passage of the coating liquid 66 is blocked, that is, when the valve is closed. A specific configuration will be described in detail with reference to FIG.
図2は、サックバックバルブ120の具体的構成を示す概略断面図である。図2(a)は塗布液66が通過できるバルブ開状態を示し、図2(b)は塗布液66の通過が遮断されるバルブ閉状態を示している。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a specific configuration of the suck back valve 120. 2A shows a valve open state in which the coating liquid 66 can pass, and FIG. 2B shows a valve closed state in which the passage of the coating liquid 66 is blocked.
図2(a)を見ると、サックバックバルブ120は、主としてボディA122、ボディB123、遮断バー124、ダイヤフラム126で構成されている。ボディA122の右側中央には塗布液66の入口134が、下側には塗布液66の出口136が設けられている。また内部には入口134と出口136を連通させる流路138がある。 As shown in FIG. 2A, the suck back valve 120 mainly includes a body A 122, a body B 123, a blocking bar 124, and a diaphragm 126. An inlet 134 for the application liquid 66 is provided at the center on the right side of the body A 122, and an outlet 136 for the application liquid 66 is provided at the lower side. In addition, there is a flow path 138 that allows the inlet 134 and the outlet 136 to communicate with each other.
したがって入口134を上流側として入口134から流入した塗布液66は流路138を経て、出口136からサックバックバルブ120外へ下流側へと出て行く。なお流路138は斜線で示す部分であり、ここに塗布液66がすべて充満する。 Accordingly, the coating liquid 66 that has flowed in from the inlet 134 with the inlet 134 as the upstream side passes through the flow path 138 and exits from the outlet 136 to the outside of the suck back valve 120 to the downstream side. In addition, the flow path 138 is a part shown with an oblique line, and all the coating liquids 66 are filled here.
流路138の途中には遮断部140があり、ここで遮断バー124の下側にある遮断凸面130とボディA122の内部に設けられた遮断凹面132の間に、図2(a)に示すように隙間があると、バルブ開の状態となって、入口134から流入した塗布液66は遮断部140を通過して出口136に向かう。 In the middle of the flow path 138, there is a blocking portion 140, between the blocking convex surface 130 below the blocking bar 124 and the blocking concave surface 132 provided inside the body A 122, as shown in FIG. If there is a gap, the valve is opened, and the coating liquid 66 that has flowed in from the inlet 134 passes through the blocking portion 140 toward the outlet 136.
図2(b)に示すように、遮断バー124を上方に移動し遮断凸面130と遮断凹面132を密着させると、遮断部140では塗布液66は通過せず、バルブ閉の状態となる。なお遮断凸面130、遮断凹面132ともに、円錐面となっている。遮断バー124は、上下方向のみに移動可能となるようにボディB123によって支持されており、図示されていないリニア駆動源に接続されている。 As shown in FIG. 2B, when the blocking bar 124 is moved upward to bring the blocking convex surface 130 and the blocking concave surface 132 into close contact with each other, the coating liquid 66 does not pass through the blocking portion 140 and the valve is closed. The blocking convex surface 130 and the blocking concave surface 132 are both conical surfaces. The blocking bar 124 is supported by the body B123 so as to be movable only in the vertical direction, and is connected to a linear drive source (not shown).
したがって図示されていない駆動源による遮断バー124の上下移動により、塗布液66の通過/遮断、すなわちバルブ開/バルブ閉が、随意に自動で行なえることになる。遮断バー124の上下方向中央部には薄い金属製の円板であるダイヤフラム126が取り付けられている。このダイヤフラム126の外周部は、中空円筒形状の押さえ板128によってボディB123に固定されている。 Therefore, the vertical movement of the blocking bar 124 by a drive source (not shown) allows the coating liquid 66 to pass / block, that is, to open / close the valve automatically. A diaphragm 126, which is a thin metal disk, is attached to the central portion of the blocking bar 124 in the vertical direction. The outer peripheral portion of the diaphragm 126 is fixed to the body B123 by a hollow cylindrical holding plate 128.
ダイヤフラム126は内部の流路138と外部を遮断するもので、ダイヤフラム126の外周部や、ダイヤフラム126が遮断バー124に取り付けられている部分を通じて、流路138内の塗布液66が外部に漏れ出すことがないように、十分シールされている。ボディA122とボディB123も締結固定されており、ダイヤフラム126の近くにある両者の接触面から塗布液66が外部に漏れ出さないようにしている。 The diaphragm 126 blocks the internal flow path 138 from the outside, and the coating liquid 66 in the flow path 138 leaks to the outside through the outer periphery of the diaphragm 126 and the portion where the diaphragm 126 is attached to the blocking bar 124. It is well sealed to prevent it from happening. The body A 122 and the body B 123 are also fastened and fixed so that the coating liquid 66 does not leak to the outside from the contact surfaces of both of them near the diaphragm 126.
上記したようにダイヤフラム126は薄い金属板なので、容易に弾性変形し、図2(a)のバルブ開時には下側に凸である形状が、遮断バー124を上側に移動させた図2(b)のバルブ閉時には、上側に凸である形状となる。このようなダイヤフラム126の変形によって流路138内の容積が変化するので、ダイヤフラム126はポンプ作用をもつことになる。 As described above, since the diaphragm 126 is a thin metal plate, it is easily elastically deformed, and when the valve in FIG. 2 (a) is opened, the shape that is convex downward moves the blocking bar 124 upward in FIG. 2 (b). When the valve is closed, the shape is convex upward. Since the volume in the flow path 138 changes due to the deformation of the diaphragm 126, the diaphragm 126 has a pumping action.
すなわち、図2(a)のバルブ開の状態から図2(b)のバルブ閉の状態に移る時、流路138の容積が大きくなるので、入口134を閉止していれば、出口136から塗布液66を吸引する、すなわちサックバックバルブ120の下流側にある塗布液66を上流側に引き戻す。 That is, since the volume of the flow path 138 increases when the valve is opened in FIG. 2 (a) to the valve closed state in FIG. 2 (b), if the inlet 134 is closed, the coating can be applied from the outlet 136. The liquid 66 is sucked, that is, the coating liquid 66 on the downstream side of the suck back valve 120 is pulled back to the upstream side.
図2(b)のバルブ閉の状態から図2(a)のバルブ開の状態に移る時、流路138の容積が小さくなるので、入口134を閉止していれば、出口136から塗布液66を吐出する。すなわちサックバックバルブ120の内部にある塗布液66を、出口136から下流側に押し出す。 When the valve closed state in FIG. 2B is changed to the valve open state in FIG. 2A, the volume of the flow path 138 becomes small. Therefore, if the inlet 134 is closed, the coating liquid 66 is discharged from the outlet 136. Is discharged. That is, the coating liquid 66 in the suck back valve 120 is pushed out from the outlet 136 to the downstream side.
以上、サックバックバルブ120はその構成により、バルブ閉時に、下流側から塗布液66を引き戻す機能、すなわちサックバック機能のあるバルブといえる。塗布液66を引き戻す塗布液量、すなわちサックバック量は、バルブ開閉時のダイヤフラム126の変形量によって定まり、遮断バー124の上下方向移動量によって一義的に定めることができる。 As described above, the suck back valve 120 can be said to have a function of drawing back the coating liquid 66 from the downstream side when the valve is closed, that is, a valve having a suck back function. The amount of the application liquid that pulls back the application liquid 66, that is, the amount of suck back, is determined by the amount of deformation of the diaphragm 126 when the valve is opened and closed, and can be uniquely determined by the amount of vertical movement of the blocking bar 124.
図2(a)では、遮断バー124の上端142が、上限位置に来た時を一点鎖線で示し、現在位置と上限位置までの長さを移動量Sで示している。上端142の上限位置は、遮断凸面130と遮断凹面132が接触してバルブ閉になる時であり、固定位置であるので、移動量Sによってサックバック量Qsを一義的に定めることができる。 In FIG. 2A, when the upper end 142 of the blocking bar 124 reaches the upper limit position, it is indicated by a one-dot chain line, and the length to the current position and the upper limit position is indicated by a movement amount S. The upper limit position of the upper end 142 is when the blocking convex surface 130 and the blocking concave surface 132 come into contact with each other and the valve is closed, and is a fixed position. Therefore, the suck back amount Qs can be uniquely determined by the movement amount S.
バルブ開時に下流側に塗布液66を過剰に押出す押出量については、移動量Sを定めればサックバック量Qsと全く同じになり、それぞれ独立して個別に設定することはできない。 The amount of extrusion that excessively pushes the coating liquid 66 downstream when the valve is opened is exactly the same as the suckback amount Qs if the movement amount S is determined, and cannot be set individually independently.
なお遮断バー124の上端142の上限位置が定まっているので、移動量Sの調整は、遮断バー124の下側への移動停止位置を変えることによって行なう。これは遮断部140の遮断凸面130と遮断凹面132の間隔を調整することと同義となる。 Since the upper limit position of the upper end 142 of the blocking bar 124 is fixed, the movement amount S is adjusted by changing the position where the blocking bar 124 moves downward. This is synonymous with adjusting the distance between the blocking convex surface 130 and the blocking concave surface 132 of the blocking portion 140.
再び図1に戻ると、制御信号にて動作するリニアモータ、モータ72、塗布液供給装置40、拭き取りユニット90等はすべて制御装置110に電気的に接続されている。そして、制御装置110に組み込まれた自動運転プログラムにしたがって制御指令信号が各機器に送信されて、あらかじめ定められた動作を行う。なお条件変更時は操作盤112に適宜変更パラメータを入力すれば、それが制御装置110に伝達されて、運転動作の変更が実現できる。 Returning to FIG. 1 again, the linear motor, the motor 72, the coating liquid supply device 40, the wiping unit 90, and the like that are operated by the control signal are all electrically connected to the control device 110. Then, a control command signal is transmitted to each device in accordance with an automatic operation program incorporated in the control device 110 to perform a predetermined operation. When changing the conditions, if a change parameter is appropriately input to the operation panel 112, it is transmitted to the control device 110, and the change of the driving operation can be realized.
次に本発明のスリットコータ1を用いて、製品2面分の2個の塗布膜を形成する間欠塗布方法について、図1と図3と図4を参照しながら詳しく説明する。ここで、図3は本発明に係る塗布方法での主要な動作部の動作状況を示す時間線図、図4は本発明に係る塗布方法での主要な動作部の動作状況を図3に対応して模式的に示した模式図である。 Next, an intermittent coating method for forming two coating films for two product surfaces using the slit coater 1 of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1, 3 and 4. FIG. Here, FIG. 3 is a time line diagram showing the operation status of the main operation unit in the coating method according to the present invention, and FIG. 4 corresponds to FIG. 3 the operation status of the main operation unit in the coating method according to the present invention. It is the schematic diagram typically shown.
図4では、基板Aと、スリットノズル20と、スリットノズル20に塗布液66を供給する塗布液供給装置のうち供給ホース60、供給バルブ42、サックバックバルブ120、シリンジポンプ50、吸引バルブ44、吸引ホース62、タンク64、が模式的に示されている。 In FIG. 4, the supply hose 60, the supply valve 42, the suck back valve 120, the syringe pump 50, the suction valve 44, among the substrate A, the slit nozzle 20, and the coating liquid supply device that supplies the coating liquid 66 to the slit nozzle 20. A suction hose 62 and a tank 64 are schematically shown.
図1を見て、まず塗布前の準備作業として、スリットコータ1の各動作部の原点復帰が行われると、門型ガントリー10はスリットノズル20の吐出口34が左側にある拭き取りヘッド92の上方となる原点位置に来るように移動する。ここで、タンク64からスリットノズル20まで塗布液66はすでに充満されており、タンク64以降のスリットノズル20までの経路内の残留エアーを排出する作業も既に終了している。 As shown in FIG. 1, first, as a preparatory work before application, when the origin of each operation part of the slit coater 1 is returned, the portal gantry 10 is located above the wiping head 92 with the discharge port 34 of the slit nozzle 20 on the left side. Move to come to the origin position. Here, the coating liquid 66 is already filled from the tank 64 to the slit nozzle 20, and the work of discharging residual air in the path from the tank 64 to the slit nozzle 20 has already been completed.
この時の塗布液供給装置40の状態は、シリンジ52に塗布液66が充填、吸引バルブ44は閉、サックバックバルブ120と供給バルブ42は開、そしてピストン54は最下端の位置にあり、いつでも塗布液66をスリットノズル20に供給できるようになっている。なおサックバックバルブ120は、あらかじめ定めたサックバック量Qsとなるように、移動量Sが設定されている。 At this time, the coating liquid supply device 40 is in a state where the syringe 52 is filled with the coating liquid 66, the suction valve 44 is closed, the suck back valve 120 and the supply valve 42 are opened, and the piston 54 is at the lowermost position. The coating liquid 66 can be supplied to the slit nozzle 20. Note that the movement amount S of the suck back valve 120 is set so as to be a predetermined suck back amount Qs.
次に、載置台6の吸着面である上面8で図示しないリフトピンを上昇させ、図示しないローダから基板Aがリフトピン上部に載置される。次にリフトピンを下降させて基板Aを載置台6の上面8に載置し、同時に吸着保持する。そして図示しない高さセンサーによって、基板Aの表面CPの上面8からの高さHが測定される。 Next, lift pins (not shown) are raised on the upper surface 8 that is the suction surface of the mounting table 6, and the substrate A is placed on the lift pins from a loader (not shown). Next, the lift pins are lowered to place the substrate A on the upper surface 8 of the placing table 6 and simultaneously hold it by suction. The height H from the upper surface 8 of the surface CP of the substrate A is measured by a height sensor (not shown).
高さHは基板Aの厚さである。測定した基板Aの高さHを用い、基板Aの表面CPからあらかじめ与えたクリアランス量CL分離れた位置、すなわち上面8からの高さHn=H+CLの位置を塗布位置とする。そしてこの塗布位置にスリットノズル20の吐出口面36が移動できるように、上下昇降ユニット70のZ方向座標値を定めておく。 The height H is the thickness of the substrate A. Using the measured height H of the substrate A, a position separated from the surface CP of the substrate A by a clearance amount CL given in advance, that is, a position of height Hn = H + CL from the upper surface 8 is set as the application position. And the Z direction coordinate value of the up-and-down lift unit 70 is determined so that the discharge port surface 36 of the slit nozzle 20 can move to this application position.
これと並行して、塗布液供給装置40を稼働させて少量の塗布液66をスリットノズル20から吐出後、駆動ユニット98を駆動して、拭き取りヘッド92をスリットノズル20の長手方向端部にある摺動開始位置まで移動させ停止させる。 In parallel with this, the coating liquid supply device 40 is operated to discharge a small amount of the coating liquid 66 from the slit nozzle 20, and then the drive unit 98 is driven so that the wiping head 92 is at the longitudinal end of the slit nozzle 20. Move to the sliding start position and stop.
昇降シリンダー104を駆動して拭き取りヘッド92を上昇させてスリットノズル20の吐出口34とその周辺を拭き取りヘッド92に係合後、拭き取りヘッド92をスリットノズル20の長手方向に摺動させて、スリットノズル20の吐出口34付近をスリットノズル20の長手方向にわたって拭き取って、スリットノズル20の初期化を実施する。 The elevating cylinder 104 is driven to raise the wiping head 92 and engage the wiping head 92 with the discharge port 34 and its periphery of the slit nozzle 20, and then the wiping head 92 is slid in the longitudinal direction of the slit nozzle 20. The vicinity of the discharge port 34 of the nozzle 20 is wiped over the longitudinal direction of the slit nozzle 20 to initialize the slit nozzle 20.
スリットノズル20の初期化が完了したら、供給バルブ42を閉にし、それに続けて吸引バルブ44を開にする。昇降シリンダー104を逆側に駆動して、拭き取りヘッド92の下降完了後、拭き取りヘッド92を長手方向に最初の位置まで戻す。 When the initialization of the slit nozzle 20 is completed, the supply valve 42 is closed, and then the suction valve 44 is opened. The elevating cylinder 104 is driven to the opposite side, and after the wiping head 92 is lowered, the wiping head 92 is returned to the initial position in the longitudinal direction.
以上で塗布の準備作業は完了である。この時の状況が図3の時間t=t0の時の状況である。すなわち、スリットノズル20を搭載した門型ガントリー10は停止しており、スリットノズル20はX方向には原点である拭き取り位置に、Z方向には一番高い原点位置にある。またシリンジポンプ50は停止しており、吸引バルブ44は開、供給バルブ42は閉、サックバックバルブ120は開である。 This completes the preparation for coating. The situation at this time is the situation at time t = t0 in FIG. That is, the portal gantry 10 equipped with the slit nozzle 20 is stopped, and the slit nozzle 20 is at the wiping position which is the origin in the X direction and at the highest origin position in the Z direction. The syringe pump 50 is stopped, the suction valve 44 is opened, the supply valve 42 is closed, and the suck back valve 120 is opened.
図3に示されるスリットノズル20の基板Aに対する相対位置、各バルブの開閉状況、塗布液66の流れ状況を模式的に示したのが図4であり、図4(a)には、図3のt=t0の状況が示されている。 FIG. 4 schematically shows the relative position of the slit nozzle 20 shown in FIG. 3 with respect to the substrate A, the opening / closing status of each valve, and the flow status of the coating liquid 66. FIG. The situation at t = t0 is shown.
なお、図4では、「開」はバルブ開、「閉」はバルブ閉の状態を示す。またバルブ開の時には、対応するバルブを模式化した図を塗りつぶしている。また、タンク64〜シリンジポンプ50〜スリットノズル20をつなぐ線において、太線はシリンジポンプ50から供給する塗布液66やシリンジポンプ50へ吸引する塗布液66の及ぶ範囲を示す。また、矢印はシリンジポンプ50のピストン54の動作方向を示す。 In FIG. 4, “open” indicates a valve open state, and “closed” indicates a valve closed state. In addition, when the valve is opened, a diagram schematically showing the corresponding valve is filled. In the line connecting the tank 64 to the syringe pump 50 to the slit nozzle 20, the thick line indicates the range of the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 and the coating liquid 66 sucked into the syringe pump 50. An arrow indicates an operation direction of the piston 54 of the syringe pump 50.
次に、基板Aが載置台6の上面8に吸着保持されて静止しているのを確認してから、t=t1で門型ガントリー10(スリットノズル20)をX方向右側に向かって塗布速度VCにて駆動開始して、スリットノズル20を基板Aの第1塗布開始位置に移動開始させる。それとともに、載置台6に吸着保持されている基板Aの高さHを測定してあらかじめ定めた塗布位置へ、スリットノズル20をZ方向に下降開始させる。 Next, after confirming that the substrate A is attracted and held on the upper surface 8 of the mounting table 6 and is stationary, the coating speed of the portal gantry 10 (slit nozzle 20) toward the right in the X direction at t = t1. Driving is started at VC, and the slit nozzle 20 is started to move to the first application start position of the substrate A. At the same time, the height H of the substrate A sucked and held on the mounting table 6 is measured, and the slit nozzle 20 is started to descend in the Z direction to a predetermined application position.
これと同時にシリンジポンプ50も駆動開始し、塗布液66をタンク64側に戻す(図3のt=t1の状況が図4(b))。シリンジポンプ50の供給容量速度が供給容量速度VPに到達してから、t=t2のタイミングで吸引バルブ44を閉にして、シリンジポンプ50から供給される塗布液66がどこにも行けない閉塞状態を作り出す。すなわち、下流第1開閉バルブ(サックバックバルブ)120を開いたうえで、下流第2開閉バルブ(供給バルブ)42と上流開閉バルブ(吸引バルブ)44を閉じて間欠型定容量ポンプ(シリンジポンプ)50から塗布液66に圧力をかけている。これは塗布開始前工程と呼ぶ。 At the same time, the syringe pump 50 starts to drive, and the coating liquid 66 is returned to the tank 64 side (the situation at t = t1 in FIG. 3 is FIG. 4B). After the supply volume speed of the syringe pump 50 reaches the supply capacity speed VP, the suction valve 44 is closed at the timing t = t2, and the closed state in which the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 cannot go anywhere. produce. That is, after opening the downstream first open / close valve (suck back valve) 120, the downstream second open / close valve (supply valve) 42 and the upstream open / close valve (suction valve) 44 are closed, and the intermittent constant capacity pump (syringe pump). The pressure is applied from 50 to the coating liquid 66. This is called a pre-application process.
この時にはスリットノズル20はZ方向には塗布位置に達している。なおシリンジポンプ50の供給容量速度VPは、塗布膜のウェット厚さ×塗布膜の塗布幅×塗布速度で算出される(図3のt=t2の状況が図4(c))。 At this time, the slit nozzle 20 has reached the application position in the Z direction. The supply capacity speed VP of the syringe pump 50 is calculated by the wet thickness of the coating film × the coating width of the coating film × the coating speed (the situation at t = t2 in FIG. 3 is FIG. 4C).
t=t3でスリットノズル20の吐出口34が基板Aの第1塗布開始位置に達したら、供給バルブ42を開とし、閉塞時間ta=t3−t2の時間で供給ホース60に貯えられた余剰塗布液量Qeの余剰塗布液を、シリンジポンプ50から供給容量速度VPで供給される塗布液66に一瞬加えて、瞬時にスリットノズル20へ供給開始する。 When the discharge port 34 of the slit nozzle 20 reaches the first application start position of the substrate A at t = t3, the supply valve 42 is opened and the excess application stored in the supply hose 60 at the closing time ta = t3-t2. The surplus coating liquid of the liquid amount Qe is momentarily added to the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 at the supply capacity speed VP, and supply to the slit nozzle 20 is started instantaneously.
これによってスリットノズル20から塗布液66を瞬時に吐出開始し、吐出口面36と基板Aの表面CPとの間に液溜りであるビードBを一瞬で形成し、塗布開始する(図3のt=t3の状況が図4(d))。これを塗布工程と呼ぶ。 As a result, the application liquid 66 is instantaneously started to be discharged from the slit nozzle 20, and a bead B as a liquid pool is formed instantaneously between the discharge port surface 36 and the surface CP of the substrate A, and application is started (t in FIG. 3). = T3 is shown in FIG. 4 (d)). This is called a coating process.
基板A上に第1塗布膜C1を形成し、つづいてt=t4でスリットノズル20の吐出口34が基板Aの第1塗布終了位置に達したら、サックバックバルブ120を閉にするとともに、吸引バルブ44を開にする。これと同時にスリットノズル20をZ方向に待機位置に上昇開始させる。すなわち、塗布液66を上流側に引き込みながら下流第1開閉バルブ(サックバックバルブ)120を閉じた。これは塗布終了工程と呼ぶ。 When the first coating film C1 is formed on the substrate A, and the discharge port 34 of the slit nozzle 20 reaches the first coating end position of the substrate A at t = t4, the suck back valve 120 is closed and suction is performed. Valve 44 is opened. At the same time, the slit nozzle 20 starts to rise to the standby position in the Z direction. That is, the downstream first opening / closing valve (suck back valve) 120 was closed while drawing the coating liquid 66 upstream. This is called a coating end process.
吸引バルブ44を開にしたので、シリンジポンプ50から供給される塗布液66はタンク64の方に戻っていく。またサックバックバルブ120によってあらかじめ定めたサックバック量Qsの塗布液66が、スリットノズル20から引き戻されて、スリットノズル20への塗布液供給が瞬時に停止することによって、スリットノズル20からの塗布液66の吐出が瞬時に停止する。すなわち、上流開閉バルブ(吸引バルブ)44を開いて、間欠型定容量ポンプ(シリンジポンプ)50からタンク64へ塗布液66を戻す。 Since the suction valve 44 is opened, the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 returns to the tank 64. Further, the coating liquid 66 having a predetermined suck back amount Qs is drawn back from the slit nozzle 20 by the suck back valve 120, and the coating liquid supply to the slit nozzle 20 is instantaneously stopped, whereby the coating liquid from the slit nozzle 20 is stopped. 66 discharge stops instantaneously. That is, the upstream opening / closing valve (suction valve) 44 is opened, and the coating liquid 66 is returned from the intermittent constant capacity pump (syringe pump) 50 to the tank 64.
この塗布液66の吐出停止とスリットノズル20の上昇によってビードBが断ち切られて、一瞬で塗布が終了する(図3のt=t4の状況が図4(e))。 By stopping the discharge of the coating liquid 66 and raising the slit nozzle 20, the bead B is cut off, and the coating is completed in an instant (the situation at t = t4 in FIG. 3 is shown in FIG. 4E).
サックバックバルブ120が閉で、シリンジポンプ50から供給される塗布液66が吸引バルブ44を通過してタンク64に戻されている状況で、t=t5で供給バルブ42を閉にし、その後のt=t6でサックバックバルブ120を開にする。 In a situation where the suck back valve 120 is closed and the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 passes through the suction valve 44 and is returned to the tank 64, the supply valve 42 is closed at t = t5, and then t = T6, the suck back valve 120 is opened.
サックバックバルブ120を開にすることによって発生する押出量(=サックバック量Qs)は、上流側である吸引バルブ44の方に向かう(図3のt=t5の状況が図4(f)、図3のt=t6の状況が図4(g))。 The extrusion amount (= suckback amount Qs) generated by opening the suckback valve 120 is directed toward the suction valve 44 on the upstream side (the situation at t = t5 in FIG. 3 is FIG. 4 (f), The situation at t = t6 in FIG. 3 is shown in FIG.
t=t7のタイミングで吸引バルブ44を閉にして、シリンジポンプ50から供給される塗布液66がどこにも行けない閉塞状態を作り出す。同時にスリットノズル20をZ方向に塗布位置へ下降開始させる。なおスリットノズル20の下降開始はt=t6で行なってもよい(図3のt=t7の状況が図4(h))。 The suction valve 44 is closed at the timing t = t7 to create a closed state where the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 cannot go anywhere. At the same time, the slit nozzle 20 is started to descend to the application position in the Z direction. The lowering of the slit nozzle 20 may be started at t = t6 (the situation at t = t7 in FIG. 3 is FIG. 4 (h)).
t=t8でスリットノズル20の吐出口34が基板Aの第2塗布開始位置に達したら、供給バルブ42を開とする。そしてta=t8−t7の閉塞時間で供給ホース60に貯えられた余剰塗布液量Qeの余剰塗布液66を、シリンジポンプ50から供給容量速度VPで供給される塗布液66に一瞬加えてスリットノズル20から吐出し、吐出口面36と基板Aの表面CPとの間に液溜りであるビードBを一瞬で形成し、塗布を開始する(図3のt=t8の状況が図4(i))。 When the discharge port 34 of the slit nozzle 20 reaches the second application start position of the substrate A at t = t8, the supply valve 42 is opened. Then, the surplus coating liquid 66 of the surplus coating liquid amount Qe stored in the supply hose 60 in the closing time of ta = t8−t7 is momentarily added to the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 at the supply capacity speed VP to form a slit nozzle. 20, a bead B as a liquid reservoir is formed instantaneously between the discharge port surface 36 and the surface CP of the substrate A, and application is started (the situation at t = t8 in FIG. 3 is shown in FIG. 4 (i)). ).
基板A上に第2塗布膜C2を形成し、つづいてt=t9でスリットノズル20の吐出口34が基板Aの第2塗布終了位置に達したら、サックバックバルブ120を閉にするとともに、吸引バルブ44を開にし、これと同時にスリットノズル20をZ方向に待機位置に上昇開始させる。 When the second coating film C2 is formed on the substrate A, and the discharge port 34 of the slit nozzle 20 reaches the second coating end position of the substrate A at t = t9, the suck back valve 120 is closed and suction is performed. The valve 44 is opened, and at the same time, the slit nozzle 20 starts to rise to the standby position in the Z direction.
吸引バルブ44を開にしたので、シリンジポンプ50から供給される塗布液66はタンク64の方に戻っていく。またサックバックバルブ120によってあらかじめ定めたサックバック量Qsの塗布液66がスリットノズル20から引き戻されてスリットノズル20からの塗布液66の吐出が瞬時に停止するとともに、スリットノズル20の上昇によってビードBが断ち切られて、一瞬で塗布が終了する(図3のt=t9の状況、図4(j))。 Since the suction valve 44 is opened, the coating liquid 66 supplied from the syringe pump 50 returns to the tank 64. The sucking back valve 120 pulls back the coating liquid 66 having a predetermined sucking amount Qs from the slit nozzle 20 to stop the discharge of the coating liquid 66 from the slit nozzle 20 instantaneously. Is cut off, and the application is completed in an instant (the situation at t = t9 in FIG. 3, FIG. 4 (j)).
塗布終了後も門型ガントリー10は動きつづけ、スリットノズル20と門型ガントリー10はX方向には終点位置に向かう。その間にt=t10でシリンジポンプ50を停止開始させるとともに、供給バルブ42を閉にする。その後のt=t11でサックバックバルブ120を開にする(図3のt=t10の状況が図4(k))。 The portal gantry 10 continues to move even after the application is completed, and the slit nozzle 20 and the portal gantry 10 move toward the end point in the X direction. Meanwhile, at t = t10, the syringe pump 50 is stopped and the supply valve 42 is closed. Thereafter, the suck-back valve 120 is opened at t = t11 (the situation at t = t10 in FIG. 3 is FIG. 4 (k)).
t=t12でスリットノズル20がX方向に終点位置へ到達したら、門型ガントリー10を停止させ、スリットノズル20を原点位置までZ方向に上昇開始させるとともに、シリンジポンプ50を逆側に充填速度で駆動開始して、必要量の塗布液66をタンク64から吸引して充填する。 When the slit nozzle 20 reaches the end point position in the X direction at t = t12, the portal gantry 10 is stopped, the slit nozzle 20 starts to rise in the Z direction to the origin position, and the syringe pump 50 is moved to the opposite side at the filling speed. The driving is started, and a required amount of coating liquid 66 is sucked from the tank 64 and filled.
これと同時に、載置台6による基板Aの吸着を解除し、図示されていないリフトピンを上昇させて基板Aを持ち上げ、図示されないアンローダによって基板Aを次の工程に搬出する。そして図示しないローダから次の基板Aがリフトピン上部に載置されてから、リフトピンを下降させて次の基板Aを載置台6の上面8に載置し、同時に吸着保持する。 At the same time, the adsorption of the substrate A by the mounting table 6 is released, lift pins (not shown) are raised to lift the substrate A, and the substrate A is carried out to the next step by an unloader (not shown). Then, after the next substrate A is placed on the upper part of the lift pin from a loader (not shown), the lift pin is lowered to place the next substrate A on the upper surface 8 of the placing table 6 and simultaneously sucked and held.
そして図示しない高さセンサーによって、次の基板Aの表面CPの上面8からの高さHを測定し、塗布位置を決定する。(図3のt=t12の状況が図4(l))。 Then, the height H from the upper surface 8 of the surface CP of the next substrate A is measured by a height sensor (not shown) to determine the application position. (The situation at t = t12 in FIG. 3 is FIG. 4 (l)).
シリンジポンプ50の塗布液66の充填が完了したら、吸引バルブ44を閉としてから、供給バルブ42を開にする。門型ガントリー10は逆方向に復帰速度で駆動して、スリットノズル20をその吐出口34が拭き取りヘッド92の上方となる原点位置に来るまで移動する。移動が完了したら、塗布液供給装置40を稼働させて少量の塗布液66をスリットノズル20から吐出後、t=t13で準備作業と同じ手順でスリットノズル20の初期化を行なう(図3のt=t13の状況が図4(m))。 When the filling of the application liquid 66 of the syringe pump 50 is completed, the suction valve 44 is closed, and then the supply valve 42 is opened. The portal gantry 10 is driven in the reverse direction at a return speed, and moves the slit nozzle 20 until the discharge port 34 reaches the origin position above the wiping head 92. When the movement is completed, the coating liquid supply device 40 is operated to discharge a small amount of the coating liquid 66 from the slit nozzle 20, and then the slit nozzle 20 is initialized in the same procedure as the preparation operation at t = t13 (t in FIG. 3). = Situation of t13 is FIG. 4 (m)).
スリットノズル20の初期化が完了したら、供給バルブ42を閉にし、それに続けて吸引バルブ44を開にした後のt=t14で、そのまま待機する(図3のt=t14の状況が図4(n))。 When the initialization of the slit nozzle 20 is completed, the supply valve 42 is closed, and then the suction valve 44 is opened, and then waiting at t = t14 (the situation at t = t14 in FIG. n)).
t=14でt=t0と同じ状況となるので、以降t=t0からの手順を繰り返す。 Since t = 14 and the same situation as t = t0, the procedure from t = t0 is repeated thereafter.
以上の塗布方法は、間欠型定容量ポンプでのみ実施できる塗布方法であり、それにより膜厚むらが小さな非常に高精度の塗布膜を、間欠的に連続して形成することが可能となる。さらに非塗布時には塗布液66をタンク64の方に下流側から戻しているので、塗布液66の空気接触による劣化や時間履歴の異なる塗布液66が混じることによる品質低下がなく、高品質の塗布膜形成も可能となる。 The above coating method is a coating method that can be carried out only with an intermittent constant-capacity pump, whereby it is possible to intermittently and continuously form a highly accurate coating film with small film thickness unevenness. Furthermore, since the coating liquid 66 is returned to the tank 64 from the downstream side when not applied, there is no deterioration due to air contact of the coating liquid 66 or quality deterioration due to mixing of the coating liquids 66 having different time histories, and high quality application. Film formation is also possible.
また各塗布開始位置では、余剰塗布液量Qeに直結する閉塞時間taの調整で、スリットノズル20への塗布液供給開始を瞬時に行なうことができる。一方各塗布終了位置では、サックバックバルブ120のサックバック量Qsの調整で、スリットノズル20への塗布液供給停止を瞬時に行なうことができる。以上によって間欠塗布における各塗布開始部と終了部の膜厚不良領域を極小にすることができる。 Further, at each application start position, the application liquid supply to the slit nozzle 20 can be started instantaneously by adjusting the closing time ta that is directly connected to the excess application liquid amount Qe. On the other hand, at each application end position, the application liquid supply to the slit nozzle 20 can be stopped instantaneously by adjusting the suck back amount Qs of the suck back valve 120. As described above, it is possible to minimize a film thickness defect region at each application start and end in intermittent application.
なお以上の塗布方法は、スリットノズル20をX方向に基板Aに対して一定速度で相対移動しながら、スリットノズル20から塗布液66を間欠的に吐出して2個の塗布膜を形成する場合を示したが、塗布膜の形成個数には制限はない。 In the above coating method, two coating films are formed by intermittently ejecting the coating liquid 66 from the slit nozzle 20 while moving the slit nozzle 20 relative to the substrate A in the X direction at a constant speed. However, the number of coating films formed is not limited.
例えばn個の塗布膜を形成する場合は、上記の塗布方法の第1塗布終了位置から第2塗布開始位置にかけて行なっている手順を、n個の塗布膜のi番目の塗布膜形成終了と次のi+1番目の塗布膜形成開始に適用すればよい。なお1〜n番目の塗布膜形成の間には、拭き取りユニット90によるスリットノズル20の拭き取り、すなわちスリットノズル20の初期化は行なわない。 For example, when n coating films are formed, the procedure performed from the first coating end position to the second coating start position in the above coating method is followed by the completion of the formation of the i-th coating film of the n coating films. This may be applied to the start of forming the i + 1th coating film. Note that, during the formation of the first to nth coating films, the wiping unit 90 does not wipe the slit nozzle 20, that is, the slit nozzle 20 is not initialized.
また上記の塗布方法では、塗布終了時にスリットノズル20をZ方向に上昇させたが、スリットノズル20を上昇させず、塗布位置のままにしてもよい。 In the above application method, the slit nozzle 20 is raised in the Z direction at the end of application. However, the slit nozzle 20 may not be raised and may remain in the application position.
さらにスリットノズル20の間欠塗布開始前の初期化は、拭き取りヘッド92による拭き取りで行なったが、ロールやプレートに予備塗布をすることで行ってもよい。 Further, the initialization of the slit nozzle 20 before the start of intermittent application is performed by wiping with the wiping head 92, but may be performed by preliminarily applying to a roll or a plate.
上記の塗布方法でサックバック量Qsについては、塗布した塗布膜の終了部の不良膜厚領域の長さによって微細に調整することが好ましい。不良膜厚領域が長いときには、サックバック量Qsを増加させる。一方サックバックによって空気等をスリットノズル20の吐出口34から吸い込む場合は、サックバック量Qsを少なくする。 It is preferable to finely adjust the suck back amount Qs by the coating method according to the length of the defective film thickness region at the end of the applied coating film. When the defective film thickness region is long, the suck back amount Qs is increased. On the other hand, when sucking air or the like from the discharge port 34 of the slit nozzle 20 by suck back, the suck back amount Qs is reduced.
なお本発明では、シリンジポンプ50の下流側に配置したサックバックバルブ120のさらに下流側に開閉バルブである供給バルブ42を配しているので、サックバックバルブ120の復帰動作である容量変化を伴うバルブ開を行なっても、供給バルブ42をバルブ閉にしてスリットノズル20への塗布液供給を遮断することで、影響を及ぼさないようにできている。 In the present invention, since the supply valve 42 which is an opening / closing valve is arranged further downstream of the suck back valve 120 arranged on the downstream side of the syringe pump 50, there is a capacity change which is a return operation of the suck back valve 120. Even if the valve is opened, the supply valve 42 is closed and the supply of the coating liquid to the slit nozzle 20 is shut off, so that the influence is not exerted.
このようにサックバックバルブ120の復帰動作ができるということは、間欠的塗布液供給に必須となるサックバックバルブ120を繰り返して使えるこということであり、その結果、サックバックバルブ120を使用した塗布液供給装置40からスリットノズル20への間欠的な塗布液66の供給が、無限に繰り返し行なえる。 The fact that the suck back valve 120 can be restored in this way means that the suck back valve 120, which is essential for intermittent application liquid supply, can be used repeatedly. As a result, coating using the suck back valve 120 is possible. The intermittent supply of the coating liquid 66 from the liquid supply device 40 to the slit nozzle 20 can be repeated indefinitely.
塗布終了時にサックバックバルブ120を閉とするタイミングと吸引バルブ44を開とするタイミングの関係であるが、同時に行なうか、吸引バルブ44を開とするよりもサックバックバルブ120を閉とするタイミングを遅らせる方が、シリンジポンプ50からサックバックバルブ120に向かう塗布液66が少なくなるので好ましい。 The timing of closing the suck back valve 120 at the end of application and the timing of opening the suction valve 44 are the same, or the timing of closing the suck back valve 120 rather than opening the suction valve 44 is the same. It is preferable to delay the coating liquid 66 because the coating liquid 66 directed from the syringe pump 50 toward the suck back valve 120 is reduced.
塗布開始部の膜厚不良領域の長さや膜厚プロファイルに影響する閉塞時間taであるが、塗布開始部形成に直接影響する余剰塗布液量Qeからおおよそ定めるのが好ましい。 Although it is the closing time ta that affects the length of the film thickness failure region and the film thickness profile at the coating start portion, it is preferable to roughly determine from the surplus coating liquid amount Qe that directly affects the formation of the coating start portion.
すなわち閉塞時間ta(s)=余剰塗布液の容量Qe(μl)/供給容量速度VP(μl/s)で求める。 That is, the blocking time ta (s) = the volume Qe (μl) of the surplus coating solution / the supply volume speed VP (μl / s).
上記の式で括弧内は単位を示している。より精密にするには、塗布した塗布膜の開始部の不良膜厚領域の長さや膜厚プロファイルによって微細に調整することが好ましい。すなわち開始部が基準膜厚よりも厚くなっている場合は閉塞時間taを短くし、基準膜厚よりも小さくなっている場合は閉塞時間taを長くして、調整することが好ましい。 In the above formula, the units in parentheses indicate units. In order to make it more precise, it is preferable to make fine adjustments according to the length of the defective film thickness region or the film thickness profile at the start of the applied coating film. That is, it is preferable that the closing time ta is shortened when the starting portion is thicker than the reference film thickness, and the closing time ta is lengthened when the starting portion is smaller than the reference film thickness.
ただし、第1塗布終了位置と第2塗布開始位置の関係によって、閉塞時間taに制約があって、所望の余剰塗布液量Qeが得られない時は、閉塞時間taの間にわたってシリンジポンプ50の供給容量速度を供給容量速度VPから変化させてもよい。そのようなシリンジポンプ50の供給容量速度の時間プロファイルの一例を図5に示す。 However, depending on the relationship between the first application end position and the second application start position, there is a restriction on the closing time ta, and when the desired surplus coating liquid amount Qe cannot be obtained, the syringe pump 50 can be used during the closing time ta. The supply capacity speed may be changed from the supply capacity speed VP. An example of the time profile of the supply capacity speed of the syringe pump 50 is shown in FIG.
図5の横軸である時間は、図3とあわせており、図3のシリンジポンプ50の供給容量速度の時間プロファイルを図5のそれに置き換えてもよい。これによって、図5のt7<t<t8の間でシリンジポンプ50の供給容量速度をVPからより大きなVPEにして、余剰塗布液量Qeが大きくできるようにし、第2塗布開始位置での膜厚不足の改善に効果がえられる。 The time on the horizontal axis in FIG. 5 is combined with that in FIG. 3, and the time profile of the supply capacity speed of the syringe pump 50 in FIG. 3 may be replaced with that in FIG. Accordingly, the supply volume rate of the syringe pump 50 is changed from VP to a larger VPE between t7 <t <t8 in FIG. 5 so that the excess coating liquid amount Qe can be increased, and the film thickness at the second coating start position is increased. It is effective in improving the shortage.
なお以上提示した塗布方法では、第1塗布膜形成開始時も、第2塗布膜形成以降と同じようにスリットノズル20を基板Aに対してX方向に一定速度で相対移動させながら塗布開始したが、スリットノズル20を基板Aの第1塗布開始位置で一旦静止させてから、塗布開始してもよい。 In the coating method presented above, at the start of the first coating film formation, the coating was started while moving the slit nozzle 20 relative to the substrate A at a constant speed in the X direction in the same manner as after the second coating film formation. The slit nozzle 20 may be temporarily stopped at the first application start position of the substrate A and then the application may be started.
また基板Aを静止させ、スリットノズル20を移動させて塗布を行ったが、スリットノズル20を静止させ、基板Aを吸着保持する載置台6を移動させて間欠塗布を行ってもよい。 In addition, the substrate A is stopped and the slit nozzle 20 is moved for application, but the slit nozzle 20 may be stopped and the mounting table 6 for holding the substrate A by suction may be moved for intermittent application.
また面状の塗布膜を形成できるスリットノズル20を、ストライプ状の塗布膜を形成できるストライプノズルに置き換えても、全く同じ塗布方法が適用でき、同様に不良膜厚領域を極小にすることができる。 Even if the slit nozzle 20 that can form a planar coating film is replaced with a stripe nozzle that can form a striped coating film, the same coating method can be applied, and the defective film thickness region can be minimized as well. .
さらに上記実施態様例では間欠型の定容量ポンプとしてシリンジポンプ50を使用したが、定容量の塗布液66の供給と吸引が行われるのならこれに限定されることはなく、ベロフラム型ポンプ(商品名CTポンプ)、ダイヤフラムポンプ等が好適に用いることができる。 Furthermore, in the above embodiment, the syringe pump 50 is used as an intermittent constant volume pump. However, the present invention is not limited to this as long as the constant volume coating liquid 66 is supplied and suctioned. Nominal CT pump), diaphragm pump, and the like can be suitably used.
以上説明した本発明が適用できる塗布液66としては粘度が1〜100000mPaSであり、ニュートニアンであることが塗布性から好ましいが、チキソ性を有する塗布液66にも適用できる。 The coating liquid 66 to which the present invention described above can be applied has a viscosity of 1 to 100,000 mPaS and is preferably a Newtonian from the viewpoint of coating properties, but can also be applied to the coating liquid 66 having thixotropy.
具体的に適用できる塗布液66の例としては、カラーフィルター用のブラックマトリックス、RGB色画素形成用塗布液、レジスト液、オーバーコート材、柱形成材料、TFTアレイ基板用のポジレジスト等の低粘度薄膜塗布用のペースト、有機EL用のホール注入層形成用ペースト、画素形成用ペースト、PDP背面板用の隔壁用ペースト、誘電体ペースト、電極ペーストの高粘度薄膜塗布用のペースト、等がある。 Specific examples of the coating solution 66 that can be applied include low viscosity such as a black matrix for color filters, a coating solution for forming RGB color pixels, a resist solution, an overcoat material, a column forming material, and a positive resist for a TFT array substrate. There are paste for thin film coating, hole injection layer forming paste for organic EL, pixel forming paste, partition wall paste for PDP back plate, dielectric paste, paste for high viscosity thin film coating of electrode paste, and the like.
基板Aである被塗布部材としてはガラスの他にアルミ等の金属板、セラミック板、シリコンウェハー等を用いてもよい。さらに使用する塗布条件としては、塗布速度が1〜500mm/s、より好ましくは10〜300mm/s、スリットノズル20のスリット間隙は50〜1000μm、より好ましくは80〜200μm、塗布厚さはウェット状態で0.2〜100μm、より好ましくは1〜20μmである。 As a member to be coated which is the substrate A, a metal plate such as aluminum, a ceramic plate, a silicon wafer or the like may be used in addition to glass. Further, as application conditions to be used, the application speed is 1 to 500 mm / s, more preferably 10 to 300 mm / s, the slit gap of the slit nozzle 20 is 50 to 1000 μm, more preferably 80 to 200 μm, and the application thickness is wet. 0.2 to 100 μm, more preferably 1 to 20 μm.
以下実施例により本発明を具体的に説明する。 The present invention will be specifically described below with reference to examples.
250mm(幅方向)×550mm(塗布方向)で厚さ0.7mmの無アルカリガラス基板内に、210mm(幅方向)×250mm(塗布方向)の面領域を塗布方向に30mmの間隔をあけて2ヶ所設け、それぞれに厚さ2μmで幅が20μm、基板長手方向の長さ250mmのポリイミド膜がバンクとして、幅方向にピッチ100μmで2101本配置されている有機ELのパターン基板を用意した。 In a non-alkali glass substrate having a thickness of 250 mm (width direction) × 550 mm (application direction) and a thickness of 0.7 mm, a surface area of 210 mm (width direction) × 250 mm (application direction) is spaced apart by 30 mm in the application direction. An organic EL pattern substrate in which 2101 thick polyimide films each having a thickness of 20 μm and a length of 250 mm in the longitudinal direction of the substrate as a bank were arranged at a pitch of 100 μm was prepared.
なおそれぞれの面領域は、幅方向には基板中央にあり、塗布方向の基板端部からは10mm内側にある。すなわち基板幅方向(Y方向)の両側20mm、基板塗布方向の両側10mmと中央の30mmの領域が、ストライプ状のポリイミド膜のない非製品領域であった。さらにバンクとしてのポリイミド膜の間にはITO透明電極が陽極としてガラス基板上に0.1μm形成されていた。 Each surface region is in the center of the substrate in the width direction and is 10 mm inside from the end of the substrate in the coating direction. That is, a region of 20 mm on both sides in the substrate width direction (Y direction), 10 mm on both sides in the substrate application direction and 30 mm in the center was a non-product region without a striped polyimide film. Furthermore, between the polyimide films as the banks, an ITO transparent electrode was formed as an anode on the glass substrate with a thickness of 0.1 μm.
以上の面領域上に正孔注入輸送層を乾燥後の厚さで0.1μmだけ、間欠塗布にて形成した。正孔注入輸送層はポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸が混合されたものを主成分とするもので、固形分濃度が1%、粘度が5mPasであったので、ウェット厚さで10μmだけ間欠塗布にて塗布する必要があった。 A hole injecting and transporting layer having a thickness after drying of 0.1 μm was formed on the surface area by intermittent coating. The hole injecting and transporting layer is composed mainly of a mixture of polyethylene dioxythiophene and polystyrene sulfonic acid. The solid content concentration is 1% and the viscosity is 5 mPas. It was necessary to apply by.
塗布装置としては、図1に示すスリットコータ1を使用した。またスリットノズル20は、スリット28のY方向長さが210mm、スリット28の間隙(X方向長さ)は0.1mmで、210mm幅の塗布膜を形成できるものであった。また供給バルブ42、吸引バルブ44には、開閉切替による容量変化のないボールバルブを用い、サックバックバルブ120には、サックバック量Qsが1μlで調整できる図2に示す構造の市販品を用いた。 As a coating device, a slit coater 1 shown in FIG. 1 was used. The slit nozzle 20 had a slit 28 with a Y-direction length of 210 mm and a slit 28 with a gap (length in the X-direction) of 0.1 mm, and was capable of forming a coating film with a width of 210 mm. The supply valve 42 and the suction valve 44 are ball valves that do not change in capacity due to opening / closing switching, and the suck back valve 120 is a commercial product having a structure shown in FIG. 2 that can be adjusted with a suck back amount Qs of 1 μl. .
間欠塗布方法としては、図3に示す方法をそのまま使用した。この時の塗布速度VCは100mm/s、クリアランス量CLは80μm、シリンジポンプ50の供給容量速度VPは210μl/sであった。またサックバック量Qsは2μlになるようサックバックバルブ120を調整した。一方、余剰塗布液の容量Qeは4μlとなるように、閉塞時間ta(=t3−t2=t8−t7)を19msに調整した。 As the intermittent application method, the method shown in FIG. 3 was used as it was. At this time, the coating speed VC was 100 mm / s, the clearance CL was 80 μm, and the supply volume speed VP of the syringe pump 50 was 210 μl / s. Further, the suck back valve 120 was adjusted so that the suck back amount Qs was 2 μl. On the other hand, the closing time ta (= t3−t2 = t8−t7) was adjusted to 19 ms so that the volume Qe of the excess coating solution was 4 μl.
また塗布に関係する時間は、t0=0、t1=0.5s、t2=1.981s、t3=2.0s、t4=4.5s、t5=4.6s、t6=4.7s、t7=4.781s、t8=4.8s、t9=7.3s、t10=7.4s、t11=7.5s、t12=8.3s、であった。 The time related to coating is t0 = 0, t1 = 0.5s, t2 = 1.981s, t3 = 2.0s, t4 = 4.5s, t5 = 4.6s, t6 = 4.7s, t7 = It was 4.781s, t8 = 4.8s, t9 = 7.3s, t10 = 7.4s, t11 = 7.5s, t12 = 8.3s.
以上の条件で間欠塗布した基板は、30秒で65Paに到達する真空乾燥を60秒行ってから、120℃のホットプレートで10分間さらに乾燥した。 The substrate applied intermittently under the above conditions was vacuum dried to reach 65 Pa in 30 seconds for 60 seconds, and further dried for 10 minutes on a 120 ° C. hot plate.
乾燥後に膜厚を測定したところ、2個の塗布膜とも、塗布開始から3mmで0.1μm、塗布終了部での0.1μmにならない領域は4mmであった。塗布開始と終了部から4mmずつ除いた250mmの範囲、すなわちポリイミド膜のバンクが形成されている範囲で、膜厚むらは±5%以下となって非常に良好であった。 When the film thickness was measured after drying, in both of the two coating films, the area that was not 0.1 μm at 3 mm from the start of coating and 0.1 μm at the end of coating was 4 mm. In a range of 250 mm excluding 4 mm from the start and end of coating, that is, in a range where a polyimide film bank was formed, the film thickness unevenness was ± 5% or less, which was very good.
この後、以上の工程で形成したバンク間の正孔注入輸送層の上にR、G、Bの発光材をいずれも50nmだけストライプ状に塗布した。RGB発光材はいずれもポリフェニレンビニレン系高分子であり、R発光材は固形分濃度1%で粘度が2mPas、G発光材は固形分濃度0.5%で粘度が1.5mPas、B発光材は固形分濃度1%で粘度が5mPasであった。 Thereafter, R, G, and B light emitting materials were applied in a stripe shape of 50 nm on the hole injection / transport layer between the banks formed in the above steps. RGB light emitting materials are all polyphenylene vinylene polymers, R light emitting materials have a solid content concentration of 1% and a viscosity of 2 mPas, G light emitting materials have a solid content concentration of 0.5% and a viscosity of 1.5 mPas, and B light emitting materials are The viscosity was 5 mPas at a solid content concentration of 1%.
このストライプ状に塗布してから、30秒で65Paに到達する真空乾燥を60秒行ってから、120℃のホットプレートで12分間さらに乾燥した。 After applying this stripe shape, vacuum drying that reached 65 Pa in 30 seconds was performed for 60 seconds, and then further dried on a hot plate at 120 ° C. for 12 minutes.
そして最後に塗布したRGB発光材とバンクの上を覆うように陰電極を蒸着して有機EL素子を作成した。この有機EL素子をさらに後工程で所定の処理をして表示装置に形成したところ、RGBの色が基板全面にわたって均一に表示され、2面ともに品質的に申し分ないものであった。 And the negative electrode was vapor-deposited so that the RGB light-emitting material and the bank which were apply | coated last may be covered, and the organic EL element was created. When this organic EL element was further processed in a subsequent process and formed on a display device, RGB colors were displayed uniformly over the entire surface of the substrate, and both the two surfaces were satisfactory in quality.
本発明は、カラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、有機EL、プラズマディスプレイ等の基板上の面に、面状やストライプ状の複数の塗布膜を間欠的に安定して高精度に形成する各種ディスプレイ用部材の製造に利用可能である。 The present invention relates to various display members that form a plurality of planar and striped coating films on a surface of a substrate such as a color filter for a color liquid crystal display, an organic EL, and a plasma display intermittently and stably with high accuracy. It can be used for manufacturing.
1 スリットコータ
2 基台
4 ガイドレール
6 載置台
8 上面
10 門型ガントリー
12 ステー
14 軸受
16 走行部
20 スリットノズル(塗布器)
22 フロントリップ
24 リアリップ
26 マニホールド
28 スリット
32 シム
34 吐出口
36 吐出口面
38 斜面
40 塗布液供給装置
42 供給バルブ
44 吸引バルブ
46 フィルター
50 シリンジポンプ
52 シリンジ
54 ピストン
56 本体
60 供給ホース
62 吸引ホース
64 タンク
66 塗布液
68 圧空源
70 上下昇降ユニット
72 モータ
74 ガイド
76 ボールネジ
78 昇降台
80 吊り下げ保持台
90 拭き取りユニット
92 拭き取りヘッド
94 ブラケット
96 スライダー
98 駆動ユニット
100 トレイ
102 台
104 昇降シリンダー
110 制御装置
112 操作盤
120 サックバックバルブ
122 ボディA
123 ボディB
124 遮断バー
126 ダイヤフラム
128 押さえ板
130 遮断凸面
132 遮断凹面
134 入口
136 出口
138 流路
140 遮断部
142 上端
A 基板(被塗布部材)
B ビード
C1 第1塗布膜(液膜)
C2 第2塗布膜(液膜)
CL クリアランス量(クリアランス(すきま)の大きさ(長さの単位))
CP 基板Aの表面(塗布面)
H 高さ(基板Aの厚さ)
Hn 高さ(上面8から吐出口面36までの高さ)
Qe 余剰塗布液量
Qs サックバック量
RP 基板下面
S 移動量
t 時間
ta 閉塞時間
VC 塗布速度
VP 供給容量速度(シリンジポンプ50の)
VPE 供給容量速度(シリンジポンプ50の)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slit coater 2 Base 4 Guide rail 6 Mounting base 8 Upper surface 10 Gate type gantry 12 Stay 14 Bearing 16 Traveling part 20 Slit nozzle (applicator)
22 Front lip 24 Rear lip 26 Manifold 28 Slit 32 Shim 34 Discharge port 36 Discharge port surface 38 Slope 40 Coating liquid supply device 42 Supply valve 44 Suction valve 46 Filter 50 Syringe pump 52 Syringe 54 Piston 56 Main body
60 Supply hose 62 Suction hose 64 Tank 66 Coating liquid 68 Air pressure source 70 Vertical lift unit 72 Motor 74 Guide 76 Ball screw 78 Lift stand 80 Suspension holding stand 90 Wiping unit 92 Wiping head 94 Bracket 96 Slider 98 Drive unit 100 Tray 102 stand 104 Lifting cylinder 110 Control device 112 Operation panel 120 Suck back valve 122 Body A
123 Body B
124 Blocking bar 126 Diaphragm 128 Holding plate 130 Blocking convex surface 132 Blocking concave surface 134 Inlet 136 Outlet 138 Flow path 140 Blocking part 142 Upper end
A Substrate (Coating member)
B bead C1 first coating film (liquid film)
C2 Second coating film (liquid film)
CL clearance amount (clearance (clearance) size (unit of length))
CP substrate A surface (coating surface)
H Height (thickness of substrate A)
Hn height (height from the upper surface 8 to the discharge port surface 36)
Qe Excess coating liquid amount Qs Suckback amount RP Substrate bottom surface S Movement amount t Time ta Closure time VC Coating speed VP Supply capacity speed (of syringe pump 50)
VPE supply capacity speed (of syringe pump 50)
Claims (5)
前記被塗布部材を保持する載置台と、
前記塗布器に間欠的に塗布液を供給する塗布液供給手段と、
前記塗布器および前記載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段と
を含んで、前記被塗布部材上に複数の塗布膜を間欠的に形成する間欠塗布装置であって、
前記塗布液供給手段は、
前記塗布器に所定流量の前記塗布液を供給する間欠型定容量ポンプと、
前記塗布液を貯蔵する貯蔵タンクと、
前記間欠型定容量ポンプの上流側に配置され、前記間欠型定容量ポンプと前記貯蔵タンクとを連通する上流側配管と、
前記上流側配管に設けられた上流開閉バルブと、
前記間欠型定容量ポンプの下流側に配置され、前記間欠型定容量ポンプと前記塗布器とを連通する下流側配管と、
前記下流側配管に設けられた、下流第1開閉バルブと下流第2開閉バルブの2個の開閉バルブと、
を備えていることを特徴とする間欠塗布装置。 An applicator provided with a discharge port for discharging the coating liquid onto the coated member at the tip;
A mounting table for holding the coated member;
A coating liquid supply means for intermittently supplying the coating liquid to the applicator;
A moving means for relatively moving at least one of the applicator and the mounting table, and an intermittent coating apparatus that intermittently forms a plurality of coating films on the coated member,
The coating liquid supply means includes
An intermittent constant-capacity pump that supplies the coating liquid at a predetermined flow rate to the applicator;
A storage tank for storing the coating liquid;
An upstream pipe disposed on the upstream side of the intermittent constant capacity pump and communicating the intermittent constant capacity pump and the storage tank;
An upstream open / close valve provided in the upstream pipe;
A downstream pipe disposed on the downstream side of the intermittent constant capacity pump and communicating the intermittent constant capacity pump and the applicator;
Two on-off valves provided in the downstream pipe, a downstream first on-off valve and a downstream second on-off valve;
An intermittent coating apparatus characterized by comprising:
前記下流第1開閉バルブを開いたうえで、前記下流第2開閉バルブと前記上流開閉バルブを閉じて前記間欠型定容量ポンプから前記塗布液に圧力をかける塗布開始前工程と、
前記下流第2開閉バルブを開いて塗布を行う塗布工程と、
前記塗布液を上流側に引き込みながら前記下流第1開閉バルブを閉じる塗布終了工程を有することを特徴とする間欠塗布方法。 The pipe between the applicator provided with the discharge port and the storage tank for storing the coating liquid is provided with an application means having an upstream open / close valve, an intermittent constant capacity pump, a downstream first open / close valve, and a downstream second open / close valve from the upstream side. An intermittent coating method for intermittently forming a plurality of coating films on a member to be coated,
Opening the downstream first opening / closing valve, closing the second downstream opening / closing valve and the upstream opening / closing valve, and applying pressure from the intermittent constant capacity pump to the coating liquid;
An application step of applying by opening the downstream second on-off valve;
An intermittent coating method comprising: a coating end step of closing the downstream first open / close valve while drawing the coating liquid upstream.
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