KR101206246B1 - Substrate chucking plate and chucking/de-chucking method using it - Google Patents

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    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

본 발명은 기판을 척킹한 상태에서 증착 챔버 내부로 이송되어 증착 공정을 진행할 수 있고, 대면적화 되는 기판도 전체적으로 균일하게 흡착 및 점착하여 고정할 수 있으며, 기판 분리시에도 보다 용이하게 분리할 수 있도록 하여, 기판의 척킹 및 디척킹 성능 향상에 기여할 수 있는 기판 척킹 플레이트 및 이를 이용한 기판 척킹 디척킹 방법을 제공한다.The present invention can be transferred to the inside of the deposition chamber in the chucking state of the substrate to proceed with the deposition process, the large area of the substrate can be fixed and uniformly adsorbed and adhered as a whole, so that the separation can be more easily separated The present invention provides a substrate chucking plate and a substrate chucking dechucking method using the same, which can contribute to the chucking and dechucking performance of the substrate.

Description

기판 척킹 플레이트 및 이를 이용한 기판 척킹 디척킹 방법{Substrate chucking plate and chucking/de-chucking method using it}Substrate chucking plate and chucking / de-chucking method using it}

본 발명은 OLED 등을 제조하는데 사용되는 기판을 척킹(checking) 또는 디척킹(de-checking) 하는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for chucking or de-checking substrates used to make OLEDs and the like.

일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diode)는 유기EL이라고도 불리는데, 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 자체발광형 유기물질을 말한다.In general, OLED (Organic Light Emitting Diode), also called organic EL, refers to a self-luminous organic material that emits itself by using an electroluminescence phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound.

OLED를 활용해 TV나 휴대전화의 디스플레이를 만들거나 조명 기구를 생산할 때 필요한 장비가 OLED 증착 장비이다.OLED deposition equipment is needed to make display of TV or mobile phone using OLED and to produce lighting equipment.

OLED 증착 장비는 기판에 유기물질을 증착하여 박막을 형성하는데 사용되는 장비로서, OLED 생산을 위한 핵심 장비이다.OLED deposition equipment is used to form a thin film by depositing organic materials on a substrate, and is a key equipment for OLED production.

OLED 제조용 증착 장비는 주로 진공 열 증착장비(Thermal evaporation system)가 이용되는데, 일반적으로 증착 챔버의 상부에 기판이 도입되어 증착이 이루어지는 증착 공간부가 마련되고, 그 하부에 증착 물질을 공급하는 소스(source) 및 소스를 가열하는 가열 장치 등이 구비된다.As a deposition equipment for OLED manufacturing, a vacuum evaporation system is mainly used. In general, a deposition space portion where a substrate is introduced and deposited is provided on an upper portion of a deposition chamber, and a source for supplying a deposition material thereunder. And a heating device for heating the source.

이와 같은 진공 열 증착장비는 증착 공간부에 기판이 위치된 상태에서 소스에서 증발된 유기물(무기물도 가능)이 제공되어 기판에 유기물질을 증착할 수 있도록 구성되는 것이다.Such a vacuum thermal evaporation apparatus is configured to deposit organic materials on a substrate by providing organic matter (possibly inorganic) evaporated from a source in a state where a substrate is positioned in a deposition space.

특히 기판은 마스크와 합착된 상태에서 증착이 이루어지는데, 증착 챔버 내에 마스크가 세팅되어 있는 조건에서 기판만 투입하는 방식, 증착 챔버 외부에서 기판과 마스크를 합착하여 증착 챔버 내에 투입하는 방식 등이 있다.In particular, the substrate is deposited in a state in which the substrate is bonded to the mask, such as a method of injecting only the substrate under the condition that the mask is set in the deposition chamber, a method of bonding the substrate and the mask outside the deposition chamber to the deposition chamber.

어느 경우든 기판은 이를 지지하는 모듈에 세팅된 상태에서 증착 챔버 내에 투입되는 것이 일반적이다.In either case, the substrate is generally introduced into the deposition chamber with the module supporting it.

기판을 모듈에 세팅하는 방식은 여러 가지 방식이 있는데, 그 중 하나가 척킹 플레이트를 이용한 방식으로, 척킹 플레이트에 기판을 고정한 상태로 증착 챔버 내에 투입하고, 또한 증착 챔버에서 배출된 후에는 척킹 플레이트에서 기판을 분리하는 방식이다.There are several ways to set the substrate in the module, one of which uses the chucking plate, which is placed in the deposition chamber with the substrate fixed to the chucking plate, and also in the chucking plate after being discharged from the deposition chamber. The method is to separate the substrate.

이러한 척킹 플레이트를 이용하는 방식에서는 증착 공정 전에 기판을 척킹 플레이트에 척킹하고, 증착 공정이 완료된 후에는 기판을 분리하는 디척킹 기술이 공정 성능에 중요한 영향을 미치게 되므로, 보다 효율적인 척킹 및 디척킹을 실현할 수 있는 척킹 플레이트의 개발이 요구되고 있다.
In the method using the chucking plate, the dechucking technique of chucking the substrate to the chucking plate before the deposition process and separating the substrate after the deposition process is completed has a significant effect on the process performance, thereby achieving more efficient chucking and dechucking. The development of a chucking plate is required.

이상 설명한 배경기술의 내용은 이 건 출원의 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The contents of the background art described above are technical information that the inventor of the present application holds for the derivation of the present invention or acquired in the derivation process of the present invention and is a known technology disclosed to the general public prior to the filing of the present invention I can not.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판을 척킹한 상태에서 이송되어 공정을 진행할 수 있고, 특히 대면적화 되는 기판을 보다 균일하게 고정함과 아울러, 기판 분리시에도 용이하게 기판을 분리할 수 있도록 하여 기판 척킹 및 디척킹 성능 향상에 기여할 수 있는 기판 척킹 플레이트 및 이를 이용한 기판 척킹 디척킹 방법을 제공하는 데 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, and can be carried out in the state of chucking the substrate to proceed with the process, in particular, while fixing the substrate to be large area more uniformly, it is easy to remove the substrate at the time of substrate separation It is an object of the present invention to provide a substrate chucking plate and a substrate chucking dechucking method using the same, which can contribute to improve substrate chucking and dechucking performance.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 척킹 플레이트는, 상면에 일정 간격마다 배치되어 기판이 부착되어 고정되는 복수의 점착척과, 상하로 관통되어 기판을 흡착하기 위한 부압을 형성하는 복수의 석션홀이 구비되어, 상면에 기판이 고정된 상태에서 함께 이송될 수 있도록 구성된 것을 포함한 것을 특징으로 한다.Substrate chucking plate according to the present invention for realizing the above object is a plurality of adhesion chuck is disposed on the upper surface at regular intervals and the substrate is attached and fixed, and a plurality of suction to penetrate up and down to form a negative pressure for adsorbing the substrate The hole is provided, characterized in that configured to be transported together in a state where the substrate is fixed on the upper surface.

상기 척킹 플레이트는, 상기 점착척 및 석션홀이 구비되어 기판이 고정되는 척킹부와, 상기 척킹부의 둘레에 구비되는 외곽부로 이루어지고, 상기 외곽부는 강성을 보강하기 위해 보강판이 추가로 구비되는 것이 바람직하다.The chucking plate, the sticking chuck and the suction hole is provided with a chucking portion to which the substrate is fixed, and the outer portion provided around the chucking portion, the outer portion is preferably provided with a reinforcement plate to reinforce the rigidity Do.

상기 척킹 플레이트는 기판을 분리하는 디척킹 유닛이 위치되는 복수의 디척킹 홀이 구비되는 것이 바람직하다.Preferably, the chucking plate is provided with a plurality of dechucking holes in which a dechucking unit separating the substrate is located.

이때, 상기 각 점착척은 상기 디척킹 홀을 중심으로 배치되어 구성되는 것이 바람직하다.At this time, each of the adhesive chuck is preferably configured to be arranged around the dechucking hole.

상기 각 점착척은 상기 디척킹 홀의 둘레에서 척킹 플레이트의 상면에 설치되는 원형 링 또는 다각 링 형상의 베이스 플레이트와, 이 베이스 플레이트의 상면에 구비되어 기판이 부착되는 점착력을 제공하는 점착링을 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.Each adhesive chuck includes a circular ring or a polygonal ring-shaped base plate installed on an upper surface of the chucking plate around the dechucking hole, and an adhesive ring provided on the upper surface of the base plate to provide adhesion to the substrate. It is preferred to be configured.

상기 점착링은 상면에 일정 간격마다 점착 돌기들이 배치되게 구성되는 것이 바람직하다.The adhesive ring is preferably configured such that the adhesive projections are arranged at regular intervals on the upper surface.

상기 척킹 플레이트의 상면에는 상기 석션홀과 연결된 석션 그루브가 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that a suction groove connected to the suction hole is formed on an upper surface of the chucking plate.

이때, 상기 석션 그루브는 상기 각 점착척의 둘레를 통과하도록 구성되는 것이 바람직하다.At this time, the suction groove is preferably configured to pass through the circumference of each adhesive chuck.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 척킹 방법은, 베이스 프레임 위에 상기한 척킹 플레이트를 올린 다음 위치를 조정한 후에 베이스 프레임 위에 척킹 플레이트를 고정하는 플레이트 로딩단계와; 상기 플레이트 로딩단계 후에, 기판을 상기 척킹 플레이트의 상부에 올린 다음 위치를 조정한 후에 기판을 척킹 플레이트 위에 고정하는 기판 로딩단계와; 상기 기판 로딩단계 후에, 베이스 프레임에서 상기 척킹 플레이트를 고정 상태를 해제하여 척킹 플레이트에 기판이 고정된 세팅모듈을 공정 진행을 위한 챔버 내로 이송하는 세팅모듈 투입단계를 포함한 것을 특징으로 한다.Substrate chucking method according to the present invention for realizing the above object is a plate loading step of fixing the chucking plate on the base frame after adjusting the position after raising the chucking plate on the base frame; After the plate loading step, placing the substrate on top of the chucking plate and then adjusting the position to fix the substrate on the chucking plate; After the substrate loading step, the step of releasing the fixing state of the chucking plate in the base frame characterized in that it comprises a setting module input step of transferring the setting module fixed to the chucking plate into the chamber for the process progress.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 디척킹 방법은, 공정 진행을 위한 챔버로부터 상기한 척킹 플레이트에 기판이 고정된 세팅모듈을 배출하는 세팅모듈 배출단계와; 상기 세팅모듈 배출단계를 통해 배출된 세팅모듈을 베이스 프레임 위에 올린 다음 위치를 조정한 후에 베스 프레임 위에 세팅모듈을 고정하는 세팅모듈 로딩단계와; 상기 세팅모듈 로딩단계 후에, 상기 척킹 플레이트에 고정된 기판을 분리하는 기판 언로딩 단계와; 상기 기판 언로딩 단계 후에, 기판을 배출하는 기판 배출단계를 포함한 것을 특징으로 한다.
A substrate dechucking method according to the present invention for realizing the above object comprises: a setting module discharging step of discharging a setting module having a substrate fixed to the chucking plate from a chamber for processing; A setting module loading step of fixing the setting module on the base frame after raising the setting module discharged through the setting module discharge step on the base frame and then adjusting the position; A substrate unloading step of separating the substrate fixed to the chucking plate after the setting module loading step; After the substrate unloading step, characterized in that it comprises a substrate discharge step of discharging the substrate.

상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.
The main problem solving means of the present invention as described above, will be described in more detail and clearly through examples such as 'details for the implementation of the invention', or the accompanying 'drawings' to be described below, wherein In addition to the main problem solving means as described above, various problem solving means according to the present invention will be further presented and described.

본 발명에 따른 기판 척킹 플레이트 및 이를 이용한 기판 척킹 디척킹 방법은, 기판을 척킹한 상태에서 증착 챔버 내부로 이송되어 증착 공정을 진행할 수 있고, 특히 대면적화 되는 기판도 전체적으로 균일하게 흡착 및 점착하여 고정할 수 있고, 기판 분리시에도 보다 용이하게 분리할 수 있기 때문에 기판의 척킹 및 디척킹 성능 향상에 기여할 수 있는 효과를 제공한다.
The substrate chucking plate and the substrate chucking dechucking method using the same according to the present invention may be transported into the deposition chamber while the substrate is chucked to proceed with the deposition process, and in particular, a large area of the substrate is uniformly adsorbed and adhered and fixed. In addition, since the separation can be performed more easily at the time of separating the substrate, it provides an effect that can contribute to the improvement of the chucking and dechucking performance of the substrate.

도 1은 본 발명에 따른 기판 척킹 디척킹 장치의 일 실시예를 보여 평면도이다.
도 2는 도 1의 A-A선 방향의 단면 구성도이다.
도 3은 도 1의 B-B선 방향의 단면 구성도이다.
도 4는 본 발명에 따른 기판 척킹 장치의 일 실시예를 보여 평면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 기판 디척킹 장치의 일 실시예를 보여 평면도이다.
도 6은 본 발명에 이용되는 척킹 플레이트의 상면을 보여주는 사시도 및 주요부 확대도이다.
도 7은 본 발명에 이용되는 척킹 플레이트의 주요부 단면도이다.
도 8은 본 발명에 이용되는 척킹 플레이트의 저면을 보여주는 사시도이다.
도 9는 본 발명의 척킹 플레이트 구비되는 점착척의 구성을 보여주는 사시도이다.
도 10은 본 발명에 이용되는 디척킹 유닛의 일 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 11은 본 발명에 따른 기판 척킹 방법의 일 실시예를 보여주는 순서도이다.
도 12는 본 발명에 따른 기판 디척킹 방법의 일 실시예를 보여주는 순서도이다.
1 is a plan view showing an embodiment of a substrate chucking dechucking apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram in the AA line direction of FIG. 1.
3 is a cross-sectional configuration diagram in the BB line direction of FIG. 1.
Figure 4 is a plan view showing an embodiment of a substrate chucking apparatus according to the present invention.
5 is a plan view showing an embodiment of a substrate dechucking apparatus according to the present invention.
Figure 6 is a perspective view and an enlarged view of the main portion showing the upper surface of the chucking plate used in the present invention.
7 is a sectional view of an essential part of a chucking plate used in the present invention.
8 is a perspective view showing the bottom of the chucking plate used in the present invention.
Figure 9 is a perspective view showing the configuration of an adhesive chuck provided with a chucking plate of the present invention.
10 is a cross-sectional view showing an embodiment of a dechucking unit used in the present invention.
11 is a flow chart showing one embodiment of a substrate chucking method according to the present invention.
12 is a flow chart showing one embodiment of a substrate dechucking method according to the present invention.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3은 본 발명에 따른 기판 척킹 디척킹 장치의 일 실시예를 보여 평면도, 도 1의 A-A선, B-B선 방향의 단면 구성도이다.1 to 3 is a plan view showing an embodiment of a substrate chucking dechucking apparatus according to the present invention, a cross-sectional configuration of the A-A line, B-B line direction of FIG.

이들 도면에 예시된 바와 같이 기판(S)을 올려놓고 고정할 수 있는 척킹 플레이트(10)가 구비된다. 이러한 척킹 플레이트(10)는 아래 설명될 리프트 핀 유닛(60), 디척킹 유닛(70)을 구성하는 부품이 통과하는 다수의 홀이 구비됨과 아울러, 기판(S)을 고정하기 위한 점착척(110; 도 6 참조)이 구비된다.As illustrated in these figures, a chucking plate 10 capable of mounting and fixing the substrate S is provided. The chucking plate 10 is provided with a plurality of holes through which the components constituting the lift pin unit 60 and the dechucking unit 70 to be described below, and the adhesive chuck 110 for fixing the substrate S. 6).

척킹 플레이트(10)의 구체적인 구성에 대해서는 도 6 내지 도 9를 참조하여 아래에서 자세히 설명한다.A detailed configuration of the chucking plate 10 will be described below in detail with reference to FIGS. 6 to 9.

척킹 플레이트(10)는 베이스 프레임(20)의 상부에 지지되어 고정된다.The chucking plate 10 is supported on and fixed to the upper portion of the base frame 20.

베이스 프레임(20)은 척킹 플레이트(10)를 지지하면서 고정할 수 있는 구조이면 실시 조건에 따라 그 형상 및 구조를 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.If the base frame 20 is a structure that can be fixed while supporting the chucking plate 10 can be carried out by varying the shape and structure in accordance with the implementation conditions.

본 실시예의 참조 도면에서는 베이스 프레임(20)이 서로 이격된 두 개의 지지 블록(21)으로 이루어져 척킹 플레이트(10)의 양단부를 지지할 수 있는 구조를 예시하고 있다. 물론, 두 개의 지지 블록(21)은 그 하부에 설치된 지지 구조물 등에 의해 상호 고정된 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.In the reference figure of this embodiment, the base frame 20 is composed of two support blocks 21 spaced apart from each other illustrates a structure capable of supporting both ends of the chucking plate 10. Of course, the two support blocks 21 are preferably made of a structure fixed to each other by a support structure installed below.

베이스 프레임(20)의 상부에서 상기 척킹 플레이트(10)가 올려지는 부분에 척킹 플레이트(10)가 일정 범위 내에서 수평 이동이 가능하도록 지지하는 플로팅 유닛(25)이 구비된다.The floating unit 25 supporting the chucking plate 10 to be horizontally moved within a predetermined range is provided at a portion where the chucking plate 10 is placed above the base frame 20.

플로팅 유닛(25)은, 도 2와 도 3을 참조하면, 상부의 지지 플레이트(26)가 베어링 등에 지지된 상태에서 수평 방향으로 일정 정도 이동이 가능하고, 척킹 플레이트(10)의 위치 고정시에는 내부의 고정 실린더(미도시)가 작동하여 지지 플레이트(26)가 움직이지 않도록 하여 척킹 플레이트(10)의 위치가 고정될 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.Referring to FIGS. 2 and 3, the floating unit 25 is movable in a horizontal direction to a certain extent in a state where the upper support plate 26 is supported by a bearing or the like, and when the position of the chucking plate 10 is fixed. It is preferable that the fixing cylinder (not shown) inside operates so that the support plate 26 does not move so that the position of the chucking plate 10 can be fixed.

즉, 척킹 플레이트(10)가 플로팅 유닛(25)에 올려진 초기에는 척킹 플레이트(10)의 위치를 조정할 수 있도록 지지 플레이트(26)가 수평 방향으로 유동하지만, 척킹 플레이트(10)의 위치 조정 작업이 완료되면, 고정 실린더가 작동하여 더 이상 척킹 플레이트(10)가 움직이지 않도록 지지 플레이트(26)의 위치를 고정시킬 수 있도록 구성되는 것이다.That is, the support plate 26 flows in the horizontal direction so that the position of the chucking plate 10 can be adjusted in the initial stage when the chucking plate 10 is placed on the floating unit 25, but the position adjustment operation of the chucking plate 10 is performed. When this is completed, the fixing cylinder is configured to be able to fix the position of the support plate 26 so that the chucking plate 10 no longer moves.

이러한 플로팅 유닛(25)은 도 1에 예시된 바와 같이 베이스 프레임(20)의 상부에 모두 6개가 설치되어 구성될 수 있다.As illustrated in FIG. 1, six floating units 25 may be installed in the upper portion of the base frame 20.

또한, 베이스 프레임(20)의 상부에는 척킹 플레이트(10)를 고정할 수 있도록 고정 클램프(30)가 구비된다(도 1 참조).In addition, a fixing clamp 30 is provided on the upper portion of the base frame 20 to fix the chucking plate 10 (see FIG. 1).

고정 클램프(30)는 유압 또는 공압에 의해 작동하는 클램핑 암(31)이 직선 이동하면서 척킹 플레이트(10)의 상면을 눌러줌으로써 베이스 프레임(20) 위에 척킹 플레이트(10)를 고정할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.The fixed clamp 30 is configured to fix the chucking plate 10 on the base frame 20 by pressing the upper surface of the chucking plate 10 while the clamping arm 31 operated by hydraulic pressure or pneumatic is linearly moved. It is preferable.

또한, 베이스 프레임(20)에는 척킹 플레이트(10)와 척킹 플레이트 상부에 올려진 기판(S)의 위치를 조정하는 플레이트 얼라인 기구(40) 및 기판 얼라인 기구(50)가 구비된다.In addition, the base frame 20 is provided with a plate alignment mechanism 40 and a substrate alignment mechanism 50 for adjusting the positions of the chucking plate 10 and the substrate S placed on the chucking plate.

플레이트 얼라인 기구(40)는, 도 2를 참조하면, 베이스 프레임(20) 상에서 수평 방향으로 이동하는 이동체(41)와, 베이스 프레임(20) 상에 설치되어 이동체(41)를 이동시키는 직선 구동기구(43)와, 이동체(41)에 설치되어 척킹 플레이트(10)의 측면에 접촉 또는 밀착되면서 척킹 플레이트(10)를 이동시키는 얼라인 암(45)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the plate alignment mechanism 40 includes a movable body 41 moving horizontally on the base frame 20 and a linear drive provided on the base frame 20 to move the moving body 41. It may be configured to include an alignment arm 45, which is installed on the mechanism 43, the movable body 41 to move the chucking plate 10 while being in contact with or in close contact with the side of the chucking plate 10.

이때 직선 구동기구(43)는 공압 실린더 등의 공지의 리니어 구동기구를 이용하여 구성할 수 있다. At this time, the linear drive mechanism 43 can be configured using a known linear drive mechanism such as a pneumatic cylinder.

기판 얼라인 기구(50)는, 도 3을 참조하면, 상기 베이스 프레임(20) 상에서 수평 방향으로 이동하는 이동체(51)와, 상기 베이스 프레임(20) 상에 설치되어 상기 이동체(51)를 이동시키는 직선 구동기구(53)와, 상기 이동체(51) 쪽에 지지되어 상기 기판(S)의 측면에 접촉되면서 기판(S)을 이동시키는 얼라인 암(55)과, 상기 이동체(51)와 얼라인 암(55) 사이에 구비되어 얼라인 암(55)을 회전시키는 회전 구동기구(57)를 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 3, the substrate alignment mechanism 50 is provided with a movable body 51 moving in the horizontal direction on the base frame 20, and mounted on the base frame 20 to move the movable body 51. The linear drive mechanism 53, the alignment arm 55 which is supported by the movable body 51 and moves the substrate S while being in contact with the side surface of the substrate S, and the movable body 51 It may be configured to include a rotation drive mechanism 57 provided between the arms 55 to rotate the alignment arm 55.

이러한 기판 얼라인 기구(50)는 플레이트 얼라인 기구(40)와 기본적인 구성이 유사하게 구성될 수 있는데, 추가로 회전 구동기구(57)가 더 포함되는 것이다. 회전 구동기구(57)가 더 포함되는 이유는 기판(S)의 면적보다 더 큰 척킹 플레이트(10)가 베이스 프레임(20) 위에 올려질 때 간섭이 발생하지 않도록 하기 위해서이다.The substrate alignment mechanism 50 may have a basic configuration similar to that of the plate alignment mechanism 40, and further includes a rotation driving mechanism 57. The rotation drive mechanism 57 is further included in order to prevent interference from occurring when the chucking plate 10 larger than the area of the substrate S is placed on the base frame 20.

다음, 베이스 프레임(20)을 구성하는 양쪽 지지 블록(21) 사이에는 기판(S)을 척킹 플레이트(10) 위에 고정(또는 밀착)하고, 분리하기 위한 여러 장치들이 구비되는데, 이에 대하여 설명한다.Next, various devices are provided between the supporting blocks 21 constituting the base frame 20 to fix (or close) the substrate S onto the chucking plate 10 and to separate the substrate S, which will be described.

베이스 프레임(20)에는 척킹 플레이트(10)로부터 기판(S)을 올리고 내리는 리프트 핀 유닛(60)이 구비된다.The base frame 20 is provided with a lift pin unit 60 for raising and lowering the substrate S from the chucking plate 10.

리프트 핀 유닛(60)은 상하 이동 가능하게 구성되는데, 도면에서는 하나의 핀 구동 플레이트(61)에 다수 개의 리프트 핀(63)들이 설치되어 동시에 상하 이동할 수 있도록 구성된 리프트 핀 유닛(60)을 예시하고 있다. 이러한 방식 외에도 핀 구동 플레이트(61) 없이 개별적으로 리프트 핀(63)을 상하 이동시키거나, 핀 구동 플레이트(61)를 여러 개로 분할하여 상하 이동시키는 방식으로 구성하는 것도 가능하다.The lift pin unit 60 is configured to be movable up and down. In the drawing, a plurality of lift pins 63 are installed on one pin driving plate 61 to illustrate a lift pin unit 60 configured to move up and down at the same time. have. In addition to the above method, the lift pins 63 may be vertically moved without the pin drive plate 61, or the pin drive plates 61 may be divided into several parts to move up and down.

물론, 핀 구동 플레이트(61)는 볼 스크류식 직선 이동기구를 비롯하여 상하 직선 구동력을 발생시키는 공지의 구동기구를 이용하여 구성할 수 있다.Of course, the pin drive plate 61 can be configured using a well-known drive mechanism which generates a vertical linear driving force, including a ball screw linear movement mechanism.

한편, 상기 척킹 플레이트(10)에는 상기 리프트 핀(63)이 통과할 수 있도록 홀(10a)이 형성될 수 있다.Meanwhile, a hole 10a may be formed in the chucking plate 10 to allow the lift pin 63 to pass therethrough.

또한, 베이스 프레임(20)에는 척킹 플레이트(10)에 기판(S)을 밀착시키는 석션 유닛(65)이 구비된다.In addition, the base frame 20 is provided with a suction unit 65 for bringing the substrate S into close contact with the chucking plate 10.

석션 유닛(65)은 척킹 플레이트(10)의 상면에 부압을 형성하여 기판(S)을 척킹 플레이트(10)에 밀착시키는 구성 부분으로서, 상하 이동 가능하게 설치된 석션 파이프(66)와, 이 석션 파이프(66)들을 상하 이동시키는 석션 구동 플레이트(68)로 이루어질 수 있다.The suction unit 65 is a component part which forms a negative pressure on the upper surface of the chucking plate 10 to adhere the substrate S to the chucking plate 10, and the suction pipe 66 is installed to be movable upward and downward, and the suction pipe. It may be made of a suction drive plate 68 to move the (66) up and down.

물론, 석션 파이프(66)들은 흡입력 제공기구에 연결되어 흡입력을 제공받을 수 있도록 구성된다. 그리고 도면에서는 석션 구동 플레이트(68)의 양쪽에 석션 파이프(66)가 구비된 구성을 나타내었으나, 가운데 위치되는 석션 파이프(66)들은 도면의 복잡성을 피하기 위해 생략하고 나타내었다. Of course, the suction pipe 66 is configured to be connected to the suction force providing mechanism to receive the suction force. In the drawings, the suction pipes 66 are provided on both sides of the suction drive plate 68, but the suction pipes 66 positioned in the center are omitted to avoid the complexity of the drawings.

상기 석션 구동 플레이트(68)는 상기 핀 구동 플레이트(61)와 같이 볼 스크류식 직선 이동기구를 비롯하여 상하 직선 구동력을 발생시키는 공지의 구동기구를 이용하여 구성할 수 있다. 물론, 석션 구동 플레이트(68) 없이 석션 파이프(66)를 개별 상하 이동시키는 방식으로 구성하는 것도 가능하다.The suction drive plate 68 may be configured using a known drive mechanism that generates a vertical linear driving force, including a ball screw linear movement mechanism like the pin drive plate 61. Of course, it is also possible to configure the suction pipe 66 in a manner of moving up and down separately without the suction drive plate 68.

이러한 석션 유닛(65)은 척킹 플레이트(10)의 밑면에 밀착되어 척킹 플레이트(10)에 형성된 석션 홀(13; 도 6 참조)을 통해 흡입력을 제공할 수 있도록 구성된 것으로, 기판(S)을 척킹 플레이트(10)에 밀착시킴으로써 기판(S)이 척킹 플레이트(10)에 구비된 점착척(110; 도 6 참조)에 고정하기 위해 설치된 것이다.The suction unit 65 is configured to be in close contact with the bottom surface of the chucking plate 10 to provide suction power through the suction hole 13 (see FIG. 6) formed in the chucking plate 10, and chuck the substrate S. The substrate S is attached to the plate 10 so as to be fixed to the adhesive chuck 110 (see FIG. 6) provided in the chucking plate 10.

또한, 베이스 프레임(20)에는 척킹 플레이트(10)에 밀착된 기판(S)을 분리시키는 디척킹 유닛(70)이 구비된다.In addition, the base frame 20 is provided with a dechucking unit 70 for separating the substrate (S) in close contact with the chucking plate 10.

디척킹 유닛(70)은 역시 베이스 프레임(20) 상에 상하 이동 가능하게 설치되며, 다수의 디척킹 로드(71)가 디척킹 플레이트(79)에 의해 동시에 상하 이동할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다. 이때 디척킹 로드(71)도 디척킹 플레이트(79) 없이 개별 구동이 가능하도록 구성할 수 있다. 그리고 디척킹 플레이트(79)의 구동 방식은 앞서 설명한 핀 구동 플레이트(61) 및 석션 구동 플레이트(68)의 구동 방식과 동일하게 이루어질 수 있다.The dechucking unit 70 is also installed on the base frame 20 so as to be movable up and down, and a plurality of dechucking rods 71 are preferably configured to be moved up and down simultaneously by the dechucking plate 79. At this time, the dechucking rod 71 may also be configured to enable individual driving without the dechucking plate 79. In addition, the driving method of the dechucking plate 79 may be the same as the driving method of the pin driving plate 61 and the suction driving plate 68 described above.

디척킹 로드(71)의 구체적인 구성에 대해서는 도 10을 참조하여 아래에서 다시 설명한다.A detailed configuration of the dechucking rod 71 will be described below with reference to FIG. 10.

한편, 척킹 플레이트(10)에는 디척킹 로드(71)가 통과하는 디척킹 홀(15)이 형성된다.
Meanwhile, the chucking plate 10 has a dechucking hole 15 through which the dechucking rod 71 passes.

상기한 바와 같은 기판 척킹 디척킹 장치(100)는, 하나의 장치에서 기판(S)을 고정하는 척킹 작동과 기판(S)을 분리하는 디척킹 작동이 모두 이루어지는 구성을 중심으로 설명하였다. 하지만 본 발명은, 이에 한정되지 않고, 척킹 작동 및 디척킹 작동을 각각 구현할 수 있는 기판 척킹 장치(200)와 기판 디척킹 장치(300)를 분리하여 구성하는 경우도 가능하다.The substrate chucking dechucking apparatus 100 as described above has been described based on a configuration in which both a chucking operation for fixing the substrate S and a dechucking operation for separating the substrate S are performed in one apparatus. However, the present invention is not limited thereto, and the substrate chucking device 200 and the substrate dechucking device 300 capable of implementing the chucking operation and the dechucking operation may be separately configured.

기판 척킹 장치(200)는, 도 4를 참조하면, 척킹 플레이트(10), 베이스 프레임(20), 플로팅 유닛(25), 고정 클램프(30; 도 1 참조), 플레이트 얼라인 기구(40) 및 기판 얼라인 기구(50; 도 3참조)와, 리프트 핀 유닛(60), 석션 유닛(65) 등을 포함하여 구성된다. 즉, 상기한 기판 척킹 디척킹 장치(100)에서, 기판(S)을 분리하기 위한 디척킹 유닛(70)이 생략된 구조로 이루어지는 것이다.Referring to FIG. 4, the substrate chucking apparatus 200 includes a chucking plate 10, a base frame 20, a floating unit 25, a fixing clamp 30 (see FIG. 1), a plate alignment mechanism 40, and The board alignment mechanism 50 (refer FIG. 3), the lift pin unit 60, the suction unit 65, etc. are comprised. That is, in the substrate chucking dechucking apparatus 100 described above, the dechucking unit 70 for separating the substrate S is omitted.

기판 디척킹 장치(300)는, 도 5를 참조하면, 척킹 플레이트(10), 베이스 프레임(20), 플로팅 유닛(25), 고정 클램프(30; 도 1 참조), 플레이트 얼라인 기구(40) 및 기판 얼라인 기구(50; 도 3 참조)와, 리프트 핀 유닛(60), 디척킹 유닛(70)을 포함하여 구성된다. 즉, 상기한 기판 척킹 디척킹 장치(100)에서, 기판(S)을 고정하기 위한 석션 유닛(65)이 생략된 구조로 이루어진다. 또한 리프트 핀 유닛(60)도 생략하여 구성하는 것이 가능하다. 이때에는 디척킹 유닛(70)이 리프트 핀 유닛(60)을 대신 해서 기판(S)을 들어 올릴 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 5, the substrate dechucking apparatus 300 includes a chucking plate 10, a base frame 20, a floating unit 25, a fixing clamp 30 (see FIG. 1), and a plate alignment mechanism 40. And a substrate alignment mechanism 50 (see FIG. 3), a lift pin unit 60, and a dechucking unit 70. That is, in the substrate chucking dechucking apparatus 100 described above, the suction unit 65 for fixing the substrate S is omitted. The lift pin unit 60 may also be omitted. In this case, the dechucking unit 70 is preferably configured to lift the substrate S in place of the lift pin unit 60.

이외의 구성은 상기한 바와 같은 기판 척킹 디척킹 장치(100)의 구성과 동일 또는 유사하게 구성되므로, 동일한 도면 번호를 부여하고 반복 설명은 생략한다.Since the other configuration is the same as or similar to the configuration of the substrate chucking dechucking apparatus 100 as described above, the same reference numerals will be given and the description thereof will be omitted.

이와 같이 기판 척킹 장치(200)와 기판 디척킹 장치(300)를 분리하여 구성하는 경우에는 기판(S)에 유기물질 등을 증착하는 증착 챔버(미도시)를 중심으로 한 쪽에는 기판 척킹 장치(100)를 위치시키고, 다른 쪽에는 기판 디척킹 장치(300)를 위치시킨 상태에서 기판(S)을 기판 척킹 장치(200), 증착 챔버, 기판 디척킹 장치(300) 순으로 연속 이동시키면서 공정을 진행할 수 있게 된다.
As such, when the substrate chucking device 200 and the substrate dechucking device 300 are separated from each other, the substrate chucking device 200 may be formed around the deposition chamber (not shown) for depositing the organic material on the substrate S. 100 and position the substrate S while the substrate dechucking device 300 is positioned on the other side while continuously moving the substrate S in the order of the substrate chucking device 200, the deposition chamber, and the substrate dechucking device 300. You can proceed.

이제, 상기한 기판 척킹 디척킹 장치(100), 기판 척킹 장치(200), 기판 디척킹 장치(300)에 구비되는 주요 구성 부분에 대하여 설명하면 다음과 같다.Now, the main components provided in the substrate chucking dechucking apparatus 100, the substrate chucking apparatus 200, and the substrate dechucking apparatus 300 will be described below.

먼저, 도 6 내지 도 8을 참조하여, 척킹 플레이트(10)에 대하여 설명한다.First, the chucking plate 10 will be described with reference to FIGS. 6 to 8.

척킹 플레이트(10)는 두께가 일정한 사각 판형 구조로 이루어진다.The chucking plate 10 has a rectangular plate-like structure with a constant thickness.

척킹 플레이트(10)는 크게 외곽부(11)와 기판(S)이 고정되는 척킹부(12)로 나누어질 수 있다. 이때 척킹 플레이트(10)는 알루미늄 소재로 구성되는 것이 바람직하다.The chucking plate 10 may be largely divided into a chucking portion 12 to which the outer portion 11 and the substrate S are fixed. At this time, the chucking plate 10 is preferably composed of an aluminum material.

외곽부(11)는 앞서 설명한 바와 같이 상기 플로팅 유닛(25)의 상부에 올려지고, 고정 클램프(30)에 의해 고정되는 부분이고, 또한 증착 챔버 등에 투입되었을 때, 이송 장치에 위에 올려지거나 지지되는 부분이다. As described above, the outer portion 11 is a portion which is mounted on the floating unit 25 and fixed by the fixing clamp 30, and when the outer portion 11 is put in the deposition chamber or the like, which is placed on or supported by the transfer device. Part.

이러한 외곽부(11)는 그 상면에 전체적으로 척킹 플레이트(10)가 충분할 강성을 가질 수 있도록 보강판인 스테인리스 스틸판(11a)이 더 부착된 구조로 이루어지는 것이 바람직하다. 이는 외곽부(11)의 상면이 손상되었을 때, 스테인리스 스틸판(11a)만을 간편하게 교체하여 사용하기 위해서이다.The outer portion 11 is preferably made of a structure that is further attached to the upper surface of the stainless steel plate (11a) as a reinforcement plate so that the chucking plate 10 as a whole has sufficient rigidity. This is in order to simply replace and use only the stainless steel plate 11a when the upper surface of the outer portion 11 is damaged.

척킹부(12)는 기판(S)이 밀착되어 고정되는 부분으로서, 그 표면은 아노다이징 처리하여 구성할 수 있다.The chucking part 12 is a part to which the board | substrate S adheres and is fixed, and the surface can be comprised by anodizing.

이러한 척킹부(12)는 석션 홀(13), 핀 홀(미도시), 디척킹 홀(15) 등이 위치되고, 기판(S)이 점착되는 점착척(110)도 구성된다.The chucking unit 12 includes a suction hole 13, a pin hole (not shown), a dechucking hole 15, and the like, and an adhesive chuck 110 to which the substrate S is attached.

상기 석션 홀(13)은 척킹 플레이트(10)의 하부에서 상부로 관통되어 석션이 가능한 구조이면 다양하게 구성할 수 있는데, 본 실시예의 도면에서는 석션 홀(13)이 슬릿 구조로 일정 간격마다 배치되고, 이 석션 홀(13)을 중심으로 부압을 균일하게 형성할 수 있도록 척킹 플레이트(10)의 상면에 석션 그루브(14)가 연속하여 형성된 구조를 보여주고 있다. 즉, 도면에서는 4 개의 디척킹 홀(15) 사이에 하나의 슬릿형 석셕 홀(13)이 각각 형성되고, 이 석션 홀(13)을 중심으로 각각의 디척킹 홀(15) 및 점착척(110) 둘레를 지나도록 석션 그루브(14)가 연결된 구조를 보여준다.The suction hole 13 may be variously configured as long as the suction hole 13 penetrates upward from the bottom of the chucking plate 10. In the drawing of the present embodiment, the suction hole 13 is disposed at a predetermined interval in a slit structure. The suction groove 14 is continuously formed on the upper surface of the chucking plate 10 so that the negative pressure can be uniformly formed around the suction hole 13. That is, in the drawing, one slit-shaped suction hole 13 is formed between the four dechucking holes 15, and each dechucking hole 15 and the adhesive chuck 110 are centered around the suction hole 13. The suction groove 14 is connected to pass through the perimeter.

이와 같은 구조로 석션 홀(13) 및 석션 그루브(14)의 구성은 척킹 플레이트(10)의 상면에 전체적으로 균일하게 배치됨으로써 기판(S)을 균일하게 흡착하여 밀착시킬 수 있게 된다.In this structure, the suction holes 13 and the suction grooves 14 may be uniformly disposed on the upper surface of the chucking plate 10 to uniformly adsorb and adhere the substrate S.

특히, 석션 홀(13)로부터 이어지는 석션 그루브(14)가 점착척(110)의 둘레에 지나가도록 형성됨으로써 기판(S)이 점착척(110)에 보다 견고하게 밀착된 상태에서 점착될 수 있게 된다.In particular, the suction groove 14 which is continued from the suction hole 13 is formed to pass around the adhesive chuck 110 so that the substrate S may be adhered to the adhesive chuck 110 more firmly. .

상기 핀 홀은 상기한 리프트 핀 유닛(60)의 리프트 핀(63)이 통과할 수 있는 구성 부분으로서, 도 6 내지 도 8에 예시된 본 실시예의 도면에서는 생략된 상태로 나타내었다. 즉, 핀 홀(미도시)은 디척킹 홀(15)과 실시 조건에 따라 공용 사용이 가능한 바, 디척킹 홀(15)을 통해 리프트 핀(63)이 통과하도록 구성하는 것이 가능한 것이다. 물론, 핀 홀은 척킹 플레이트(10)에 디척킹 홀(15)과 별도로 형성하여 구성하는 것도 가능하다.The pin hole is a component part through which the lift pin 63 of the lift pin unit 60 may pass, and is omitted in the drawings of the present exemplary embodiment illustrated in FIGS. 6 to 8. That is, the pin hole (not shown) may be used in common depending on the dechucking hole 15 and the implementation conditions, and the lift pin 63 may be configured to pass through the dechucking hole 15. Of course, the pin hole may be formed separately from the dechucking hole 15 in the chucking plate 10.

상기 디척킹 홀(15)은 디척킹 유닛(70)의 디척킹 로드(71)가 통과할 수 있도록 구성된 부분이다.The dechucking hole 15 is a portion configured to allow the dechucking rod 71 of the dechucking unit 70 to pass therethrough.

상기 점착척(110)은 도면에 예시된 바와 같이 상기 디척킹 홀(15)을 중심으로 원형 링 구조 또는 다각 링 구조로 형성되어 구성될 수 있다. 본 실시예에서는 원형 링 구조를 중심으로 설명한다.The adhesive chuck 110 may be formed in a circular ring structure or a polygonal ring structure around the dechucking hole 15 as illustrated in the drawing. In the present embodiment, a description will be given of the circular ring structure.

점착척(110)은, 도 7 및 도 9를 참조하면, 디척킹 홀(15)의 둘레에서 척킹 플레이트(10)의 상면에 설치되는 원형 링 형상의 베이스 플레이트(111)와, 이 베이스 플레이트(111)의 상면에 구비되어 기판(S)이 부착되는 점착력을 제공하는 점착링(115)을 포함하여 구성된다.7 and 9, the adhesive chuck 110 includes a circular ring-shaped base plate 111 provided on an upper surface of the chucking plate 10 around the dechucking hole 15, and the base plate ( It is configured to include an adhesive ring 115 is provided on the upper surface of the 111 to provide an adhesive force to which the substrate (S) is attached.

베이스 플레이트(111)는 척킹 플레이트(10)에 나사 조립 방식으로 설치될 수 있으며, 상기 점착링(115)이 설치되는 안쪽 상면은 바깥쪽 상면보다 상대적으로 낮게 형성된 구조로 이루어진다.The base plate 111 may be installed on the chucking plate 10 by a screw assembly method, and the inner upper surface on which the adhesive ring 115 is installed is formed to be relatively lower than the outer upper surface.

상기 점착링(115)은 점착력을 제공하는 소재로 구성되며, 상면에 일정 간격마다 점착 돌기(117)가 배치되게 구성되는 것이 바람직하다.The adhesive ring 115 is made of a material that provides the adhesive force, it is preferable that the adhesive projection 117 is disposed on the upper surface at a predetermined interval.

한편, 척킹 플레이트(10)는 상기 디척킹 홀(15)을 중심으로 점착척(110)의 베이스 플레이트(111)가 설치될 수 있도록 원형 구조의 척설치 홈부(121)가 형성되어, 베이스 플레이트(111)의 상면과 척킹 플레이트(10)의 상면이 동일한 높이를 갖도록 구성되는 것이 바람직하다.On the other hand, the chucking plate 10 is formed with a chuck installation groove 121 of a circular structure so that the base plate 111 of the adhesive chuck 110 is installed around the dechucking hole 15, the base plate ( The upper surface of the 111 and the upper surface of the chucking plate 10 is preferably configured to have the same height.

물론, 점착링(115)에 구성된 점착 돌기(117)는 척킹 플레이트(10)의 상면보다 일정 정도 높게 형성되는 것이 바람직하다.Of course, the adhesive protrusion 117 formed on the adhesive ring 115 is preferably formed to a certain degree higher than the upper surface of the chucking plate 10.

도 8은 척킹 플레이트(10)의 하부 구조를 보여주는 도면으로서, 척킹 플레이트(10)의 하부에는 외곽테(18) 사이로 다수의 리브(19)들이 형성된 구조로 이루어진다.FIG. 8 is a view illustrating a lower structure of the chucking plate 10. The lower portion of the chucking plate 10 includes a structure in which a plurality of ribs 19 are formed between the outer edges 18.

이와 같은 하부 구조를 갖는 척킹 플레이트(10)는 외곽테(18) 및 다수의 리브(19)를 통해 척킹 플레이트(10)의 두께를 최소화하여 경량화를 실현하면서도 강성은 유지될 수 있게 된다.The chucking plate 10 having the lower structure as described above may minimize the thickness of the chucking plate 10 through the outer frame 18 and the plurality of ribs 19, thereby realizing light weight and maintaining rigidity.

도 8에서 도면 부호 17은 위치결정용 핀을 나타낸다.
In Fig. 8, reference numeral 17 denotes a positioning pin.

다음은, 도 10을 참조하여 디척킹 유닛(70)의 주요 구성 부분인 디척킹 로드(71)에 대하여 설명한다.Next, the dechucking rod 71 which is a main component part of the dechucking unit 70 is demonstrated with reference to FIG.

디척킹 로드(71)는 공기압이 주입되는 파이프형 로드(72)와, 이 로드(72)의 상단부에 구비되어 팽창 수축하는 다이어프램(73)으로 이루어진다.The dechucking rod 71 is composed of a pipe-shaped rod 72 into which air pressure is injected, and a diaphragm 73 provided at an upper end of the rod 72 to expand and contract.

상기 파이프형 로드(72)의 상단부에는 상기 다이어프램(73)을 지지하는 동시에 공기압이 주입되는 공간을 갖는 원형 플랜지 형상의 지지구(74)가 설치된다.The upper end of the pipe-shaped rod 72 is provided with a circular flange-shaped support 74 having a space for supporting the diaphragm 73 and the air pressure is injected.

이와 같이 구성되는 디척킹 로드(71)는 앞서 설명한 바와 같이 척킹 플레이트(10)의 점착척(110)에 붙어 있는 기판(S)을 분리할 때, 로드(72)를 통해 다이어프램(73)을 팽창시킴으로써 기판(S)을 점착척(110)으로부터 분리할 수 있게 구성되는 것이다.The dechucking rod 71 configured as described above expands the diaphragm 73 through the rod 72 when the substrate S attached to the adhesive chuck 110 of the chucking plate 10 is separated as described above. By doing so, the substrate S can be separated from the adhesive chuck 110.

또한 디척킹 로드(71)는 리프트 핀 유닛(60)의 기능을 겸하도록 구성할 수 있는데, 상기 디척킹 로드(71)가 상하 방향으로 상대 이동할 수 있도록 구성되어 기판(S)을 로딩/언로딩 할 때 척킹 플레이트(10)의 디척킹 홀(15; 도 6 참조)을 통해 상하 이동할 수 있도록 구성할 수 있다.
In addition, the dechucking rod 71 may be configured to serve as a function of the lift pin unit 60. The dechucking rod 71 may be configured to move relative to the vertical direction in order to load / unload the substrate S. When the chucking plate 10 can be configured to move up and down through the dechucking hole 15 (see Fig. 6).

이제, 상기한 바와 같은 기판 척킹 디척킹 장치(100), 기판 척킹 장치(200), 기판 디척킹 장치(300)를 이용한 기판 척킹 디척킹 방법을 설명하면 다음과 같다.Now, the substrate chucking dechucking method using the substrate chucking dechucking apparatus 100, the substrate chucking apparatus 200, and the substrate dechucking apparatus 300 as described above will be described.

먼저, 도 11 등을 참조하여, 기판 척킹 방법에 대하여 설명한다.First, the substrate chucking method will be described with reference to FIG. 11 and the like.

본 발명에 따른 기판 척킹 방법은, 베이스 프레임(20) 위에 척킹 플레이트(10)를 올린 다음 위치를 조정한 후에 베이스 프레임(20) 위에 척킹 플레이트(10)를 고정하는 플레이트 로딩단계(S1)와, 상기 플레이트 로딩단계(S1) 후에 기판(S)을 척킹 플레이트(10)의 상부에 올린 다음 위치를 조정한 후에 기판(S)을 척킹 플레이트(10) 위에 고정하는 기판 로딩단계(S2)와, 상기 기판 로딩단계(S2) 후에, 베이스 프레임(20)에서 척킹 플레이트(10)를 고정 상태를 해제하여 척킹 플레이트(10)에 기판(S)이 고정된 세팅모듈을 증착 챔버 내로 이송하는 세팅모듈 투입단계(S3)를 포함하여 이루어진다.Substrate chucking method according to the invention, the plate loading step (S1) for fixing the chucking plate 10 on the base frame 20 after raising the chucking plate 10 on the base frame 20 and then adjust the position, After the plate loading step (S1) to raise the substrate (S) on top of the chucking plate 10 and then adjust the position of the substrate loading step (S2) for fixing the substrate (S) on the chucking plate 10, and After the substrate loading step S2, the setting module input step of releasing the chucking plate 10 from the base frame 20 to transfer the setting module having the substrate S fixed to the chucking plate 10 into the deposition chamber. It includes (S3).

상기 각각의 단계를 중심으로 기판 척킹 방법에 대해 구체적으로 설명하다.The substrate chucking method will be described in detail with respect to each of the above steps.

기판 척킹 방법은 위에서 설명한 기판 척킹 디척킹 장치(100) 또는 기판 척킹 장치(200)를 이용하여 진행할 수 있다.The substrate chucking method may be performed using the substrate chucking dechucking apparatus 100 or the substrate chucking apparatus 200 described above.

1) 상기 플레이트 로딩단계(S1)를 설명한다. 1) The plate loading step (S1) will be described.

기판 척킹 디척킹 장치(100)(또는 기판 척킹 장치(200))의 베이스 프레임(20)의 상부에 척킹 플레이트(10)를 반입한다(도 2 참조). The chucking plate 10 is carried in the upper portion of the base frame 20 of the substrate chucking dechucking apparatus 100 (or the substrate chucking apparatus 200) (see FIG. 2).

척킹 플레이트(10)의 반입이 확인되면, 플레이트 얼라인 기구(40)가 작동하여 척킹 플레이트(10)의 위치를 조정하고, 척킹 플레이트(10)의 위치 조정이 완료되면 고정 클램프(30)를 작동하여 척킹 플레이트(10)를 고정하고, 플로팅 유닛(25)의 잠금 작동을 실시한다.When the loading of the chucking plate 10 is confirmed, the plate alignment mechanism 40 operates to adjust the position of the chucking plate 10, and when the position adjustment of the chucking plate 10 is completed, the fixing clamp 30 is operated. To fix the chucking plate 10 and to lock the floating unit 25.

2) 상기 기판 로딩단계(S2)를 설명한다. 2) The substrate loading step S2 will be described.

기판(S)을 척킹 플레이트(10)의 상부에 로딩하기 위해, 리프트 핀 유닛(60)을 작동하여, 리프트 핀(63)을 척킹 플레이트(10)의 상부로 일정 높이만큼 상승시킨다. 이와 같은 상태에서 리프트 핀(63) 위로 기판(S)을 반입하고, 기판(S) 반입이 확인되면, 기판 얼라인 기구(50)를 작동하여 기판(S)의 위치를 조정한다.In order to load the substrate S on the top of the chucking plate 10, the lift pin unit 60 is operated to raise the lift pin 63 to the top of the chucking plate 10 by a predetermined height. In such a state, the board | substrate S is carried over the lift pin 63, and when carrying in of the board | substrate S is confirmed, the board | substrate alignment mechanism 50 is operated and the position of the board | substrate S is adjusted.

이때, 기판 위치 조정 순서는, 도 3을 참조하면, 기판 얼라인 기구(50)의 회전 구동기구(57)를 작동하여 얼라인 암(55)을 기판(S) 방향으로 회전시키고, 직선 구동기구(53)를 작동하여 이동체(51) 및 얼라인 암(55)을 기판(S) 방향으로 전진시키면서 기판(S)의 위치를 조정한다. 기판(S) 위치 조정이 완료되면, 직선 구동기구(53)를 작동하여 이동체(51) 및 얼라인 암(55)을 후진시키고, 이후 회전 구동기구(57)를 작동하여 얼라인 암(55)을 기판(S)에서 멀어지는 방향으로 회전시킨다.At this time, with respect to the substrate position adjustment procedure, referring to FIG. 3, the rotation driving mechanism 57 of the substrate alignment mechanism 50 is operated to rotate the alignment arm 55 in the direction of the substrate S, and the linear driving mechanism 53 is operated to adjust the position of the substrate S while advancing the movable body 51 and the alignment arm 55 in the direction of the substrate S. As shown in FIG. When the position adjustment of the substrate S is completed, the linear drive mechanism 53 is operated to reverse the movable body 51 and the alignment arm 55, and then the rotation drive mechanism 57 is operated to align the arm 55. Rotate in a direction away from the substrate (S).

이와 같은 방법으로 기판 위치 조정이 완료되면, 리프트 핀(63)을 하강시켜 기판(S)이 척킹 플레이트(10)의 상부에 놓이도록 하고, 석션 유닛(65)의 석션 파이프(66)를 상승시켜 척킹 플레이트(10)의 석션 홀(13)에 밀착시킨 다음, 흡입력을 발생시켜 기판(S)을 척킹 플레이트(10)에 밀착시킨다. 이때 척킹 플레이트(10)의 상면에는 점착척(110)들이 구비되어 있으므로 기판(S)이 점착척(110)에 밀착되면서 척킹되어 고정된다.When the substrate position adjustment is completed in this manner, the lift pin 63 is lowered so that the substrate S is placed on the chucking plate 10, and the suction pipe 66 of the suction unit 65 is raised. After contacting the suction hole 13 of the chucking plate 10, a suction force is generated to adhere the substrate S to the chucking plate 10. In this case, since the adhesive chucks 110 are provided on the upper surface of the chucking plate 10, the substrate S is chucked and fixed while being in close contact with the adhesive chuck 110.

이와 같이 기판(S)이 척킹 플레이트(10)의 점착척(110)에 의해 고정되면 석션 파이프(66)를 하강시킨다.As such, when the substrate S is fixed by the adhesive chuck 110 of the chucking plate 10, the suction pipe 66 is lowered.

3) 상기 세팅모듈 투입단계(S3)를 설명한다. 3) The setting module input step (S3) will be described.

상기한 바와 같이 플레이트 로딩단계(S1)와, 기판 로딩단계(S2)를 거쳐 척킹 플레이트(10)에 기판(S)이 고정되면, 고정 클램프(30)의 작동시켜 척킹 플레이트(10)의 고정 상태를 해제하고, 척킹 플레이트(10)에 기판(S)이 고정된 세팅모듈을 이송 로봇 등을 이용하여 증착 챔버 등의 본 공정 진행 공간에 투입한다.As described above, when the substrate S is fixed to the chucking plate 10 through the plate loading step S1 and the substrate loading step S2, the fixing clamp 30 is operated to fix the chucking plate 10. Then, the setting module having the substrate S fixed to the chucking plate 10 is introduced into the process progress space such as a deposition chamber by using a transfer robot.

상기와 같은 단계를 거쳐 증착 챔버에 세팅모듈이 투입될 경우에 척킹 플레이트(10)가 증착 챔버 내에 구비된 롤러 등의 이송 장치에 올려진 상태로 증착 공정 진행 위치로 이동하고, 이후 기판(S)에 유기물질을 증착하는 증착 공정이 진행된 후에 증착 공정이 완료되면, 세팅모듈은 증착 챔버의 밖으로 배출되고, 본 발명의 디척킹 공정이 진행된다.When the setting module is put into the deposition chamber through the above steps, the chucking plate 10 is moved to the deposition process progress position while being mounted on a transfer device such as a roller provided in the deposition chamber, and then the substrate S When the deposition process is completed after the deposition process of depositing the organic material on the, the setting module is discharged out of the deposition chamber, the dechucking process of the present invention is carried out.

다음, 도 12 등을 참조하여, 기판 디척킹 방법에 대하여 설명한다.Next, the substrate dechucking method will be described with reference to FIG. 12 and the like.

본 발명에 따른 기판 디척킹 방법은, 증착 챔버에서 배출된 세팅모듈을 베이스 프레임(20) 위에 올린 다음, 위치를 조정한 후에 베이스 프레임(20) 위에 세팅모듈을 고정하는 세팅모듈 로딩단계(S4)와; 세팅모듈 로딩단계(S4) 후에, 척킹 플레이트(10)에 고정된 기판(S)을 분리하는 기판 언로딩 단계(S5)와; 기판 언로딩 단계(S5) 후에, 기판(S)을 이동시키는 기판 배출단계(S6)를 포함하여 이루어진다.In the substrate dechucking method according to the present invention, the setting module discharged from the deposition chamber is placed on the base frame 20 and then the setting module loading step of fixing the setting module on the base frame 20 after adjusting the position (S4). Wow; After the setting module loading step (S4), the substrate unloading step (S5) for separating the substrate (S) fixed to the chucking plate 10; After the substrate unloading step (S5), it comprises a substrate discharge step (S6) for moving the substrate (S).

상기 각각의 단계를 중심으로 기판 디척킹 방법에 대해 구체적으로 설명하다.The substrate dechucking method will be described in detail with respect to each of the above steps.

기판 디척킹 방법은 위에서 설명한 기판 척킹 디척킹 장치(100) 또는 기판 디척킹 장치(300)를 이용하여 진행할 수 있다.The substrate dechucking method may be performed using the substrate chucking dechucking apparatus 100 or the substrate dechucking apparatus 300 described above.

4) 상기 세팅모듈 로딩단계(S4)에 대하여 설명한다. 4) The setting module loading step (S4) will be described.

기판 척킹 디척킹 장치(100)(또는 기판 디척킹 장치(300))의 베이스 프레임(20)의 상부에 증착 챔버에서 배출된 세팅모듈을 반입한다. The setting module discharged from the deposition chamber is loaded on the base frame 20 of the substrate chucking dechucking apparatus 100 (or the substrate dechucking apparatus 300).

세팅모듈의 반입이 확인되면, 플레이트 얼라인 기구(40)가 작동하여 척킹 플레이트(10)의 위치를 조정하고, 척킹 플레이트(10)의 위치 조정이 완료되면 고정 클램프(30)를 작동하여 척킹 플레이트(10)를 고정하고, 플로팅 유닛(25)의 잠금 작동을 실시한다.When the setting module is checked, the plate alignment mechanism 40 operates to adjust the position of the chucking plate 10, and when the position adjustment of the chucking plate 10 is completed, the fixing clamp 30 is operated to operate the chucking plate. (10) is fixed and the floating operation of the floating unit 25 is performed.

5) 상기 기판 언로딩 단계(S5)에 대하여 설명한다. 5) The substrate unloading step S5 will be described.

디척킹 유닛(70)의 디척킹 로드(71)를 상승시켜 척킹 플레이트(10)에 붙어있는 기판(S)을 분리한다. 이때, 디척킹 로드(71)를 상승시킨 후에 공기압을 주입함으로써 다이어프램(73)을 팽창시켜 기판(S)을 척킹 플레이트(10)로부터 분리시킨다.The dechucking rod 71 of the dechucking unit 70 is raised to separate the substrate S attached to the chucking plate 10. At this time, the diaphragm 73 is expanded by injecting air pressure after raising the dechucking rod 71 to separate the substrate S from the chucking plate 10.

기판(S)이 척킹 플레이트(10)에서 분리되면, 리프트 핀 유닛(60)의 리프트 핀(63)을 상승시켜 척킹 플레이트(10)로부터 기판(S)을 상승시킨다. 이때 리프트 핀 유닛(60) 대신에 디척킹 유닛(70)의 디척킹 로드(71)를 이용하여 기판(S)을 상승시키는 것도 가능하다.When the substrate S is separated from the chucking plate 10, the lift pin 63 of the lift pin unit 60 is raised to raise the substrate S from the chucking plate 10. In this case, the substrate S may be raised using the dechucking rod 71 of the dechucking unit 70 instead of the lift pin unit 60.

기판(S)이 상승한 상태에서, 기판 얼라인 기구(50)를 작동하여 기판(S)의 위치를 조정한다. 즉, 회전 구동기구(57)로 얼라인 암(55)을 회전시키고, 직선 구동기구(53)로 얼라인 암(55)을 전진시켜 기판(S)의 위치를 조정하고, 이후 얼라인 암(55)을 후진시킨 후에 얼라인 암(55)을 회전시켜 복귀시킨다.In a state where the substrate S is raised, the substrate alignment mechanism 50 is operated to adjust the position of the substrate S. FIG. That is, the alignment arm 55 is rotated by the rotation drive mechanism 57, the alignment arm 55 is advanced by the linear drive mechanism 53 to adjust the position of the substrate S, and then the alignment arm ( After reversing 55, the align arm 55 is rotated and returned.

6) 상기 기판 배출단계(S6)를 설명한다. 6) The substrate discharge step (S6) will be described.

기판(S)을 이송하기 위한 암을 기판(S)을 상승시킨 후에 이를 지지하고 있는 리프트 핀(63) 사이로 삽입한 후에 기판(S)을 들어 올려 외부로 기판(S)을 배출한다.The arm for transferring the substrate S is inserted between the lift pins 63 supporting the substrate S after raising the substrate S, and then the substrate S is lifted up to discharge the substrate S to the outside.

이와 같이 기판(S)이 배출된 후에, 클램프 유닛을 작동시켜 척킹 플레이트(10)의 고정을 해제한 다음, 척킹 플레이트(10)도 반출한다. After the substrate S is discharged as described above, the clamp unit is operated to release the chucking plate 10, and then the chucking plate 10 is also taken out.

이와는 달리, 기판 척킹 디척킹 장치(100)의 경우에는 하나의 장치에서 척킹 및 디척킹 방법을 모두 구현할 수 있으므로, 척킹 플레이트(10)를 외부로 반출하는 과정은 생략하고, 도 11를 참조하여 앞서 설명한 기판 반입 및 기판 위치 정렬, 기판 고정 작업 등을 진행할 수 있다.On the contrary, in the case of the substrate chucking dechucking apparatus 100, since the chucking and the dechucking method can be implemented in one apparatus, the process of carrying out the chucking plate 10 to the outside is omitted, with reference to FIG. 11. Substrate loading and substrate position alignment, substrate fixing work, etc. which were demonstrated can be performed.

한편, 상기한 본 발명의 실시예의 설명에서는 OLED 제조용 증착 장비에 기판을 반입하고, 반출할 때 사용되는 장치 및 방법에 대하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 척킹 플레이트(10) 등에 기판(S)을 고정한 상태에서 세팅모듈을 투입하고, 반출하는 모든 장비, 즉 디스플레이 제조 장비 또는 반도체 제조 장비 등의 척킹 디척팅 장치 및 방법에 적용하여 이용할 수 있다.
Meanwhile, in the above description of the embodiment of the present invention, the apparatus and method used when the substrate is brought into and out of the deposition equipment for manufacturing OLED are described, but the present invention is not limited thereto. It can be used by applying to the chucking dechucking device and method, such as all the equipment to put and take out the setting module in a fixed state, that is, display manufacturing equipment or semiconductor manufacturing equipment.

상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the technical ideas described in the embodiments of the present invention can be performed independently of each other, and can be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

Claims (10)

일측면에 일정 간격마다 배치되어 기판이 부착되어 고정되는 복수의 점착척과, 상하로 관통되어 기판을 흡착하기 위한 부압을 형성하는 복수의 석션홀이 구비되어, 상기 일측면에 기판이 고정된 상태에서 함께 이송될 수 있도록 구성되고,
상기 일측면에는 상기 석션홀과 연결되어 상기 석션홀로부터의 흡입력을 주변에 제공하는 석션 그루브가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
A plurality of adhesive chucks disposed on one side at regular intervals and attached to and fixed to the substrate, and a plurality of suction holes penetrating up and down to form a negative pressure for adsorbing the substrate, are fixed to the one side of the substrate. Configured to be transported together,
The substrate chucking plate, characterized in that the suction groove is connected to the suction hole to provide a suction force from the suction hole to the periphery.
청구항1에 있어서,
상기 척킹 플레이트는, 상기 점착척 및 석션홀이 구비되어 기판이 고정되는 척킹부와, 상기 척킹부의 둘레에 구비되는 외곽부로 이루어지고,
상기 외곽부는 강성을 보강하기 위해 보강판이 추가로 구비된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method according to claim 1,
The chucking plate, the sticking chuck and the suction hole is provided with a chucking portion to which the substrate is fixed, and an outer portion provided around the chucking portion,
The outer portion is a substrate chucking plate comprising a reinforcing plate is further provided to reinforce the rigidity.
청구항1에 있어서,
상기 척킹 플레이트는 기판을 분리하는 디척킹 유닛이 위치되는 복수의 디척킹 홀이 구비된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method according to claim 1,
And the chucking plate includes a plurality of dechucking holes in which a dechucking unit separating the substrate is provided.
청구항3에 있어서,
상기 각 점착척은 상기 디척킹 홀을 중심으로 배치되어 구성된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method according to claim 3,
Each of the adhesive chuck is a substrate chucking plate, characterized in that configured to be disposed around the dechucking hole.
청구항3에 있어서,
상기 각 점착척은 상기 디척킹 홀의 둘레에서 척킹 플레이트의 일측면에 설치되는 원형 링 또는 다각 링 형상의 베이스 플레이트와, 이 베이스 플레이트의 일측면에 구비되어 기판이 부착되는 점착력을 제공하는 점착링을 포함하여 구성된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method according to claim 3,
Each adhesive chuck has a circular ring or a polygonal ring-shaped base plate installed on one side of the chucking plate around the dechucking hole, and an adhesive ring provided on one side of the base plate to provide adhesion to the substrate. Substrate chucking plate comprising a comprising.
청구항5에 있어서,
상기 점착링은 일측면에 일정 간격마다 점착 돌기들이 배치된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method of claim 5,
The adhesive ring is a substrate chucking plate, characterized in that the adhesive projections are arranged at intervals on one side.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 석션 그루브는 상기 각 점착척의 둘레를 통과하도록 구성된 것을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 플레이트.
The method according to claim 1,
And the suction groove includes one configured to pass through the circumference of each adhesive chuck.
베이스 프레임 위에 청구항 1에 기재된 척킹 플레이트를 올린 다음 위치를 조정한 후에 베이스 프레임 위에 척킹 플레이트를 고정하는 플레이트 로딩단계와;
상기 플레이트 로딩단계 후에, 기판을 상기 척킹 플레이트의 상부에 올린 다음 위치를 조정한 후에 기판을 척킹 플레이트 위에 고정하는 기판 로딩단계와;
상기 기판 로딩단계 후에, 베이스 프레임에서 상기 척킹 플레이트를 고정 상태를 해제하여 척킹 플레이트에 기판이 고정된 세팅모듈을 공정 진행을 위한 챔버 내로 이송하는 세팅모듈 투입단계를 포함한 것을 특징으로 하는 기판 척킹 방법.
A plate loading step of fixing the chucking plate on the base frame after adjusting the position after raising the chucking plate according to claim 1 on the base frame;
After the plate loading step, placing the substrate on top of the chucking plate and then adjusting the position to fix the substrate on the chucking plate;
After the substrate loading step, the substrate chucking method comprising the step of releasing the fixing state of the chucking plate in the base frame to transfer the setting module fixed to the chucking plate substrate into the chamber for the process progress.
공정 진행을 위한 챔버로부터 청구항 1에 기재된 척킹 플레이트에 기판이 고정된 세팅모듈을 배출하는 세팅모듈 배출단계와;
상기 세팅모듈 배출단계를 통해 배출된 세팅모듈을 베이스 프레임 위에 올린 다음 위치를 조정한 후에 베스 프레임 위에 세팅모듈을 고정하는 세팅모듈 로딩단계와;
상기 세팅모듈 로딩단계 후에, 상기 척킹 플레이트에 고정된 기판을 분리하는 기판 언로딩 단계와;
상기 기판 언로딩 단계 후에, 기판을 배출하는 기판 배출단계를 포함한 것을 특징으로 하는 기판 디척킹 방법.
A setting module discharging step of discharging a setting module having a substrate fixed to the chucking plate according to claim 1 from a chamber for processing the process;
A setting module loading step of fixing the setting module on the base frame after raising the setting module discharged through the setting module discharge step on the base frame and then adjusting the position;
A substrate unloading step of separating the substrate fixed to the chucking plate after the setting module loading step;
And a substrate discharging step of discharging the substrate after the substrate unloading step.
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