KR101205834B1 - Cleaning unit, Apparatus of discharging treating fluid with the unit and Method for cleaing head - Google Patents
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Abstract
본 발명은 처리액 토출 장치를 개시한 것으로서, 헤드의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛에 있어서, 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 효율적으로 제거하기 위해 석션 노즐 상부에 잔류하는 액정을 석션 노즐 방향으로 기체를 분사하여 밀어주는 분사 노즐이 하나 또는 복수개 제공되는 것을 특징으로 한다. 또한, 분사 노즐과 석션 노즐 사이의 간격을 조절하기 위한 수평 구동 부재와 분사 노즐의 토출구의 높이을 조절하기 위해 승강 부재가 제공되며, 분사 노즐의 토출구의 분사 압력을 조절하기 위해 압력 조절 수단이 제공되는 것을 특징으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention discloses a treatment liquid ejecting apparatus, wherein in a head cleaning unit for cleaning a nozzle surface of a head, liquid crystals remaining on an upper portion of a suction nozzle in order to efficiently remove fine liquid crystal remaining on the nozzle surface of the head are suction nozzles. It characterized in that one or a plurality of injection nozzles are provided to push the gas in the direction. Further, a horizontal drive member for adjusting the distance between the injection nozzle and the suction nozzle and a lifting member for adjusting the height of the discharge port of the injection nozzle are provided, and a pressure regulating means for adjusting the injection pressure of the discharge port of the injection nozzle is provided. It is characterized by.
Description
본 발명은 처리액 토출 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액적(droplet)을 토출하는 잉크젯 방식에 의해 기판에 처리액을 토출하는 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과; 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.In recent years, liquid crystal displays have been widely used in display units of electronic devices such as mobile phones and portable computers. The liquid crystal display device comprises: a color filter substrate on which a black matrix, a color filter, a common electrode, and an alignment layer are formed; The liquid crystal is injected into a space between the thin film transistor (TFT), the pixel electrode, and the array substrate on which the alignment layer is formed, thereby obtaining an image effect by using a difference in refractive index of light due to the anisotropy of the liquid crystal.
컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 그러나 기판에 액정을 도포한 후 헤드에 잔류하는 액정을 세정하더라도 세정이 원활히 이루어지지 않아 헤드에 미세 액정이 남게 되는 문제점이 있다. 이로 인해, 기판에 도포되는 액정의 막 균일도가 저하되는 문제점이 발생한다.An inkjet coating apparatus is used as an apparatus which apply | coats an alignment liquid or a liquid crystal on a color filter substrate and an array substrate. However, even after the liquid crystal is applied to the substrate and the liquid crystal remaining in the head is washed, there is a problem in that the fine liquid crystal remains in the head because the cleaning is not performed smoothly. For this reason, the problem that the film uniformity of the liquid crystal apply | coated to a board | substrate falls.
본 발명의 목적은 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 효율적으로 제거할 수 있는 처리액 토출 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a treatment liquid discharge device capable of efficiently removing the fine liquid crystal remaining on the nozzle face of the head.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액 토출 장치는, 베이스와 상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛과 상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry) 및 상기 베이스에 설치되며, 상기 헤드의 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은 상기 헤드를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐 및 상기 석션 노즐의 상부에 위치한 헤드를 향해 토출구를 가지는 분사 노즐이 하나 또는 복수 개 제공되는 기체 분사 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a processing liquid discharge device according to an embodiment of the present invention is provided on a base and the base, a substrate support unit on which a substrate is placed, and an upper portion of a movement path of the substrate support unit. A gantry coupled to the heads for discharging the chemical liquid on the inkjet method and a cleaning unit installed on the base and cleaning the nozzle surface of the head, wherein the cleaning unit includes a suction hole formed toward the head. It characterized in that it comprises a suction nozzle and a gas injection unit provided with one or a plurality of injection nozzles having a discharge port toward the head located above the suction nozzle.
또한, 상기 분사 노즐을 수평 방향으로 이동시키는 수평 구동 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it further comprises a horizontal drive member for moving the injection nozzle in the horizontal direction.
또한, 상기 수평 구동 부재가, 상기 베이스 상면에 결합된 가이드 부재와 상기 가이드 부재를 따라 직선 이동하는 슬라이더 및 상기 슬라이더를 구동시키는 구동기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The horizontal driving member may include a guide member coupled to the base upper surface, a slider linearly moving along the guide member, and a driver for driving the slider.
또한, 상기 분사 노즐이 복수 개 제공되고, 상기 수평 구동 부재가 각각의 상기 분사 노즐에 결합되어 독립적으로 구동하는 것을 특징으로 한다.In addition, a plurality of spray nozzles are provided, and the horizontal driving member is coupled to each of the spray nozzles to drive independently.
또한, 상기 분사 노즐이 복수 개 제공되고, 상기 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이가 각각 다른 것을 특징으로 한다.In addition, a plurality of spray nozzles may be provided, and the heights of the ends of the discharge ports of the spray nozzles may be different from each other.
또한, 상기 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이를 독립적으로 조절하기 위해 상기 분사 노즐에 각각 결합되는 승강 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it further comprises a lifting member which is respectively coupled to the injection nozzle in order to independently adjust the height of the end of the discharge port of the injection nozzle.
또한, 상기 분사 노즐의 토출구의 분사 압력을 독립적으로 조절하기 위해 상기 분사 노즐에 각각 결합되는 압력 조절 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it further comprises a pressure adjusting means respectively coupled to the injection nozzle to independently control the injection pressure of the discharge port of the injection nozzle.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액의 노즐을 세정하는 세정 유닛은, 상기 상부를 향하도록 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐 및 상기 석션 노즐이 위치한 헤드를 향해 토출구를 가지는 분사 노즐이 적어도 하나이상 제공되는 기체 분사 유닛;을 포함하되, 상기 분사 노즐은, 제 1 분사 노즐과 제 2 분사 노즐을 구비하되, 상기 제 1 분사 노즐과 상기 제 2 분사 노즐은 상기 석션 노즐를 향하여 상기 석션 노즐과 일렬로 배열되고, 상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이와 제 2 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이가 서로 상이한 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the cleaning unit for cleaning the nozzle of the processing liquid according to an embodiment of the present invention, the suction nozzle having a suction hole formed to face the upper portion and the injection port toward the head in which the suction nozzle is located And a gas injection unit provided with at least one nozzle, wherein the injection nozzle comprises a first injection nozzle and a second injection nozzle, wherein the first injection nozzle and the second injection nozzle face the suction nozzle. It is arranged in line with the suction nozzle, it characterized in that the height of the end of the discharge port of the first injection nozzle and the height of the end of the discharge port of the second injection nozzle are different from each other.
또한, 상기 제 1 분사 노즐 및 제 2 분사 노즐을 수평방향으로 이동시키는 수평구동부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include a horizontal driving member which moves the first spray nozzle and the second spray nozzle in a horizontal direction.
또한, 상기 제 1 분사 노즐을 수평 방향으로 이동시키는 제 1 수평 부재와 상기 제 2 분사 노즐을 수평방향으로 이동시키는 제 2 수평 부재를 더 포함하되, 상기 제 1 수평 부재와 상기 제 2 수평 부재가 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include a first horizontal member for moving the first spray nozzle in a horizontal direction and a second horizontal member for moving the second spray nozzle in a horizontal direction, wherein the first horizontal member and the second horizontal member Independently controlled.
또한, 상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 높이를 조절하는 제 1 승강 부재와 상기 제 2 분사 노즐의 토출구의 높이를 조절하는 제 2 승강 부재를 더 포함하되, 상기 제 1 승강 부재와 상기 제 2 승강 부재가 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include a first elevating member for adjusting the height of the discharge port of the first injection nozzle and a second elevating member for adjusting the height of the discharge port of the second injection nozzle, wherein the first elevating member and the second elevating member are included. The member is characterized in that it is controlled independently.
또한, 상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 분사 압력을 조절하는 제 1 압력 조절 수단과 상기 제 2 분사 노즐의 토출구의 분사 압력를 조절하는 제 2 압력 조절 수단을 더 포함하되, 제 1 압력 조절 수단과 제 2 압력 조절 수단이 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include first pressure adjusting means for adjusting the injection pressure of the discharge port of the first injection nozzle and second pressure adjusting means for adjusting the injection pressure of the discharge port of the second injection nozzle. It is characterized in that the two pressure regulating means are independently controlled.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액 토출 장치의 세정 방법은, 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 가까운 분사 노즐이 처리액의 노즐에 잔류하는 액정을 향해 기체를 분사하여 액정을 석션 노즐 방향으로 밀어낸 후, 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 먼 분사 노즐이 잔류하는 액정을 향해 다시 기체를 분사하여 액정을 석션 노즐 방향으로 밀어내어 석션 노즐로 흡입하여 세정하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above-described problem, the cleaning method of the processing liquid discharge device according to the embodiment of the present invention, the injection nozzle of the plurality of injection nozzles close to the suction nozzle is directed toward the liquid crystal remaining in the nozzle of the processing liquid After spraying to push the liquid crystal in the direction of the suction nozzle, the gas is again sprayed toward the liquid crystal remaining in the ejection nozzle, which is far from the suction nozzle, and the liquid crystal is pushed toward the suction nozzle and sucked by the suction nozzle. It is characterized by washing.
또한, 상기 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 가까운 분사 노즐의 토출구의 높이가 상기 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 먼 분사 노즐의 토출구의 높이보다 낮은 것을 특징으로 한다.In addition, the height of the discharge port of the injection nozzle close to the distance of the suction nozzle of the plurality of injection nozzles is characterized in that the distance from the suction nozzle of the plurality of injection nozzles is lower than the height of the discharge port of the remote nozzle.
본 발명에 의하면, 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 효율적으로 제거할 수 있다. According to the present invention, the fine liquid crystal remaining on the nozzle face of the head can be efficiently removed.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이다.
도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다.
도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 나타내는 도면이다.
도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 나타내는 도면이다.
도 6은 갠트리의 직선 이동 및 회전 과정을 나타내는 도면이다.
도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 나타내는 도면이다.
도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다.
도 9는 노즐 검사 유닛을 보여주는 도면이다.
도 10은 헤드 세정 유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11은 헤드 세정 유닛의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 12는 도 11의 헤드 세정 유닛의 일부를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 13은 헤드 세정 유닛의 또 다른 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 14는 도 13의 헤드 세정 유닛의 일부를 나타내는 확대단면도이다.
도 15는 헤드 세정 유닛의 일부에 대한 다른 실시예를 나타내는 확대단면도이다. The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the structure of the inkjet system liquid crystal coating installation.
FIG. 2 is a perspective view of the liquid crystal discharge part of FIG. 1.
3 is a plan view of the liquid crystal discharge part of FIG. 1.
4 is a diagram illustrating the first driving unit of FIG. 3.
FIG. 5 is a diagram illustrating a second driving unit of FIG. 3.
6 is a view illustrating a process of linear movement and rotation of the gantry.
7 is a view showing the side of the head moving unit of FIGS. 2 and 3.
8 is a front view of the first mobile unit of FIG. 7.
9 shows a nozzle inspection unit.
10 is a view schematically showing an embodiment of a head cleaning unit.
11 is a view schematically showing another embodiment of the head cleaning unit.
12 is a view schematically showing a part of the head cleaning unit of FIG. 11.
FIG. 13 is a view schematically showing another embodiment of the head cleaning unit. FIG.
FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view illustrating a part of the head cleaning unit of FIG. 13.
15 is an enlarged cross-sectional view showing another embodiment of a part of the head cleaning unit.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention. The problem, the problem solving means, and effects to be solved by the present invention described above will be easily understood through embodiments related to the accompanying drawings. Each drawing is partly or exaggerated for clarity. In adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components are shown with the same reference numerals as much as possible, even if displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
이하에서는, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 설비와, 이를 이용하여 대상물에 처리액을 도포하는 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a facility for applying the treatment liquid to the object by an inkjet method of discharging droplets, and a method of applying the treatment liquid to the object using the same will be described.
예를 들어, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다. For example, the object may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel, and the treatment liquid may be a red (R) liquid pigment (Liquid Crystal), an alignment liquid, and a pigment particle mixed in a solvent. , Green (G) and blue (B) ink. Polyimide may be used as the alignment liquid.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.The alignment liquid may be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate and the thin film transistor (TFT) substrate, and the liquid crystal may be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate or the thin film transistor (TFT) substrate. The ink may be applied to the inner region of the black matrix arranged in a grid pattern on the color filter CF substrate.
본 실시 예에서는, 처리액으로 액정을 사용하는 설비를 예로 들어 설명하지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.In the present embodiment, the equipment using the liquid crystal as the processing liquid is described as an example, but the technical idea of the present invention is not limited thereto.
도 1은 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 나타내는 도면이다. 도 1의 액정 도포 설비(1)는 액정을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the structure of the inkjet system liquid crystal coating installation. The liquid
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.The substrate may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of the liquid crystal display panel, and the liquid crystal may be coated on the entire surface of the color filter (CF) substrate or the thin film transistor (TFT) substrate.
도 1을 참조하면, 액정 도포 설비(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. Referring to FIG. 1, the liquid
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.Here, the first direction (I) is an arrangement direction of the liquid
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.The substrate to which the liquid crystal is to be applied is loaded into the
도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이고, 도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 액정 토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 잉크젯 헤드유닛들(400), 헤드 이동 유닛(500), 액정 공급 유닛(600), 개별 헤드 제어 유닛(700), 액정 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.2 is a perspective view of the liquid crystal discharge part of FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal discharge part of FIG. 1. 2 and 3, the liquid
이하에서는 액정 토출부의 각각의 구성에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, each configuration of the liquid crystal discharge unit will be described in detail.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.Base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. The substrate support unit 100 is disposed on the upper surface of the base B. The substrate support unit 100 has a
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.When the
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.The
갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 잉크젯 헤드유닛(400)의 노즐들(미도시)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다.The
갠트리 이동 유닛(300)은, 이하에서 설명하는 바와 같이, 갠트리(200)의 일단을 회전 중심으로 하여 갠트리(200)의 타단을 회전시킬 수 있다. 이와 달리, 갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)의 센터를 회전 중심으로 하여 갠트리(200)를 회전시킬 수 있도록 구성될 수도 있다.As described below, the
갠트리 구동 유닛(300) 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)을 포함한다. 제 2 구동 유닛(320)은 회전 중심이 되는 갠트리(200)의 일단에 제공되고, 제 1 구동 유닛(310)은 갠트리(200)의 타단에 제공된다.The
도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 제 1 구동 유닛(310)은 슬라이더(312), 제 1 회전 지지 부재(314), 그리고 제 1 직선 구동 부재(318)를 포함한다. 갠트리(200)의 하단부에는 갠트리(200)의 길이 방향을 따라 가이드 레일(210)이 제공되고, 슬라이더(312)는 가이드 레일(210)에 의해 안내되어 직선 이동한다. 슬라이더(312)의 하단부에는 제 1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 제 1 회전 지지 부재(314)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 1 회전 지지 부재(314)의 하면에는 제 1 직선 구동 부재(318)가 결합된다. 제 1 직선 구동 부재(318)는 제 1 회전 지지 부재(314)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 4 is a diagram illustrating the first driving unit of FIG. 3. Referring to FIG. 4, the
제 1 직선 구동 부재(318)는 가이드 레일(315)과 슬라이더(317)를 포함한다. 가이드 레일(315)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 타측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(315)에는 슬라이더(317)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(317)의 상면에는 제 1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 슬라이더(317)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(317)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The first
도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 나타내는 도면이다. 도 5를 참조하면, 제 2 구동 유닛(320)은 갠트리(200)의 직선 이동시 갠트리(200)의 일단을 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키고, 갠트리(200)의 회전시 갠트리(200)의 회전 중심으로 동작한다.FIG. 5 is a diagram illustrating a second driving unit of FIG. 3. Referring to FIG. 5, the
제 2 구동 유닛(320)은 제 2 회전 지지 부재(324)와 제 2 직선 구동 부재(328)를 포함한다. 갠트리(200)의 일단 하면에는 연결 부재(322)가 결합되고, 연결 부재(322)의 하면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 제 2 회전 지지 부재(324)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 하면에는 제 2 직선 구동 부재(328)가 결합된다. 제 2 직선 구동 부재(328)는 제 2 회전 지지 부재(324)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 직선 이동에 의해, 그 상부에 순차적으로 결합된 연결 부재(322)와 갠트리(200)의 일단이 직선 이동된다.The
제 2 직선 구동 부재(328)는 가이드 레일(325)과 슬라이더(327)를 포함한다. 가이드 레일(325)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 일측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(325)에는 슬라이더(327)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(327)의 상면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 슬라이더(327)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(327)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(325)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The second straight drive member 328 includes a
도 6은 갠트리의 회전 및 직선 이동 과정을 나타내는 도면이다. 도 3 및 도 6에서는 도면 편의상 액정 공급 유닛을 생략하였다. 6 is a view illustrating a process of rotating and linearly moving the gantry. 3 and 6 omit the liquid crystal supply unit for convenience of drawing.
도 4 및 도 5와, 도 6을 참조하면, 갠트리(200)는 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 회전되고, 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 4, 5, and 6, the
제 2 구동 유닛(320)의 제 2 직선 구동 부재(328)가 고정된 상태에서, 제 1 구동 유닛(310)의 제 1 직선 구동 부재(318)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동하면 갠트리(200)가 회전된다. 이에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.In a state in which the second linear drive member 328 of the
먼저, 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동한다. 이때, 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)가 구동되지 않으므로 제 1 방향(Ⅰ)으로의 이동이 없는 상태에서 제 2 회전 지지 부재(324)에 의해 회전된다. First, the
제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동함에 따라, 그 상부에 배치된 제 1 회전 지지 부재(314)가 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다. 동시에, 제 1 회전 지지 부재(314)의 상단에 결합된 슬라이더(312)는 제 1 회전 지지 부재(314)의 상부와 하부 간의 상대 회전에 의해 회전되면서, 갠트리(200)에 제공된 가이드 레일(210)을 따라 갠트리(200)의 하단측으로 이동한다. 결과적으로, 갠트리(200)는 제 2 구동 유닛(320)의 지지 위치를 중심으로 회전하고, 제 1 구동 유닛(310)의 갠트리(200) 지지 위치는 타단의 바깥 쪽으로 이동한 상태가 된다. 이러한 동작을 통해, 갠트리(200)는 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 회전될 수 있으며, 이에 따라 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다.As the
이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬되면, 액정이 도포될 기판(S)의 픽셀 피치 변화에 대응하여 유연성있게 액정 토출 피치를 조절할 수 있으며, 이를 통해 기판에 도포되는 액정의 막 균일도를 높일 수 있다.As such, when the
갠트리(200)는 상기와 같은 방법에 의해 회전될 수 있으며, 갠트리(200)는 회전된 상태에서 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)와 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)에 의해 추가적으로 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있다. 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동되고, 갠트리(200)의 타단은 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다.The
갠트리(200)가 고정되고 기판이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동하는 경우, 기판이 갠트리(200)의 일측에서 타측으로 이동되어야 하므로, 설비의 풋프린트(Footprint)가 증가될 수 있다. 그러나, 본 발명은, 기판을 고정시킨 상태에서 또는 기판의 직선 이동과 함께, 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있기 때문에, 설비의 풋프린트를 줄일 수 있다.When the
헤드 이동 유닛(500)은 잉크젯 헤드유닛(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)가 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 유닛(500) 또한 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 잉크젯 헤드유닛(400)은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다.The
도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 나타내는 도면이고, 도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다. FIG. 7 is a side view of the head moving unit of FIGS. 2 and 3, and FIG. 8 is a front view of the first moving unit of FIG. 7.
도 7 내지 도 8을 참조하면, 헤드 이동 유닛(500)은 제 1 이동 유닛(520)과 제 2 이동 유닛(540)을 포함한다. 제 1 이동 유닛(520)은 잉크젯 헤드유닛(400a)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(540)은 잉크젯 헤드유닛(400a)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킨다. 7 to 8, the
제 1 이동 유닛(520)은 가이드 레일들(522a,522b), 슬라이더들(524a, 524b), 그리고 이동 플레이트(526)를 포함한다. 가이드 레일들(522a,522b)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 길게 연장되며, 갠트리(200)의 전면에 제 3 방향(Ⅲ)으로 이격 설치될 수 있다. 가이드 레일들(522a,522b)에는 슬라이더들(524a, 524b)이 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더들(524a, 524b)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 이동 플레이트(526)는 슬라이더들(524a, 524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)의 상부 영역은 상부에 위치한 슬라이더(524a)에 결합되고, 이동 플레이트(526)의 하부 영역은 하부에 위치한 슬라이더(524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일들(522a,522b)을 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 개별 이동됨에 따라, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c) 간의 간격이 조절될 수 있다.The first moving
제 2 이동 유닛(540)은 가이드 부재(542), 슬라이더(544), 검출기(546), 제어기(548)를 포함한다. 가이드 부재(542)는 제 1 이동 유닛(520)의 이동 플레이트(526)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동을 안내한다. 슬라이더(544)는 가이드 부재(542)에 직선 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더(544)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 잉크젯 헤드유닛(400a)는 슬라이더(544)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동에 의해 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동된다.The second moving
검출기(546)는 갠트리(200)에 설치될 수 있으며, 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 검출한다. 검출기(546)는 비젼 카메라(vision camera)일 수있으며, 위치 확인 및 유리 인쇄(glass printing) 상태를 확인하는 용도로 사용된다. 제어기(548)는 검출기(546)의 검출 신호에 대응하는 제어 신호를 생성하고, 슬라이더(544)에 내장된 리니어 모터에 제어 신호를 전달하여 리니어 모터의 구동을 제어한다. 검출기(546)의 검출 결과에 따라 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격이 기설정된 기준치를 벗어나는 것으로 판단되면, 제어기(548)는 리니어 모터(미도시)의 구동을 제어하여 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 조절한다.The
잉크젯 헤드유닛(400)은 기판에 액정의 액적을 토출한다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.The
잉크젯 헤드유닛(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.The bottom of the
종래의 씨린지(Syringe)를 이용한 포인트 도팅(Point Dotting) 방식의 경우, 액정의 토출 피치가 크고, 토출되는 액정의 양이 mg 단위이므로, 액정의 점성 유동 저항 때문에 기판상에 액정이 고르게 퍼지지 못하는 문제점이 있었다. 그러나 본 발명은, 좁은 피치 간격을 가지는 다수의 노즐들(미도시)을 통해 μg 단위로 액정을 토출하므로, 액정의 점성 유동 저항에 불구하고 기판상에 보다 고르게 액정을 도포할 수 있다.In the case of the point dotting method using a conventional syringe, since the discharge pitch of the liquid crystal is large and the amount of the liquid crystal discharged is in mg unit, the liquid crystal does not spread evenly on the substrate due to the viscous flow resistance of the liquid crystal. There was a problem. However, in the present invention, since the liquid crystal is discharged in μg units through a plurality of nozzles (not shown) having a narrow pitch interval, the liquid crystal may be more evenly applied onto the substrate despite the viscous flow resistance of the liquid crystal.
각각의 잉크젯 헤드유닛(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.Each
액정 공급 유닛(600)은 액정 공급 모듈(620)과 압력 조절 모듈(640)을 포함한다. 액정 공급 모듈(620)과 압력 조절 모듈(640)은 갠트리(200)에 결합될 수 있다. 액정 공급 모듈(620)은 액정 공급부(도 1의 도면 번호 50)로부터 액정을 공급받고, 액정을 개별 헤드(410,420,430)에 공급한다. 압력 조절 모듈(640)은 액정 공급 모듈(620)에 양압 또는 음압을 제공하여 액정 공급 모듈(620)의 압력을 조절한다. The liquid
헤드 제어 유닛(700)은 각각의 헤드들(410,420,430)의 액정 토출을 제어한다. 헤드 제어 유닛(700)은 헤드들(410,420,430)에 인접하게 액정 토출부(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 헤드 제어 유닛(700)은 갠트리(200)의 일단에 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 헤드 제어 유닛(700)이 갠트리(200)의 일단에 배치된 경우를 예로 들어 설명하지만, 헤드 제어 유닛(700)의 위치는 이에 한정되는 것은 아니다.The
헤드 제어 유닛(700)은, 비록 도시되지는 않았지만, 각각의 헤드들(410,420,430)에 전기적으로 연결되고, 각각의 헤드들(410,420,430)로 제어 신호를 인가한다. 각각의 헤드들(410,420,430)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수의 압전 소자(미도시)가 제공될 수 있으며, 헤드 제어 유닛(700)은 압전 소자들에 인가되는 전압을 제어하여 노즐들(미도시)의 액적 토출 량을 조절할 수 있다.Although not shown, the
액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430) 마다 전부의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정량을 측정한다. 개별 헤드 (410,420,430)의 액정 토출량 측정을 통해, 개별 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면, 노즐들(미도시) 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.액정 토출량 측정 유닛(800)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100)의 일측에 배치될 수 있다. 액정 토출량 측정 유닛(800)은 제 1 내지 제 3 액정 토출량 측정 유닛(800a,800,800c)을 가질 수 있다. The liquid crystal discharge
노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드들(410,420,430)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.The
노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100) 일측에 배치될 수 있다. 헤드들(410,420,430)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드들(410,420,430)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드들(410,420,430)과 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The
도 9는 노즐 검사 유닛을 나타내는 도면이다. 9 is a view showing a nozzle inspection unit.
도 9을 참조하면, 노즐 검사 유닛(900)은 제 1 노즐 검사 부재(920), 제 1 구동 부재(940), 제 2 노즐 검사 부재(960), 그리고 제 2 구동 부재(980), 회수 부재(990)를 포함한다. 제 1 노즐 검사 부재(920)는 헤드(410,420,430)의 노즐들의 액정 토출 여부, 즉 노즐 막힘 여부를 검사한다. 제 1 구동 부재(940)는 제 1 노즐 검사 부재(920)를 노즐들의 정렬 방향으로 이동시킨다. 제 2 노즐 검사 부재(960)는 노즐들의 정렬 여부를 검사한다. 제 2 구동 부재(980)는 제 2 노즐 검사 부재(960)를 노즐들의 정렬 방향으로 이동시킨다. 도 9에서, 노즐들은 제 2 방향(Ⅱ)으로 정렬되어 있다.Referring to FIG. 9, the
제 1 노즐 검사 부재(920)는 배스(922), 발광부(924), 그리고 수광부(926)를 포함하다. 배스(922)는 개방된 상부를 가지는 통 형상으로 제공되며, 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)로부터 토출되어 낙하하는 액정을 수용한다. 발광부(924)는 배스(922)의 상부 일측에 배치되고, 수광부(926)는 배스(922)의 상부 타측에 발광부(924)와 마주보도록 배치된다. 발광부(924)는 광 신호를 방출하고, 수광부(926)은 발광부(924)가 방출한 광 신호를 수광한다. 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정은 발광부(924)와 수광부(926) 사이의 영역을 통과하고, 수광부(926)로 수광되는 광량의 차이에 의해 액정의 낙하 여부가 감지될 수 있다. 액정이 정상적으로 낙하한 것으로 판단되면, 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)의 막힘이 없는 것을 알 수 있다.The first
제 1 구동 부재(940)는 가이드 부재(942), 슬라이더(944), 그리고 구동기(946)를 포함한다. 가이드 부재(942)는 베이스(B)의 상면에 제 2 방향(Ⅱ)으로 연장된다. 슬라이더(944)에는 리니어 모터와 같은 구동기(946)가 내장될 수 있다. 슬라이더(944)는 구동기(946)에 의해 구동되고, 가이드 부재(942)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. 슬라이더(944)에는 배스(922)가 배치되며, 슬라이더(944)의 제 2 방향(Ⅱ) 직선 이동에 의해 배스(922)가 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. The first drive member 940 includes a guide member 942, a slider 944, and a driver 946. The guide member 942 extends in the second direction (II) on the upper surface of the base (B). Slider 944 may have a built-in driver 946, such as a linear motor. The slider 944 is driven by the driver 946 and linearly moved in the second direction II along the guide member 942. The
제 2 노즐 검사 부재(960)는 프레임(962), 조명기(964), 그리고 촬영기(966)을 포함한다. 프레임(962)은 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 제 1 노즐 검사 부재(920)의 배스(922)에 인접하게 배치될 수 있다. 프레임(962)에는 조명기(964)와 촬영기(966)가 배치된다. 조명기(964)는 검사되는 헤드(410,420,430)의 노즐면에 광을 조사하고, 촬영기(966)는 조명기(964)의 광이 조사되는 헤드(410,420,430)의 노즐면을 촬영하여 노즐들의 이미지를 획득한다. 획득된 이미지로부터 노즐들이 정위치에 정렬되어 있는가의 여부를 판단한다.The second
제 2 구동 부재(980)는 슬라이더(984)와, 구동기(986)를 포함한다. 슬라이더(984)에는 리니어 모터와 같은 구동기(986)가 내장될 수 있다. 슬라이더(984)는 구동기(986)에 의해 구동되고, 가이드 부재(942)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. 슬라이더(984)에는 제 2 노즐 검사 부재(960)의 프레임(962)이 배치되며, 슬라이더(984)의 제 2 방향(Ⅱ) 직선 이동에 의해 프레임(962), 조명기(964) 및 촬영기(966)가 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. The
회수 부재(990)는 배스(922)로부터 배출되는 액정을 회수한다. 회수 부재(990)는 하우징(992)과, 회수통(994)을 포함한다. 하우징(992)은 배스(922)의 하부에 배치되며, 회수통(994)을 수용하는 공간을 제공한다. 회수통(994)은 하우징(992)의 공간에 슬라이딩 방식에 의해 이동되어 분리 및 삽입되고, 배스(922)로부터 배출되는 액정을 회수한다. 회수된 액정은 재활용될 수 있다.The recovery member 990 recovers the liquid crystal discharged from the
도 10은 헤드 세정 유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.10 is a view schematically showing an embodiment of a head cleaning unit.
도 9와 도 10을 참조하면, 헤드 세정 유닛(1000)은 퍼징(Purging) 공정과 흡입(Suction) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정은 헤드들(410,420,430)의 내부에 수용된 액정의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 흡입(Suction) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 헤드들(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 제거하는 공정이다. 9 and 10, the
헤드 세정 유닛(1000)은 헤드들(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 배스(922)로 유입시킨다. 헤드 세정 유닛(1000), 그리고 노즐 검사 유닛(900)의 제 1 노즐 검사 부재(940)는 하나의 배스(922)를 공통으로 또는 개별적으로 사용할 수 있다. 배스(922)는 헤드들(410,420,430)의 퍼징 공정 중 토출되는 액정을 수용할 수 있으며, 또한 헤드들(410,420,430)의 노즐의 액정 토출 여부, 즉 노즐 막힘 여부의 검사시 토출되는 액정을 수용할 수 있다.The
헤드 세정 유닛(1000)은 석션 노즐(1100), 기체 분사 유닛(1200), 지지 부재(1300)를 포함한다. 지지 부재(1300)은 석션 노즐(1100)과 기체 분사 유닛(1200)을 지지한다.The
석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 이동 방향을 따라 제공된다. 석션 노즐(1100)은 중앙에 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 약액을 흡입하기 위한 석션 라인(1112)과 석션 라인의 끝단부에 형성된 헤드(410,420,430)의 노즐면을 향해 형성된 석션홀(1114)을 가진다. 석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 노즐면에서 이격된 채 제공된다. 석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 노즐면을 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 세정한다.The
기체 분사 유닛(1200)은 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 향하여 기체를 분사함으로써, 잔류하는 액정을 석션 노즐(1100)로 밀어 내어 석션 노즐(1100)이 잔류하는 약액을 용이하게 흡입하여 제거하도록 한다.The gas injection unit 1200 injects gas toward the liquid crystal remaining on the nozzle surfaces of the
기체 분사 유닛(1200)은 분사 노즐(1210). 수평 구동 부재(1220), 수직 구동 부재(1230) 및 압력 조절 수단(1240)을 포함한다.The gas injection unit 1200 is an
분사 노즐(1210)은 석션 노즐(1100)과 일렬로 제공된다. 분사 노즐(1210)은 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 향해 기체를 분사하기 위해 석션 노즐(1210)의 상부에 위치한 헤드(410,420,430)를 향해 토출구(1214)를 가진다. The
분사 노즐(1210)은 적어도 하나 이상 제공된다. 분사 노즐(1210)은 석션 노즐(1100)을 중심으로 다양한 배치가 가능하다. 분사 노즐(1210)의 토출구(1214)가 석션 노즐(1100)의 상부에 위치한 헤드(410,420,430)를 향하도록 분사 노즐(1210)을 배치한다. 분사 노즐(1210)이 복수 개 제공되는 경우, 석션 노즐(1100)의 전후에 복수 개의 분사 노즐(1210)이 모두 배치될 수도 있고, 석션 노즐(1100)을 기준으로 마주보게 배치될 수도 있다.At least one
수평 구동 부재(1220)는 석션 노즐(1100)과 분사 노즐(1210) 사이의 간격 또는 분사 노즐(1210)들 사이의 간격을 조절하기 위해 분사 노즐(1210)을 수평 방향으로 이동시킨다. 이는 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 양과 크기의 변화에 대응하기 위함이다.The
예컨대, 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 양과 크기가 큰 경우에는 분사 노즐(1210)과 석션 노즐(1100)과의 간격을 좁혀 기체를 분사하고, 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 양과 크기가 작은 경우에는 분사 노즐(1210)과 석션 노즐(1100)과의 간격을 넓혀 기체를 분사한다.For example, when the amount and size of the liquid crystal remaining on the nozzle surfaces of the
수평 구동 부재(1220)는 가이드 부재(1222), 슬라이더(1224), 그리고 수평 구동기(1226)를 포함한다. 가이드 부재(1222)는 지지 부재(1300)의 상면에 제 2 방향(2)으로 연장된다. 슬라이더(1224)에는 리니어 모터와 같은 수평 구동기(1226)가 내장될 수 있다. 슬라이더(122)는 수평 구동기(1226)에 의해 구동되고, 가이드 부재(1222)를 따라 제 2 방향(2)으로 직선 이동된다.The
수평 구동 부재(1220)는 복수 개의 분사 노즐(1210)의 각각에 결합되어 독립적으로 구동될 수도 있으며, 복수 개의 분사 노즐(1210)을 동시에 수평으로 구동시킬 수 있도록 결합될 수도 있다.The
승강 부재(1230)는 분사 노즐(1210)을 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 승강 부재(1230)는 분사 노즐(1210)의 토출구(1214)의 높이를 조절한다. 즉, 헤드(410,420,430)의 노즐면의 잔류하는 액정을 향해 기체를 분사할 때, 분사 노즐(1210)이 상하로 이동됨에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면에 대한 분사 노즐(1210)의 상대 높이가 변경된다.The lifting
승강 부재(1230)는 이동 축(1232) 및 승강 구동기(1234)를 포함한다. 승강 부재(1230)는 분사 노즐(1210)의 외벽에 승강 구동기(1234)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(1232)이 각각 고정결합된다. 승강 부재(1230)는 분사 노즐(1210)은 각각의 높이가 독립적으로 조절될 수 있도록 결합된다.The elevating
승강 부재(1230)는 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 양과 크기 변화에 따라 분사 노즐(1210)의 끝단부의 높이가 조절되도록 승강 부재(1230)를 석션 노즐(1100)에 결합시킨다.The elevating
압력 조절 수단(1240)는 분사 노즐(1210)의 토출구(1214)의 분사 압력을 변화시킨다. 압력 조절 수단(1240)는 분사 노즐(1210)에 각각 결합되어 토출구(1214)의 분사 압력을 각각 조절한다. 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 잔량을 측정하여 액정의 잔량의 변화에 대응될 수 있도록 서로 다른 압력값을 설정하여 분사 노즐(1210) 각각의 분사 압력을 다르게 조절한다.The pressure adjusting means 1240 changes the injection pressure of the discharge port 1214 of the
헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정의 크기가 상대적으로 큰 액정을 석션 노즐 방향으로 밀어 내기 위해, 헤드(410,420,430)의 노즐면과 분사 노즐(1210) 사이의 간격이 큰 분사 노즐(1210a)의 경우에는 큰 흡입 압력값을 설정하며, 제 1 차로 기체를 분사한 후 남아 있는 미세 액정을 석션 노즐(1100) 방향으로 밀어 내기 위해, 헤드(410,420,430)의 노즐면과 분사 노즐(1210) 사이의 간격이 작은 분사 노즐(1210b)의 경우에는 상대적으로 작은 흡입 압력값을 설정한다.In order to push out the liquid crystal having a relatively large size of liquid crystal remaining in the nozzle surface of the
도 11은 헤드 세정 유닛의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.11 is a view schematically showing another embodiment of the head cleaning unit.
도 12는 도 11의 헤드 세정 유닛의 일부를 개략적으로 나타내는 도면이다.12 is a view schematically showing a part of the head cleaning unit of FIG. 11.
일 실시예에 따르면, 도 11과 도 12에서 도시한 것처럼, 분사 노즐(1210)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 가질 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)은 헤드(410,420,430)의 이동 방향으로 석션 노즐(1100)의 앞쪽에 일렬로 배치될 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)이 하나의 수평 구동 부재(1220)에 결합되어 동시에 수평으로 구동될 수 있다. 승강 부재(1230)와 압력 조절 수단(1240)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)에 개별적으로 결합되어 독립적으로 작동된다. 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정에 따라 석션 노즐(1100)과 분사 노즐(1210) 간의 간격, 각각의 분사 노즐(1210)의 토출구(1214) 간의 간격과 각각의 분사 노즐(1210)의 토출구(1214)의 분사 압력이 조절될 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)의 토출구(1214a)의 높이와 흡입 압력은 제 2 분사 노즐(1210b)의 토출구(1214b)의 높이와 흡입 압력과 상이하게 조절될 수 있기 때문에, 제 1 분사 노즐(1210a)에서 분사된 기체로 헤드(410,420,430)의 잔류하는 액정을 석션 노즐(1100) 방향으로 모두 밀어 내지 못한 경우, 제 2 분사 노즐(1210b)에서 제 1 분사 노즐(1210a)보다 더 높아진 토출구의 높이와 흡입 압력으로 미세하게 남아 있는 잔류 액정을 석션 노즐(1100) 방향으로 밀어 낼 수 있다.According to an embodiment, as illustrated in FIGS. 11 and 12, the
다른 일 실시예에 따르면, 분사 노즐(1210)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 가질 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)은 헤드(410,420,430)의 이동 방향으로 석션 노즐(1100)의 앞쪽에 일렬로 배치될 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)이 개별적으로 수평 구동 부재(1220)에 결합되어 독립적으로 수평 구동될 수 있다. 승강 부재(1230)와 압력 조절 수단(1240)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)에 개별적으로 결합되어 독립적으로 작동된다. 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정에 따라 석션 노즐(1100)과 분사 노즐(1210a,1210b) 간의 간격, 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b) 간의 간격과 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b)의 분사 압력이 조절될 수 있다. 또한, 독립적으로 구동하는 제 1 분사 노즐(1210a)의 제 1 수평 구동 부재(1220a)와 제 2 분사 노즐(1210b)의 제 2 수평 구동 부재(1220b)로 인해, 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b) 사이의 간격도 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정에 따라 조절될 수 있다.According to another embodiment, the
도 13은 헤드 세정 유닛의 또 다른 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIG. 13 is a view schematically showing another embodiment of the head cleaning unit. FIG.
도 14는 도 13의 헤드 세정 유닛의 일부를 나타내는 확대단면도이다.FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view illustrating a part of the head cleaning unit of FIG. 13.
또 다른 일 실시예에 따르면, 도 13과 도14에 도시한 것처럼, 분사 노즐(1210)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 가질 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)은 석션 노즐(1100)을 기준으로 마주보게 일렬로 배치될 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)이 개별적으로 수평 구동 부재(1220a,1220b)에 결합되어 독립적으로 수평 구동될 수도 있다. 승강 부재(1230a,1230b)와 압력 조절 수단(1240a,1240b)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)에 개별적으로 결합되어 독립적으로 작동된다. 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정에 따라 석션 노즐(1100)과 분사 노즐(1210a,1210b) 간의 간격, 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b) 간의 간격과 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b)의 분사 압력을 조절할 수 있다. 또한, 제 1 분사 노즐(1210a)에서 분사된 기체로 헤드(410,420,430)의 잔류하는 액정을 석션 노즐(1100) 방향으로 모두 밀어 내지 못한 경우, 석션 노즐(1100)을 기준으로 제 1 분사 노즐(1210a)과 반대 방향에 배치된 제 2 분사 노즐(1210b)에서 제 1 분사 노즐(1210a)보다 더 높아진 토출구(1214b)의 높이와 흡입 압력으로 미세하게 남아 있는 잔류 액정을 석션 노즐(1100) 방향으로 밀어낼 수 있다.According to another embodiment, as shown in FIGS. 13 and 14, the
도 15는 헤드 세정 유닛의 일부에 대한 다른 실시예를 나타내는 확대단면도이다. 15 is an enlarged cross-sectional view showing another embodiment of a part of the head cleaning unit.
분사 노즐(1210)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 가질 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)은 헤드(410,420,430)의 이동 방향으로 석션 노즐(1100)의 뒤쪽에 일렬로 배치될 수 있다. 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)이 개별적으로 수평 구동 부재(1220)에 결합되어 독립적으로 수평 구동되거나 제 1 분사 노즐(1240a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 하나의 수평 구동 부재(1220)에 결합되어 동시에 수평 구동될 수 있다. 승강부재(1230)와 압력 조절 수단(1240)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)에 개별적으로 결합되어 독립적으로 작동된다. 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정에 따라 석션 노즐(1100)과 분사 노즐(1210a,1210b) 간의 간격, 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b) 간의 간격과 각각의 분사 노즐(1210a,1210b)의 토출구(1214a,1214b)의 분사 압력이 조절될 수 있다. The
이와 같이, 분사 노즐(1210)과 석션 노즐(1100)간의 간격 또는 분사 노즐(1210a,1210b)들 사이의 간격과 분사 노즐(1210a,1210b)의 분사 압력과 높이를 조절함으로써, 헤드(410,420,430)의 세정 공정 중 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 신속하고 완벽하게 제거할 수 있다.As such, by adjusting the interval between the
상기 실시예에서, 헤드 세정 유닛(1000)은 제 1 분사 노즐(1210a)과 제 2 분사 노즐(1210b)을 포함하는 복수 개의 분사 노즐(1210)로 이루어진다. 그러나 분사 노즐(1210)이 하나로 구성된 헤드 세정 유닛(1000)을 제공할 수 있다.In the above embodiment, the
또한, 상기 실시예에서는 헤드(410,420,430)가 이동하면서 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공한다. 그러나. 헤드 세정 유닛(1000)이 이동하면서 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공할 수 있다.In addition, the embodiment provides a
또한, 상기 실시예에서는 가이드 부재(1222), 슬라이더(1224), 그리고 수평 구동기(1226)를 포함한 수평 구동 부재(1220)를 제공한다. 그러나, 이에 한정되지 않고 랙앤피니언 기어나 체인 기어와 같은 수평 구동이 가능한 구동 수단을 포함하는 수평 구동 부재(1220)를 제공할 수 있다. The embodiment also provides a
또한, 상기 실시예에서는 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공한다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 처리액이 토출되는 노즐을 세정하는 세정 유닛에도 적용될 수 있다.In addition, the above embodiment provides a
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
B 베이스 100 기판 지지 유닛
200 갠트리 300 갠트리 이동 유닛
400 헤드 500 헤드 이동 유닛
600 액정 공급 유닛 700 헤드 제어 유닛
800 액정 토출량 측정 유닛 900 노즐 검사 유닛
1000 헤드 세정 유닛
1100 석션 노즐
1200 기체 분사 유닛 1300 지지 부재
1210 분사 노즐 1220 수평 구동 부재
1230 승강 부재 1240 압력 조절 수단B base 100 substrate support unit
200
400
600 liquid
800 Liquid Crystal
1000 head cleaning units
1100 suction nozzle
1200
1210
1230 elevating
Claims (14)
베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry); 및
상기 베이스에 설치되며, 상기 헤드의 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
상기 세정 유닛은
상기 헤드를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐의 상부에 위치한 헤드를 향하는 토출구를 가지는 분사 노즐 및 상기 분사 노즐을 수평 방향으로 이동시키는 수평 구동 부재를 구비하는 기체 분사 유닛을 포함하되,
상기 분사 노즐은 복수 개가 제공되고,
상기 수평 구동 부재가 각각의 상기 분사 노즐에 결합되어 독립적으로 구동하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.In the inkjet type treatment liquid discharge device,
Base;
A substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed;
A gantry provided on an upper portion of a movement path of the substrate support unit, to which heads for discharging the chemical liquid on the substrate are coupled; And
Is installed in the base, including a cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the head,
The cleaning unit
A suction nozzle having a suction hole formed toward the head; And
Including a gas injection unit having an injection nozzle having a discharge port toward the head located above the suction nozzle and a horizontal drive member for moving the injection nozzle in a horizontal direction,
The spray nozzle is provided in plurality,
And the horizontal drive member is coupled to each of the injection nozzles to drive independently.
상기 수평 구동 부재가,
상기 베이스 상면에 결합된 가이드 부재;
상기 가이드 부재를 따라 직선 이동하는 슬라이더; 및
상기 슬라이더를 구동시키는 구동기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.The method of claim 1,
The horizontal drive member,
A guide member coupled to the upper surface of the base;
A slider linearly moving along the guide member; And
And a driver for driving the slider.
베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry); 및
상기 베이스에 설치되며, 상기 헤드의 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
상기 세정 유닛은
상기 헤드를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐의 상부에 위치한 헤드를 향하는 토출구를 가지는 분사 노즐을 구비하는 기체 분사 유닛을 포함하되,
상기 분사 노즐은 복수 개가 제공되고,
상기 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이가 각각 다른 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.In the inkjet type treatment liquid discharge device,
Base;
A substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed;
A gantry provided on an upper portion of a movement path of the substrate support unit, to which heads for discharging the chemical liquid on the substrate are coupled; And
Is installed in the base, including a cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the head,
The cleaning unit
A suction nozzle having a suction hole formed toward the head; And
Including a gas injection unit having a spray nozzle having a discharge port toward the head located above the suction nozzle,
The spray nozzle is provided in plurality,
And a height at each end of a discharge port of the injection nozzle is different from each other.
베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry); 및
상기 베이스에 설치되며, 상기 헤드의 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
상기 세정 유닛은
상기 헤드를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐의 상부에 위치한 헤드를 향하는 토출구를 가지는 분사 노즐을 구비하는 기체 분사 유닛을 포함하되,
상기 분사 노즐은 복수 개가 제공되고,
상기 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이를 독립적으로 조절하기 위해 상기 분사 노즐에 각각 결합되는 승강 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.In the inkjet type treatment liquid discharge device,
Base;
A substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed;
A gantry provided on an upper portion of a movement path of the substrate support unit, to which heads for discharging the chemical liquid on the substrate are coupled; And
Is installed in the base, including a cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the head,
The cleaning unit
A suction nozzle having a suction hole formed toward the head; And
Including a gas injection unit having a spray nozzle having a discharge port toward the head located above the suction nozzle,
The spray nozzle is provided in plurality,
And a lifting member coupled to each of the injection nozzles to independently adjust a height of an end of the discharge port of the injection nozzle.
베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry); 및
상기 베이스에 설치되며, 상기 헤드의 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
상기 세정 유닛은
상기 헤드를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐의 상부에 위치한 헤드를 향하는 토출구를 가지는 분사 노즐을 구비하는 기체 분사 유닛을 포함하되,
상기 분사 노즐은 복수 개가 제공되고,
상기 분사 노즐의 토출구의 분사 압력을 독립적으로 조절하기 위해 상기 분사 노즐에 각각 결합되는 압력 조절 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.In the inkjet type treatment liquid discharge device,
Base;
A substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed;
A gantry provided on an upper portion of a movement path of the substrate support unit, to which heads for discharging the chemical liquid on the substrate are coupled; And
Is installed in the base, including a cleaning unit for cleaning the nozzle surface of the head,
The cleaning unit
A suction nozzle having a suction hole formed toward the head; And
Including a gas injection unit having a spray nozzle having a discharge port toward the head located above the suction nozzle,
The spray nozzle is provided in plurality,
And pressure regulating means respectively coupled to the spray nozzles to independently adjust the spray pressure of the ejection openings of the spray nozzles.
상부를 향하도록 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐이 위치한 헤드를 향해 토출구를 가지는 분사 노즐이 적어도 하나이상 제공되는 기체 분사 유닛;을 포함하되,
상기 분사 노즐은,
제 1 분사 노즐과 제 2 분사 노즐을 구비하되,
상기 제 1 분사 노즐과 상기 제 2 분사 노즐은 상기 석션 노즐를 향하여 상기 석션 노즐과 일렬로 배열되고,
상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이와 제 2 분사 노즐의 토출구의 끝단의 높이가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 세정 유닛.In the cleaning unit for cleaning the nozzle of the processing liquid,
A suction nozzle having a suction hole formed to face upward; And
And a gas injection unit provided with at least one injection nozzle having a discharge port toward the head at which the suction nozzle is located.
The injection nozzle,
A first spray nozzle and a second spray nozzle,
The first spray nozzle and the second spray nozzle are arranged in line with the suction nozzle toward the suction nozzle,
The height of the end of the discharge port of the first injection nozzle and the height of the end of the discharge port of the second injection nozzle are different from each other.
상기 제 1 분사 노즐 및 제 2 분사 노즐을 수평방향으로 이동시키는 수평구동부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤드 세정 유닛.The method of claim 8,
And a horizontal driving member for moving the first spray nozzle and the second spray nozzle in a horizontal direction.
상기 제 1 분사 노즐을 수평 방향으로 이동시키는 제 1 수평 부재와 상기 제 2 분사 노즐을 수평방향으로 이동시키는 제 2 수평 부재를 더 포함하되, 상기 제 1 수평 부재와 상기 제 2 수평 부재가 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 헤드 세정 유닛.The method of claim 9,
And a first horizontal member for moving the first spray nozzle in a horizontal direction and a second horizontal member for moving the second spray nozzle in a horizontal direction, wherein the first horizontal member and the second horizontal member are independently Head cleaning unit, characterized in that controlled.
상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 높이를 조절하는 제 1 승강 부재와 상기 제 2 분사 노즐의 토출구의 높이를 조절하는 제 2 승강 부재를 더 포함하되, 상기 제 1 승강 부재와 상기 제 2 승강 부재가 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 헤드 세정 유닛.11. The method according to any one of claims 8 to 10,
A first lifting member for adjusting the height of the discharge port of the first injection nozzle and a second lifting member for adjusting the height of the discharge port of the second injection nozzle, wherein the first lifting member and the second lifting member is Head cleaning unit, characterized in that controlled independently.
상기 제 1 분사 노즐의 토출구의 분사 압력을 조절하는 제 1 압력 조절 수단과 상기 제 2 분사 노즐의 토출구의 분사 압력를 조절하는 제 2 압력 조절 수단을 더 포함하되, 제 1 압력 조절 수단과 제 2 압력 조절 수단이 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 헤드 세정 유닛.11. The method according to any one of claims 8 to 10,
Further comprising a first pressure control means for adjusting the injection pressure of the discharge port of the first injection nozzle and a second pressure control means for adjusting the injection pressure of the discharge port of the second injection nozzle, the first pressure adjusting means and the second pressure Head cleaning unit, characterized in that the adjusting means are controlled independently.
복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 가까운 분사 노즐이 처리액의 노즐에 잔류하는 액정을 향해 기체를 분사하여 액정을 석션 노즐 방향으로 밀어낸 후, 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 먼 분사 노즐이 잔류하는 액정을 향해 다시 기체를 분사하여 액정을 석션 노즐 방향으로 밀어내어 석션 노즐로 흡입하여 세정하는 것을 특징으로 하는 헤드 세정 방법.In the cleaning method of a processing liquid discharge apparatus,
Among the plurality of spray nozzles, the spray nozzle closest to the suction nozzle ejects gas toward the liquid crystal remaining in the nozzle of the processing liquid, pushes the liquid crystal toward the suction nozzle, and then the distance between the suction nozzle among the plurality of spray nozzles A head cleaning method, comprising: jetting gas back toward a liquid crystal remaining in a distant injection nozzle, pushing the liquid crystal toward the suction nozzle, and sucking and cleaning the liquid by the suction nozzle.
상기 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 가까운 분사 노즐의 토출구의 높이가 상기 복수 개의 분사 노즐 중 석션 노즐과의 거리가 먼 분사 노즐의 토출구의 높이보다 낮은 것을 특징으로 하는 헤드 세정 방법.The method of claim 13,
The height of the discharge port of the injection nozzle of the plurality of injection nozzles near the distance to the suction nozzle is lower than the height of the discharge port of the injection nozzle far from the suction nozzle of the plurality of injection nozzles.
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