KR101464203B1 - Cleaning unit, treating fluid discharging apparatus with the unit, and cleaning method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 처리액 토출 장치를 개시한 것으로서, 헤드의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛에 있어서, 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 신속하고 완전하게 제거하기 위해 블레이드를 이용하여 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 긁어 내면서 석션 노즐로 흡입하여 세정하는 것을 특징으로 한다.A head cleaning unit for cleaning a nozzle surface of a head, comprising: a nozzle for removing a fine liquid crystal remaining on a nozzle surface of the head, The fine liquid crystal is scraped off and sucked into the suction nozzle for cleaning.
Description
본 발명은 처리액 토출 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액적(droplet)을 토출하는 잉크젯 방식에 의해 기판에 처리액을 토출하는 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과; 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal display devices have been widely used in display portions of electronic apparatuses such as mobile phones and portable computers. A liquid crystal display device includes: a color filter substrate on which a black matrix, a color filter, a common electrode, and an alignment film are formed; Liquid crystal is injected into a space between a thin film transistor (TFT), a pixel electrode and an array substrate on which an alignment film is formed, and a video effect is obtained by using a difference in refractive index of light according to anisotropy of liquid crystal.
컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 그러나 기판에 액정을 도포한 후 헤드에 잔류하는 액정을 세정하더라도 세정이 원활히 이루어지지 않아 헤드에 미세 액정이 남게 되는 문제점이 있다. 이로 인해, 기판에 도포되는 액정의 막 균일도가 저하되는 문제점이 발생한다.An ink jet type coating apparatus is used as an apparatus for applying an alignment liquid or a liquid crystal onto a color filter substrate and an array substrate. However, even if the liquid crystal remaining on the head is cleaned after the liquid crystal is coated on the substrate, cleaning is not smoothly performed, and fine liquid crystal remains on the head. This causes a problem that the film uniformity of the liquid crystal applied to the substrate is lowered.
본 발명의 목적은 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 효율적으로 제거할 수 있는 처리액 토출 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a process liquid ejecting apparatus capable of efficiently removing fine liquid crystal remaining on a nozzle face of a head.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited thereto, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액 토출 장치는, 베이스와 상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛과 상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 노즐이 형성된 노즐면을 가지는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry) 및 상기 베이스에 설치되며, 상기 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은 상기 노즐면을 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐 및 상기 석션 노즐에 결합되어 상기 석션 노즐보다 상부로 돌출된 판형의 블레이드를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a processing solution dispensing apparatus comprising: a base; a substrate supporting unit installed on the base and on which a substrate is placed; And a cleaning unit installed on the base, the cleaning unit cleaning the nozzle surface, wherein the cleaning unit is provided with a plurality of nozzles for discharging the chemical liquid on the nozzle surface, the gentry being connected to the nozzles, A suction nozzle having a suction hole formed toward the suction nozzle, and a plate-shaped blade coupled to the suction nozzle and protruding upward from the suction nozzle.
또한, 상기 블레이드의 끝단이 상기 석션홀 내측에 결합되어 상부로 돌출되는 것을 특징으로 한다.Further, an end of the blade is coupled to the inside of the suction hole and protrudes upward.
또한, 상기 블레이드는 상기 석션홀에 대해 경사지게 제공되는 것을 특징으로 한다.Further, the blade is provided to be inclined with respect to the suction hole.
또한, 상기 석션홀을 중심으로 상기 블레이드가 결합된 상기 석션 노즐의 끝단의 높이가 상기 석션 노즐의 반대편 끝단의 높이보다 낮은 것을 특징으로 한다.In addition, the height of the end of the suction nozzle coupled with the blade around the suction hole is lower than the height of the opposite end of the suction nozzle.
또한, 상기 석션 노즐의 석션홀의 끝단의 높이를 조절하기 위해 상기 석션 노즐에 결합되는 승강 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The suction nozzle may further include a lifting member coupled to the suction nozzle to adjust a height of an end of the suction hole of the suction nozzle.
또한, 상기 블레이드는 탄성 재질을 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the blade is characterized in that it includes an elastic material.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액 노즐을 세정하는 세정 유닛은, 상부를 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐 및 상기 석션 노즐의 상부를 향하도록 결합되며, 상기 석션 노즐보다 상부로 돌출된 판형의 블레이드;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cleaning unit for cleaning a treatment liquid nozzle according to an embodiment of the present invention, comprising: a suction nozzle having a suction hole formed toward an upper portion thereof; And a plate-shaped blade projecting upwardly.
또한, 상기 블레이드는 상기 석션홀에 대해 경사지게 제공되는 것을 특징으로 한다.Further, the blade is provided to be inclined with respect to the suction hole.
또한, 상기 블레이드가 탄성 재질을 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the blade is characterized in that it includes an elastic material.
상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 처리액 토출 장치의 세정 방법은, 처리액의 노즐에 잔류하는 액정을 블레이드로 긁어 내면서, 석션 노즐로 흡입하여 세정하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above-mentioned object, the cleaning method of the treatment liquid dispensing apparatus according to the embodiment of the present invention is characterized in that the liquid crystal remaining on the nozzle of the treatment liquid is scratched by the blade, and sucked into the suction nozzle and cleaned.
본 발명에 의하면, 헤드의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 완벽하게 제거할 수 있다. According to the present invention, the fine liquid crystal remaining on the nozzle face of the head can be completely removed.
이하에 설명된 도면들은 단지 예시의 목적을 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이다.
도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다.
도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 나타내는 도면이다.
도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 나타내는 도면이다.
도 6은 갠트리의 직선 이동 및 회전 과정을 나타내는 도면이다.
도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 나타내는 도면이다.
도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다.
도 9는 노즐 검사 유닛을 나타내는 도면이다.
도 10은 헤드 세정 유닛을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11 은 헤드 세정 유닛의 블레이드의 일실시예를 나타내는 도면이다.
도 12는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 다른 일실시예를 나타내는 도면이다.
도 13은 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.
도 14는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.
도 15는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.The drawings described below are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.
1 is a view showing a configuration of an inkjet type liquid crystal coating equipment.
2 is a perspective view of the liquid crystal discharge portion of FIG.
3 is a plan view of the liquid crystal discharge portion of FIG.
4 is a view showing the first drive unit of Fig.
5 is a view showing the second drive unit of Fig.
6 is a view showing a linear movement and a rotation process of the gantry.
7 is a view showing a side surface of the head moving unit of Figs. 2 and 3. Fig.
Figure 8 is a front view of the first mobile unit of Figure 7;
9 is a view showing a nozzle inspection unit.
10 is a view schematically showing the head cleaning unit.
11 is a view showing one embodiment of the blade of the head cleaning unit.
12 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
13 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
14 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
15 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The above and other objects, features, and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings. Each drawing has been partially or exaggerated for clarity. It should be noted that, in adding reference numerals to the constituent elements of the respective drawings, the same constituent elements are shown to have the same reference numerals as possible even if they are displayed on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
이하에서는, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 설비와, 이를 이용하여 대상물에 처리액을 도포하는 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a facility for applying a treatment liquid to an object by an ink jet system for ejecting liquid drops and a method for applying the treatment liquid to the object using the apparatus will be described.
예를 들어, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다. For example, the object may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel, and the processing liquid may be liquid crystal, alignment liquid, red (R) , Green (G), and blue (B) ink. As the alignment liquid, polyimide may be used.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.The alignment liquid can be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate and the thin film transistor (TFT) substrate, and the liquid crystal can be applied to the entire surface of the color filter (CF) substrate or the thin film transistor (TFT) substrate. The ink may be applied to the interior area of the black matrix arranged in a lattice pattern on a color filter (CF) substrate.
본 실시 예에서는, 처리액으로 액정을 사용하는 설비를 예로 들어 설명하지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.In this embodiment, a facility using liquid crystal as a treatment liquid is described as an example, but the technical idea of the present invention is not limited thereto.
도 1은 잉크젯 방식 액정 도포 설비의 구성을 나타내는 도면이다. 도 1의 액정 도포 설비(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.1 is a view showing a configuration of an inkjet type liquid crystal coating equipment. The liquid
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.The substrate may be a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel, and the liquid crystal may be applied to an entire surface of a color filter (CF) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate.
도 1을 참조하면, 액정 도포 설비(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 1, the liquid
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.Here, the first direction I is an arrangement direction of the liquid
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.The substrate to which the liquid crystal is to be applied is brought into the
도 2는 도 1의 액정 토출부의 사시도이고, 도 3은 도 1의 액정 토출부의 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 액정 토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 잉크젯 헤드유닛들(400), 헤드 이동 유닛(500), 액정 공급 유닛(600), 개별 헤드 제어 유닛(700), 액정 토출량 측정 유닛(800), 노즐 검사 유닛(900), 그리고 헤드 세정 유닛(1000)을 포함한다.FIG. 2 is a perspective view of the liquid crystal discharge portion of FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal discharge portion of FIG. 2 and 3, the liquid
이하에서는 액정 토출부의 각각의 구성에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, each configuration of the liquid crystal discharge portion will be described in detail.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.The base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. A
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.When the
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.The
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.The
갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(200)의 회전에 의해, 잉크젯 헤드유닛(400)의 노즐들(미도시)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다.The gantry moving unit 300 moves the
갠트리 이동 유닛(300)은, 이하에서 설명하는 바와 같이, 갠트리(200)의 일단을 회전 중심으로 하여 갠트리(200)의 타단을 회전시킬 수 있다. 이와 달리, 갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)의 센터를 회전 중심으로 하여 갠트리(200)를 회전시킬 수 있도록 구성될 수도 있다.The gantry moving unit 300 can rotate the other end of the
갠트리 구동 유닛(300) 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)을 포함한다. 제 2 구동 유닛(320)은 회전 중심이 되는 갠트리(200)의 일단에 제공되고, 제 1 구동 유닛(310)은 갠트리(200)의 타단에 제공된다.The gantry drive unit 300 includes a
도 4는 도 3의 제 1 구동 유닛을 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 제 1 구동 유닛(310)은 슬라이더(312), 제 1 회전 지지 부재(314), 그리고 제 1 직선 구동 부재(318)를 포함한다. 갠트리(200)의 타단측 하단부에는 갠트리(200)의 길이 방향을 따라 가이드 레일(210)이 제공되고, 슬라이더(312)는 가이드 레일(210)에 의해 안내되어 직선 이동한다. 슬라이더(312)의 하단부에는 제 1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 제 1 회전 지지 부재(314)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 1 회전 지지 부재(314)의 하면에는 제 1 직선 구동 부재(318)가 결합된다. 제 1 직선 구동 부재(318)는 제 1 회전 지지 부재(314)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 4 is a view showing the first drive unit of Fig. Referring to FIG. 4, the
제 1 직선 구동 부재(318)는 가이드 레일(315)과 슬라이더(317)를 포함한다. 가이드 레일(315)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 타측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(315)에는 슬라이더(317)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(317)의 상면에는 제 1 회전 지지 부재(314)가 결합된다. 슬라이더(317)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(317)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The first linear driving
도 5는 도 3의 제 2 구동 유닛을 나타내는 도면이다. 도 5를 참조하면, 제 2 구동 유닛(320)은 갠트리(200)의 직선 이동시 갠트리(200)의 일단을 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키고, 갠트리(200)의 회전시 갠트리(200)의 회전 중심으로 동작한다.5 is a view showing the second drive unit of Fig. 5, the
제 2 구동 유닛(320)은 제 2 회전 지지 부재(324)와 제 2 직선 구동 부재(328)를 포함한다. 갠트리(200)의 일단 하면에는 연결 부재(322)가 결합되고, 연결 부재(322)의 하면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 제 2 회전 지지 부재(324)는 상부와 하부의 상대 회전이 가능한 베어링일 수 있다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 하면에는 제 2 직선 구동 부재(328)가 결합된다. 제 2 직선 구동 부재(328)는 제 2 회전 지지 부재(324)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 제 2 회전 지지 부재(324)의 직선 이동에 의해, 그 상부에 순차적으로 결합된 연결 부재(322)와 갠트리(200)의 일단이 직선 이동된다.The
제 2 직선 구동 부재(328)는 가이드 레일(325)과 슬라이더(327)를 포함한다. 가이드 레일(325)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 일측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(325)에는 슬라이더(327)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(327)의 상면에는 제 2 회전 지지 부재(324)가 결합된다. 슬라이더(327)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(327)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(325)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.The second linear drive member 328 includes a
도 6은 갠트리의 회전 및 직선 이동 과정을 나타내는 도면이다. 도 3 및 도 6에서는 도면 편의상 액정 공급 유닛을 생략하였다. 6 is a view showing the rotation and linear movement process of the gantry. In Figs. 3 and 6, the liquid crystal supply unit is omitted for convenience of illustration.
도 4 및 도 5와, 도 6을 참조하면, 갠트리(200)는 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 회전되고, 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 4, 5 and 6, the
제 2 구동 유닛(320)의 제 2 직선 구동 부재(328)가 고정된 상태에서, 제 1 구동 유닛(310)의 제 1 직선 구동 부재(318)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동하면 갠트리(200)가 회전된다. 이에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.When the first linear driving
먼저, 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동한다. 이때, 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)가 구동되지 않으므로 제 1 방향(Ⅰ)으로의 이동이 없는 상태에서 제 2 회전 지지 부재(324)에 의해 회전된다. First, the
제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)가 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동함에 따라, 그 상부에 배치된 제 1 회전 지지 부재(314)가 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다. 동시에, 제 1 회전 지지 부재(314)의 상단에 결합된 슬라이더(312)는 제 1 회전 지지 부재(314)의 상부와 하부 간의 상대 회전에 의해 회전되면서, 갠트리(200)에 제공된 가이드 레일(210)을 따라 갠트리(200)의 하단측으로 이동한다. 결과적으로, 갠트리(200)는 제 2 구동 유닛(320)의 지지 위치를 중심으로 회전하고, 제 1 구동 유닛(310)의 갠트리(200) 지지 위치는 타단의 바깥 쪽으로 이동한 상태가 된다. 이러한 동작을 통해, 갠트리(200)는 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 회전될 수 있으며, 이에 따라 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬된다.As the
이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400)이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬되면, 액정이 도포될 기판(S)의 픽셀 피치 변화에 대응하여 유연성있게 액정 토출 피치를 조절할 수 있으며, 이를 통해 기판에 도포되는 액정의 막 균일도를 높일 수 있다.As such, when the ink jet head unit 400 is aligned in the oblique direction in the first direction I, the liquid crystal discharge pitch can be flexibly adjusted in accordance with the pixel pitch change of the substrate S to which the liquid crystal is to be applied, It is possible to increase the film uniformity of the liquid crystal applied to the substrate.
갠트리(200)는 상기와 같은 방법에 의해 회전될 수 있으며, 갠트리(200)는 회전된 상태에서 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)와 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)에 의해 추가적으로 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있다. 갠트리(200)의 일단은 제 2 직선 구동 부재(328)의 슬라이더(327)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동되고, 갠트리(200)의 타단은 제 1 직선 구동 부재(318)의 슬라이더(317)의 이동에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다.The
갠트리(200)가 고정되고 기판이 제 1 방향(Ⅰ)으로 이동하는 경우, 기판이 갠트리(200)의 일측에서 타측으로 이동되어야 하므로, 설비의 풋프린트(Footprint)가 증가될 수 있다. 그러나, 본 발명은, 기판을 고정시킨 상태에서 또는 기판의 직선 이동과 함께, 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동할 수 있기 때문에, 설비의 풋프린트를 줄일 수 있다.When the
헤드 이동 유닛(500)은 잉크젯 헤드유닛(400)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)가 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 유닛(500) 또한 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 잉크젯 헤드유닛(400)은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다.The
도 7은 도 2 및 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 나타내는 도면이고, 도 8은 도 7의 제 1 이동 유닛의 정면도이다. Fig. 7 is a side view of the head moving unit of Figs. 2 and 3, and Fig. 8 is a front view of the first moving unit of Fig.
도 7 내지 도 8을 참조하면, 헤드 이동 유닛(500)은 제 1 이동 유닛(520)과 제 2 이동 유닛(540)을 포함한다. 제 1 이동 유닛(520)은 잉크젯 헤드유닛(400a)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(540)은 잉크젯 헤드유닛(400a)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킨다. 7 to 8, the
제 1 이동 유닛(520)은 가이드 레일들(522a,522b), 슬라이더들(524a, 524b), 그리고 이동 플레이트(526)를 포함한다. 가이드 레일들(522a,522b)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 길게 연장되며, 갠트리(200)의 전면에 제 3 방향(Ⅲ)으로 이격 설치될 수 있다. 가이드 레일들(522a,522b)에는 슬라이더들(524a, 524b)이 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더들(524a, 524b)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 이동 플레이트(526)는 슬라이더들(524a, 524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)의 상부 영역은 상부에 위치한 슬라이더(524a)에 결합되고, 이동 플레이트(526)의 하부 영역은 하부에 위치한 슬라이더(524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일들(522a,522b)을 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동한다. 이와 같이, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 개별 이동됨에 따라, 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c) 간의 간격이 조절될 수 있다.The first moving
제 2 이동 유닛(540)은 가이드 부재(542), 슬라이더(544), 검출기(546), 제어기(548)를 포함한다. 가이드 부재(542)는 제 1 이동 유닛(520)의 이동 플레이트(526)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동을 안내한다. 슬라이더(544)는 가이드 부재(542)에 직선 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더(544)에는 직선 구동기, 예를 들어 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 잉크젯 헤드유닛(400a)는 슬라이더(544)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동에 의해 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동된다.The second moving
검출기(546)는 갠트리(200)에 설치될 수 있으며, 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 검출한다. 검출기(546)는 비젼 카메라(vision camera)일 수있으며, 위치 확인 및 유리 인쇄(glass printing) 상태를 확인하는 용도로 사용된다. 제어기(548)는 검출기(546)의 검출 신호에 대응하는 제어 신호를 생성하고, 슬라이더(544)에 내장된 리니어 모터에 제어 신호를 전달하여 리니어 모터의 구동을 제어한다. 검출기(546)의 검출 결과에 따라 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격이 기설정된 기준치를 벗어나는 것으로 판단되면, 제어기(548)는 리니어 모터(미도시)의 구동을 제어하여 잉크젯 헤드유닛(400a)와 기판(S) 사이의 간격을 조절한다.The
잉크젯 헤드유닛(400)은 기판에 액정의 액적을 토출한다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.The inkjet head unit 400 discharges droplets of liquid crystal onto the substrate. A plurality of inkjet head units 400 may be provided. In this embodiment, three
잉크젯 헤드유닛(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.A plurality of nozzles (not shown) for ejecting droplets of liquid crystal are provided on the bottom surface of the inkjet head unit 400. For example, 128 or 256 nozzles (not shown) may be provided in each of the heads. The nozzles (not shown) may be arranged in a line at intervals of a predetermined pitch. The nozzles (not shown) can eject the liquid crystal in an amount of μg.
종래의 씨린지(Syringe)를 이용한 포인트 도팅(Point Dotting) 방식의 경우, 액정의 토출 피치가 크고, 토출되는 액정의 양이 mg 단위이므로, 액정의 점성 유동 저항 때문에 기판상에 액정이 고르게 퍼지지 못하는 문제점이 있었다. 그러나 본 발명은, 좁은 피치 간격을 가지는 다수의 노즐들(미도시)을 통해 μg 단위로 액정을 토출하므로, 액정의 점성 유동 저항에 불구하고 기판상에 보다 고르게 액정을 도포할 수 있다.In the conventional point dotting method using a syringe, since the ejection pitch of the liquid crystal is large and the amount of liquid crystal to be ejected is in the unit of mg, the liquid crystal is not spread evenly on the substrate due to the viscous flow resistance of the liquid crystal There was a problem. However, since the liquid crystal is ejected in units of micrograms through a plurality of nozzles (not shown) having a narrow pitch interval, the liquid crystal can be coated more evenly on the substrate despite the viscous flow resistance of the liquid crystal.
각각의 잉크젯 헤드유닛(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.The number of piezoelectric elements corresponding to the nozzles (not shown) may be provided in each of the inkjet head units 400, and the amount of droplets discharged from the nozzles (not shown) may be controlled by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements Respectively.
액정 공급 유닛(600)은 액정 공급 모듈(620)과 압력 조절 모듈(640)을 포함한다. 액정 공급 모듈(620)과 압력 조절 모듈(640)은 갠트리(200)에 결합될 수 있다. 액정 공급 모듈(620)은 액정 공급부(도 1의 도면 번호 50)로부터 액정을 공급받고, 액정을 개별 헤드(410,420,430)에 공급한다. 압력 조절 모듈(640)은 액정 공급 모듈(620)에 양압 또는 음압을 제공하여 액정 공급 모듈(620)의 압력을 조절한다. The liquid
헤드 제어 유닛(700)은 각각의 헤드들(410,420,430)의 액정 토출을 제어한다. 헤드 제어 유닛(700)은 헤드들(410,420,430)에 인접하게 액정 토출부(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 헤드 제어 유닛(700)은 갠트리(200)의 일단에 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 헤드 제어 유닛(700)이 갠트리(200)의 일단에 배치된 경우를 예로 들어 설명하지만, 헤드 제어 유닛(700)의 위치는 이에 한정되는 것은 아니다.The
헤드 제어 유닛(700)은, 비록 도시되지는 않았지만, 각각의 헤드들(410,420,430)에 전기적으로 연결되고, 각각의 헤드들(410,420,430)로 제어 신호를 인가한다. 각각의 헤드들(410,420,430)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수의 압전 소자(미도시)가 제공될 수 있으며, 헤드 제어 유닛(700)은 압전 소자들에 인가되는 전압을 제어하여 노즐들(미도시)의 액적 토출 량을 조절할 수 있다.The
액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430) 마다 전부의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정량을 측정한다. 개별 헤드 (410,420,430)의 액정 토출량 측정을 통해, 개별 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면, 노즐들(미도시) 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.액정 토출량 측정 유닛(800)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100)의 일측에 배치될 수 있다. 액정 토출량 측정 유닛(800)은 제 1 내지 제 3 액정 토출량 측정 유닛(800a,800,800c)을 가질 수 있다. The liquid crystal discharge
노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드들(410,420,430)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.The
노즐 검사 유닛(900)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100) 일측에 배치될 수 있다. 헤드들(410,420,430)은 갠트리 이동 유닛(300)과 헤드 이동 유닛(500)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 노즐 검사 유닛(900)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 유닛(500)은 헤드들(410,420,430)을 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 헤드들(410,420,430)과 노즐 검사 유닛(900)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.The
도 9는 노즐 검사 유닛을 나타내는 도면이다. 9 is a view showing a nozzle inspection unit.
도 9을 참조하면, 노즐 검사 유닛(900)은 제 1 노즐 검사 부재(920), 제 1 구동 부재(940), 제 2 노즐 검사 부재(960), 그리고 제 2 구동 부재(980), 회수 부재(990)를 포함한다. 제 1 노즐 검사 부재(920)는 헤드(410,420,430)의 노즐들의 액정 토출 여부, 즉 노즐 막힘 여부를 검사한다. 제 1 구동 부재(940)는 제 1 노즐 검사 부재(920)를 노즐들의 정렬 방향으로 이동시킨다. 제 2 노즐 검사 부재(960)는 노즐들의 정렬 여부를 검사한다. 제 2 구동 부재(980)는 제 2 노즐 검사 부재(960)를 노즐들의 정렬 방향으로 이동시킨다. 도 9에서, 노즐들은 제 2 방향(Ⅱ)으로 정렬되어 있다.9, the
제 1 노즐 검사 부재(920)는 배스(922), 발광부(924), 그리고 수광부(926)를 포함하다. 배스(922)는 개방된 상부를 가지는 통 형상으로 제공되며, 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)로부터 토출되어 낙하하는 액정을 수용한다. 발광부(924)는 배스(922)의 상부 일측에 배치되고, 수광부(926)는 배스(922)의 상부 타측에 발광부(924)와 마주보도록 배치된다. 발광부(924)는 광 신호를 방출하고, 수광부(926)은 발광부(924)가 방출한 광 신호를 수광한다. 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정은 발광부(924)와 수광부(926) 사이의 영역을 통과하고, 수광부(926)로 수광되는 광량의 차이에 의해 액정의 낙하 여부가 감지될 수 있다. 액정이 정상적으로 낙하한 것으로 판단되면, 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)의 막힘이 없는 것을 알 수 있다.The first
제 1 구동 부재(940)는 가이드 부재(942), 슬라이더(944), 그리고 구동기(946)를 포함한다. 가이드 부재(942)는 베이스(B)의 상면에 제 2 방향(Ⅱ)으로 연장된다. 슬라이더(944)에는 리니어 모터와 같은 구동기(946)가 내장될 수 있다. 슬라이더(944)는 구동기(946)에 의해 구동되고, 가이드 부재(942)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. 슬라이더(944)에는 배스(922)가 배치되며, 슬라이더(944)의 제 2 방향(Ⅱ) 직선 이동에 의해 배스(922)가 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. The first driving member 940 includes a guide member 942, a slider 944, and a driver 946. The guide member 942 extends on the upper surface of the base B in the second direction II. The slider 944 may include a driver 946 such as a linear motor. The slider 944 is driven by a driver 946 and is linearly moved along the guide member 942 in the second direction II. A
제 2 노즐 검사 부재(960)는 프레임(962), 조명기(964), 그리고 촬영기(966)을 포함한다. 프레임(962)은 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 제 1 노즐 검사 부재(920)의 배스(922)에 인접하게 배치될 수 있다. 프레임(962)에는 조명기(964)와 촬영기(966)가 배치된다. 조명기(964)는 검사되는 헤드(410,420,430)의 노즐면에 광을 조사하고, 촬영기(966)는 조명기(964)의 광이 조사되는 헤드(410,420,430)의 노즐면을 촬영하여 노즐들의 이미지를 획득한다. 획득된 이미지로부터 노즐들이 정위치에 정렬되어 있는가의 여부를 판단한다.The second
제 2 구동 부재(980)는 슬라이더(984)와, 구동기(986)를 포함한다. 슬라이더(984)에는 리니어 모터와 같은 구동기(986)가 내장될 수 있다. 슬라이더(984)는 구동기(986)에 의해 구동되고, 가이드 부재(942)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. 슬라이더(984)에는 제 2 노즐 검사 부재(960)의 프레임(962)이 배치되며, 슬라이더(984)의 제 2 방향(Ⅱ) 직선 이동에 의해 프레임(962), 조명기(964) 및 촬영기(966)가 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다. The second driving member 980 includes a slider 984 and a driver 986. The slider 984 may include a driver 986 such as a linear motor. The slider 984 is driven by a driver 986 and is linearly moved along the guide member 942 in the second direction II. The
회수 부재(990)는 배스(922)로부터 배출되는 액정을 회수한다. 회수 부재(990)는 하우징(992)과, 회수통(994)을 포함한다. 하우징(992)은 배스(922)의 하부에 배치되며, 회수통(994)을 수용하는 공간을 제공한다. 회수통(994)은 하우징(992)의 공간에 슬라이딩 방식에 의해 이동되어 분리 및 삽입되고, 배스(922)로부터 배출되는 액정을 회수한다. 회수된 액정은 재활용될 수 있다.The
도 10은 헤드 세정 유닛을 개략적으로 나타내는 도면이다.10 is a view schematically showing the head cleaning unit.
도 9와 도10을 참조하면, 헤드 세정 유닛(1000)은 퍼징(Purging) 공정과 흡입(Suction) 공정을 진행한다. 퍼징(Purging) 공정은 헤드들(410,420,430)의 내부에 수용된 액정의 일부를 고압으로 분사하는 공정이다. 흡입(Suction) 공정은, 퍼징(Purging) 공정 후, 헤드들(410,420,430)에서 노즐이 형성된 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 제거하는 공정이다. Referring to FIGS. 9 and 10, the
헤드 세정 유닛(1000)은 헤드들(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 배스(922)로 유입시킨다. 헤드 세정 유닛(1000), 그리고 노즐 검사 유닛(900)의 제 1 노즐 검사 부재(940)는 하나의 배스(922)를 공통으로 또는 개별적으로 사용할 수 있다. 배스(922)는 헤드들(410,420,430)의 퍼징 공정 중 토출되는 액정을 수용할 수 있으며, 또한 헤드들(410,420,430)의 노즐의 액정 토출 여부, 즉 노즐 막힘 여부의 검사시 토출되는 액정을 수용할 수 있다.The
헤드 세정 유닛(1000)은 석션 노즐(1100), 블레이드(1200), 승강 부재(1300) 지지부재(1400)를 포함한다. 지지 부재(1400)은 승강 부재를 지지한다.The
석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 이동 방향을 따라 제공된다. 석션 노즐(1100)은 중앙에 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 약액을 흡입하기 위한 석션 라인(1112)과 석션 라인의 끝단부에 형성된 헤드(410,420,430)의 노즐면을 향해 형성된 석션홀(1114)을 가진다. 석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 노즐면에서 이격된 채 제공된다. 석션 노즐(1100)은 헤드(410,420,430)의 노즐면을 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 흡입하여 세정한다.The
승강 부재(1300)는 석션 노즐(1100)을 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 승강 부재(1300)는 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)의 높이를 조절한다. 즉, 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정할 때, 석션 노즐(1100)이 상하로 이동됨에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면에 대한 석션 노즐(1100)의 상대 높이가 변경된다. The elevating
승강 부재(1300)는 이동 축(1302) 및 구동기(1304)를 포함한다. 승강 부재(1300)는 석션 노즐(1100)의 외벽에 구동기(1304)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(1302)이 고정결합된다. 승강 부재(1300)는 석션 노즐(1100)의 높이가 미세하게 조절될 수 있도록 결합된다.The elevating
블레이드(1200)는 석션 노즐(1100)에 결합되어 헤드(410,420,430)의 노즐면의 잔류하는 액정을 긁어낸다. 헤드(410,420,430)의 노즐면과 블레이드(1200) 사이에 미세한 간격을 유지하여 헤드(410,420,430)의 노즐면과 접촉되지 않도록 할 수 있다. 블레이드(1200)는 석션 노즐(1100)의 상부로 돌출된 판형으로 제공된다.The
블레이드(1200)는 일부 끝단이 석션 노즐(1100)의 내측에 결합되며, 다양한 형태로 상부로 돌출된다. 이는, 석션 노즐(1100)의 음압이 형성되는 위치에 블레이드(1200)를 설치하여 진공형성이 용이하도록 해준다. 블레이드(1200)는 다양한 형태에 따라, 블레이드(1200)가 먼저 잔류하는 액정을 긁어낸 후 석션 노즐(1100)에 의해 흡입할 수 있고, 석션 노즐(1100)이 먼저 흡입하면서 잔류하는 액정을 블레이드(1200)가 긁어내면서 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)로 인도하게 할 수도 있다.The
블레이드(1200)는 탄성 재질을 포함한 판형으로 제공될 수 있다. 이는, 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 액정을 탄력적으로 긁어낼 수 있으며, 석션 노즐(1100)과 헤드(410,420,430)의 충돌로부터 헤드(410,420,430)의 노즐면을 보호할 수 있도록 하는 완충 기능도 가질 수 있다. The
블레이드(1200)는 발수성 재질을 포함한 판형으로 제공될 수 있다. 이는, 블레이드(1200)와 액정을 접촉시 액정이 블레이드(1200)를 따라 이동을 용이하도록 해주며,이를 통해 진공압력을 낮게 설정 가능하도록 해준다.The
도 11 은 헤드 세정 유닛의 블레이드의 일실시예를 나타내는 도면이다.11 is a view showing one embodiment of the blade of the head cleaning unit.
일실시예에 따르면, 도 11에 도시한 것처럼, 블레이드(1200)는 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)의 내측에 결합되어, 석션홀(1114)을 따라 상부로 돌출된다. 헤드(410,420,430)가 이동하면서, 블레이드(1200)에 의해 헤드의 노즐면에 잔류하는 액정이 긁어줌과 동시에 석션 노즐(1100)의 흡입 압력에 의해 잔류하는 액정이 흡입된다. 석션 노즐(1100)에 결합된 승강부재(1300)는 잔류하는 액정의 크기와 양에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면과 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)과의 간격을 미세하게 조절하면서 블레이드(1200)와 헤드(410,420,430)의 노즐면과의 밀착되는 정도를 조절한다.According to one embodiment, the
도 12는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 다른 일실시예를 나타내는 도면이다.12 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
다른 일실시예에 따르면, 도 12에 도시한 것처럼, 블레이드(1200)는 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)의 내측에 결합되어, 석션홀(1114)에 대해 경사지게 상부로 돌출된다. 헤드(410,420,430)가 이동하면서, 석션 노즐(1100)의 흡입 압력에 의해 잔류하는 액정이 흡입되면서 완전하게 제거되지 못한 미세 액정을 블레이드(1200)에 의해 긁어 내어 석션 노즐로 흡입하여 세정한다. 석션 노즐(1100)에 결합된 승강부재(1300)는 잔류하는 액정의 크기와 양에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면과 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)과의 간격을 미세하게 조절하면서 블레이드(1200)와 헤드(410,420,430)의 노즐면과의 밀착되는 정도를 조절한다.12, the
도 13은 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.13 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
또다른 일실시예에 따르면, 도 13에 도시한 것처럼, 블레이드(1200)는 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)의 내측에 결합되어, 석션홀(1114)에 대해 경사지게 상부로 돌출된다. 헤드(410,420,430)가 이동하면서, 블레이드(1200)에 의해 헤드의 노즐면에 잔류하는 액정을 일차로 긁어내어 제거한 후 석션 노즐(1100)의 흡입 압력에 의해 잔류하는 액정을 흡입한다. 석션 노즐(1100)에 결합된 승강부재(1300)는 잔류하는 액정의 크기와 양에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면과 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)과의 간격을 미세하게 조절하면서 블레이드(1200)와 헤드(410,420,430)의 노즐면과의 밀착되는 정도를 조절한다.13, the
도 14는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.14 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
도 15는 헤드 세정 유닛의 블레이드의 또다른 일실시예를 나타내는 도면이다.15 is a view showing another embodiment of the blade of the head cleaning unit.
도 14 및 도 15의 도시한 것처럼, 또다른 일실시예에 따르면, 블레이드(1200)는 상기 도11 내지 도 13에서 도시한 것과 다른 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)의 다른 내측에 결합되어, 석션홀(1114)에 대해 상부로 돌출된다. 헤드(410,420,430)가 이동하면서, 블레이드(1200)에 의해 헤드의 노즐면에 잔류하는 액정을 일차로 긁어내어 제거한 후 석션 노즐(1100)의 흡입 압력에 의해 잔류하는 액정을 흡입한다. 석션 노즐(1100)에 결합된 승강부재(1300)는 잔류하는 액정의 크기와 양에 따라 헤드(410,420,430)의 노즐면과 석션 노즐(1100)의 석션홀(1114)과의 간격을 미세하게 조절하면서 블레이드(1200)와 헤드(410,420,430)의 노즐면과의 밀착되는 정도를 조절한다.14 and 15, according to another embodiment, the
이와 같이, 블레이드와 석션 노즐(1110)의 높이 조절를 통해, 헤드(410,420,430)의 세정 공정 중 헤드(410,420,430)의 노즐면에 잔류하는 미세 액정을 효율적으로 제거할 수 있다.By adjusting the height of the blade and the suction nozzle 1110, the fine liquid crystal remaining on the nozzle surfaces of the
상기 실시예에서는, 블레이드는 석션 노즐의 석션홀의 내측에 결합된다. 그러나, 이에 한정하지 않고 블레이드는 석션 노즐의 각 부분에 결합될 수 있다.In this embodiment, the blade is coupled to the suction hole of the suction nozzle. However, the present invention is not limited thereto, and the blade can be coupled to each portion of the suction nozzle.
또한, 상기 실시예에서는 헤드(410,420,430)가 이동하면서 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공한다. 그러나. 헤드 세정 유닛(1000)이 이동하면서 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공할 수 있다.Also, in the above embodiment, the
또한, 상기 실시예에서는 헤드(410,420,430)의 노즐면을 세정하는 헤드 세정 유닛(1000)을 제공한다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 처리액이 토출되는 노즐을 세정하는 세정 유닛에도 적용될 수 있다.Also, in this embodiment, a
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.
B 베이스 100 기판 지지 유닛
200 갠트리 300 갠트리 이동 유닛
400 헤드 500 헤드 이동 유닛
600 액정 공급 유닛 700 헤드 제어 유닛
800 액정 토출량 측정 유닛 900 노즐 검사 유닛
1000 헤드 세정 유닛
1100 석션 노즐 1200 블레이드
1300 승강 부재
200 Gantry 300 Gantry Mobile Unit
400
600 liquid
800 liquid crystal discharge
1000 head cleaning unit
1100
1300 lifting member
Claims (10)
베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판상에 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 노즐이 형성된 노즐면을 가지는 헤드들이 결합된 갠트리(gentry); 및
상기 베이스에 설치되며, 상기 노즐면을 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
상기 세정 유닛은
상기 노즐면을 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐에 결합되어 상기 석션 노즐보다 상부로 돌출된 판형의 블레이드;를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.In the process liquid ejecting apparatus of the inkjet method,
Base;
A substrate supporting unit installed on the base and on which a substrate is placed;
A gantry provided on the moving path of the substrate supporting unit and having heads having nozzle faces formed with nozzles for ejecting a chemical solution on the substrate in an inkjet manner; And
And a cleaning unit installed on the base for cleaning the nozzle surface,
The cleaning unit
A suction nozzle having a suction hole formed toward the nozzle face; And
And a plate-shaped blade coupled to the suction nozzle and protruding upward from the suction nozzle.
상기 블레이드의 끝단이 상기 석션홀 내측에 결합되어 상부로 돌출되는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.The method according to claim 1,
And an end of the blade is coupled to the inside of the suction hole to protrude upward.
상기 블레이드는 상기 석션홀에 대해 경사지게 제공되는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the blade is provided inclined with respect to the suction hole.
상기 석션홀을 중심으로 상기 블레이드가 결합된 상기 석션 노즐의 끝단의 높이가 상기 석션 노즐의 반대편 끝단의 높이보다 낮은 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.The method of claim 3,
Wherein a height of an end of the suction nozzle coupled with the blade around the suction hole is lower than a height of an opposite end of the suction nozzle.
상기 석션 노즐의 석션홀의 끝단의 높이를 조절하기 위해 상기 석션 노즐에 결합되는 승강 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Further comprising an elevating member coupled to the suction nozzle to adjust a height of an end of the suction hole of the suction nozzle.
상기 블레이드는 탄성 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 토출 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the blade includes an elastic material.
헤드의 약액을 토출하는 노즐이 형성된 노즐면을 향해 형성된 석션홀을 가지는 석션 노즐; 및
상기 석션 노즐의 상부를 향하도록 결합되며, 상기 석션 노즐보다 상부로 돌출된 판형의 블레이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.A cleaning unit for cleaning a treatment liquid nozzle,
A suction nozzle having a suction hole formed toward a nozzle surface on which a nozzle for discharging a chemical liquid in the head is formed; And
And a plate-like blade coupled to the upper portion of the suction nozzle and protruding upward from the suction nozzle.
상기 블레이드는 상기 석션홀에 대해 경사지게 제공되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.8. The method of claim 7,
Wherein the blade is provided obliquely with respect to the suction hole.
상기 블레이드가 탄성 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.9. The method according to claim 7 or 8,
Wherein the blade comprises an elastic material.
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