KR101187750B1 - 스무딩 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리 - Google Patents

스무딩 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 광학필름은, 원형 또는 다각형 패턴에서 발생하는 모아레를 최소화함은 물론, 사용되는 광학필름의 휘도를 증가시켜 차폐력을 향상시킬 수 있다. 이를 위한 본 발명은 외부로부터 입사되는 광을 투과시키는 기재층, 및 기재층의 일면 상에 형성되며, 육각형의 모서리가 라운드(round) 처리되는 형태의 스무딩 육각 패턴을 구비하는 패턴층을 포함하며, 스무딩 육각 패턴은, 정육각형의 내접원의 호와 상기 정육각형의 꼭지점 사이의 내접원 거리에 대해 2/5 내지 2/3가 되도록 스무딩된다.

Description

스무딩 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리{A Optical Film Having round-hexagonal Pattern and backlight Assembly Using the same}
본 발명은 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토 리소그라피 공정을 활용하여 각면이 라운드 처리된 형태의 스무딩 육각 패턴을 고밀도로 형성하고, 이를 이용하여 휘도를 향상시키며, 광산란 효과를 증대시켜 차폐력 향상은 물론 모아레(moire) 현상을 최소화하는 스무딩 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리에 관한 것이다.
최근의 면광원의 개발 추이를 살펴보면, LED 램프를 이용하여 점 광원을 면 광원으로 바꾸는 백라이트 어샘블리의 개발이 활발하다.
기존의 냉음극관(Cold Cathode Fluorescent Lamp : CCFL)을 대체하여 주목받고 있는 LED는 강한 점광원으로, 안정적인 수명과 저전력화에는 적합하지만, TV나 모니터 등 기타 면 광원 소재에서 보면 점 광원의 형태를 나타내므로, 이를 다시 전체적으로 고른 빛을 나타내는 면 광원으로 바꾸어야 한다.
통상, LED를 디스플레이 전면에 균일한 밝기를 나타낼 수 있는 면 광원으로 바꾸어 주기 위해 확산판 및 도광판을 이용하고 있으며, 최근에는 렌즈 어레이가 형성된 광학필름이 이용되고 있다. 렌즈 어레이 광학필름은, 도광판 및 확산판과 함께 사용되어 확산기능, 측면의 휘선 차폐 및 정면 집광 기능을 수행하도록 하고 있다. 그러나, 렌즈 어레이 광학필름은 중심 휘도값이 낮아, 광학필름에 원형패턴 또는 다각형 패턴을 형성하거나 비드(bead)를 형성하여 균일한 휘도를 얻을 필요가 있다.
한편, 광학필름에 다각형 패턴이나 원형 패턴을 형성하는 경우, 이웃하는 타 광학필름이나 패턴과의 광 간섭에 의해 모아레(moire) 현상이 발생할 수 있다. 광학필름 사이의 간섭, 또는 패턴 간섭에 의해 발생하는 모아레는 디스플레이장치가 표현하고자 하는 영상에 간섭을 일으켜 영상의 화질을 감소시키므로, 모아레 현상을 최소화하기 위해 광학필름에 형성되는 패턴의 반구형 렌즈 거리를 가변하거나 또는 패턴의 크기를 변경하여 이웃하는 광학필름과의 간섭을 최소화해야 한다.
패턴의 크기를 변경하여 모아레 현상을 감소시키고자 할 때, 디스플레이장치에 장착된 패널이 변경되는 경우, 패턴의 크기를 재 설정해야 하며, 이는 디스플레이장치별로 광학필름을 설계해야 하는 문제를 유발한다. 다른 한편, 패턴과 렌즈의 거리를 변경하는 경우, 광학필름의 광 확산성이 떨어지거나, 휘도를 감소시킬 우려가 있다.
이와 같은 문제점에 대해 본 출원인에 의하여 선출원된 공개특허 10-2011-92372호에 의하면, 중심 휘도값을 향상시키고, 개구율 조절에 따라 광학필름의 정면휘도 및 차폐력 조절을 쉽게 할 수 있는 광학필름을 제안한 바 있다. 그러나, 상기 공개특허는 렌즈가 원형의 구조이기 때문에, 패턴 사이에 비어있는 공간이 형성되어 완전히 균일한 광 분포가 이루어지지 않고, 본래의 광원이 갖는 휘도값의 손실이 발생할 우려가 있었다.
본 발명의 목적은 포토 리소그라피 공정을 활용하여 각면이 라운드 처리된 형태의 스무딩 육각 패턴을 형성하며, 이를 이용하여 광원으로부터 도광판 전체의 휘도를 균일하게 하고 휘도값 손실을 최소화하여 차폐력을 향상시키는 것은 물론, 각면을 따라 회절을 일으키는 현상을 최소화하여 모아레 현상의 발생을 저감하는 스무딩 육각 패턴을 갖는 광학필름 및 그를 이용한 백라이트 어셈블리를 제공함에 있다.
상기한 목적은 본 발명에 따라, 외부로부터 입사되는 광을 투과시키는 기재층, 및 상기 기재층의 일면 상에 형성되며, 육각형의 모서리가 라운드(round) 처리되는 형태의 스무딩 육각 패턴을 구비하는 패턴층을 포함하며, 상기 스무딩 육각 패턴은, 육각형의 내접원 호와 상기 육각형의 꼭지점 사이의 최단 거리인 내접원 거리를 상기 꼭지점에서 상기 내접원 호 방향으로 2/5 내지 2/3 감소시켜 상기 꼭지점의 엣지를 라운드 처리하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름에 의해 달성된다.
본 발명에 따르면 꼭지점이 라운드 처리되는 스무딩 육각 패턴의 패턴 밀집도 및 휘도가 향상되며, 원형 또는 다각형 패턴의 외주연이나 엣지에서 발생하는 모아레 현상을 최소화함은 물론, 광산란 효과를 증대시켜 차폐력 향상을 기대할 수 있다. 이는 점 광원의 성격이 강한 LED를 적용하는 백라이트 어셈블리 모델에서 차폐력 향상에 효과적으로 적용될 수 있다.
도 1 내지 도 3은 본 발명에 따른 스무딩 육각 패턴의 구조에 대한 개념도를 도시한다.
도 4와 도 5는 광학필름에 형성되는 스무딩 육각 패턴의 일 예에 따른 참조 도면을 도시한다.
도 6은 기재층에서 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시한다.
도 7은 본 발명의 광학필름에 패턴이 형성되는 일 예에 대한 참조 도면을 도시한다.
도 8은 본 발명의 광학필름 제조방법의 일 실시 예를 나타내는 공정도를 도시한다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.
본 발명에서 언급되는 라운드 처리는 포토 리소그래피 공정에 의해 육각형의 패턴 모서리를 원형에 가깝게 형성하는 것을 의미할 수 있다. 필름에 형성되는 패턴이 원형일 경우 또는 패턴의 모서리가 각지게 형성되는 경우 빛의 회절에 의해 모아레 현상이 심화될 수 있으나, 라운드 처리된 모서리는 원이나 모서리를 갖는 타 패턴에 비해 빛의 회절 현상이 저감되어 모아레 현상의 발생을 최소화할 수 있다.
본 발명에서 언급되는 내접원 거리(R)는 스무딩 육각 패턴의 꼭지점 중 어느 하나와 스무딩 육각 패턴의 내접원 사이의 최단 거리를 지칭할 수 있다. 내접원 길이(R)가 감소할수록 스무딩 육각 패턴의 꼭지점은 원의 형상에 가까워지고, 반대의 경우는 정육각형의 형상에 가까워질 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상술하도록 한다.
도 1 내지 도 3은 본 발명에 따른 스무딩 육각 패턴의 구조에 대한 개념도를 도시한다.
먼저, 도 1을 참조하면, 스무딩 육각 패턴은, 육각 패턴이 정 육각형이고, 정육각형(50)의 내접원(70)을 도시할 때, 정육각형(50)의 각 꼭지점(51 내지 56)과 내접원(70)이 만나는 최단거리를 내접원 거리(R)라고 가정할 때, 내접원 거리(R)를 감소시켜 정육각형의 여섯 꼭지점(51 내지 56)의 에지를 스무딩(smoothing) 함으로써 원형 또는 다각형(예컨대 육각형)의 엣지에서 발생하는 빛의 회절 현상을 최소화할 수 있다. 꼭지점(52)과 내접원(70)의 내접원 거리(R)를 감소시키기 위해, 정육각형(50)의 변(50a)과 변(50b) 사이는 직선이 아니라 곡면을 이룰 수 있다. 이러한 형태는 육각 패턴도 아니고 원 패턴도 아니므로, 본 명세서에서는 스무딩 육각 패턴이라 정의하도록 한다.
스무딩 육각 패턴은 변(50a)과 변(50b) 사이가 완만한 곡선을 이루며, 꼭지점(예컨대 참조부호 52)이 내접원(70)을 향하면서 스무딩 됨에 따라 광원의 빛을 회절하는 다각형 패턴의 회절 현상을 최소화할 수 있다. 회절 현상이 최소화될 때, 스무딩 육각 패턴이 이웃하는 타 광학필름이나 패턴과의 간섭도 감소되어 모아레(moire) 현상이 완화될 수 있다.
스무딩 육각 패턴은 광학용으로 사용 가능한 투명 소재라면 어떠한 소재든 사용될 수 있으며, 기재 또한 필름이나 판(plate) 형태의 것에도 적용될 수 있다. 일 예로서, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 아크릴, 폴리스타이렌, 폴리메틸메타아크릴레이트 등의 투명한 기재에 형성되며, 광학용 기재 상에서 랜덤하게 형성되거나, 또는 벌집 구조로 형성될 수 있다.
도 2를 참조하면, 스무딩 육각 패턴은 꼭지점(51)과 내접원(70)의 최단거리인 내접원 거리(R)에 따라 그 형태가 정의될 수 있다.
도 2에서 내접원 거리(R)를 1이라고 정의할 때, HR 3/4는 내접원 거리(R) 대비 3/4의 거리를 의미하고, HR 2/3는 내접원 거리(R) 대비 2/3의 거리를 의미하고, HR 1/2은 내접원 거리(R) 대비 1/2의 거리를 의미하며, HR 2/5은 내접원 거리(R) 대비 2/5의 거리를 의미한다.
내접원 거리(R)가 HR 3/4로 향할수록 육각 패턴(50)은 정육각형에 가까운 형태가 되고, 내접원 거리(R)가 HR 2/5로 향할수록 육각 패턴(50)은 원에 가까운 형태를 가질 수 있다. 육각 패턴(50)과 내접원(70) 사이의 내접원 거리(R)가 절반인 HR 1/2일 때, 광원의 회절 효과가 최소가 될 수 있다.
도 3을 참조하면, 도 3의 (a)는 정육각형을 도시하고, 도 3의 (b)는 HR 3/4
도 3의 (c)는 HR 2/3, 도 3의 (d)는 HR 1/2, 도 3의 (e)는 HR /2/5를 도시하며, 도 3의 (f)는 원의 형상을 도시하고 있다. 도 3의 (a) 내지 도 3의 (f)를 참조하면, 내접원 거리(R)가 짧을수록 스무딩 육각 패턴의 형태가 원에 가깝고, 내접원 거리(R)가 길수록 스무딩 육각 패턴의 형태가 정육각형에 가까움을 볼 수 있다.
표 1은 도 1 내지 도 3을 통해 설명된 스무딩 육각 패턴의 내접원 거리 비율에 따른 휘도 특성을 나타낸다.
Figure 112012048441615-pat00001
표 1을 참조하면, 스무딩 육각 패턴은 패턴 형태가 정육각형인 경우의 휘도를 100%로 가정할 때, HR 3/4 및 HR 2/3일 때 휘도가 각각 99.2%, 99.1%로 나타내고, HR 1/2일 때와 HR 2/5일때는 각각 100.7% 및 100.1%의 휘도를 나타나고 있다. 즉, 스무딩 육각 패턴은 HR 1/2일 때 휘도 최대값을 나타낸다. 스무딩 육각 패턴이 원의 형태를 가질 때, 휘도는 100.4%로서 HR 1/2 일 때와 유사한 값을 가지나, 원의 엣지 영역에서 발생하는 광 회절에 의해 모아레 현상을 심화시킬 수 있고, 원형 패턴의 특성상 패턴 밀집도의 한계점을 갖고 있어 광 특성이라는 측면에서는 유용하지 않을 수 있다.
도 4와 도 5는 광학필름에 형성되는 스무딩 육각 패턴의 일 예에 따른 참조 도면을 도시한다.
도 4와 도 5를 참조하면, 광학필름은 스무딩 육각 패턴 및 스무딩 육각 패턴이 형성되는 기재필름(101)으로 구성될 수 있다. 도 4의 (a)를 참조하면, 스무딩 육각 패턴(11)은 이웃하는 패턴(12)과 벌집 구조를 이루어 밀집도를 높일 수도 있으며, 스무딩 육각 패턴(11)의 두 모서리를 잇는 대각선의 길이(d1)가 1㎛ ～ 300㎛, 스무딩 육각 패턴(11)과 스무딩 육각 패턴(12)이 마주보는 변 사이의 거리(d3)는, 1㎛ 내지 100㎛, 또는 변 사이의 거리(d3)를 0으로 하여 스무딩 육각 패턴(11, 12)들이 접촉하도록 할 수도 있다. 각 스무딩 육각 패턴의 높이는 기재층(101)에서 5㎛ 내지 300㎛로 돌출할 수 있다.
각 스무딩 육각 패턴이 벌집 구조를 이룰 때, 스무딩 육각 패턴의 두 꼭지점을 잇는 대각선의 길이(d1)는 타 패턴과의 이격 거리(d3)에 비해 6 내지 9배의 길이로 형성될 수 있으며, 길이(d1)는 이웃하는 각 스무딩 육각 패턴의 무게 중심간 길이(d2) 대비 1.1 내지 1.3배의 길이로 형성될 수 있다.
도 4의 (b)는 도 4의 (a)에 도시된 스무딩 육각 패턴의 측면 이미지를 도시한 것으로, 스무딩 육각 패턴(11, 12)은 상측에서 바라볼 때는 육각형이고, 측면에서 바라볼 때는 반구 형상을 가질 수 있다. 즉, 스무딩 육각 패턴(11, 12)은 렌즈 형상을 가지면서도 단면은 육각형을 가지므로, 이웃하는 타 패턴과의 밀집도를 향상시키고, 빛의 회절을 최소화하여 모아레 현상을 감소시키는 특징을 가질 수 있다.
도 6은 기재층(101)에서 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시한다.
도 6을 참조하면, 도 6의 (a)는 기재층(101)에 스무딩 육각 패턴이 양각으로 형성되는 일 예를 도시하고,
도 6의 (b)는 기재층(101)의 양면에 양각으로 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시하고,
도 6의 (c)는 기재층(101)의 일 측면에는 양각 형태의 스무딩 육각 패턴이 형성되고, 다른 면에는 음각 형태의 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시하고,
도 6의 (d)는 기재층(101)의 양면에 음각 형태의 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시하며,
도 6의 (e)는 기재층(101)의 일 측면에만 음각 형태의 스무딩 육각 패턴이 형성되는 일 예를 도시한다.
이처럼, 스무딩 육각 패턴은 기재층(101)의 일 측면에만 형성되거나, 양면에 모두 형성될 수 있으며, 양각, 또는 음각으로 형성될 수 있다.
도 7은 본 발명의 광학필름에 패턴이 형성되는 일 예에 대한 참조 도면을 도시한다.
도 7을 참조하면, 본 발명에 따른 스무딩 육각 패턴(110, 111, 112)은 기재필름(101) 상에서 상이한 크기로 형성될 수 있다. 스무딩 육각 패턴(110, 111, 112)은 포토 리소그라피 공정을 이용하여 일정 영역마다 다른 크기로 형성하거나 모든 패턴 크기를 동일하게 형성하거나 또는 기재필름(101) 상에서 랜덤한 크기로 형성될 수도 있다. 스무딩 육각 패턴(110, 111, 112)이 랜덤 크기 또는 일정 영역마다 상이한 크기로 형성되는 경우, 스무딩 육각 패턴(110, 111, 112) 사이의 밀집도는 낮아지나 패턴 크기가 균일하지 않으므로 빛의 산란특성은 향상될 수 있으며, 모아레 현상의 발생을 억제할 수 있다.
도 8은 본 발명의 광학필름 제조방법의 일 실시 예를 나타내는 공정도를 도시한다.
도 8을 참조하면, 먼저, 기재필름(100) 표면에 감광성 수지층(102)을 코팅한다.
여기서, 감광성 수지층(102)은 다양한 굴절률을 갖는 방사선 중합을 할 수 있는 UV 리소그라피 감광성 수지를 사용하여, 패턴 마스크(103)의 형태에 따라 다양한 패턴을 대면적으로 구성할 수 있다. 감광성 수지는 광학 리소그라피법에 사용할 수 있는 수지라면 어떤 수지라도 사용할 수 있으며, 예를 들어, 방사선 경화형 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트 및 굴절율을 조절한 치환체 등을 사용할 수 있고, SU-6, SU-8을 사용할 수 있다.
감광성 수지를 이용하여 기재가 되는 필름(100) 상에 감광성 수지층(102)을 형성하는 방법은 특별한 제한이 없으며, 공지된 방법을 사용할 수 있다. 이후, 감광성 수지층(102) 상부 또는 하부에 소정의 패턴이 형성된 패턴 마스크(200)를 위치시킨다.
본 발명에서의 패턴 마스크(200)는 스무딩 육각 패턴이 형성된 형태를 가지며, 예를 들어, 도 4에 도시한 패턴 구현을 위한 마스크 형태일 수 있다. 다음으로, 패턴 마스크(200)를 투과하도록 자외선(300)을 조사하여 감광성 수지층(102)을 1차 경화시킨다. 이후, 상기 감광성 수지층(102)을 현상한다.
감광성 수지층(102)을 세척 및 건조한 후, 감광성 수지층(102) 상부에서 자외선을 조사하여 2차 경화하여 마스터 패턴(400)이 형성된 마스터 필름을 형성한다.
본 발명에 있어서, 마스터 패턴(400)은 양각 또는 음각 패턴으로 형성될 수 있다.
양각 또는 음각 패턴은 포토레지스트에 포함된 감광성 물질에 따라 구성되는데, 포토레지스트의 감광성 물질이 네가티브형이면 빛을 받은 부분이 패턴으로 형성되며, 감광성 물질이 포지티브형인 경우는 반대로 빛을 받지 못한 부분이 패턴으로 형성된다.
예를 들어, 도광판 하부 표면 또는 PET 필름 상에 SU-8 감광성 수지를 도포하고 그 위에 UV광을 조사한 후 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate), GBL(Gamma-Butyrolactone), MIBK(Methyl Iso-Butyl Ketone) 등과 같은 유기용매로 현상함으로써 패턴을 얻을 수 있다.
상기한 과정을 거치면, 기재필름(100) 위에 크기 및 배열이 불규칙한 비정형 마스터 패턴(400)이 형성되게 된다.
따라서, 상기 방법에 의해 형성된 마스터 패턴(400)을 금형에 전사하거나 직접 몰드(mold)로 사용하여, 확산 패턴을 제조할 경우, 꼭지점이 라운드 처리되는 스무딩 육각 패턴을 형성할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에서는 마스터 패턴(400)을 직접 마스터 몰드로 사용하여 스무딩 육각 패턴을 형성한 광학필름이 제안된다.
즉, 본 발명에서 마스터 필름을 사용하여 스무딩 육각 패턴이 형성되는 광학필름을 제조하는 단계로서, 마스터 패턴(400)이 형성된 마스터 필름상에 자외선 경화수지를 도포하여 베이스 필름(500)에 라미네이팅 공정을 진행한다.
이때, 상기 마스터 패턴(400)이 형성된 마스터 필름 상에 압착롤러(502)(504)를 사용하여 베이스 필름(500)에 라미네이팅 공정을 진행한다.
여기서, 자외선 경화수지에는 확산 효과 및 흐림도를 향상시키기 위해 이산화티타늄, 알루미늄, 산화알루미늄, 황산바륨, 탄산칼슘, 황산칼슘, 황산마그네슘, 탄산바륨, 산화아연, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 탈크 중 선택된 어느 하나 또는 이들이 조합된 물질이 혼합될 수 있다. 다음으로, 베이스 필름(500) 상부에서 자외선을 조사하여 상기 자외선 경화수지를 경화시키며, 이후 자외선 경화수지가 경화된 광학필름(600)을 상기 마스터 필름에서 분리시킨다.
이와 같은 본 발명은 포토리소그라피 공정을 적용하여 패턴을 제작하기 때문에 노광 공정에서 UV 조사량이나 현상 단계에서 현상농도, 횟수 조절 등을 통해 패턴의 높이 조절이 가능하다. 따라서, 기재필름 전면에 동일한 높이를 갖는 스무딩 육각 패턴을 형성할 수도 있고, 필요에 따라서는 각각의 패턴의 높이를 다르게 형성할 수도 있다.
또한, 본 발명의 광학필름의 경우, 모아레를 발생시키지 않도록 엣지 영역이 라운드 처리된 구조를 가지면서도 패턴 간 밀도를 최대화하여 확산 및 집광기능이 우수하다.
이와 같은 본 발명에서는 상기 포토리소그래피 공정에 사용되는 광경화성 수지의 감광성, 조사되는 자외선의 광도 및 광량, 현상액의 농도 및 종류의 조절을 통해 상기 산란패턴의 크기 및 밀도를 조절할 수 있다.
본 발명의 광학필름은 백라이트 어셈블리를 구성할 수 있다. 백라이트 어셈블리는 광을 출사하는 광원과, 본 발명의 광학필름으로 이루어진다.
여기서, 백라이트 어셈블리는 상기 광원으로부터 발광된 광을 유도하기 위한 도광판과, 상기 도광판의 하부에 위치하는 반사판이 더 구비될 수 있다.
이와 같이 본 발명의 광학필름이 구비된 백라이트 어셈블리는, 광원으로부터 도광판 전체면에 대한 휘도값을 균일하게 하여 광효율을 높임과 동시에 광편차를 최소화하고, 휘도값 손실을 최소화하며 차폐력을 향상시킬 수 있다.
또한, 효과적으로 빛을 산란시켜 엣지형 도광판 하부의 도트패턴 및 직하형 백라이트 어셈블리의 CCFL 램프나 LED 광원이 핫스팟으로 보이는 현상을 줄여 차폐력을 향상시키는 효과를 갖는다.
R : 내접원 거리 50 : 정육각형
51 ～ 56 : 꼭지점 70 : 내접원

Claims (11)

  1. 외부로부터 입사되는 광을 투과시키는 기재층; 및
    상기 기재층의 일면 상에 형성되며, 육각형의 모서리가 라운드(round) 처리되는 형태의 스무딩 육각 패턴을 구비하는 패턴층;을 포함하며,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    육각형의 내접원 호와 상기 육각형의 꼭지점 사이의 최단 거리인 내접원 거리를 상기 꼭지점에서 상기 내접원 호 방향으로 2/5 내지 2/3 감소시켜 상기 꼭지점의 엣지를 라운드 처리하는 패턴인 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    이웃하는 패턴들과 벌집 구조를 이루는 것을 특징으로 하는 스무딩 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    이웃하는 패턴들과 접촉되는 것을 특징으로 하는 스무딩 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    두 모서리를 잇는 대각선의 길이가 이웃하는 타 패턴과 이격되는 이격 거리에 대해 6배 내지 9배로 형성되는 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 이격 거리는,
    1㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    두 모서리를 잇는 대각선의 길이가 이웃하는 타 패턴의 무게 중심과 1.1 내지 1.3배의 길이로 형성되는 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    상기 패턴층에서 양각 및 음각 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    상기 패턴층의 양면에 양각, 및 음각으로 형성되는 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    두 모서리를 잇는 대각선의 길이가 1㎛ ～ 300㎛ 인 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 스무딩 육각 패턴은,
    상기 패턴층에서 5㎛ 내지 300㎛로 돌출하는 것을 특징으로 하는 육각 패턴을 구비하는 광학필름.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 광학필름을 포함하는 백라이트 어셈블리.
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