KR101106652B1 - 침전, 염의 재결정화 및 아로마틱 술폰산에 의한3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체 정제 방법 - Google Patents

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Abstract

본원 발명은 유로키나제 억제제로서 실례로 사용될 수 있는 매우 순수한 형태로 된 3-하이드록시아미디노-페닐알라닌 유도체들의 제조와 관련된다. 본원 발명은 추가로 3-아미디노페닐알라닌 유도체들을 제조하기 위한 고-순도의 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체들의 용도와 관련된다.
하이드록시아미디노 페닐알라닌, 아미디노페닐알라닌

Description

침전, 염의 재결정화 및 아로마틱 술폰산에 의한 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체 정제 방법{Method for cleaning 3-hydroxyamidinophenylalanine derivatives by the precipitation and recrystallisation of a salt and an aromatic sulphonic acid}
본원 발명은 유로키나제 억제제의 예로서 사용될 수 있는 매우 순수한 형태로 된 3-하이드록시아미디노-페닐알라닌 유도체 제조 방법과 관련된 것이다. 본원 발명은 추가로 3-아미디노페닐알라닌 유도체 제조에서 고-순도 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체들의 용도와 관련된다.
유로키나제-플라스미노겐 활성화인자 시스템(urokinase-plasminogen activator system, UPA system)은 암 전이에서 중추적인 역할을 하고, 또한, 원발성 종양, 예를 들면, 유방암, 위암, 장암, 췌장암, 난소암 및 다른 고형 종양의 성장에서 중추적인 역할을 한다. UPA 시스템의 억제를 통해 두 단계에서 치료 효과가 발휘되어 질 수 있는데: 일차적으로 암 전이를 차단하고, 이차적으로는 원발성 종양의 성장을 감소시키는 것이다. 3-아미디노페닐알라닌 유도체들은 매우 효과적인 유로키나제 억제제들의 한 종류를 대표한다.
3-아미디노페닐알라닌 유도체들, 특히 N-α-(2,4,6-트리이소프로필페닐술포 닐)-3-아미디노-(L)-페닐알라닌 4-에톡시카르보닐피페라지드(WX-UK1)의 제조, 및 유로키나제 억제제로서 이들의 용도는 예를 들면 CH-A 689611, WO 00/04954호 및 WO 00/17158호와 Sturzebecher 등에 의해 등재된 공개문헌(Bioorg. Med. Chem. Let 9(1999), 3147-3152)에서 기술되어 있다. 그러나, 상기에서 사용된 합성 방법들은 일반적으로 생성물을 비교적 낮은 수득률로 산출하게 되는데, 왜냐하면 가수분해된 TIPPS-OH가 원하지 않는 부산물로 생성되기 때문이다. 한 가지 문제는 목표로 하는 반응 생성물이 복잡한 크로마토그래피 방법에 의해서만 부산물들로부터 분리될 수 있다는 것이다.
PCT/EP03/08230호는 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 중간체들을 경유하는 3-아미디노페닐알라닌 유도체 제조 방법을 기술하고 있다. 이 옥사미딘 유도체들은 매우 특이적이고 선택적인 유로키나제 억제제를 대표하며, 또한 경구 생체이용율(oral bioavailability)의 장점을 갖고 있다. 그러나, PCT/EP03/08230호에서 개시된 제조 방법에서의 문제점은 상기 옥사미딘 중간체들이 순수한 형태로 얻어지지 않아서, 예를 들면 아미드 부산물들을 제거하기 위해서는 복잡한 정제 방법이 필요하다는 것이다. 그러나, 3-아미디노페닐알라닌 유도체들의 추가적인 합성 및 옥사미딘 유도체들의 약제학적 용도 모두를 위해서는, 이러한 옥사미딘 유도체들이 양호한 수득율 및 높은 순도로 제조하는 것을 가능하게 하는 방법이 도움이 될 것이다.
그러므로, 본원 발명의 목적은 옥사미딘 유도체들을 매우 순수한 형태로 얻기 위한 그와 같은 방법을 제공하는 것이었다.
본원 발명의 목적은 3-하이드록시아미디노페닐-알라닌 유도체 정제 방법에 의해 달성되는데, 상기 방법은:
(a) 선택적으로 오염된 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체 용액에 아로마틱 술폰산(aromatic sulfonic acid)을 첨가하여 염을 형성하는 단계,
(b) 단계 (a)에서 형성된 침전물을 분리하는 단계, 및
(c) 상기 침전물로부터 상기 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체를 회수하는 단계를 포함한다.
본원 발명의 내용에서 "아로마틱 술폰산"의 의미는 하나 이상의 술폰산기 및/또는 술포네이트기에 의해 치환된 아로마틱 또는 헤테로아로마틱 모노- 또는 올리고사이클릭 고리 시스템이다. 또한, 상기 아로마틱 또는 헤테로아로마틱 고리 시스템은 예를 들면 C1-C6-알킬, C1-C3-알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 또는/및 할로겐으로부터 선택될 수 있는 치환체들을 추가로 가질 수 있다. 적절한 아로마틱 또는 헤테로아로마틱 고리 시스템은 예를 들면 6개 내지 20개의 탄소 원자들과 0개 내지 4개의 헤테로원자들을 갖는 모노- 및 비사이클을 포함하고, 상기 헤테로원자는 바람직하게는 N, 0 및 S로부터 선택될 수 있다.
적절한 아로마틱 술폰산의 예는 톨루엔- 및 벤젠-의 모노 또는/및 -디술폰산, 및 나프탈렌-모노- 또는/및 -디술폰산 유도체들이다. 결정화시키는데 양호한 경향을 갖는 디술폰산, 예를 들면 나프탈렌 디술폰산이 바람직하다. 나프탈렌-1,5-디술폰산(암스트롱 산(Armstrong's acid))이 가장 바람직하다. 아로마틱 디술폰산은 종종 염색 산업에서 사용되며, 염색 산업에서 다양한, 특히 나프탈렌에 기초한 염색약의 중간체 및 커플링 시약을 대표한다.
놀랍게도, 현재 아로마틱 술폰산, 특히 암스트롱 산이 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체들(옥사미딘)을 그의 상응하는 염의 형태로 침전시키는데 매우 적절하다는 것이 발견되었다. 이러한 방식으로 형성되는 염은 선택적으로 오염된 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체들의 조 생성물 용액으로부터 침전된다. 이와 관련하여 적절한 용매는 예를 들면, 아세톤 및 펜타논과 같은 케톤, 에틸 아세테이트와 같은 에스테르, 테트라하이드로푸란, 비스(2-메톡시에틸) 에테르(디글라임(diglyme)), 디옥산 및 메틸 터트-부틸 에테르와 같은 극성 에테르, 디클로로메탄과 같은 할로겐화 용매, 니트릴 및 비극성 알코올이다. 침전물은 후속되는 단계 (b)에서 용액으로부터 간단한 방식으로, 예를 들면 여과에 의해 분리될 수 있다.
그런 다음, 제거된 염은 당업자들에게 통상적인 정제 방법에 의해 추가로 정제되어, 건조될 수 있다. 본원 발명의 이와 같은 방식에서는 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체의 순도를 더욱더 향상시키는 것이 가능해진다.
뒤이어, 단계 (c)에서는, 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체가 회수된다. 본원 발명에 따라 이와 같은 목적을 위해서는, 상응하는 술폰산 염을 예를 들면 하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체보다 더 염기성이 있는 염기, 예를 들면 소듐 바이카보네이트, 무기 염기 및 유기 염기와 반응시키는 것이 가능하다.
이에 의해, 본원 발명은 간단하고 훌륭한 방식에 의해, 오염된 반응물, 중간체 및 원하지 않는 생성물, 특히 원하지 않는 아미드 오염물질을 옥사미딘으로부터 제거하는 것을 가능하게 한다.
본원 발명의 방법은 특히 하기 식 (I)
Figure 112007035014510-pct00001
의 옥사미딘 화합물 정제에 특히 적절하고,
상기 식 (I)의 옥사미딘 화합물은 라세미체 형태뿐만 아니라 L 또는 D 배위(configuration) 화합물의 형태로 될 수 있고, 상기에서
R1은 하기 식
Figure 112007035014510-pct00002
의 기이고,
상기에서 R4
(i) 선택적으로는 예를 들면 C1-C6-알킬-, C1-C3-알콕시-, 하이드록시-, 카르복시-, 술포닐-, 니트로-, 시아노-, 옥소- 또는/및 예를 들면, 에톡시카르보닐과 같은 할로겐-치환된 C1-C6-알킬 잔기, 예를 들면, 페닐, p-할로페닐, 나프틸과 같은 아릴 잔기,
(ii) 포화 또는 불포화 분지형 또는 비분지형의 C1-C6-알콕시 잔기 또는
(iii) 선택적으로는 예를 들면 C1-C6-알킬-, C1-C3-알콕시-, 하이드록시-, 카르복시-, 술포닐-, 니트로-, 시아노-, 옥소- 또는/및 할로겐-치환된 페녹시 또는 벤질옥시카르보닐 잔기이고,
R2는 선택적으로는 예를 들면 C1-C6-알킬-, C1-C3-알콕시-, 하이드록시-, 카르복시-, 술포닐-, 니트로-, 시아노-, 옥소- 또는/및 예를 들면, 페닐, 4-메틸페닐, 2,4,6-트리메틸페닐, 2,4,6-트리이소프로필페닐, 4-메톡시-2,3,6-트리메틸페닐과 같은 할로겐-치환된 페닐 잔기이고, R3은 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬이고, 및
n은 0 또는 1이고,
Z는 N 또는 CR9이고, 상기에서 R9는 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬이다.
본원 발명의 한 실시 형태에 따르면, 바람직하게는, 본원 발명은 N-α-(2,4,6-트리이소프로필페닐술포닐)-3-하이드록시아미디노-(L)-페닐알라닌 4-에톡시카르보닐피페라지드를 매우 순수한 형태로 분리하는데 사용될 수 있다.
옥사미딘 유도체 제조에 현재까지 개시되어 있는 합성 방법에서는, 옥사미딘 화합물은 낮은 순도로 생성되었고, 아미드 오염물질을 30% 이상의 상당한 비율로 포함하고 있으며, 추가적으로는 반응물 및 공지되지 않은 화합물에 의한 오염을 포함하고 있다. 본원 발명의 방법으로는 순수한 옥사미딘을 얻는 것이 가능하다. 옥사미딘은 바람직하게는 90% 이상의 순도로 생성되고, 더 바람직하게는 95% 이상, 가장 바람직하게는 99% 이상의 순도로 생성된다.
본원 발명의 또 다른 실시형태에 따르면, 본원 발명의 정제 방법에서는 어떠한 라세미화도 일어나지 않아서, 광학적으로 순수한(enantiopure) 옥사미딘 생성물이 얻어진다.
본원 발명의 한 실시형태에서는, 본원 발명에 따른 정제 방법이 3-하이드록시아미디노페닐-알라닌 유도체 제조 방법의 일 부분이 될 수 있다. 바람직한 제조 방법은
(i) N-보호된 3-시아노페닐알라닌을 피페라진 유도체와 반응시켜 N-보호된 3-시아노페닐알라닌 피페라지드를 생성하는 단계;
(ii) 선택적으로 치환된 페닐술포닐 할라이드, 특히 TIPPS 할라이드와 반응시키는 단계;
(iii) 상기 시아노기를 하이드록시아미디노기로 변환시키는 단계;
(iv) 전술한 바와 같이 아로마틱 술폰산으로 정제하는 단계를 포함한다.
본원 발명의 방법 중 단계 (i)에서, N-보호된 3-시아노페닐-알라닌은 피페라진 유도체와 반응하게 된다. 용어 "피페라진 유도체"는 본원 발명의 문맥에서는 피페라진 및 피페라진 유도체를 포함하고, 상기에서 선택적으로는 고리에 있는 네 개 이상의 탄소 위치 및/또는 고리에 있는 한 개 이하의 질소 원자가 치환될 수 있다. 바람직하게 사용되는 피페라진 유도체들은 고리에 있는 두 개의 질소 원자 중 하나에서 치환체를 갖는다.
적절한 치환체들의 예는 C1-C6-알킬 잔기, 포화 또는 불포화 분지형 또는 비분지형의 C1-C6-알콕시 잔기, 페녹시 및 페닐옥시카르보닐 잔기, 및 예를 들면 페닐, p-할로페닐 및 나프틸과 같은 아릴 잔기들을 포함한다. 이들은 각각의 경우에서 독립적으로, 예를 들면 C1-C6-알킬, C1-C3-알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 또는/및 할로겐에 의해 선택적으로 번갈아 치환될 수 있다.
본원 발명에 따라, 단계 (i)에서 사용된 3-시아노페닐알라닌의 아미노 질소 원자를 보호하기 위해서 소정의 보호기를 사용하는 것이 가능하다. 아미노 작용기의 적절한 보호기의 예들이 종래 기술에서 공지되어 있으며, 예를 들면 Cbz (벤질옥시카르보닐), Boc (T-부틸옥시카르보닐), DIMOZ (디메톡시벤질-옥시카르보닐), Tfac (트리플루오로아세틸), CyOC (시아노-t-부틸옥시카르보닐), Phth (프탈로일), Bpoc (2-비페닐-4-이소프로폭시카르보닐), Ddz (3,5-디메톡시-페닐이소프로폭시카르보닐), Fmoc (플루오레닐-9-메틸옥시카르보닐), PALOC (3-(3-피리딜)알릴옥시카르보닐), Tos (p-톨루엔술포닐), NPS (2-니트로페닐-설페닐), DNPS (2,4-디니트로페닐설페닐)을 포함한다. Boc가 본원 발명에 따른 보호기로서 특히 바람직하게 사용된다.
본원 발명에 따른 방법 중 단계 (i)에서의 반응은 N-보호된 3-시아노페닐알라닌 피페라지드를 생성한다.
본원 발명의 한 실시형태에서는 상기 N-보호기를 다시 제거하는 것이 후속적으로 가능하다. 각각의 보호기를 제거하기 위해 필요한 조건들은 당업자들에게 공지되어 있다. 본원 발명에 따라 특히 바람직하게 사용되는 보호기인 Boc은 예를 들면 산성 조건에서, 예를 들면 HCl 가스 또는 트리플루오로아세테이트로 포화된 디옥산 또는 메탄올과 같은 유기 용매에서 제거될 수 있고, 특히 바람직하게는 디옥산에서 4M HCl (g)로 제거될 수 있다. 또 다른 가능성은 보호기의 제거가 인 시츄로(in situ) 일어나기 위해 다음 반응 단계 (ii)에서 조건을 선택하는 것이다.
단계 (ii)에서는, 단계 (i)에서 생성된 3-시아노페닐알라닌 피페라지드가 선택적으로 치환가능한 페닐술포닐 할라이드와 반응하게 된다.
이와 관련하여 바람직한 할라이드는 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 및 아이오디드이다. 페닐술포닐 할라이드에서 치환체들의 예는 C1-C6-알킬, C1-C3-알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐을 포함한다. 바람직하게 사용되는 페닐술포닐 할라이드는 페닐-, 4-메틸페닐-, 2,4,6-트리메틸페닐-, 4-메톡시-2,3,6-트리메틸페닐-이고, 특히 2,4,6-트리이소프로필페닐술포닐 (TIPPS) 할라이드이다.
단계 (iii)에서는, 시아노기가 하이드록시아미디노 작용기로 변환되게 된다. 이와 같은 변환은 예를 들면 소듐 카보네이트 또는 트리에틸아민 존재 하에서 하이드록시아민 하이드로클로라이드에 의해 수행될 수 있다. 이와 같은 반응을 위한 적절한 방법은 종래 기술에서 공지되어 있으며, 예를 들면 WO 03/072559호에서 기술되어 있다.
단계 (iii)에서 생성된 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체는 뒤이어 유기 술폰산을 사용하는 전술한 정제 방법에 따라 매우 순수한 형태로 얻어진다. 이와 관련해서는 3-하이드록시아미디노페닐-알라닌 유도체를 단계 (iii)으로부터 먼저 분리하는 것이 필요하지 않게 된다.
3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체는 이와 같은 방식에 의해 기구를 거의 사용하지 않고서도 높은 화학적 수득율과 순도로 얻어진다.
본원 발명의 방법에 따라 매우 순수한 형태로 얻어지는 옥사미딘 화합물은 예를 들면 경구로 허용가능한 유로키나제 억제제로 사용될 수 있다.
본원 발명의 추가적인 실시형태에 따르면, 옥사미딘 화합물은 3-아미디노페닐알라닌 유도체를 생성하기 위해 추가로 반응할 수 있다. 본원 발명에 따르면 옥사미딘은 매우 순수한 형태가 되므로, 합성의 또 다른 과정에서 아미디노 최종 생성물의 수득율도 또한 뚜렷하게 증가하게 된다.
이에 의해, 본원 발명은
(i) 전술한 방법에 의해 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체를 제조하는 단계, 및
(ii) 상기 하이드록시아미디노기를 아미디노기로 변환시키는 단계를 포함하는 3-아미디노-페닐알라닌 유도체 제조 방법을 제공한다.
하이드록시아미디노기는 환원에 의해 아미디노 유도체로 변환될 수 있다. 이것은 예를 들면 WO 03/076391호, WO 03/072559호, EP 1 294 742호, 및 스테인메제르(Steinmetzer) 등에 의한 J. Enzyme inhibition, 16, 2001, 241-249, 켄트(Kent) 등에 의한 J. Peptide Res., 52, 1998, 201-207 및 스투버(Stuber) 등에 의한 Peptide Res. 8, 1995, 78-85에서 개시된 바와 같이 당업자들에게 익숙한, 촉매에 의한 수소화 반응에 의해 정상적으로 일어난다.
이에 따라 본원 발명의 방법에 의하면, 종래 기술에서 공지된 방법에 비해 뚜력하게 개선된 수득율로, 및 매우 순수한 형태로, 상응하는 3-아미디노페닐알라닌 유도체를 분리시키는 것이 가능해진다.
도 1은 N-알파-(2,4,6-트리이소프로필페닐술포닐)-3-하이드록시아미디노-(L)-페닐알라닌 4-에톡시카르보닐 피페라지드의 종래 합성법에서 얻어진 생성물 혼합물의 HPLC 프로파일을 나타내고 있다. 옥사미딘은 약 21.4 분의 머무름 시간(retention time)에서 검출되고, 이에 뒤이어 아미드 오염물질은 24.3 분에서 검출된다.
도 2는 본원 발명의 방법에 의해 제조된 옥사미딘 N-알파-(2,4,6-트리이소-프로필페닐술포닐)-3-하이드록시아미디노-(L)-페닐알라닌 4-에톡시카르보닐피페라 지드의 HPLC 프로파일을 나타내고 있다.
단계 1: 알킬레이션과 디카르복실레이션
Figure 112007035014510-pct00003
디에틸 아세트아미도말로네이트 (407 g)를 질소 분위기의 상온에서 에탄올 (1 ℓ)에 첨가한다. 현탁액을 약 70℃까지 가열하고, 에탄올 (900 ㎖)에 넣은 소듐 에톡시드 (130 g) 용액을 첨가한다. 반응 혼합물을 동일한 온도에서 추가로 30분 동안 교반한다. 그런 다음, 에탄올 (1.4 ℓ)에 넣은 3-브로모메틸벤조니트릴 (300 g)의 현탁액을 반응 용기에 첨가한다. 반응 용기의 온도는 약 70℃에서 추가로 2.5 시간 동안 유지한다. 그런 다음, 1.5 시간의 코스에 걸쳐, 희석한 소듐 히드록시드 용액 (2N; 2.2 ℓ)을 적가한다. 현탁액을 약 70℃에서 추가로 30분 동안 교반하고, 그런 다음 실온까지 냉각시킨다. 진한 염산을 첨가함으로써(약 1 시간의 코스에 걸쳐) 반응 혼합물의 pH를 실온에서 약 7까지 천천히 낮춘다. 유기 용매를 감압 하에서 증류에 의해 제거한다(< 100 mbar; Tmax= 60℃). 남은 잔류물을 1N NaOH(1 ℓ)에서 용해시킨다. 수성 용액을 에틸 아세테이트로 3회 추출한다(매회 350 ㎖). 이것을 10℃까지 냉각시킨다. 수성 용액을 진한 HCl로 산성화한 다(pH = 1). 목표로 하는 생성물을 에틸 아세테이트로 추출한다(매회 에틸 아세테이트 1.2 ℓ로 3회 추출). 합한 유기층을 감압 하에서 농축시킨다. 목표로 하는 생성물을 백색 고체로 침전시킨다. 결정을 5℃에서 흡인 깔때기(suction funnel)로 포집하고, 소량의 에틸 아세테이트로 세척하고, 질소 분위기로 45℃에서 건조시킨다.
수득량: 243 g(68%)
단계 2: 효소에 의한 라세미체 분할
Figure 112007035014510-pct00004
아세틸시아노페닐알라닌 (940 g)을 37℃에서 1N NaOH (4 ℓ)에 용해시킨다. 12.8인 최초의 pH를 4N HCl(약 120 ㎖) 첨가에 의해 7.2까지 낮춘다. 아실라제 I(acylase I)(37.8 g)을 첨가한다. 반응 혼합물의 pH가 약 7.2에서 일정하게 유지되도록 하기 위하여, NaOH (1N)를 반응 혼합물에 계속해서 첨가한다. 37℃에서 72시간 후에, 침전된 생성물을 20℃에서 여과에 의해 분리한다. 결정을 물로 세척하고, 약 40℃에서 감압 하에 건조시킨다. 감압 하에서 여과액을 원래 부피의 3분의 1까지 농축시켜 추가적인 생성물을 침전시킨다.
전체 수득량: 261 g(34%)
단계 3: Boc으로 NH2 작용기 보호
Figure 112007035014510-pct00005
트리에틸아민 (310 ㎖)을 메탄올 (4.5 ℓ)에 넣은 시아노페닐-L-알라닌 (425 g)의 현탁액에 첨가한다. 25℃에서, 디-터트-부틸 디카보네이트 (488 g)를 첨가한다. 반응 혼합물을 밤새 교반한다. 유기 용매를 40℃에서 감압 하에서 제거한다. 남아있는 오렌지-색깔의 오일을 에틸 아세테이트(3 ℓ)로 희석한다. 1N HCl (2.3 ℓ)을 첨가하고, 불균일한 용액을 30분 동안 격렬하게 교반한다. 상 분리를 수행한다. 유기 상을 분리하고, 물로 추출하고, MgSO4로 건조시킨다. 여과한 후에, 상기 유기 상을 40℃에서 감압 하에 건조될 때까지 수분을 제거한다. 그 잔여물에 디클로로메탄을 첨가하여 결정을 얻는다. 상기 결정을 여과에 의해 포집하고, 45℃에서 질소 하에 건조시킨다.
수득량: 554 g (85%)
단계 4: 커플링 반응
Figure 112007035014510-pct00006
Boc-시아노페닐알라닌 (554 g)과 HOBT (52 g)를 디클로로메탄 (2.7 ℓ)에서 현탁한다. 디클로로메탄 (1 ℓ)에 넣은 DCC (453 g) 용액을 첨가한다. 그런 다음, 현탁액을 10-15℃까지 냉각시키고, 상기 온도 범위를 유지하면서 에톡시카르보닐-피페라진 (347 g)을 30분의 코스에 걸쳐 적가한다. 반응 혼합물을 밤새 교반한다. 유레아를 여과하여 제거한다. 포화시킨 NaHCO3 용액 (1.8 ℓ)을 여과액에 첨가한다. 불균일한 혼합물을 30분 동안 교반하고, 그런 다음 상을 분리한다. 유기상을 물 (2ℓ)로 추출하고, 그런 다음 MgSO4로 수분을 제거한다. MgSO4를 여과에 의해 제거하고, 용액을 30℃에서 감압 하에 농축시킨다. 남아있는 오일을 에틸 아세테이트 (300 ㎖)에서 용해시킨다. 용액을 비등점까지 가열한다. 상기 용액이 흐려질 때까지 디이소프로필 에테르 (750 ㎖)를 천천히 첨가한다. 온도를 50℃까지 낮추고, 혼합물이 침전될 때까지 그대로 둔다. 그런 다음 온도를 5 시간에 걸쳐 25℃까지 낮춘다. 생성물을 여과하고, 디이소프로필 에테르로 세척하고, 40℃에서 질소 하에 수분을 제거한다.
수득량: 660 g (80%)
단계 5: 탈보호
Figure 112007035014510-pct00007
Boc-L-시아노페닐알라닌 피파미드(pipamide) (442 g)를 디옥산에 넣은 HCl 용액 (4 N; 1.2 ℓ)에서 용해시킨다. 첨가하는 동안 온도를 25℃부터 32℃까지 높인다. 3 시간 후에 반응을 완료하고, 디클로로메탄(1 ℓ)을 용액에 첨가한다. 목표로 하는 생성물이 침전되기 시작한다. 현탁액을 밤새 교반한다. 초과량의 HCl은 혼합물로부터 비워 제거한다. 생성물을 여과에 의해 분리하고, 디이소프로필 에테르 (0.7 ℓ)로 세척하고, 45℃에서 고 진공하에 수분을 제거한다.
수득량: 552 g (98%)
단계 6: 술폰아미드 형성
Figure 112007035014510-pct00008
2,4,6-트리이소프로필페닐술포닐 클로라이드 (212 g)를 디클로로메탄 (1.6 ℓ)에 넣은 시아노페닐-L-알라닌 피파미드 HCl (257 g)의 현탁액에 첨가한다. N-에틸디이소프로필아민 (238 ㎖)의 첨가에 의해 투명한 용액을 생성한다. 상기 첨가는 발열 반응으로 진행된다(온도가 25℃부터 35℃까지 상승한다). 상온에서 2 시간 동안 교반한 후에, 물 (1.1 ℓ)을 반응 혼합물을 첨가한다. 상을 분리하고, 유기 상을 포화된 NaHCO3 용액 (1.6 ℓ)으로 한 번 추출하고, 물 (0.5 ℓ)로 한 번 추출한다. MgSO4로 유기 상에서 수분을 제거하고, 여과하고, 감압 하에서 농축한다. 무색의 오일을 얻고, 상온에서 그대로 두어 천천히 결정이 형성되도록 한다.
수득량: 423 g (∼100%)
단계 7: 아미드 옥심 형성; N-알파-(2,4,6-트리이소프로필술포닐)-3-하이드록시아미디노-(L)-페닐알라닌-4-에톡시카르보닐피페라지드
Figure 112007035014510-pct00009
TIPPS-L-시아노페닐알라닌 피파미드 (50 g)를 에탄올 (350 ㎖)에서 용해시킨다. 하이드록시아민 HCl (7.3 g)과 트리에틸아민 (14.5 ㎖)을 연속적으로 첨가한다. 반응 혼합물을 비등점 (∼75℃)까지 가열하고, 6 시간 동안 환류 상태에서 가열한다. 그런 다음 40℃까지 냉각시키고, 용매를 교환한다. 에탄올을 감압 하에서 제거하고, 그 잔여물에 디클로로메탄 (300 ㎖)과 물 (100 ㎖)을 첨가한다. 상 분리를 수행한다. MgSO4로 유기 상에서 수분을 제거한다. 여과하고, 감압 하에서 용매를 제거한다.
백색 고체 (57 g)를 수득하고, 아세톤 (200 ㎖)에서 용해시킨다. 아세톤 (150 ㎖)에 넣은 암스트롱 산 (15 g) 용액을 첨가한다. 혼합물을 아세톤의 비등점에서 30분 동안 가열한다. 목표로 하는 생성물의 암스트롱 염(Armstrong salt)은 백색 고체로 결정화된다. 현탁액을 상온까지 냉각시키고, 뒤이어 여과를 실시하기 전에 1 시간 동안 교반한다. 결정을 아세톤 (75 ㎖)으로 세척하고, 수분을 제거하고, 그런 다음 디클로로메탄 (600 ㎖)에 용해시킨다. 포화된 NaHCO3 용액 (400 ㎖)을 첨가한다. 불균일한 혼합물을 20분 동안 격렬하게 교반하고, 그런 다음 상을 분리한다. 유기 상을 물 (400 ㎖)로 추출하고, 그런 다음 디클로로메탄을 증류에 의해 제거한다. 백색 고체 (45 g)를 얻는다. 생성물을 에틸 아세테이트/디이소프로필 에테르로부터 재결정하고, 45 g을 에틸 아세테이트 (60 ㎖)에서 용해시킨다. 디이소프로필 에테르 (250 ㎖)를 첨가한다. 이와 같은 방식으로 형성된 현탁액을 30분 동안 비등점에서 가열하고, 그런 다음 상온까지 천천히 냉각시킨다. 무정형의 백색 고체를 여과하고, 디이소프로필 에테르로 세척하고, 45℃에서 진공하에 수분을 제거한다.
수득량: 34 g (65%)

Claims (24)

  1. 식 (I)의 화합물을 정제하는 방법으로서, 상기 방법은
    (a) 선택적으로 오염된 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체 용액에 아로마틱 술폰산을 첨가하여 침전물을 형성하는 단계,
    (b) 상기 단계 (a)에서 형성된 침전물을 분리하는 단계, 및
    (c) 상기 침전물로부터 유리 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체를 회수하는 단계를 포함하고,
    상기 식 (I)의 화합물은
    Figure 112011048483306-pct00014
    이고, 상기에서 R1은 하기 식
    Figure 112011048483306-pct00015
    의 기를 나타내고, 상기에서 R4
    (i) C1-C6 알킬, C1-C3 알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된 C1-C6 알킬 잔기 또는 아릴 잔기,
    (ii) 포화 또는 불포화 분지형 또는 비분지형의 C1-C6-알콕시 잔기, 또는
    (iii) C1-C6 알킬, C1-C3 알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된 페녹시- 또는 벤질옥시카르보닐 잔기를 의미하고,
    R2는 C1-C6-알킬, C1-C3-알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된 페닐 잔기를 나타내고,
    R3은 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬이고,
    n은 0 또는 1을 의미하고,
    Z는 N 또는 CR9를 의미하고, 상기에서 R9는 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬인 것인 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단계 (a)의 아로마틱 술폰산은 암스트롱 산(Armstrong's acid)인 것인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물은 N-α-(2,4,6-트리이소프로필페닐술포닐-3-하이드록시아미디노-(D,L)-페닐알라닌 유도체 또는 그의 L-에난티오머인 것인 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물은 N-α-TIPPS-3-하이드록시아미디노-(D,L)-페닐알라닌 4-에톡시카르보닐피페라지드 또는 그의 L-에난티오머인 것인 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아세톤에 넣은 상기 식 (I)의 화합물 용액이 상기 단계 (a)에서 사용되는 것인 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 침전물의 분리는 여과에 의해 일어나는 것인 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 (c)에서 회수는 NaHCO3와의 반응에 의해 일어나는 것인 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물이 90% 이상의 순도로 얻어지는 것인 방법.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물이 95% 이상의 순도로 얻어지는 것인 방법.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체가 99% 이상의 순도로 얻어지는 것인 방법.
  11. 식 (I)의 화합물을 제조하는 방법으로서, 상기 방법은
    (i) N-보호된 3-시아노페닐알라닌을 피페라진 유도체와 반응시켜 N-보호된 3-시아노페닐알라닌 피페라지드를 생성하는 단계,
    (ii) 선택적으로 치환된 페닐술포닐 할라이드와 반응시키는 단계,
    (iii) 상기 시아노기를 하이드록시아미디노기로 변환시키는 단계, 및
    (iv) 생성된 3-하이드록시아미디노페닐알라닌 유도체를 제1항 또는 제2항에 따른 방법에 의해 정제하는 단계를 포함하고,
    상기 식 (I)의 화합물은
    Figure 112011048483306-pct00016
    이고 상기에서 R1은 하기 식
    Figure 112011048483306-pct00017
    의 기를 나타내고,
    상기에서 R4
    (i) C1-C6 알킬, C1-C3 알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된 C1-C6 알킬 잔기 또는 아릴 잔기,
    (ii) 포화 또는 불포화 분지형 또는 비분지형의 C1-C6-알콕시 잔기, 또는
    (iii) C1-C6 알킬, C1-C3 알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된, 페녹시- 또는 벤질옥시카르보닐 잔기를 의미하고,
    R2는 C1-C6-알킬, C1-C3-알콕시, 하이드록시, 카르복시, 술포닐, 니트로, 시아노, 옥소 및 할로겐으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환기에 의해 선택적으로 치환된 페닐 잔기를 나타내고,
    R3은 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬이고,
    n은 0 또는 1을 의미하고,
    Z는 N 또는 CR9를 의미하고, 상기에서 R9는 H 또는 분지형 또는 비분지형의 C1-C4-알킬인 것인 방법.
  12. 제11항에 있어서, Boc으로 N-보호된 3-시아노페닐알라닌 유도체가 상기 단계 (i)에서 사용되는 것인 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 단계 (i)의 피페라진 유도체는 에톡시카르보닐피페라진인 것인 방법.
  14. 제11항에 있어서, 2,4,6-트리이소프로필벤젠술포닐 클로라이드와의 반응이 상기 단계 (ii)에서 일어나는 것인 방법.
  15. 제11항에 있어서, 상기 단계 (iii)에서 시아노기는 소듐 카보네이트 또는 트리에틸아민 존재 하에서 하이드록시아민 하이드로클로라이드에 의해 하이드록시아미디노기로 변환되는 것인 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물은 90% 이상의 순도로 생성되는 것인 방법.
  17. 제11항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물은 95% 이상의 순도로 생성되는 것인 방법.
  18. 제6항에 있어서, 상기 식 (I)의 화합물은 99% 이상의 순도로 생성되는 것인 방법.
  19. (i) 제8항에서 청구된 방법에 의해 식 (I)의 화합물을 제조하는 단계; 및
    (ii) 하이드록시아미디노기를 아미디노기로 변환시키는 단계를 포함하는, 3-아미디노페닐알라닌 유도체의 제조 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 하이드록시아미디노기는 아세트산 무수물과의 반응 및 뒤이어 촉매에 의한 수소화반응에 의해 상기 단계 (ii)에서 아미디노기로 변환되는 것인 방법.
  21. 제1항에 있어서, 상기 R4는 에톡시카르보닐인 것인 방법.
  22. 제1항에 있어서, 상기 R2는 2,4,6-트리이소프로필페닐인 것인 방법.
  23. 제11항에 있어서, 상기 R4는 에톡시카르보닐인 것인 방법.
  24. 제11항에 있어서, 상기 R2는 2,4,6-트리이소프로필페닐인 것인 방법.
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