KR101052946B1 - 처리시스템 - Google Patents

Abstract

피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 시스템의 양 사이드사이에서 사람이 우회하지 않고 왕래할 수 있도록 하는 것이다.

이 레지스트 도포현상처리 시스템에서는, 반송라인[A]의 종단부, 반송라인 [B]의 시단부 및 종단부, 반송라인[C]의 시단부 및 종단부, 반송라인[D]의 시단부에 오븐타워[D]의 시단부에 오븐타워(TB)(76, 78, 80, 82, 84, 86)를 각각 설치하여, 양 오븐타워(76, 86), (78, 84), (80, 82)의 사이에 세로형의 반송기구 (S/A)(88, 90, 92)를 각각 설치하고 있다. 반송기구(88)와 반송기구(90)와의 사이에는, 해당 크린룸내에서 이 레지스트 도포현상처리시스템을 횡단하여 사람이 빠져나가는 것을 가능하게 하는 통로(168)와, 양 반송기구(88, 90)의 사이에서 기판(G)을 주고받기 위한 익스텐션·유니트(170)가 상하에 설치된다.

Description

처리시스템{PROCESSING SYSTEM}

도 1은 본 발명의 일실시형태에 의한 레지스트 도포현상처리시스템의 구성을 나타내는 평면도이다.

도 2는 상기 처리시스템에 있어서의 도포프로세스부의 구성을 나타내는 평면도이다.

도 3은 상기 처리시스템에 있어서의 오븐타워 및 반송기구의 구성을 나타내는 측면도이다.

도 4는 상기 처리시스템에 있어서의 오븐타워 및 반송기구의 구성을 나타내는 측면도이다.

도 5는 상기 처리시스템에 있어서의 오븐타워 및 반송기구의 구성을 나타내는 측면도이다.

도 6은 상기 처리시스템에 있어서의 통로주위의 구성을 나타내는 정면도이다.

도 7은 상기 처리시스템에 있어서의 익스텐션·유니트(EXT)의 구성예를 나타내는 사시도이다.

도 8은 상기 처리시스템에 있어서의 냉각유니트(COL)의 구성예를 나타내는 단면도이다.

도 9는 상기 처리시스템에 있어서의 빠져나감용 통로 및 그 주위의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 10은 상기 처리시스템에 있어서의 내부출입용 통로 및 그 주위의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 11은 상기 처리시스템에 있어서의 전체적인 처리의 순서를 나타내는 플로 차트이다.

도 12는 상기 처리시스템을 크린룸내에 복수대 설치한 경우의 레이아웃의 일례를 나타내는 평면도이다.

도 13은 본 발명의 제 2 실시형태에 의한 레지스트 도포현상처리시스템의 구성을 나타내는 평면도이다.

<도면의 주요부분에 대한 설명>

10 : 레지스트 도포현상처리시스템

14(C/S) : 카세트 스테이션

16(P/S) : 프로세스 스테이션

18(I/F) : 인터페이스 스테이션

24 : 세정프로세스부

76, 78, 80, 82, 84, 86(TB) : 오븐타워

88, 90, 92(S/A) : 반송기구

88A, 88B, 90A, 90B(S/A) : 반송기구

168, 168A, 168B : 통로

170, 170A, 170B(EXT) : 익스텐션·유니트

174 : 지지부

176(COL) : 냉각유니트

178(BUF) : 버퍼

206 : 통로표식

[A], [B], [C], [D] : 반송라인

본 발명은 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 반송라인을 갖는 처리시스템에 관한 것이다.

최근, LCD(액정표시 디스플레이)제조에 있어서의 레지스트도포현상처리시스템에서는, LCD기판의 대형화에 대응하기 위해서, 반송롤러 등의 반송체를 수평방향에 부설하여 이루어지는 반송로상에서 LCD기판을 수평으로 반송하면서 세정처리 혹은 현상처리를 하도록 한, 소위 평류(平流)방식의 세정처리부나 현상처리부를 장착구비하여, 그와 같은 평류방식의 처리부에 맞춰서 시스템전체를 프로세스 플로우의 순서대로 대강 수평방향의 라인에 따라 시리얼로 나열하는 시스템구성 또는 레이아웃이 보급되고 있다(예를 들면 특허문헌 1 참조).

특허문헌 1에 기재되는 바와 같이, 이 종류의 레이아웃은, 시스템중심부에 가로길이의 처리스테이션을 배치하여, 그 길이방향 양 끝단부에 카세트 스테이션과 인터페이스 스테이션을 배치한다. 카세트스테이션에서는, 스테이션내의 스테이지와 시스템 외부와의 사이에서 미처리 또는 처리된 기판을 복수매 수용하는 카세트의 반입반출이 행하여지는 동시에, 스테이지상의 카세트와 처리스테이션과의 사이에서 기판의 반입반출이 행하여진다. 인터페이스 스테이션에서는 인접하는 노광장치와 처리스테이션과의 사이에서 기판의 주고받음이 행하여진다.

처리스테이션은 카세트 스테이션을 시점·종점으로 하여, 인터페이스 스테이션을 반환점으로 하는 진행로와 복귀로의 2열의 반송라인을 갖는다. 일반적으로, 진행로는 주로 평류(平流)형 세정처리부의 반송라인과 도포처리부의 반송라인으로 구성되고, 복귀로는 주로 평류형 현상처리부의 반송라인으로 구성된다. 각 반송라인의 시단부 및 /또는 종단부에는, 열판을 구비하는 매엽식의 오븐유니트를 다단에 집약 배치하여 이루어지는 한 쌍의 오븐타워가 설치된다. 양 오븐타워의 사이에는, 타워내의 각 유니트의 사이에서 기판을 반송하기 위한 승강·선회형의 반송로봇이 설치된다.

<특허문헌 1>

일본특허공개 2002-334918호의 공보

상기와 같은 평류방식의 처리부를 레이아웃의 기준으로 하여 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 반송라인을 갖는 처리시스템은, LCD기판의 대형화가 진행함에 따라서 풋프린트, 특히 길이방향 의 사이즈도 커져, 전체길이 50m를 넘는 것도 드물지 않다.

종래 이 종류의 처리시스템에서는, 시스템의 한 사이드에서 반대사이드로 왕래하기 위해서는 시스템의 일끝단부 요컨대 카세트 스테이션측 또는 노광장치측중 어느 하나를 우회할 수밖에 없었다. 이 때문에, 보수관리시나 화재 등의 재해발생시에 시스템의 한 사이드에서 반대사이드로 사람이 이동하는데 상당한 걷는 수고와 시간을 요하고 있었다. 이 문제는, 시스템의 전체길이가 늘수록 주위거리도 그 2배의 비율로 증대하기 때문에 점점 심각화된다.

또한, 종래 이 종류의 처리시스템에서는, 예를 들면 제품로트 등이 변할 때에 반송택트가 바뀌면 다른 반송라인사이에서 원활히 효율적으로 반송택트의 조정을 꾀하는 것이 어렵다고 하는 문제나, 시스템내의 일부에서 프로세스 플로우가 정체하면 전후(특히 상류측)의 처리부에서 실행중의 처리내용이 영향을 받는다고 하는 문제도 있었다.

본 발명은 이러한 종래 기술의 문제점에 비추어 봐서 이루어진 것으로, 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 반송라인을 갖는 시스템 레이아웃에 있어서, 시스템의 양 사이드 사이에서 사람이 우회하지 말고 간단히 또한 단시간에서 왕래할 수 있도록 한 처리시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 별도의 목적은, 상기와 같은 시스템 레이아웃에 있어서 프로세스플로우 또는 반송플로우의 신뢰성을 향상시키도록 한 처리시스템을 제공하는 것에 있다.

상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제 1 처리시스템은, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 제 1 반송라인과, 상기 제 1반송라인의 연장상에 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 제 2 반송라인과, 상기 제 1 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 1 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 1 다단유니트부와, 상기 제 1 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 1 반송수단과, 상기 제 2 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 2 다단유니트부와, 상기 제 2 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 2 반송수단과, 상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 주고받음부와, 시스템을 사람이 횡단하여 빠져나갈 수 있도록 상기 주고받음부의 아래에 설치되는 통로를 갖는다.

상기 제 1 처리시스템에 있어서는, 제 1 반송라인과 제 2 반송라인이 접속되는 영역의 거의 중심에 배치되는 주고 받음부를 통해, 그 양측의 제 1 및 제 2 반 송수단의 사이에서 기판의 주고받음이 행하여진다. 제 1 반송수단은 제 1 반송라인의 종단부에 설치되는 제 1 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스 가능하고, 제 2 반송수단은 제 2 반송라인의 시단부에 설치되는 제 2 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스 가능하다. 관계자는, 이와 같이 반송계나 유니트가 입체적으로 집약화되어 있는 영역에 있어서 주고 받음부의 아래에 설치되는 시스템 빠져나감용의 통로를 통하여 시스템의 한사이드에서 반대사이드로 짧은 거리 내지 짧은 시간으로 이동할 수가 있다.

본 발명의 제 2 처리시스템은, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 1 반송라인과, 상기 제 1 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 1 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 1 다단유니트부와, 상기 제 1 반송라인의 연장상에 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 2 반송라인과, 상기 제 2 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층 배치하여 이루어지는 제 2 다단유니트부와, 상기 제 2 반송라인과 거의 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 3 반 송라인과, 상기 제 3 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 3 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 3 다단유니트부와, 상기 제 3 반송라인의 연장상에서 상기 제 1 반송라인과 거의 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 4 반송라인과, 상기 제 4 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 4 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 4 다단유니트부와, 상기 제 1 다단유니트부내의 각 유니트 및 상기 제 4 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 1 반송수단과, 상기 제 2 다단유니트부내의 각 유니트 및 상기 제 3 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 2 반송수단과, 상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고 받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 주고 받음부와, 시스템을 횡단하여 사람이 빠져나갈 수 있도록 상기 주고 받음부의 아래에 설치되는 통로를 갖는다.

상기 제 2 처리시스템에 있어서는, 제 1 반송라인과 제 2 반송라인이 접속되는 영역과 제 3 반송라인과 제 4 반송라인과가 접속되는 영역을 1개소에 집약 배치하여, 접속영역의 거의 중심에 배치되는 주고 받음부를 통해, 그 양측의 제 1 및 제 2 반송수단의 사이에서 기판의 주고받음이 행하여진다. 제 1 반송수단은 제 1 반송라인의 종단부에 설치되는 제 1 다단유니트부내의 각 유니트와 제 4 반송라인의 시단부에 설치되는 제 4 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 제 2 반송수단은, 제 2 반송라인의 시단부에 설치되는 제 2 다단유니트부내의 각 유니트와 제 3 반송라인의 종단부에 설치되는 제 3 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 관계자는 이와 같이 반송계나 유니트가 입체적으로 집약화되어 있는 영역에 있어서 주고 받음부의 아래에 설치되는 시스템 빠져나감용의 통로를 통하여 시스템의 한사이드에서 반대사이드로 간단히 이동할 수가 있다.

상기 제 2 처리시스템에 있어서는, 주고 받음부가 제 1 반송수단으로부터 제 2 반송수단으로 피처리기판을 건네기 위한 제 1 주고받음유니트와, 제 2 반송수단으로부터 제 1 반송수단으로 피처리기판을 건네기 위한 제 2 주고받음유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 구성이 바람직하다. 이러한 구성에 의하면, 제 1 및 제 2 반송수단의 사이에서의 쌍방향의 기판주고 받음을 독립적 또는 병렬적으로 할 수 있어, 반송효율을 올릴 수 있다. 더구나, 제 1 및 제 2 주고받음유니트를 다단에 배치하기 위해서, 풋프린트의 증대를 초래하게 되는 일도 없다.

본 발명의 제 3 처리시스템은, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 1 반송라인과, 상기 제 1 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 1 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 1 다단유니트부와, 상기 제 1 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 1 반송수단과, 상기 제 1 반송라인의 연장상에 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 2 반송라인과, 상기 제 2 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 2 다단유니트부와, 상기 제 2 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 2 반송수단과, 상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고 받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 1 주고 받음부와, 상기 제 2 반송라인과 거의 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 3 반송라인과, 상기 제 3 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 3 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 3 다단유니트부와, 상기 제 3 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 3 반송수단과, 상기 제 3 반송라인의 연장상에서 상기 제 1 반송라인과 거의 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향에서 반송하는 복귀로의 제 4 반송라인과, 상기 제 4 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 4 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 4 다단유니트부와, 상기 제 4 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 4 반송수단과, 상기 제 3 반송수단과 상기 제 4 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고 받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 2 주고 받음부와, 시스템을 횡단하여 사람이 빠져나갈 수 있도록 상기 제 1 및 제 2 주고 받음부의 아래에 각각 설정되는 제 1 및 제 2 통로를 갖는다.

상기 제 3 처리시스템에 있어서는, 진행로측에서 제 1 반송라인과 제 2 반송라인이 접속되는 영역의 거의 중심에 배치되는 제 1 주고 받음부를 통해 그 양측의 제 1 및 제 2 반송수단의 사이에서 기판의 주고받음이 행하여지는 동시에, 복귀로측에서 제 3 반송라인과 제 4 반송라인이 접속되는 영역의 거의 중심에 배치되는 제 2 주고 받음부를 통해 그 양측의 제 3 및 제 4 반송수단의 사이에서 기판의 주고받음이 행하여진다. 제 1 반송수단은 제 1 반송라인의 종단부에 설치되는 제 1 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 제 2 반송수단은 제 2 반송라인의 시단부에 설치되는 제 2 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 제 3 반송수단은 제 3 반송라인의 종단부에 설치되는 제 3 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 제 4 반송수단은 제 4 반송라인의 시단부에 설치되는 제 4 다단유니트부내의 각 유니트에도 억세스할 수 있다. 관계자는 이와 같이 반송계나 유니트가 입체적으로 집약화되어 있는 영역에 있어서 제 1 및 제 2 주고 받음부의 아래에 각각 설치되는 시스템 빠져나감용의 제 1 및 제 2 통로를 통하여 시 스템의 한사이드에서 반대사이드로 간단히 이동할 수가 있다.

상기 제 3 처리시스템에 있어서는, 빠져나감의 용이성이나 안전면 등으로부터, 제 1 통로와 제 2 통로가 시스템을 횡단하는 방향에서 거의 일직선상에 배치되는 구성이 바람직하다.

본 발명의 상기 처리시스템에 있어서의 바람직한 일형태는, 제 2 반송라인의 종단부에 설치되어, 제 2 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 5 다단유니트부와, 제 3 반송라인의 시단부에 설치되어, 제 3 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1 대의 처리유니트를 다단에 적층배치하여 이루어지는 제 6 다단유니트부와, 제 5 다단유니트부내의 각 유니트 및 제 6 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 5 반송수단을 갖는 구성이다. 이러한 구성에 있어서는, 진행로의 제 2 반송라인의 종단부와 복귀로의 제 3 반송라인의 시단부가 제 5 및 제 6 다단유니트부와 제 5 반송수단을 통해 접속되어, 진행로에서 복귀로에의 반환에 있어서도 기판에 대하는 처리유니트에 있어서의 일련의 처리가 효율적으로 행하여진다. 이 경우, 바람직하게는, 제 2 반송라인의 종단부 및 제 3 반송라인의 시단부와 인접하는 다른 처리시스템으로 피처리기판을 반입하고 또는 해당 다른 처리시스템으로부터 피처리기판을 반출하기 위한 제 6 반송수단과, 제 5 반송수단과 제 6 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고 받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 3 주고 받음부를 가져서 좋다. 이 구성에 있어서는, 제 6 반송수단과 제 3 주고 받음부를 통해, 인접하는 다른 처리시스템과 제휴한 인라인처리를 할 수 있다.

상기 처리시스템에 있어서의 별도의 바람직한 일형태는, 피처리기판을 다단에 수납하기 위한 1개 또는 복수의 카세트를 얹어 놓은 카세트스테이지와 제 1 반송라인의 시단부 및 제 4 반송라인의 종단부와의 사이에 설치되어, 미처리의 피처리기판을 카세트스테이지상중 어느 하나의 카세트로부터 집어내어 제 1 반송라인에 반입하여, 처리된 피처리기판을 제 4 반송라인으로부터 반출하여 카세트스테이지상중 어느 하나의 카세트에 수용하기 위한 제 7 반송수단을 갖는 구성이다. 이러한 구성에 있어서는, 카세트스테이지상의 카세트에 수납된 미처리의 기판은 제 7 반송수단에 의해 진행로의 제 1 반송라인에 반입되어, 제 1 반송라인 및 후속의 반송라인이나 다단유니트부를 경유하여, 마지막으로 복귀로의 제 4 반송라인으로부터 처리된 기판으로서 제 7 반송수단에 인수되어, 스테이지상의 카세트내에 복귀된다.

본 발명의 처리시스템에 있어서, 반송수단이 바람직한 일형태는, 수직방향에 승강가능한 승강반송체와, 이 승강반송체상에서 수직축의 주위에 선회가능한 선회반송체와, 이 선회반송체상에서 피처리기판을 지지하면서 수평면내에서 전후방향에 신축가능한 반송아암을 포함하는 구성이다. 이러한 구성에 있어서, 반송수단은 승강 내지 선회운동하여 양 인접한 다단유니트부의 중의 임의의 유니트에 억세스하여 기판의 반입반출을 할 수 있다.

본 발명의 처리시스템에 있어서, 바람직하게는, 적어도 1개의 반송라인이, 피처리기판을 거의 수평으로 실어 반송하기 위한 반송체를 해당 반송라인에 따라 부설하여 이루어지는 반송로와, 이 반송로상에서 피처리기판을 반송하기 위해서 반송체를 구동하는 반송구동수단을 갖는다. 이러한 방식의 반송라인은 소위 평류방식의 처리, 특히 액체처리에 적합하다. 이 경우, 반송로상에서 피처리기판에 원하는 액체처리를 실시하는 액체처리수단이 설치된다.

또한, 본 발명의 처리시스템에 있어서, 다단유니트부에 포함되는 처리유니트의 전형은, 반송라인상의 처리에 관련하여 피처리기판에 원하는 열적인 처리를 실시하기 위한 열처리유니트이다. 주고 받음부가 바람직한 형태는, 피처리기판을 1장 단위로 얹어 놓기 위한 지지판과, 기판을 핀앞끝단에서 거의 수평으로 지지하기 위해서 지지판상에 이산적으로 설치되는 복수의 지지핀을 갖는 구성이다.

본 발명의 처리시스템에 있어서는, 통로상의 공간을 효율적으로 이용하기 위해서, 바람직하게는, 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 주고 받음부의 위 또는 아래에 포개어 설치하여, 주고 받음부에 억세스 가능한 적어도 1개의 반송수단에 의해 해당 처리유니트에 억세스 가능하게 하더라도 좋다. 또한, 바람직하게는, 주고 받음부에 포개어 설치되는 처리유니트가, 피처리기판의 온도를 일정하게 조정하기 위한 기판온도조정수단을 갖는 유니트로 하더라도 좋다.

또한, 본 발명의 처리시스템에 있어서는, 피처리기판을 일시적으로 남게 하여 보관하기 위한 버퍼유니트를 주고 받음부의 위 또는 아래에 포개어 설치하여, 주고 받음부에 억세스가능한 적어도 1개의 반송수단에 의해 버퍼유니트에 억세스 가능하게 하더라도 좋다. 이러한 구성에 있어서는, 주고받음부를 경유하는 기판을 필요에 따라서 인접하는 버퍼유니트에 일시적으로 남게 하여 보관하는 것이 가능하고, 그중 2개의 반송라인사이에서 반송택트가 다른 경우에 반송타이밍의 보상 또는 조정을 하는 경우나, 시스템내의 장해 또는 고장 등의 비상시에 기판을 반송라인으로부터 퇴피시키는 경우에 효율적이고, 프로세스 플로우나 반송 플로우의 신뢰성을 높일 수 있다.

또한, 본 발명의 처리시스템에 있어서는, 통로의 입구부근에 통로의 존재장소와 시스템내의 상황을 동시에 알리기 위한 표시수단을 설치하는 구성이나, 통로를 상시 개방상태로 하는 구성이 바람직하다.

[발명의 실시의 형태]

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다.

도 1에, 본 발명의 적용 가능한 레지스트 도포현상처리시스템을 나타낸다. 이 레지스트 도포현상처리시스템(10)은 크린룸내에 설치되어, 예를 들면 LCD기판을 피처리기판으로 하여, LCD 제조프로세스에 있어서 포토그래피공정내의 세정, 레지스트도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이크 등의 각 처리를 하는 것이다. 노광처리는 시스템에 인접하여 설치되는 외부의 노광장치(12)에서 행하여진다.

이 레지스트 도포현상처리시스템(10)은, 중심부에 가로길이의 프로세스스테이션(P/S)(16)을 배치하고, 그 길이방향(X방향)양 끝단부에 카세트 스테이션 (C/S) (14)과 인터페이스 스테이션(I/F)(18)을 배치하고 있다.

카세트스테이션(C/S)(14)은 시스템(10)의 카세트반입반출포트이고, 기판(G) 을 다단으로 겹쳐 쌓도록 하여 복수매 수용 가능한 카세트(C)를 수평방향 예를 들면 Y방향으로 4개까지 모두 얹어 놓기 가능한 카세트스테이지(20)와, 이 스테이지 (20)상의 카세트(C)에 대하여 기판(G)의 출입을 하는 반송기구(22)를 구비하고 있다. 반송기구(22)는 기판(G)을 유지할 수 있는 수단 예를 들면 반송아암(22a)을 갖고, X, Y, Z, θ의 4축에서 동작가능하고, 인접하는 프로세스 스테이션(P/S)(16)측과 기판(G)의 주고 받음을 할 수 있게 되어 있다.

프로세스 스테이션(P/S)(16)은 시스템 길이방향(X방향)으로 늘어나는 진행로의 반송라인[A], [B] 및 복귀로의 반송라인[C], [D]을 갖고 있다. 보다 상세하게는, 카세트스테이션(C/S)(14)으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)으로 향하는 진행로에서, 반송라인[A]은 세정프로세스부(24)에 부설되고, 반송라인[B]은 도포프로세스부(26)에 부설된다.

세정프로세스부(24)는 스크러버세정유니트(SCR)(28)를 포함함과 동시에, 이 스크러버세정유니트(SCR)(28)의 카세트스테이션(C/S)(14)과 인접하는 장소에서 반송라인[A]의 위에 엑시머 UV조사유니트(e-UV)(30)를 배치하고 있다. 스크러버세정유니트(SCR)(28)내에서는, 반송라인[A]을 평류방식의 반송로 예를 들면 롤러반송로로 구성하여, LCD기판(G)을 수평자세로 반송라인[A]상을 롤러반송으로 이동시키면서 기판(G)에 브러싱세정이나 플로우세정을 실시하게 되고 있다.

도포프로세스부(26)는 반입유니트(IN)(32), 레지스트도포유니트(CT) (34), 감압건조유니트(VD)(36), 에지리무버·유니트(ER)(38) 및 반출유니트(OUT)(40)를 반송라인[B]에 따라 일렬에 배치하고 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 이들의 도포계 유니트군(IN)(32), (CT)(34), (VD)(36), (ER) (38), (OUT)(40)은 지지대 (42)의 위에 처리공정의 순서에 따라서 가로 일렬로 배치되어 있다. 지지대(42)의 양측에 평행하게 부설된 한 쌍의 가이드레일(44, 44)에 따라 이동하는 1조 또는 복수조의 반송아암(46, 46)에 의해, 유니트사이에서 기판(G)을 직접 주고받고 할 수 있게 되어 있다.

반입유니트(IN)(32)에는, 기판(G)을 거의 수평으로 얹어 놓을 수 있는 반송롤러 또는 롤러회전자(48)를 X방향에 일정간격으로 부설하여 이루어지는 평류방식의 롤러반송로(50)가 설치되어 있다. 이 롤러반송로(50)는 후술하는 인접하는 오븐타워(TB)(78)에 포함되는 반입용 패스유니트(PASS_in)(102)로부터 끌어 넣어져 있고, 예를 들면 구동모터나 전동기구를 갖는 반송구동부(52)에 의해서 구동된다. 롤러반송로(50)의 아래에는, 패스유니트(PASS_in)(102)로부터 반송되어 온 기판(G)을 수평자세로 들어 올려 반송아암(46, 46)에 건네 주기 위한 승강가능한 복수라인의 리프트 핀(52)이 설치되어 있다.

레지스트도포유니트(CT)(34)는 상면이 개구하고 있는 컵형상의 처리용기(54)와, 이 처리용기(54)내에서 기판(G)을 수평으로 얹어 놓고 유지하기 위한 승강가능한 스테이지(56)와, 이 스테이지(56)를 승강시키기 위해서 처리용기(54)의 아래에 설치된 승강구동부(도시하지 않음)와, 스테이지(56)상의 기판(G)에 대하여 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급부(도시하지 않음)를 갖고 있다. 도포방식으로서는, 스핀코트법 또는 스핀레스법 중 어느 하나를 사용하더라도 좋다. 스핀코트법 의 경우는, 기판(G)을 얹어 놓은 스테이지(56)를 회전구동부(도시하지 않음)에 의해 스핀회전시키면서, 레지스트액 공급부의 노즐로부터 레지스트액을 적하하여 회전력 및 원심력에 의해 기판상 일면에 확대하여, 일정한 막두께를 갖는 레지스트액의 도포막을 형성한다. 스핀레스법의 경우는, 스테이지(56)상의 기판(G)에 대하여 레지스트액 공급부의 노즐을 수평방향으로 상대이동 또는 주사시키면서 기판상한면에 레지스트액을 가는 지름의 선형상으로 연속적으로 토출시킴으로써, 일정한 막두께를 갖는 레지스트액의 도포막을 형성한다.

감압건조유니트(VD)(36)는 상면이 개구하고 있는 트레이 또는 바닥이 얕은 용기형의 하부챔버(58)와, 이 하부챔버(58)의 상면에 기밀하게 밀착 또는 끼워맞춤 가능하게 구성된 뚜껑형상의 상부챔버(도시하지 않음)를 갖고 있다. 하부챔버(58)는 거의 사각형으로, 중심부에는 기판(G)을 수평으로 얹어 놓아 지지하기 위한 스테이지(60)가 배치되고, 바닥면의 네 구석에는 배기구(62)가 설치되어 있다. 각 배기구(62)는 배기관(도시하지 않음)을 통해 진공펌프(도시하지 않음)에 통하여 있다. 하부챔버(58)에 상부챔버를 씌운 상태로, 양 챔버내의 처리공간을 해당 진공펌프에 의해 소정의 진공도까지 감압할 수 있도록 되어 있다.

에지리무버·유니트(ER)(38)에는, 기판(G)을 수평으로 얹어 놓고 지지하는 스테이지(64)와, 기판(G)을 서로 대향하는 한 쌍의 각구석부에서 위치결정하는 얼라이먼트수단(66)과, 기판(G)의 네 변의 둘레가장자리부(에지)로부터 여분인 레지스트를 제거하는 4개의 리무버헤드(68) 등이 설치되어 있다. 얼라이먼트수단(66)이 스테이지(64)상의 기판(G)을 위치 결정한 상태에서, 각 리무버헤드(68)가 기판 (G)의 각 근처에 따라 이동하면서, 기판 각 변의 둘레가장자리부에 부착하고 있는 여분인 레지스트를 신너로 용해하여 제거하게 되고 있다.

반출유니트(OUT)(40)는 상기한 반입유니트(IN)(32)에서의 것과 같은 롤러반송로 및 리프트 핀(도시하지 않음)을 갖고 있다. 에지리무버·유니트(ER)(38)에서 레지스트제거처리를 끝낸 기판(G)을 반송아암(46, 46)이 반출유니트(OUT)(40)에 반송하여, 리프트핀이 반송아암(46, 46)으로부터 기판(G)을 받아들여 롤러반송로상에 얹어 놓는다. 그렇게 한 후, 기판(G)을 후술하는 인접하는 오븐타워(TB)(80)에 포함되는 기판반출용의 패스유니트(PASS_out)(144)(도 5)까지 롤러반송으로 반송하게 되고 있다.

이와 같이, 도포프로세스부(26)에서는, 가이드레일(44, 44)에 따라 이동가능한 반송아암(46, 46)과 반입유니트(IN)(32) 및 반출유니트(OUT)(40)내의 롤러반송로로 반송라인[B]이 구성되어 있다.

인터페이스 스테이션(I/F)(18)으로부터 카세트 스테이션(C/S)(14)으로 향하는 복귀로에 있어서, 반송라인[C]은 현상프로세스부(70)에 부설되고, 반송라인[D]은 검사부(72)에 부설된다.

현상프로세스부(70)는 평류방식의 현상유니트(DEV)(74) 및 i선UV조사유니트 (i-UV)(75)를 포함하고 있다. 현상유니트(DEV)(74)는, 예를 들면 스크러버세정유니트(SCR)(28)와 같이 반송라인[C]을 롤러반송로(도시하지 않음)로 구성하여, 반송라인[C]을 따라 기판(G)을 롤러반송으로 이동시키면서 기판(G)에 일련의 현상처리 공정(액체한창, 현상반응, 린스, 건조 등)을 하게 되고 있다. i선UV조사유니트(i-UV)(75)는 현상의 탈색처리를 하기 위한 것으로, 현상유니트(DEV)(74)로부터의 롤러반송로를 끌어 넣고 있다.

검사부(72)도 반송라인[D]을 평류방식의 반송로 예를 들면 롤러반송로(도시하지 않음)로 구성하여, 반송라인[D]에 따라 기판(G)을 롤러반송으로 이동시키면서 기판(G)상의 레지스트패턴에 관한 선폭검사나 마크로적인 패턴검사 및 막질·막두께검사 등을 하게 되어 있다.

이 레지스트 도포현상처리시스템(10)에서는, 반송라인[A]의 종단부, 반송라인[B]의 시단부 및 종단부, 반송라인[C]의 시단부 및 종단부, 반송라인[D]의 시단부에 다단유니트부로서 오븐타워(TB)(76, 78, 80, 82, 84, 86)를 각각 설치하고 있다. 그리고, 양 오븐타워(TB)(76, 86)의 사이와, 양 오븐타워(TB)(78, 84)의 사이와, 양 오븐타워(TB)(80, 82)의 사이에 세로형의 반송기구(S/A)(88, 90, 92)를 각각 설치하고 있다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 반송라인[A]의 종단부에 위치하는 오븐타워 (TB)(76)에는, 예를 들면, 아래부터 순서대로 기판반출용의 패스유니트 (PASS_out) (94), 탈수베이크용의 가열유니트인 탈수베이크유니트(DHP)(96, 98) 및 포스트베이크용의 가열유니트인 포스트베이킹·유니트(POBAKE)(100)가 다단으로 겹쳐 쌓여진다. 여기서, 패스유니트(PASS_out) (94)는 상류측의 스크러버세정유니트 (SCR)(28)에서 전공정(세정처리)을 받아 온 기판(G)을 반송기구(S/A)(88)가 반송라인[A]으로 부터 반출하기 위한 공간을 제공하는 것으로, 스크러버세정유니트 (SCR)(28)로부터 끌어넣어지는 롤러반송로(도시하지 않음)와, 기판(G)을 반송로 위쪽으로 들어 올려 반송기구(S/A)(88)에 건네 주기 위한 승강가능한 리프트핀(도시하지 않음)을 갖고 있다.

반송라인[D]의 시단부에 위치하는 오븐타워(TB)(86)에는, 예를 들면, 아래로부터 순서대로 기판반입용의 패스유니트중(PASS_in)(102), 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(104) 및 포스트베이킹·유니트(POBAKE)(106, 108)가 다단에 겹쳐 쌓여진다. 여기서, 패스유니트(PASS_in)(102)는 하류측의 검사부(26)에서 후속공정(검사공정)을 받기 위한 기판(G)을 반송기구(S/A) (88)가 반송라인[D]에 반입하기 위한 공간을 제공하는 것으로, 검사부(72)로부터 끌어 넣어지는 롤러반송로(도시하지 않음)와, 반송기구(S/A)(88)로부터 기판(G)을 받아들여 해당 반송로상에 얹어 놓기 위한 승강가능한 리프트핀(도시하지 않음)을 갖고 있다.

도 3에 있어서, 반송기구(S/A)(88)는 연직방향으로 연재하는 가이드레일 (112)에 따라 승강이동 가능한 승강반송체(114)와, 이 승강반송체(114)상에서 θ방향으로 회전 또는 선회가능한 선회반송체(116)와, 이 선회반송체(116)상에서 기판(G)을 지지하면서 전후방향으로 진퇴 또는 신축가능한 반송아암 또는 핀셋 (118)을 갖고 있다. 승강반송체(114)를 승강구동하기 위한 구동부(120)가 수직가이드레일(112)의 기초끝단측에 설치되어, 선회반송체(116)를 선회구동하기 위한 구동부(122)가 승강반송체(114)에 부착되어, 반송아암(118)을 진퇴구동하기 위한 구 동부(124)가 선회반송체(116)에 부착되어 있다. 각 구동부(120, 122, 124)는 예를 들면 전기모터 등으로 구성되어 있더라도 좋다.

이러한 구성의 반송기구(S/A)(88)는 도시하지 않는 컨트롤러의 제어하에서, 고속으로 승강 내지 선회운동하여 양 인접한 오븐타워(TB)(76, 86)내의 임의의 유니트에 억세스하여 기판(G)의 반입반출을 할 수 있게 되어 있다.

도 4에 나타내는 바와 같이, 반송라인[B]의 시단부에 위치하는 오븐타워 (TB)(78)에는, 예를 들면, 아래로부터 순서대로 기판반입용의 패스유니트 (PASS_in) (126), 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(128, 130) 및 소수화처리용의 어드히젼·유니트(AD)(132)가 다단으로 겹쳐 쌓여진다. 여기서, 패스유니트 (PASS_in)(126)는 하류측의 도포프로세스부(26)에서 후속공정(레지스트도포처리)을 받기 위한 기판(G)을 반송기구(S/A)(90)가 반송라인[B]에 반입하기 위한 공간을 제공하는 것으로, 도포프로세스부(26)의 반입유니트 (IN)(32)에 끌어 넣어지는 롤러반송로(50)(도 2)와, 반송기구(S/A)(90)로부터 기판(G)을 받아들여 해당 반송로(50)상에 얹어 놓기 위한 승강 가능한 리프트핀(134)(도 2)을 갖고 있다.

반송라인[C]의 종단부에 위치하는 오븐타워(TB)(84)에는, 예를 들면, 아래로부터 순서대로 기판반출용의 패스유니트(PASS_out)(136), 포스트베이킹·유니트 (POBAKE)(138, 140) 및 어드히젼·유니트(AD)(142)가 다단으로 겹쳐 쌓여진다. 여기서, 패스유니트(PASS_out)(136)는 상류측의 현상프로세스부(70)에서 현상처리를 받아 온 기판(G)을 반송기구(S/A)(90)가 반송라인[C]으로부터 반출하기 위한 공간을 제공하는 것으로, i선 UV조사유니트(i-UV)75로부터 끌어 넣어지는 롤러반송로(도시하지 않음)와, 기판(G)을 반송로 위쪽으로 들어 올려 반송기구(S/A)(90)에 건네 주기 위한 승강가능한 리프트 핀(도시하지 않음)을 갖고 있다.

도 4에 있어서, 반송기구(S/A)(90)는 상기한 반송기구(S/A)(88)(도3)와 같은 구성을 갖고 있고, 도시하지 않는 컨트롤러의 제어하에서, 고속으로 승강 내지 선회운동하여 양 인접한 오븐타워(TB)(78, 84)내의 임의의 유니트에 억세스하여 기판(G)의 반입반출을 할 수 있게 되어 있다.

도 5에 나타내는 바와 같이, 반송라인[B]의 종단부에 위치하는 오븐타워 (TB)(80)에는, 예를 들면, 아래로부터 순서대로 기판반출용의 패스유니트 (PASS_out) (144), 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(146) 및 프리베이크용의 가열유니트인 프리베이킹·유니트(PREBAKE)(148, 150)가 다단으로 겹쳐 쌓여진다. 여기서, 패스유니트(PASS_out)(144)는, 상류측의 도포프로세스부(26)에서 전공정(레지스트도포처리)을 받아온 기판(G)을 반송기구(S/A) (92)가 반송라인[B]으로부터 반출하기 위한 공간을 제공하는 것으로, 도포 프로세스부(26)의 반출부(OUT)(40)로부터 끌어 넣어지는 롤러반송로(도시하지 않음)와, 기판(G)을 반송로 위쪽으로 들어 올려 반송기구(S/A)(92)에 건네 주기 위한 승강가능한 리프트 핀(도시하지 않음)을 갖고 있다.

반송라인[C]의 시단부에 위치하는 오븐타워(TB)(82)에는, 예를 들면, 아래로부터 순서대로 기판반입용의 패스유니트(PASS_in)(152), 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(154) 및 프리베이킹·유니트(PREBAKE)(156, 158)가 다단으로 겹쳐 쌓여진 다. 여기서, 패스유니트(PASS_in)(152)는, 하류측의 현상프로세스부(70)에서 현상처리를 받기 위한 기판(G)을 반송기구(S/A)(92)가 반송라인[C]에 반입하기 위한 공간을 제공하는 것으로, 현상유니트(DEV)(74)에 끌어 넣어지는 롤러반송로(도시하지 않음)와, 반송기구(S/A)(92)로부터 기판(G)을 받아들여 해당 반송로상에 얹어 놓기 위한 승강가능한 리프트핀(도시하지 않음)을 갖고 있다.

도 5에 있어서, 반송기구(S/A)(92)는 상기한 반송기구(S/A)(88)(도 3)와 같은 구성을 갖고 있고, 도시하지 않는 컨트롤러의 제어하에서, 고속으로 승강 내지 선회운동하여 양 인접하는 오븐타워(TB)(80, 82)내의 임의의 유니트에 억세스하여 기판(G)의 반입반출을 할 수 있도록 되어 있다.

도 1에 있어서, 인터페이스 스테이션(I/F)(18)은 인접하는 노광장치(12)와 기판(G)의 주고 받음을 하기 위한 반송장치(160)를 갖고, 그 주위에 버퍼·스테이지(BUF)(162), 익스텐션·쿨링스테이지(EXT·COL)(164) 및 주변장치(TITLER/EE) (166)를 배치하고 있다. 버퍼·스테이지(BUF)(162)에는 정치(定置)형의 버퍼카세트(도시하지 않음)가 놓여진다. 익스텐션·쿨링스테이지(EXT·COL)(164)는 냉각기능을 구비한 기판 주고 받음용의 스테이지이고, 프로세스 스테이션(P/S)(16)측과 기판(G)을 주고받음 할 때에 사용된다. 주변장치(166)는 예를 들면 타이틀러 (TITLER)와 주변노광장치(EE)를 상하에 겹쳐 쌓은 구성이더라도 좋다. 반송장치 (160)는 기판(G)을 유지할 수 있는 수단 예를 들면 반송아암(160a)을 갖고, 인접하는 노광장치(12)나 각 유니트(BUF)(162), (EXT·COL)(164), (TITLER/EE) (166)와 기판(G)의 주고 받음을 할 수 있게 되고 있다.

도 1에 있어서, 반송기구(88)와 반송기구(90)와의 사이에는, 해당 크린룸내에서 이 레지스트도포현상처리시스템을 횡단하여 사람이 빠져나가는 것을 가능하게 하는 통로(168)와, 양 반송기구(88, 90)의 사이에서 기판(G)을 주고받음 하기 위한 익스텐션·유니트(EXT)(170)가 상하에 설치된다.

도 6에, 정면측에서 본 통로(168)주위의 구조 내지 레이아웃을 나타낸다. 양 반송기구(S/A)(88, 90)의 사이의 마루면(172)에 단면 ㄷ자형상의 지지부(174)가 설치되어, 지지부(174)의 안쪽에 보통의 어른(M)이 구부러지지 않고 충분히 빠져나갈 수 있는 높이(마루면에서 예를 들면 190cm 정도)의 통로(168)가 형성된다. 지지부(174)의 양 측벽부 또는 다리부(174a)는 정치형에 구성되더라도 좋고, 혹은 캐스터를 갖는 가동형으로 구성되더라도 좋다. 지지부(174)의 상부의 수평판부 (174b)는 통로(168)의 천장을 구성함과 동시에, 익스텐션·유니트(EXT) (170)나 그 외의 유니트를 다단으로 얹어 놓기 위한 지지대를 구성한다.

도시의 예에서는, 지지대(174b)의 위에, 아래로부터 순서대로 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(176), 익스텐션·유니트(EXT)(170A, 170B) 및 버퍼유니트 (BUF)(178)가 다단으로 겹쳐 쌓여진다. 냉각유니트(176)는 한 쪽에서, 예를 들면 반송기구(S/A)(88)에 의해 억세스(기판반입반출)가능하게 되고 있다. 익스텐션·유니트(EXT)(170A, 170B)는 양측에서, 요컨대 반송기구(S/A)(88, 90)의 쌍방으로부터 억세스 가능하게 되어 있지만, 바람직하게는 서로 역방향으로 단일방향 반입반출형의 기판 주고받음 유니트로서 사용되더라도 좋다. 즉, 한쪽의 익스텐션·유니 트(EXT)(170A)는 오로지 반송기구(88)측에서 기판(G)을 유니트내에 넣어 반송기구 (S/A)(90)측에서 기판(G)을 유니트로부터 집어내는 반입반출형태로 하여, 다른쪽의 익스텐션·유니트(EXT)(170B)는 오로지 반송기구(S/A)(90)측에서 기판(G)을 유니트내에 넣어 반송기구(S/A)(88)측에서 기판(G)을 유니트로부터 집어내는 반입반출형태로 하더라도 좋다. 버퍼유니트(BUF)(178)는 반송기구(S/A)(88, 90)의 쌍방으로부터 억세스 가능하게 구성되더라도 좋고, 혹은 한쪽만으로부터 억세스 가능하게 구성되더라도 좋다.

도 7에, 익스텐션·유니트(EXT)(170)의 구성예를 나타낸다. 유니트상자체 (180)내에 기판(G)과 거의 동일형태의 수평지지판(182)이 수용되어, 이 수평지지판 (182)상에 동일한 높이로 다수의 지지핀(184)이 일정한 간격을 두고 이산적으로 설치되어 있다. 기판(G)은 지지핀(184)의 핀앞끝단에서 지지되도록 하여 수평지지판 (182)의 위에 수평으로 얹어 놓여져, 반송기구(S/A)(88, 90)의 반송아암(118)에 의해서 유니트내에 반입되고, 또는 유니트 밖으로 반출된다.

도 8에, 냉각유니트(COL)(176)의 구성예를 나타낸다. 이 구성예의 냉각유니트(COL)(176)는 유니트상자체(184)내에 냉각판(186)을 일정한 높이 위치에서 거의 수평으로 고정배치하고 있다. 냉각판(186)은 열전도율이 높은 금속 예를 들면 알루미늄으로 이루어지고, 내부에 설정치(예를 들면 23℃)에 온도조절된 냉각수가 흐르는 통로를 설치하고 있다. 전공정에서 예를 들면 100℃ 이상의 가열처리를 받아서 냉각판(186)상에 배치된 기판(G)은 냉각판(186)에의 열전도에 의한 방열에 의해서 설정치온도까지 냉각된다. 냉각판(186)에는 상하에 관통하는 관통구멍(186a)이 이산적인 배치패턴으로 복수개소에 형성되어 있고, 각 관통구멍(186a)에는 기판(G)의 반입반출시에 기판(G)을 승강 가능하게 지지하기 위한 지지부재로서 리프트 핀(188)이 상하방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 이들 리프트핀(188)은 수평베이스부재(190)를 통해 승강기구(192)에 결합되어 있다. 승강기구(192)의 승강구동에 의해, 리프트핀(188)을 퇴피용의 최하위 위치(도 8에 나타내는 위치)와 기판주고 받음용의 최상위 위치와의 사이에서 승강이동시키게 되어 있다.

버퍼유니트(BUF)(178)는 익스텐션·유니트(EXT)(170)를 경유하는 기판(G)을 필요에 따라서 일시적으로 남게 하여 보관하기 위한 유니트로서, 예를 들면 반송라인[A], [B], [C], [D] 중 어느 2개의 사이에서 반송택트가 다른 경우에 반송타이밍의 보상 또는 조정을 하는 경우나, 시스템내의 장해 또는 고장 등의 비상시에 기판 (G)을 반송라인으로부터 퇴피시키는 경우에 사용된다. 버퍼유니트(BUF)(178)의 구조는 기판(G)을 1장 단위로 출입 가능하게 수납하는 매엽형 유니트(buff)를 다단으로 다수 겹쳐 쌓아 배치하는 방식이라도 좋고, 혹은 1개의 집합형 유니트내에 복수의 선반(buff)을 다단으로 설치하여 각 선반(buff)의 위에 기판(G)을 1장씩 출납 가능하게 수납하는 방식으로 하더라도 좋다. 또한, 버퍼유니트(BUF)(178)의 정면에 개폐문 또는 셔터를 설치하는 것도 가능하고, 유니트내에 불활성가스 예를 들면 질소가스의 분위기를 형성하는 것도 가능하다. 기판수납용량(높이사이즈)의 가변성이나 억세스빈도가 적음 등의 면에서, 버퍼유니트(BUF)(178)는 통로(168)상의 다단유니트구조에 있어서 최상단에 배치되는 것이 바람직하다.

도 9에, 기울어진 위쪽에서 본 통로(168) 주위의 레이아웃을 나타낸다. 통 로(168)의 입구 또는 출구의 외는 위쪽이 개방된 공간(S)이 되고 있고, 이 공간(S)을 이용하여 통로(168)상의 각 유니트(COL), (EXT), (BUF)에 작업원이 억세스하여 원하는 보수관리를 할 수 있다. 또한, 인접한 오븐타워(TB)(76, 78, 84, 86)내의 각 유니트에 대해서도 이 공간(S)에서 억세스하여 보수관리를 할 수 있다.

이 실시형태에 있어서, 각 반송기구(S/A)(88, 90, 92)의 보수관리는, 진행로의 반송라인[A, B]과 복귀로의 반송라인[C, D]과의 사이의 공간(K)에 작업원이 출입하는 것에 따라 행하여진다. 공간(K)에 작업원이 출입하기 위해서는, 반송라인 [A] 또는 [D]중 적어도 1개, 혹은 반송라인[B] 또는 [C]중 적어도 1개의 아래에 적당한 통로를 설치하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 도 10에 나타내는 바와 같이, 도포프로세스부(26)에 있어서 기판반입유니트(IN)(32)의 하부에 공간(K)에 출입하기 위한 통로(198)를 설치할 수 있다. 다만, 이 통로(198)는 반송라인[B]의 아래에서 통상은 마루면에서 1m 이하의 높이에 설치되기 때문에, 작업원은 구부러진 자세 혹은 엎드린 자세로 이 통로(198)를 빠져나가는 것이 된다. 통로(198)의 입구에는 개폐가능한 문(200)을 설치하더라도 좋다.

또, 진행로의 반송라인[A, B]과 복귀로의 반송라인[C, D]과의 사이의 상기 공간(K)을 보조반송공간으로서 이용하는 것도 가능하다. 즉, 도 1에 나타내는 바와 같이, 기판(G)을 1장 단위로 수평으로 얹어 놓은 셔틀(202)을 공간(K) 내에 배치하여, 도시하지 않은 구동기구에 의해서 셔틀(202)을 라인방향(X방향)에서 쌍방향으로 이동시키더라도 좋다. 이 셔틀(202)을 통해, 반송기구(88, 22)의 사이 혹은 반송기구(90, 92)의 사이에서 기판(G)의 주고받음을 할 수 있다.

도 11에, 이 레지스트 도포현상처리시스템에 있어서의 처리의 순서를 나타낸다. 우선, 카세트 스테이션(C/S)(14)에 있어서, 반송기구(22)가 스테이지(20)상의 소정의 카세트(C)내에서 1개의 기판(G)을 집어내어, 프로세스 스테이션(P/S)(16)의 세정프로세스부(24)의 엑시머UV조사유니트(e-UV) (30)에 반입한다(스텝 S₁).

엑시머UV조사유니트(e-UV)(30)내에서 기판(G)은 자외선조사에 의한 건식세정이 실시된다(스텝 S₂). 이 자외선세정에서는 주로 기판표면의 유기물이 제거된다. 자외선세정의 종료후에, 기판(G)은 카세트스테이션(C/S)(14)의 반송기구(22)에 의해서 세정프로세스부(24)의 스크러버세정유니트(SCR)(28)로 옮겨진다.

스크러버세정유니트(SCR)(28)에서는, 상기한 바와 같이 반송라인[A]위에서 기판(G)을 롤러반송에 의해 평류하여 반송하면서 기판(G)의 표면에 브러싱세정이나 플로우세정을 함으로써, 기판표면으로부터 입자형상의 오염을 제거한다(스텝 S₂). 그리고, 세정후도 기판(G)을 평류하여 반송하면서 린스처리를 실시하여, 마지막으로 에어나이프 등을 사용하여 기판(G)을 건조시킨다.

스크러버세정유니트(SCR)(28)내에서 세정처리가 끝난 기판(G)은 반송라인[A] 종단부의 오븐타워(TB)(76)내의 반출용 패스유니트(PASS_out)(94)에서 반송기구 (S/A)(88)에 의해 반송라인[A]으로부터 반출된다.

반송라인[A]으로부터 반출된 기판(G)은 반송기구(S/A)(88)에 의해 오븐타워 (TB)(76, 86)내의 유니트 예를 들면 탈수베이크유니트(DHP)(96, 98)의 1개에 옮겨 지고, 그곳에서 탈수처리를 받는다(스텝 S₄). 탈수처리 후, 기판(G)은 반송기구 (S/A)(88)에 의해 익스텐션·유니트(EXT))(170A)를 경유하여 반송기구 (S/A)(90)에 건네진다. 반송기구(S/A)(90)에 의해, 기판(G)은 오븐타워(TB)(78, 84)내의 유니트 예를 들면 냉각유니트(COL)(128, 130)의 1개에 옮겨지고, 거기서 일정한 기판온도까지 냉각된다(스텝 S₅). 그러한 후, 기판(G)은 어드히젼 유니트(AD)(132, 142)중 1개에 옮겨지고, 거기서 소수화처리를 받는다(스텝 S₆). 이 소수화처리의 종료후에, 기판(G)은 냉각유니트(COL)(128, 130)중 1개에서 일정한 기판온도까지 냉각된다 (스텝 S₇). 그러한 후, 기판(G)은 오븐타워(TB)(78)의 반입용 패스유니트 (PASS_in)(126)에 옮겨지고, 거기서 반송라인[B]상에 반입된다.

반송라인[B]상에서 기판(G)은 도포프로세스부(26)에 반입되어, 반입유니트 (IN)(32)를 통하여 레지스트도포유니트(CT)(34)로 옮겨진다. 레지스트도포유니트 (CT)(34)에서, 기판(G)은 스핀코트법 또는 스핀레스법에 의해 기판표면(피처리면)에 레지스트액이 도포된다. 그러한 후, 기판(G)은 하류측에 인접한 감압건조유니트(VD)(36)에서 감압에 의한 건조처리를 받아, 이어서 하류측에 인접한 에지리무버·유니트(ER)(38)로 기판둘레가장자리부의 여분(불필요)인 레지스트가 제거된다(스텝 S₈).

상기와 같은 레지스트도포처리를 받은 기판(G)은 에지리무버·유니트 (ER) (38)로부터 반출유니트(OUT)(40)를 통하여 오븐타워(TB)(80)에 속하는 반출용 패스 유니트(PASS_out)에 보내어지고, 거기서 반송기구(S/A)(92)에 의해 반송라인[B]으로부터 반출된다.

기판(G)은 반송기구(S/A)(90)에 의해 소정의 시퀀스로 오븐타워(TB) (80, 82)내의 유니트에 회전되어, 소정의 처리를 받는다. 예를 들면, 기판(G)은 최초에 프리베이킹·유니트(PREBAKE)(148, 150, 156, 158)중 1개에 옮겨지고, 거기서 레지스트도포후의 베이킹을 받는다(스텝 S₉). 다음에, 기판(G)은 냉각유니트(COL)(146, 154)중 1개에 옮겨지고, 거기서 일정한 기판온도까지 냉각된다(스텝 S₁₀). 그러한 후, 기판(G)은 인터페이스 스테이션 (I/F)(18)측의 익스텐션·쿨링스테이지 (EXT ·COL)(164)에서 주고받게 된다.

인터페이스 스테이션(I/F)(18)에 있어서, 기판(G)은 익스텐션·쿨링스테이지 (EXT·COL)(164)로부터 주변장치(166)의 주변노광장치(EE)에 반입되어, 거기서 기판(G)의 주변부에 부착하는 레지스트를 현상시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에, 인접하는 노광장치(12)로 보내어진다(스텝 S₁₁).

노광장치(12)에서는 기판(G)상의 레지스트에 소정의 회로패턴이 노광된다. 그리고, 패턴노광을 끝낸 기판(G)은 노광장치(12)로부터 인터페이스스테이션 (I/F) (18)에 복귀되면(스텝 S₁₁), 우선 주변장치(166)의 타이틀러 (TITLER)에 반입되어, 거기서 기판상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다(스텝 S₁₂). 그러한 후, 기판(G)은 익스텐션·쿨링스테이지(EXT·COL) (164)에 복귀된다. 인터페이스스테이 션(I/F)(18에 있어서의 기판(G)의 반송 및 노광장치(12)와의 기판(G)의 주고받음은 반송장치(160)에 의해서 행하여진다.

프로세스 스테이션(P/S)(16)에서는, 반송기구(92)가 익스텐션·쿨링스테이지 (EXT·COL)(164)로부터 노광이 끝난 기판(G)을 받아, 오븐타워(TB)(82)내의 반입용 패스유니트(PASS_in)(152)에 옮긴다. 기판(G)은 패스유니트(PASS_in)(152)내에서 반송라인[C]상에 반입되어, 평류하여 현상유니트(DEV)(74)로 보내어진다.

현상유니트(DEV)(74)에서는, 반송라인[C]상에서 기판(G)을 롤러반송에 의해 평류하여 반송하면서 현상, 린스, 건조의 일련의 현상처리공정이 행하여진다(스텝 S₁₃).

현상프로세스부(70)에서 현상처리를 받은 기판(G)은 그대로 롤러반송으로 하류측에 인접한 탈색프로세스부(i-UV)(75)에 반입되어, 거기서 i선조사에 의한 탈색처리를 받는다(스텝 S₁₄). 탈색처리가 끝난 기판(G)은 오븐타워(TB)(86)내의 반출용 패스유니트(PASS_out)(136)에서 반송기구(S/A)(90)에 의해 반송라인[C]으로부터 반출된다.

반송라인[C]으로부터 반출된 기판(G)은 최초에 어느 하나의 포스트베이킹·유니트(POBAKE)에서 포스트베이킹의 열처리를 받아(스텝S₁₅), 이어서 어느 하나의 냉각유니트(COL)에서 소정의 기판온도로 냉각된다(스텝 S₁₆). 이 경우의 반송시퀀스는 2종류가 있다.

제 1 반송시퀀스는 반송라인[C]으로부터 기판(G)을 반출한 반송기구 (S/A) (90)가 그대로 관할영역내의 포스트베이킹·유니트(POBAKE), 예를 들면 오븐타워 (TB)(84)내의 포스트베이킹·유니트(POBAKE)(138, 140)중 어느 하나에 가지고 들어가는 경우이다. 이 경우, 반송기구(S/A)(90)는, 포스트베이킹처리의 종료후에 기판(G)을 관할영역내의 냉각유니트(COL), 예를 들면 오븐타워(TB)(78)내의 냉각유니트(COL)(128, 130)중 어느 하나에 이송하여, 기판온도조정의 종료후에 기판(G)을 익스텐션·유니트(EXT)(170B)에 반입한다. 그러한 후, 반대측의 반송기구 (S/A) (88)가 익스텐션·유니트(EXT)(170B)에서 기판(G)을 집어내어, 이어서 오븐타워 (TB)(86)내의 반입용 패스유니트(PASS_in)(102)에 옮긴다.

제 2 반송시퀀스는, 반송기구(S/A)(90)가 반송라인[C]으로부터 반출한 기판(G)을 익스텐션·유니트(EXT)(170B)에 직접 건네는 경우이다. 이 경우, 반송기구(S/A)(88)는, 반대측에서 익스텐션·유니트(EXT)(170B)에서 기판(G)을 집어내면, 관할영역내의 포스트베이킹·유니트(POBAKE), 예를 들면 오븐타워(TB)(76, 86)내의 포스트베이킹·유니트(POBAKE)(100, 106, 108)중 어느 하나에 가지고 들어간다. 그리고, 포스트베이킹처리의 종료후에 기판(G)을 관할영역내의 냉각유니트 (COL), 예를 들면 오븐타워(TB) (86)내의 냉각유니트(COL)(104) 또는 통로(168)상의 냉각유니트(COL)(176)에 반입하여, 기판온도조정의 종료후에 기판(G)을 오븐타워(TB)(86)내의 반입용 패스유니트(PASS_in)(102)에 옮긴다.

반입용 패스유니트(PASS_in)(102)에 옮겨진 기판(G)은 거기서 반송라인[D]상 에 반입되어, 평류하여 검사부(AP)(72)로 보내어진다. 검사부(AP) (72)에서는, 반송라인[D]상에서 기판(G)을 롤러반송으로 이동시키면서 기판(G)상의 레지스트패턴에 대해서 선폭검사나 막질·막두께검사 등이 행하여진다(스텝₁₇). 반송라인[D]의 종단부에는, 상기와 같은 반출용 패스유니트(PASS_out)에 해당하는 기판반출부(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 검사공정을 끝낸 기판(G)은 해당 기판반출부를 통해 카세트스테이션(C/S)(14)측의 반송기구(22)에 맡겨진다. 카세트 스테이션(C/S) (14)에서는, 반송기구(22)가, 반송라인[D]으로부터 떠맡은 기판(G)을 스테이지(20)상중 어느 1개의 카세트(C)에 수용한다(스텝 S₁).

상기한 바와 같이, 이 실시형태에서는, 가로길이의 프로세스 스테이션 (P/S)(16)에 시스템 길이방향(X방향)으로 늘어나는 진행로의 반송라인[A], [B]와 복귀로의 반송라인[C], [D]를 2열로 설치하는 레지스트도포현상처리시스템에 있어서, 진행로의 반송라인[A], [B]을 접속하는 포인트와 복귀로의 반송라인[C], [D]를 접속하는 포인트를 1개소에 집약 배치하여, 접속포인트의 중심점에 위치하는 기판중계역의 익스텐션·유니트(EXT)(170)의 아래에 시스템 빠져나감용의 횡단통로 (168)를 설치하고 있다. 나아가서는, 접속포인트 부근에 위치하는 각 반송라인 [A], [B], [C], [D]의 끝단부에 해당 반송라인상의 액체처리 또는 전후하는 반송라인상의 액체처리에 관계하는 열처리를 하기 위한 오븐유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 오븐타워(TB)(76, 78, 84, 86)를 설치함과 동시에, 통로(168)와 평행한 방향(Y방향)으로 서로 대향하는 오븐타워(TB)(76, 86)의 사이 및 오븐타워 (TB)(78, 84)의 사이에 오븐타워내의 각 유니트에 억세스가능한 승강·선회형의 반송기구(S/A)(88, 90)를 각각 설치하고 있다. 이것들의 반송기구 (S/A)(88, 90)는 익스텐션·유니트(EXT)(170)를 통해 서로 기판(G)의 주고받음을 한다.

이와 같이, 이 실시형태에서는, 반송계나 유니트가 집약화되어 있는 영역내에서 시스템 빠져나감용의 횡단통로(168)를 실현하고 있다. 이 때문에, 통로(168)의 개설에 있어서 풋프린트의 실질적인 증대를 따르지 않아도 된다고 하는 이점이 있다.

이 실시형태에 있어서, 통로(168)는 시스템의 양 사이드 사이에서 사람이 오고 갈 때의 빠져나가는 길을 제공한다. 보수관리시나 순회시 혹은 화재 등의 재해발생시에, 관계자(통상은 조작자나 작업원 등)는 이 통로(168)를 통과함으로써, 시스템 끝단부 요컨대 카세트 스테이션(C/S)(14) 또는 노광장치(12)를 우회하지 않고 시스템의 한 사이드에서 반대 사이드로 어려움없이 이동할 수가 있다. 시스템의 전체길이가 증가할수록, 시스템의 설치수가 증가할수록, 통로(168)의 이점은 증대한다.

도 12에, 이 실시형태에 있어서의 레지스트 도포현상처리시스템을 크린룸내에 복수대(예를 들면 2대) 설치하는 경우의 레이아웃 예를 나타낸다. 통상은, 도시와 같이, 복수대의 시스템(10A, 10B)을 적당한 간격을 두고 평행하게 가지런히 하여 크린룸(202)내에 설치한다. 따라서, 각 시스템(10A, 10B)의 통로(168)는 시스템 폭방향(Y방향)에 있어서 일직선상에 정렬한다. 예를 들면, 크린룸(202)내에서 갑자기 화재가 발생하여, 그 때에 도시한 바와 같이 출입구(204)로부터 앞의 시스 템(10A)의 그늘과 속의 시스템(10B)의 그늘에 각각에 각각 관계자(M_a, M_b)가 있게 한다. 이 경우, 안쪽의 관계자 (M_b)는, 점선으로 나타내는 바와 같이 시스템(10B)의 통로(168)를 빠져 나가, 그 후에도 그대로 직진하여 시스템(10A)의 통로(168)를 빠져 나감으로써, 최단거리 내지 최단시간으로 출입구(204)에 이를 수 있다. 또한, 앞쪽의 관계자(M_a)도, 점선으로 나타내는 바와 같이 시스템(10A)의 통로(168)를 빠져 나감으로써, 역시 최단거리 내지 최단시간으로 출입구(204)에 이를 수 있다.

통로(168)의 정면입구부근에는, 어느 쪽의 방위로부터도 통로(168)의 존재장소를 눈으로 확인할 수 있도록 하기 위한 바람직하게는 점등 또는 발광표시형의 통로표식을 설치하는 것이 바람직하다. 이 실시형태에서는, 도12에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 오븐타워(TB)(76, 78)중 어느 한쪽의 각부로부터 기울어진 앞쪽으로 돌출하는 형태로 통로표식(206)을 설치하더라도 좋다. 이와 같은 설치형태에 의하면, 180°의 시야각에서 모든 방위로부터 통로표식(206)의 설치장소를 한 눈으로 시인할 수가 있다. 또한, 도 12에 나타내는 바와 같이 복수대의 시스템(10A, 10B)을 병설하는 경우는, 뒤쪽의 시스템(10B)의 통로(168)를 통해서 앞쪽의 시스템 (10A)의 통로표식(206)이 보이도록, 통로(168)의 천장보다도 충분히 낮은 위치에 통로표식(206)을 설치하는 것이 바람직하다(도 9).

또한, 통로표식(206)은 전용의 것이라도 좋지만, 시스템전반의 상황을 가시적으로 표시하고 통보하기 위한 표시수단 예를 들면 시그널타워를 이용하는 것이라도 좋다. 예를 들면, 비상시에는, 피난용의 통로표식(206)으로서 기능하도록 해당 시그널타워에 특별한 색으로 발광표시시키도록 하더라도 좋다. 이러한 위치에 시그널타워를 설치하는 것에 의해, 시스템의 끝단부까지 이동하지 않고 크린룸내에 평행하게 가지런하게 된 높은 복수대의 시스템전반의 가동상황을 시그널타워를 통하여 한 눈으로 확인하는 것이 가능하다.

또한, 이 실시형태에서는, 통로(168)의 위에 익스텐션·유니트(EXT) (170)뿐만 아니라, 버퍼유니트(BUF)(178)나 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(176)등도 다단으로 적층배치하고 있다.

상기한 바와 같이, 버퍼유니트(BUF)(178)는, 익스텐션·유니트(EXT) (170)를 경유하는 기판(G)을 필요에 따라서 일시적으로 남게 하여 보관하기 위한 유니트이다. 예를 들면, 시스템내에서 기판(G)의 반송플로우를 중단하지 않고 제품로트의 변한 눈으로 반송택트를 그때까지의 80초에서 60초로 변경하였다고 한다. 이 경우, 일정한 과도기간중에는, 반송라인[A]의 종단부 요컨대 오븐타워(TB)(76)내의 패스유니트(PASS_out)(94)로부터 변경후의 60초간격으로 기판(G)이 반출되는 한편으로, 반송라인[C]의 종단부 요컨대 오븐타워(TB)(84)내의 패스유니트(PASS_out)(136)로부터는 변경전의 80초간격으로 기판(G)이 반출되는 것으로 된다. 이 때문에, 양 반송기구(S/A)(88, 90)에 있어서 변경후의 반송택트(60초)계와 변경전의 반송택트 (80초)계가 간섭하지 않도록 반송 시퀀스의 타이밍을 조정하는 필요성이 나온다. 여기서, 각 반송기구(S/A)(88, 90)는 임의의 기판(G)을 임의의 시간만 버퍼유니트 (BUF)(178)에 남게 할 수 있기 때문에, 다른 반송택트 사이의 타이밍조정을 위한 최적의 반송시퀀스상의 레시피를 설정할 수가 있다.

또한, 시스템내의 어딘가에서 프로세스 플로우가 정지하여, 또는 정체한 경우에도, 버퍼유니트(BUF)(178)를 유효이용할 수가 있다. 예를 들면, 도포프로세스부(26)내에서 장해가 발생하여 해당 프로세스부(26)에의 기판반입을 할 수 없게 된 경우, 그 시점에서 스크러버세정유니트(SCR)(28)내에서 평류세정처리를 받고 있는 한가운데의 기판(G)에 있어서는 그대로 세정처리를 완수시키더라도 좋다. 따라서, 스크러버세정유니트(SCR)(28)로부터는 정상시와 같은 사이클 내지 타이밍으로 세정된 기판(G)이 차례차례로 반송라인[A]으로부터 반출된다. 이렇게 해서 반송라인 [A]으로부터 반출된 각 기판(G)은 오븐타워(TB)(76, 78, 84, 86)내에서 통상과 같은 시퀀스로 열적처리를 받은 후 도포프로세스부(26)에 반입되는 대신에 버퍼유니트(BUF)(178)에 보관되더라도 좋다.

이와 같이, 익스텐션·유니트(EXT)(170)에 인접시켜(바람직하게는 상하에 겹쳐서)버퍼유니트(BUF)(178)를 설치함으로써, 반송플로우나 프로세스 플로우의 신뢰성을 높일 수 있다.

통로(168)상의 냉각유니트(COL)(176)는, 상기한 바와 같이 인접한 오븐타워 (TB)(76, 78, 84, 86)내의 냉각유니트(COL)의 대용 또는 보완으로서 기능할 수가 있다. 오븐타워(TB)내의 냉각유니트(COL)는 가열유니트(DHP), (AD), (PREBAKE), (POBAKE)와 겹쳐서 적층배치되는 데 비하여, 통로(168)상의 냉각유니트(COL)(176)는 익스텐션·유니트(EXT)(170)나 버퍼유니트(BUF) (178) 등의 비가열계의 유니트와 겹쳐 적층배치되기 때문에, 특별한 단열구조를 채용하지 않아도 된다고 하는 이 점이 있다.

도 13에, 제 2 실시형태에 의한 레지스트 도포현상처리시스템의 레이아웃을 나타낸다. 도면 중, 상술한 제 1 실시형태(도 1∼도 11)의 것과 같은 구성 또는 기능을 갖는 부분에는 동일 또는 유사한 부호를 붙이고 있다.

이 제 2 실시형태에서는, 진행로의 반송라인[A], [B] 및 복귀로의 반송라인 [C], [D]을 각각 똑바로 접속하여, 상기 실시형태에 있어서의 익스텐션·유니트 (EXT)(170) 및 반송기구(S/A)(88, 90)의 각각을 기능적으로 진행로측과 복귀로측과 둘로 나눠 배치하고 있다.

보다 상세하게는, 진행로측에서는, 반송라인[A]의 종단부에 위치하는 오븐타워(TB)(76)와 반송라인[B]의 시단부에 위치하는 오븐타워(TB)(78)와의 사이에, 오븐타워(TB)(76)내의 각 유니트의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 반송기구 (S/A)(88A)와, 진행로상에서 프로세스 플로우의 상류측에서 하류측으로 기판(G)을 주고 받기 위한 익스텐션·유니트(EXT)(170A)와, 오븐타워(TB))(78)내의 각 유니트의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 반송기구(S/A)(90A)를 일렬에 배치하고 있다. 여기서, 양 반송기구(S/A)(88A, 90A)는 익스텐션·유니트(EXT)(170A)에도 억세스 가능하고, 상류측의 반송기구(S/A)(88A)에서 하류측의 반송기구 (S/A)(90A)에의 기판(G)의 주고받음이 익스텐션·유니트(EXT)(170A)를 통해 행하여진다.

또한, 복귀로측에서는, 반송라인[C]의 종단부에 위치하는 오븐타워(TB)(84)와 반송라인폭]의 시단부에 위치하는 오븐타워(TB)(86)와의 사이에, 오븐타워 (TB)(84)내의 각 유니트의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 반송기구 (S/A)(90B) 와, 복귀로상에서 프로세스 플로우의 상류측에서 하류측에서 기판(G)을 주고 받기 위한 익스텐션·유니트(EXT)(170B)와, 오븐타워(TB)(86)내의 각 유니트의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 반송기구(S/A)(88B)를 일렬로 배치하고 있다. 양 반송기구(S/A)(90B, 88B)는 익스텐션·유니트(EXT)(170B)에도 억세스 가능하고, 상류측의 반송기구(S/A) (90B)에서 하류측의 반송기구(S/A)(88B)에의 기판(G)의 주고받음이 익스텐션·유니트(EXT)(170B)를 통해 행하여진다.

이 제 2 실시형태에서는, 상기한 제 1 실시형태와 같은 구성 또는 기구로, 각 익스텐션·유니트(EXT)(170A, 170B)의 아래에 빠져나감용의 통로(168A, 168B)를 설치할 수 있다. 관계자는 시스템을 횡단하는 방향(Y방향)으로 양 통로(168A, 168B)를 세로로 빠져 나감으로써, 시스템의 일끝단부를 우회하지 않고 시스템의 한 사이드에서 반대 사이드로 간단히 이동할 수가 있다. 도시의 예에서는, 양 통로 (168A, 168B)를 시스템 횡단방향(Y방향)으로 일직선상에 배치하고 있기 때문에, 긴급시에도 관계자는 양 통로(168A, 168B)의 빠져나감을 원활 내지 안전하게 할 수 있다. 다만, 양 통로(168A, 168B)를 시스템 길이방향으로 오프세트한 위치에 배치하는 구성도 가능하다.

이 제 2 실시형태에서는, 진행로와 복귀로의 각각에 익스텐션·유니트 (EXT) (170)와 반송기구(S/A)(88, 90)를 배치하기 위해서, 제 1 실시형태보다도 풋프린트 특히 시스템의 전체길이 사이즈가 약간 커진다. 다른쪽에, 각 반송기구(S/A)(88, 90)에 대해서는 시스템의 바깥쪽에서 직접 보수관리를 할 수 있다고 하는 이점이 있다. 또, 이 실시형태에서도, 각 익스텐션·유니트(EXT)(170A, 170B)의 상하에 기판온도조정용의 냉각유니트(COL)(176)나 버퍼유니트(BUF)(178)등을 겹쳐서 배치할 수가 있다.

이상 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서 설명하였지만, 본 발명의 기술사상의 범위내에서 여러 가지의 변형·변경이 가능하다. 예를 들면, 평류반송로로서는 롤러반송로에 한정되는 것이 아니라, 예를 들면 일정한 간격을 두고 한 쌍의 벨트를 수평방향에 부설하여 이루어지는 벨트형의 반송로 등도 가능하다. 또한, 오븐타워에 열처리계 이외의 처리유니트를 포함하는 구성이나, 열처리계 이외의 처리유니트만으로 오븐타워와 같은 다단유니트부를 구성하는 것도 가능하다.

본 발명의 처리시스템은 상기한 바와 같은 레지스트 도포현상처리시스템에 적용하여 바람직하지만, 이에 한정되는 것이 아니라, 시스템구성이나 시스템요소에 있어서 여러 가지의 변형이 가능하고, 예를 들면 성막장치나 에칭장치 등을 포함하는 인라인형 시스템에도 적용 가능하다. 본 발명에 있어서의 피처리기판은, 피처리기판은 LCD기판에 한정되는 것이 아니라, 플랫-패널디스플레이용의 각종 기판이나, 반도체웨이퍼, CD기판, 포토마스크, 프린트기판 등의 각종의 피처리기판이 포함된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 처리시스템에 의하면, 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 거의 수평인 방향으로 반송하는 반송라인을 갖는 시스템 레이아웃에 있어서, 시스템의 양 사이드 사이에서 사람이 우회하지 않고 간단히 또한 단시간에서 왕래할 수 있도록 할 수 있다. 나아가서는, 프로세스플로우 또는 반송플로우의 신뢰성을 향상시킬 수도 있다.

Claims (18)

1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 1 반송라인과,

상기 제 1 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 1 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 1 다단유니트부와,

상기 제 1 반송라인의 연장상에 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 2 반송라인과,

상기 제 2 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 2 다단유니트부와,

상기 제 2 반송라인과 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 3 반송라인과,

상기 제 3 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 3 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 3 다단유니트부와,

상기 제 3 반송라인의 연장상에서 상기 제 1 반송라인과 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 4 반송라인과,

상기 제 4 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 4 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 4 다단유니트부와,

상기 제 1 다단유니트부내의 각 유니트 및 상기 제 4 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 1 반송수단과,

상기 제 2 다단유니트부내의 각 유니트 및 상기 제 3 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 2 반송수단과,

상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에 배치되고, 상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고받음을 하기 위한 주고 받음부와,

시스템을 사람이 횡단하여 빠져나갈 수 있도록 상기 주고 받음부의 아래에 설치되는 통로를 갖는 처리시스템.

제 1 항에 있어서, 상기 주고 받음부가 상기 제 1 반송수단으로부터 상기 제 2 반송수단으로 피처리기판을 주고 받기 위한 제 1 주고받음 유니트와, 상기 제 2 반송수단으로부터 상기 제 1 반송수단으로 피처리기판을 주고 받기 위한 제 2 주고받음 유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 처리시스템.

1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 1 반송라인과,

상기 제 1 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 1 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 1 다단유니트부와,

상기 제 1 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 1 반송수단과,

상기 제 1 반송라인의 연장상에 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 진행로의 제 2 반송라인과,

상기 제 2 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 2 다단유니트부와,

상기 제 2 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 2 반송수단과,

상기 제 1 반송수단과 상기 제 2 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 1 주고 받음부와,

상기 제 2 반송라인과 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 3 반송라인과,

상기 제 3 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 3 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 3 다단유니트부와,

상기 제 3 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 3 반송수단과,

상기 제 3 반송라인의 연장상에서 상기 제 1 반송라인과 평행하게 설치되어, 1개 또는 일련의 처리공정에서 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 복귀로의 제 4 반송라인과,

상기 제 4 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 4 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반입유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 4 다단유니트부와,

상기 제 4 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 4 반송수단과,

상기 제 3 반송수단과 상기 제 4 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 2 주고 받음부와,

시스템을 사람이 횡단하여 빠져나갈 수 있도록 상기 제 1 및 제 2 주고 받음부의 아래에 각각 설치되는 제 1 및 제 2 통로를 갖는 처리시스템으로서,

상기 제 1 통로와 상기 제 2 통로가 시스템을 횡단하는 방향으로 일직선상에 배치되는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 제 2 반송라인의 종단부에 설치되어, 상기 제 2 반송라인으로부터 피처리기판의 반출을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 5 다단유니트부와,

상기 제 3 반송라인의 시단부에 설치되어, 상기 제 3 반송라인에의 피처리기판의 반입을 하기 위한 적어도 1대의 반출유니트와 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 다단으로 적층배치하여 이루어지는 제 6 다단유니트부와,

상기 제 5 다단유니트부내의 각 유니트 및 상기 제 6 다단유니트부내의 각 유니트의 사이에서 피처리기판을 반송하기 위한 제 5 반송수단을 갖는 처리시스템.

제 4 항에 있어서, 상기 제 2 반송라인의 종단부 및 상기 제 3 반송라인의 시단부와 인접하는 다른 처리시스템으로 피처리기판을 반입하거나 또는 상기 다른 처리시스템으로부터 피처리기판을 반출하기 위한 제 6 반송수단과,

상기 제 5 반송수단과 상기 제 6 반송수단과의 사이에서 피처리기판의 주고받음을 하기 위해서 양 반송수단의 사이에 배치되는 제 3 주고 받음부를 갖는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 피처리기판을 다단으로 수납하기 위한 1개 또는 복수의 카세트를 얹어 놓은 카세트스테이지와 상기 제 1 반송라인의 시단부 및 상기 제 4 반송라인의 종단부와의 사이에 설치되어, 미처리의 피처리기판을 상기 카세트스테이지상의 어느 하나의 상기 카세트로부터 집어내어 상기 제 1 반송라인에 반입하고, 처리된 피처리기판을 상기 제 4 반송라인으로부터 반출하여 상기 카세트스테이지상의 어느 하나의 상기 카세트로 수용하기 위한 제 7 반송수단을 갖는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 반송수단이 수직방향으로 승강가능한 승강반송체와, 상기 승강반송체상에서 수직축의 주위로 선회가능한 선회반송체와, 상기 선회반송체상에서 피처리기판을 지지하면서 수평면내에서 전후방향으로 신축가능한 반송아암을 포함하는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 상기 반송라인이 피처리기판을 수평으로 얹어서 반송하기 위한 반송체를 해당 반송라인에 따라 부설하여 이루어지는 반송로와, 상기 반송로상에서 피처리기판을 반송하기 위해서 상기 반송체를 구동하는 반송구동수단을 갖는 처리시스템.

제 8 항에 있어서, 상기 반송로상에서 피처리기판에 원하는 액체처리를 실시하는 액체처리수단을 갖는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 처리유니트가 상기 반송라인상의 처리에 관련하여 피처리기판에 원하는 열적인 처리를 실시하기 위한 열처리유니트인 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 주고 받음부가 피처리기판을 1장 단위로 얹어 놓기 위한 지지판과, 상기 기판을 핀앞끝단에서 수평으로 지지하기 위해서 상기 지지판상에 이산적으로 설치되는 복수의 지지핀을 갖는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 피처리기판에 소정의 처리를 실시하기 위한 적어도 1대의 처리유니트를 상기 주고 받음부의 위 또는 아래에 포개어 설치하고, 상기 주고 받음부에 억세스 가능한 적어도 1개의 상기 반송수단에 의해 상기 처리유니트에 억세스 가능하게 하는 처리시스템.

제 12 항에 있어서, 상기 주고 받음부에 포개어 설치되는 상기 처리유니트가, 피처리기판의 온도를 일정하게 조정하기 위한 기판온도조정수단을 갖는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 피처리기판을 일시적으로 남게 하여 보관하기 위한 버퍼유니트를 상기 주고 받음부의 위 또는 아래에 포개어 설치하여, 상기 주고 받음부에 억세스 가능한 적어도 1개의 상기 반송수단에 의해 상기 버퍼유니트에 억세스 가능하게 하는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 통로의 입구부근에 상기 통로의 존재장소와 시스템내의 상황을 동시에 알리기 위한 표시수단을 설치하는 처리시스템.

제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 통로를 상시 개방상태로 하는 처리시스템.

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