KR101039686B1 - 연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을검출하기 위한 방법과 장치 - Google Patents

연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을검출하기 위한 방법과 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101039686B1
KR101039686B1 KR1020030029736A KR20030029736A KR101039686B1 KR 101039686 B1 KR101039686 B1 KR 101039686B1 KR 1020030029736 A KR1020030029736 A KR 1020030029736A KR 20030029736 A KR20030029736 A KR 20030029736A KR 101039686 B1 KR101039686 B1 KR 101039686B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glass plate
strip glass
light
liquid
strip
Prior art date
Application number
KR1020030029736A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030088342A (ko
Inventor
게르스트너클라우스
베버조아킴
Original Assignee
쇼오트 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쇼오트 아게 filed Critical 쇼오트 아게
Publication of KR20030088342A publication Critical patent/KR20030088342A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101039686B1 publication Critical patent/KR101039686B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod

Abstract

본 발명은 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판, 특히 폭이 넓은 박판 띠유리판 안에 결점들을 검출하기 위한 방법과 장치를 제공한다. 이때 상기 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사(照射)되는 좁은 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위에 산란광(散亂光)을 발생시켜, 분석, 처리하여 제어신호를 발생시키도록 되어있다.
본 발명에 따라, 단색성 광선을 사용하여 광원과 띠유리판 사이에 장치된 투명한 액체를 통하여 - 바람직하게는 모서리면을 통하여 - 띠유리판 내부로 투사시키도록 제안된다.
본 발명의 제1실시형태에 따라, 상기 띠유리판을 둘러싼 대기보다 굴절률이 큰 액체를 통과하여 띠유리판의 표면에 비스듬하게 투사된다.
본 발명의 제2실시형태에 따라, 상기 광선을 본질적으로 띠유리판 재료의 굴절률과 일치하는 액체를 통과하여 띠유리판의 측면모서리를 통하여 띠유리판 표면에 평행하게 투사하도록 되어 있다.
상기 제1방법에 있어서는, 광투사장치(5)가 그 단부에 프리즘(4)이 장치되어 있으며, 상기 프리즘(4)의 광출력면(光出力面)은 상기 띠유리판(1)의 표면에 평행하게 형성되어 있다. 상기 프리즘(4)과 띠유리판(1) 사이에는 주위 대기(3) 보다 큰 굴절률을 갖는 투명한 액체가 장치된다. 상기 띠유리판은 첨부도면에 수직으로 전진이동하며, 롤러(6)들과 같은 자치 위에 지지된다.

Description

연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을 검출하기 위한 방법과 장치{Method and Apparatus for Detecting Defects in a Continuously Moving Strip of Transparent Material}
제1도는 띠유리판의 윗면을 통하여 광선의 투사를 보여주는
원리도이다.
제2도는 제1도에 따른 광선의 투사부위를 보여주는 개략단면도이다.
제3도는 띠유리판의 측면모서리를 통한 광선투사를 위한 광선투사
부위의 개략단면도이다.
도면의 주요부분에 대한 부호설명
굴절률(α1, α2, α3) 띠유리판(1)
액체(2) 대기(3)
프리즘(4) 광투사장치(5)
롤러(6) 렌즈(7)
가이드(8)
본 발명은 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판 (帶狀透明板), 특히 폭이 넓은 박판 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사(照射)되는 좁은 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위 때문에 발생하는 산란광(散亂光)을 포착, 분석 평가하고, 처리하여 제어신호를 발생시키므로 써 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 방법과 장치에 관한 것이다.
박판유리의 제조에 있어서는 결점에 대한 검사가 매우 중요한 것이다. 크기가 100 ㎛ 이상인 결점은 사용자가 받아들이지 않으므로, 따라서 철저히 검사하지 않으면 안 된다. 숙련된 검사원에 의한 통상적인 시각검사와 함께, 신뢰성 및 경제성 때문에 기계적 검사방법의 사용이 증가되고 있다.
그러나 이를 위하여, 상기 띠유리판을 투광기(透光器)와 수광기(受光器) 사이에서 통과시키는 투광법(透光法)은 띠유리판의 고속 통과속도 조건을 충족시킬 수 없다. 현대식 생산시설에 있어서 이 속도는 10 미터/분을 달성하고 있으며, 이때 1회 측정을 위한 조사시간(照射時間)은 150 ㎲ 범위이다. 또한 적용 가능한 광도(光度)는 온라인 결함검사를 위해서는 한계에 도달하였다.
따라서 검사광선(檢査光線)을 띠유리판의 가장자리에 투사(投射)시켜, 띠유리판 자체를 광도파로(光導波路)로서의 사용하는 방법으로 전환하였고, 이때 광도파로로서 사용되는 광섬유에 있어서와 같이 띠유리판의 가장자리 경계면(境界面)의 광선이 주위의 대기 속으로 계속 반사된다.
그와 같은 방법은 예를 들어 1998년 12월 22일에 공개된 일본 특허공보 제H 10-339705호에서 공개되었다. 이 특허방법에 있어서는, 광선이 유리판 양쪽의 긴 가장자리에 투사(投射)되고, 유리판의 위아래에 수직으로 장치된 선형감지기(line sensors)들에 의하여 포착되어, 전자분석장치에서 처리되므로 써, 롤러들 사이에서 약 4 미터/분의 속도로 진행하는 유리판 내의 결점들을 검출하도록 되어있다. 표면에 부착되어 있는 바람직하지 않은 입자들을 결점검색으로부터 제외하기 위하여, 광선이 측면 모서리에 비스듬하게 투사되고, 유리와 주위대기 사이의 경계면에서 반사하여 외부로부터 내부로 계속 전도되도록 되어있다. 광원으로서 할로겐램프를 사용할 경우에 띠유리판의 중심 부분에서 흡수현상 때문에 투사광의 강도가 예를 들어 폭 1.2 m의 띠유리판에 있어서 가장자리에 대한 광투사값의 5%로 극심하게 감소하므로, 분석할 때 고가의 계산장치에 의한 보정이 요구된다는 것을 고려하면서 포착된 산란광으로부터 전체폭에 대한 결점들을 정확하게 판단하려고 시도하고 있다. 따라서 투사될 검사광선의 요구되는 출력강도는 띠유리판의 폭과 진행속도에 따라 크게 증가시키지 않으면 안 되고, 결국 기술적 한계에 도달하게 되므로, 상기 공지된 방법은 띠유리판의 폭과 진행속도에 제한을 받는다.
게다가 제조에 따라 모서리가 불규칙적이고 둥글게 처리된 띠유리판에 있어서는 일정한 광투사가 불가능하기 때문에 상기 공지방법은 절단된 측면 모서리를 전제조건으로 하야하는 단점을 가지고 있다. 따라서 유리판이 절단점으로부터 시작하여 이동방향으로 향해서 계속 갈라지는 성질로 인하여 불량품으로 폐기되는 경우가 있으므로 띠유리판의 긴 모서리의 절단이 불가능하기 때문에 상기 공지방법은 고려의 대상이 아니다.
상기 공지방법은 그 밖에 또한 연속적으로 진행하는 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 것이 전혀 아니고, 절단된 유리판의 세로 가장자리와 선단(先端) 및 후단(後端) 모서리들을 위한 것으로서, 이 선단 및 후단 모서리들은 유리판들이 전진할 때 광전소자들에 의하여 검출되어, 검사공정의 온(ON) 및 오프(OFF)를 위한 제어신호를 발생시키기 위하여 사용된다.
따라서 본 발명의 과제는 모두에 언급한 바와 같이 제조조건에 따른 띠유리판의 불규칙적인 측면 모서리를 미리 절단할 필요 없이 검사광선을 투사시킬 수 있는 방법과 장치를 제공하는 것이다. 그 밖에 두께가 0.3 내지 2 ㎜ 범위이고, 폭이 최소 2 m인 박판 띠유리판에 있어서는 제조속도가 10 m/sec 이내일 경우 검출 신뢰성이 충족되어야 한다.
본 발명의 과제를 해결하기 위하여, 단색성 광선을 사용하여 광원과 띠유리판 사이에 장치된 투명한 액체를 통하여 - 바람직하게는 모서리면을 통하여 - 띠유리판 내부로 투사시키도록 제안한다.
본 발명의 제1실시형태에 따라, 광선을 띠유리판의 표면에 비스듬하게 투사시키고, 통상 공기로 이루어져서 띠유리판을 둘러싼 대기보다 굴절률이 큰 액체를 사용하도록 되어있다. 이때 상기 광선은 띠유리판의 윗면에서 띠유리판 중심 쪽으로 경계를 이루는 액체부위를 통과하여 투사되며, 띠유리판의 아랫면으로부터 반사되는 광선이 윗면에서 액체부위로부터 벗어난 부분에 도달하게 되고, 따라서 광선이 다시 밖으로 나가지 않고, 아랫면으로 역반사되도록 광선의 입사각을 선택할 수 있다. 다시 말하면, 상기 광선이 주위대기(周圍大氣)보다 큰 굴절률을 갖는 액체를 통하여 띠유리판 표면에 수직선에 대하여 최대한으로 큰 각도(α)로 투사될 경우에는, 띠유리판의 아랫면에서 반사된 광선이 본질적으로 액체의 경계 바깥쪽에 띠유리판 윗면에 도달되고, 따라서 도파매질(導波媒質) 속에서 전반사(全反射)와 일치하게 "포착되어 보존된" 다음, 띠유리판의 진행방향에 대하여 직각으로 계속 전도(傳導)될 수 있는 것이다. 이러한 방법으로 결점검출을 위한 상기 유리판 모서리 조건하에서 필요로 하는 광출력을 띠유리판에 투사될 수 있다는 것이 실험을 통하여 증명되었다.
본 발명의 제2실시형태는 광선을 띠유리판의 측면모서리를 통하여 평행하게 투사시키고, 띠유리판 재료와 굴절률이 본질적으로 일치하는 액체를 사용하도록 되어있다. 상기 제2 변형방법은 광원과 그 광원에 인접하여 전진하는 띠유리판 사이의 공간을 완전히 액체로 충전(충만)시켜서 광선이 액체와 띠유리판의 경계면에서 굴절하지 않고 항상 균일하게 띠유리판의 측면모서리 안으로 투사될 수 있도록 하므로 써 제조조건에 따라 불규칙적이며 둥글게 형성된 측면모서리에서 일어나는 검사광선의 투사문제점들을 극복할 수 있다는 것에 착안하였다. 또한 상기 변형방법에 있어서는 광선이 띠유리판 속에서 저손실로 계속 전도되어 결점검출을 위하여 최적하게 활용될 수 있다.
본 발명에 따르면 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판으로 폭이 최소 2m, 바람직하게는 2m 내지 3m인 박판 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사되는 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위 때문에 발생하는 산란광을 포착, 분석 평가하고, 처리하여 제어신호를 발생시키므로 써 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 방법과 장치에 있어서, 광원과 띠유리판 사이에 위치하는 투명한 액체를 통과하여 단색광선을 상기 띠유리판 속으로 투사시키는 것을 특징으로 하는 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 방법이 제공된다.
본 발명에 따르면, 상기 광선은 측면모서리에서 띠유리판 내부로 투사되거나, 상기 광선은 띠유리판의 표면에 대하여 비스듬하게 투사될 수 있다.
또한, 상기 띠유리판을 둘러싼 대기보다 큰 굴절률을 갖는 액체를 사용할 수 있으며, 이때 상기 광원과 띠유리판 사이의 간격은 투과되는 광선 범위 안에 상기 액체가 단독으로 표면장력에 의하여 보지되도록 치수를 정할 수 있다.
또한, 상기 광원과 띠유리판 사이의 간격은 기계적 수단에 의하여 일정하게 유지될 수 있으며, 이 경우 상기 광원은 롤러 또는 슬라이딩 블록을 이용하여 띠유리판 위에 지지되며, 상기 띠유리판 자체는 롤러 위에 놓여있을 수 있다.
또한 본 발명에 따르면 상기 광선은 띠유리판의 측면모서리를 통하여 표면에 평행하게 투사될 수 있으며, 상기 띠유리판 재료의 굴절률과 일치하는 굴절률을 갖고 있는 액체를 사용할 수도 있다. 이때 상기 액체가 자체의 표면장력에 의하여 가이드(guide)와 띠유리판 사이에서 단독으로 보지(保持)될 수 있도록 가이드의 양쪽 날개를 띠유리판의 윗면과 아랫면으로부터 각각 간격을 띄울 수 있다.
이 경우, 상기 가이드와 띠유리판 사이에 추가적으로 밀봉장치가 되어있을 수 있다.
또한, 상기 띠유리판은 롤러 또는 슬라이딩 블록과 같은 기계적 장치를 이용하여 상기 가이드의 양쪽 날개 사이에 위치시킬 수 있으며, 여기서 광원은 400-1000 nm의 파장을 갖는 단색광(單色光)을 사용할 수 있으며, 띠유리판 재료 내에서 광선이 흡수되는 최소 파장의 단색광을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 상기 단색광으로서 약수렴(收斂)형 레이저광선이 투사될 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 초점이 띠유리판의 투사점 반대편의 모서리 부분에 놓이도록 레이저광선의 수속정도(收束程度)를 선택할 수 있으며, 측정구간에 따라 광흡수가 보정(補正)되도록 레이저광선의 수속정도(收束程度)를 선택할 수도 있다. 이때 투사점에서 띠유리판의 전진방향에서 측정하여 상기 광선의 폭이 0.5㎜ 내지 3㎜인 것이 바람직하며, 상기 산란광의 출구창(出口窓)의 폭이 띠유리판의 전진방향으로 측정하여 10㎛ 범위 내에 있는 것이 또한 바람직하다.
본 발명에 따르면, 상기 산란광을 그 강도와 결점 위치에 관하여 전자적으로 분석, 평가하고, 처리하여 제어신호를 발하며, 그 신호는 결점위치의 기록장치의 제어를 위하여 사용될 수 있으며, 상기 산란광을 그 강도와 결점 위치에 관하여 전자적으로 분석, 평가하고, 처리하여 제어신호를 발하며, 그 신호는 결점위치의 절단장치의 제어를 위하여 사용되는 것이 바람직하다.
또한, 띠유리판의 폭에 걸친 광흡수는 처리할 때 수학적으로 보정될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판으로 폭이 2m 내지 3m인 박판 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사되는 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위 때문에 발생하는 산란광을 포착, 분석 평가하고, 처리하여 제어신호를 발생시키므로 써 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 장치에 있어서,
- 띠유리판을 Y-축 방향으로 연속 전진시키기 위한 이송장치와,
- 광전도체 및/또는 광안내장치를 통하여 상기 띠유리판의 모서리부분 근방까지 전달될 단색광선을 발생시키기 위한 광원과,
- 상기 광원과 띠유리판 사이에 위치하는 액체를 통과하여 광선을 띠유리판 안으로 투사시키기 위하여 장치되는 액체와,
- 상기 띠유리판의 전체 폭에 걸쳐 X-축 방향으로 연장하여 장치되어, 상기 결점위치에서 발생하는 산란광을 수신하기 위한 광수신장치, 및
- 결점들의 크기와 위치를 검출하고, 띠유리판 결점들의 기록하며, 상기 결점들을 고려하여 띠유리판을 포매팅(formatting)할 장치의 제어를 위한 제어신호들을 발생시키는 전자식 분석평가 장치들로 구성되는 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 장치가 제공된다.
이 경우, 상기 액체는 띠유리판의 표면에 평행하게 형성된 광투사장치의 전단부와 상기 띠유리판의 측면모서리의 표면 사이에 장치될 수 있으며, 또한 상기 액체는 주위 대기의 굴절률보다 큰 굴절률을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 상기 액체는 상기 띠유리판의 표면과 프리즘 사이에 장치될 수 있으며, 롤러 또는 슬라이딩 블록 위에 고정하여 장치된 상기 광투사장치의 전단부가 전진 이동하는 띠유리판과 이격되어 보지될 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 상기 장치는 띠유리판의 모서리를 둘러싸는 U-자형 가이드를 추가로 포함할 수 있다. 여기서 상기 액체는 상기 U-자형 가이드와 상기 띠유리판 사이에 장치되어 있고, 이때 상기 가이드 내에는 또한 광투사장치의 선단부가 위치하며, 상기 액체는 띠유리판 재료와 동일한 굴절률을 가지고 있고, 상기 광선은 띠유리판의 표면에 평행하게 측면모서리에 투사될 수 있다.
또한 상기 U-자형 가이드는 띠유리판의 윗면과 아랫면 쪽으로 뻗은 각각 1개씩의 날개가 형성되어 있으며, 상기 날개는 롤러 또는 슬라이딩 블록을 이용하여 상기 띠유리판과 일정한 간격을 띄우고 보지될 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 액체를 보충할 수 있는 액체 탱크를 장치하는 것이 바람직하다.
제1도에서는, 검사할 띠유리판(1)이 도면에 대하여 수직으로, 즉, Y-축 방향으로 일정한 제조속도로 이동할 때 모서리 부위를 보여주는 도면이다. 도면에서 X-축은 상기 띠유리판의 전진 방향에 대하여 직각으로 띠유리판의 폭 방향을 나타내며, 한편 Z-축은 상기 띠유리판의 표면에 대하여 수직을 이룬다. 상기 좌표체계에 의하여 검출하는 결점들의 위치를 결정하고, 제어신호의 생성을 위하여 처리된다.
도면에 도시하지 않은 광투사장치의 종단부(終端部)와 이동하는 띠유리판(1)의 윗면 사이에는 주위 대기(3)의 굴절률(α3)보다 큰 굴절률(α1)을 갖는 투명한 액체(2)가 정지 상태로 장치되어 있으며, 이때 상기 주위 대기(3)는 통상 공기를 말한다. 상기 액체(2)를 통하여 굴절률(α2)을 갖는 띠유리판 속으로 투사된 광선은 위쪽 경계면에서 수직 방향으로 유리표면 쪽으로 굴절하여 아래쪽 경계면(유리판/공기 사이의)에서 반사된다. 상기 액체부분에서 떨어진 바깥쪽의 경계면(유리판/공기 사이의)에 도달한 광선부분은 띠유리판으로부터 바깥으로 나오지 않고, 다시 계속적으로 반사되어 X-축 방향으로 맞은편의 측면모서리 까지 전파된다. 이때 띠유리판은 광도파로(光導波路)와 같이 작용하여, 그 속에서 광선이 내부반사에 의하여 위쪽 및 아래쪽의 유리와 공기의 경계면에서 반사하면서 포착되어 가두어져 있다. 이러한 방법으로 제조조건에 따른 불규칙적인 모서리면을 미리 처리해야할 필요 없이 결점검출을 위한 검사광선을 측면모서리에서 띠유리판 속으로 투사시킬 수 있다.
만약 제1b도와 같이 광선을 공기 매체를 통하여 띠유리판에 투사할 때 상기 띠유리판 아래쪽에도 공기매체가 있을 경우에는 투사된 광선이 아래쪽 경계면에서 반사되지 않고 전부 다시 밖으로 사출(射出)될 것이다.
제2도의 개략단면도에서 알 수 있는 바와 같이 상기 띠유리판(1)은 롤러(6) 또는 이와 유사한 장치에 의하여 지지되어 있다. 상기 광투사장치(5)는 단부면(端部面)에 상기 띠유리판의 표면과 평행한 평면을 갖는 프리즘(4)이 장치되어 있다. 상기 프리즘(4)과 띠유리판(1) 사이에는 본 발명에 따라 투명한 액체(2)가 장치되어 있으며, 상기 액체(2)는 주위 대기(공기)(3)보다 큰 굴절률을 가지고 있다. 상기 액체(2)는 일정한 계면장력을 가지고 있으며, 이 계면장력에 의하여 상기 액체(2)가 정지상태의 프리즘(4)과 첨부 도면에서 수직 방향으로 이동하는 띠유리판(1) 사이에 보지된다. 필요시에는 또한 띠유리판 위에서 마찰밀봉장치를 할 수도 있으며, 이때 규격화 공정에서 모서리 부분은 어차피 절단되고 폐기되기 때문에 띠유리판 위에 이물질로 인하여 생기는 긁힘 자국들은 중요한 문제가 되지 않는다.
제3도에 도시된 또 다른 방법에 있어서는, 검사광선을 미가공(未加工) 상태의 측면모서리를 통하여 띠유리판(1)의 표면에 평행하게 투사시키도록 되어있다. 이를 위하여 가이드(8)를 장치하고, 그 속에 광투사장치의 전단부(前端部), 즉, 본 실시예에 있어서는 렌즈(7)를 장착한다. 상기 가이드(8)는 띠유리판의 가장자리 부분을 둘러싸고, 액체(2)를 포함하고 있으며, 상기 액체(2)는 띠유리판과 동일한 굴절률을 가지고 있다. 그렇게 하므로 써 액체/유리 사이에 불규칙적으로 형성된 경계면에서 광선의 굴절이 일어나지 않으므로 검사광선이 띠유리판의 진행방향에 대하여 직각으로 실질적으로 손실 없이 투사될 수 있으며, 이때 또한 띠유리판은 광 전도체와 같이 작용하여 광선이 주위공기 속으로 누출되지 않는다.
상기 액체(2)는 또한 표면장력에 의하여 상기 가이드(8) 내에 보지된다. 이때 자명하게도 상기 표면장력은 추가적인 밀봉장치의 역할을 하게 된다.
본 발명은 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판, 특히 폭이 넓은 박판 띠유리판 안에 결점들을 검출하기 위한 방법과 장치를 제공한다. 이때 상기 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사(照射)되는 좁은 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위에 산란광(散亂光)을 발생시켜, 분석, 처리하여 제어신호를 발생시키도록 되어있다.

Claims (32)

  1. 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판으로 폭이 2m 내지 3m인 박판 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사되는 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위 때문에 발생하는 산란광을 포착, 분석 평가하고, 처리하여 제어신호를 발생시키므로 써 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 방법에 있어서,
    광원과 띠유리판 사이에 위치하는 투명한 액체를 통과하여 단색광선을 상기 띠유리판 속으로 투사시키는 것을 특징으로 하는 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광선은 측면모서리에서 띠유리판 내부로 투사되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 광선은 띠유리판의 표면에 대하여 비스듬하게 투사되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 띠유리판을 둘러싼 대기보다 큰 굴절률을 갖는 액체를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 광원과 띠유리판 사이의 간격은 투과되는 광선 범위 안에 상기 액체가 단독으로 표면장력에 의하여 보지되도록 치수를 정하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서.
    상기 광원과 띠유리판 사이의 간격은 기계적 수단에 의하여 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 광원은 롤러 또는 슬라이딩 블록을 이용하여 띠유리판 위에 지지되며, 상기 띠유리판 자체는 롤러 위에 놓여있는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 광선은 띠유리판의 측면모서리를 통하여 표면에 평행하게 투사되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 띠유리판 재료의 굴절률과 일치하는 굴절률을 갖고 있는 액체를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 액체가 자체의 표면장력에 의하여 가이드(guide)와 띠유리판 사이에서 단독으로 보지(保持)될 수 있도록 가이드의 양쪽 날개를 띠유리판의 윗면과 아랫면으로부터 각각 간격을 띄우는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 가이드와 띠유리판 사이에 추가적으로 밀봉장치가 되어있는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 삭제
  13. 제10항에 있어서,
    상기 띠유리판은 롤러 또는 슬라이딩 블록과 같은 기계적 장치를 이용하여 상기 가이드의 양쪽 날개 사이에 위치시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제1항에 있어서,
    400-1000 nm의 파장을 갖는 단색광(單色光)을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    띠유리판 재료 내에서 광선이 흡수되는 최소 파장의 단색광을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 단색광으로서 약수렴(收斂)형 레이저광선이 투사되는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    초점이 띠유리판의 투사점 반대편의 모서리 부분에 놓이도록 레이저광선의 수속정도(收束程度)를 선택하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    측정구간에 따라 광흡수가 보정(補正)되도록 레이저광선의 수속정도(收束程度)를 선택하는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제1항에 있어서,
    투사점에서 띠유리판의 전진방향에서 측정하여 상기 광선의 폭이 0.5㎜ 내지 3㎜인 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제1항에 있어서,
    상기 산란광의 출구창(出口窓)의 폭이 띠유리판의 전진방향으로 측정하여 10㎛ 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 산란광을 그 강도와 결점 위치에 관하여 전자적으로 분석, 평가하고, 처리하여 제어신호를 발하며, 그 신호는 결점위치의 기록장치의 제어를 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제1항 있어서,
    상기 산란광을 그 강도와 결점 위치에 관하여 전자적으로 분석, 평가하고, 처리하여 제어신호를 발하며, 그 신호는 결점위치의 절단장치의 제어를 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  23. 제1항 있어서,
    띠유리판의 폭에 걸친 광흡수는 처리할 때 수학적으로 보정되는 것을 특징으로 하는 방법.
  24. 투명재료로 연속 제조되어 이동하는 대상투명판으로 폭이 2m 내지 3m인 박판 띠유리판의 전진방향에 대하여 직각으로 조사되는 광선을 이용하여 상기 띠유리판 내부의 결점부위 때문에 발생하는 산란광을 포착, 분석 평가하고, 처리하여 제어신호를 발생시키므로 써 띠유리판의 결점을 검출하기 위한 장치에 있어서,
    - 띠유리판을 Y-축 방향으로 연속 전진시키기 위한 이송장치와,
    - 광전도체 또는 광안내장치를 통하여 상기 띠유리판의 모서리부분 근방까지 전달될 단색광선을 발생시키기 위한 광원과,
    - 상기 광원과 띠유리판 사이에 위치하는 액체를 통과하여 광선을 띠유리판 안으로 투사시키기 위하여 장치되는 액체와,
    - 상기 띠유리판의 전체 폭에 걸쳐 X-축 방향으로 연장하여 장치되어, 결점위치에서 발생하는 산란광을 수신하기 위한 광수신장치, 및
    - 결점들의 크기와 위치를 검출하고, 띠유리판 결점들의 기록하며, 상기 결점들을 고려하여 띠유리판을 포매팅(formatting)할 장치의 제어를 위한 제어신호들을 발생시키는 전자식 분석평가 장치들로 구성되는
    띠유리판의 결점을 검출하기 위한 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 액체는 띠유리판의 표면에 평행하게 형성된 광투사장치의 전단부와 상기 띠유리판의 측면모서리의 표면 사이에 장치되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  26. 제24항에 있어서,
    상기 액체는 주위 대기의 굴절률보다 큰 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
  27. 제25항 또는 제26항에 있어서,
    상기 액체는 상기 띠유리판의 표면과 프리즘 사이에 장치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  28. 제27항에 있어서,
    롤러 또는 슬라이딩 블록 위에 고정하여 장치된 상기 광투사장치의 전단부가 전진 이동하는 띠유리판과 이격되어 보지되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  29. 제24항에 있어서,
    띠유리판의 모서리를 둘러싸는 U-자형 가이드를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  30. 제29항에 있어서,
    상기 액체는 상기 U-자형 가이드와 상기 띠유리판 사이에 장치되어 있고, 이때 상기 가이드 내에는 또한 광투사장치의 선단부가 위치하며, 상기 액체는 띠유리판 재료와 동일한 굴절률을 가지고 있고, 상기 광선은 띠유리판의 표면에 평행하게 측면모서리에 투사되는 것을 특징으로 하는 장치.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 U-자형 가이드는 띠유리판의 윗면과 아랫면 쪽으로 뻗은 각각 1개씩의 날개가 형성되어 있으며, 상기 날개는 롤러 또는 슬라이딩 블록을 이용하여 상기 띠유리판과 일정한 간격을 띄우고 보지되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  32. 제24항에 있어서,
    액체를 보충할 수 있는 액체 탱크를 장치하는 것을 특징으로 하는 장치.
KR1020030029736A 2002-05-13 2003-05-12 연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을검출하기 위한 방법과 장치 KR101039686B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10221945.1 2002-05-13
DE10221945A DE10221945C1 (de) 2002-05-13 2002-05-13 Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung von Fehlstellen in einem kontinuierlich fortbewegten Band aus transparentem Material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030088342A KR20030088342A (ko) 2003-11-19
KR101039686B1 true KR101039686B1 (ko) 2011-06-08

Family

ID=7714547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030029736A KR101039686B1 (ko) 2002-05-13 2003-05-12 연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을검출하기 위한 방법과 장치

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6927848B2 (ko)
JP (1) JP4216639B2 (ko)
KR (1) KR101039686B1 (ko)
CN (1) CN100350236C (ko)
DE (1) DE10221945C1 (ko)
SG (1) SG105576A1 (ko)
TW (1) TWI277733B (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040196454A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-07 Takayuki Ishiguro Optical system, detector and method for detecting peripheral surface defect of translucent disk
DE10316707B4 (de) 2003-04-04 2006-04-27 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Erkennung von Fehlern in transparentem Material
AU2003290503A1 (en) 2003-12-30 2005-07-21 Agency For Science, Technology And Research Method and apparatus for detection of inclusions in glass
DE102005022271B3 (de) * 2005-05-10 2006-08-17 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Detektieren von Blasen in einem Glaskörper sowie zur Herstellung von Glaskörpern
JP4688150B2 (ja) * 2005-08-03 2011-05-25 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置
US7869021B2 (en) * 2007-04-05 2011-01-11 Asti Holdings Limited Multiple surface inspection system and method
DE102009017786B3 (de) * 2009-04-20 2010-10-14 Intego Gmbh Verfahren zur Detektion von Fehlstellen in einer dünnen Waferscheibe für ein Solarelement sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
TWI412736B (zh) * 2009-12-04 2013-10-21 Delta Electronics Inc 基板內部缺陷檢查裝置及方法
FR2993662B1 (fr) * 2012-07-23 2015-05-15 Msc & Sgcc Procede et installation pour la detection notamment de defauts refractants
CN104698145A (zh) * 2013-12-05 2015-06-10 珠海格力电器股份有限公司 用于u形管的探伤装置
CH709474A1 (fr) * 2014-04-07 2015-10-15 Suisse Electronique Microtech Dispositif pour la détection de défauts dans des pièces transparentes.
JP2015200610A (ja) * 2014-04-10 2015-11-12 株式会社レイテックス 欠陥測定装置及び欠陥測定方法
KR102003781B1 (ko) * 2014-09-16 2019-07-25 한화정밀기계 주식회사 초분광영상화 기법을 이용한 글라스(Glass) 결함 검출 장치
JP7351364B1 (ja) 2022-03-15 2023-09-27 フジテック株式会社 マンコンベヤ欄干装置及びマンコンベヤ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4297032A (en) 1980-02-14 1981-10-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Dark field surface inspection illumination technique
US4401893A (en) 1981-07-29 1983-08-30 Intec Corporation Method and apparatus for optically inspecting a moving web of glass
JPS60262036A (ja) 1984-06-08 1985-12-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学一軸結晶体の光学欠陥検出装置
JPH10339705A (ja) 1997-06-09 1998-12-22 Asahi Glass Co Ltd 板状透明体の欠陥検査方法及びその装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH535430A (de) * 1971-02-17 1973-03-31 Gretag Ag Verfahren und Vorrichtung zur Detektierung von staubförmigen Partikeln
US4402607A (en) * 1980-05-16 1983-09-06 Gca Corporation Automatic detector for microscopic dust on large-area, optically unpolished surfaces
ATE38289T1 (de) * 1984-12-14 1988-11-15 Flachglas Ag Verfahren und vorrichtung zum pruefen von transparenten materialbahnen, insbesondere flachglasbaendern.
US4715717A (en) * 1985-12-05 1987-12-29 The Dow Chemical Company Method for monitoring surface texture and quality for moving transparent film bodies
DE3806608A1 (de) * 1987-03-18 1988-09-29 Deutsches Textilforschzentrum Verfahren zur geschwindigkeits- und/oder laengenmessung von endlosen textilen warenbahnen sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPH0682392A (ja) * 1992-09-04 1994-03-22 Nhk Spring Co Ltd 透明体の破損検出装置
DE4406398A1 (de) * 1994-02-26 1995-08-31 Bosch Gmbh Robert Regensensor
FR2718232B1 (fr) * 1994-03-31 1996-05-24 Saint Gobain Vitrage Procédé et dispositif pour mesurer la qualité optique de la surface d'un objet transparent.
DE4444165A1 (de) * 1994-12-12 1996-06-13 Wissenschaftlich Tech Optikzen Vorrichtung zur Prüfung transparenter und/oder einseitig optisch undurchsichtig beschichteter Objekte auf Materialfehler
JPH11337323A (ja) * 1998-05-25 1999-12-10 Sumitomo Metal Ind Ltd 表面検査方法
JP3673649B2 (ja) * 1998-08-27 2005-07-20 Hoya株式会社 透光性物質の不均一性検査方法及びその検査装置
US6160625A (en) * 1998-11-25 2000-12-12 Eastman Kodak Company Laser scanner projection system for viewing features on substrates and on coated substrates
AU3277000A (en) * 1999-02-09 2000-08-29 Acordis Industrial Fibers Gmbh Process for determining the dye uptake of polyethylene terephthalate fibres
JP2001305072A (ja) * 2000-04-25 2001-10-31 Advantest Corp 基板の欠陥検出方法及び装置
US6819427B1 (en) * 2001-10-10 2004-11-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus of monitoring and optimizing the development of a photoresist material

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4297032A (en) 1980-02-14 1981-10-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Dark field surface inspection illumination technique
US4401893A (en) 1981-07-29 1983-08-30 Intec Corporation Method and apparatus for optically inspecting a moving web of glass
JPS60262036A (ja) 1984-06-08 1985-12-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学一軸結晶体の光学欠陥検出装置
JPH10339705A (ja) 1997-06-09 1998-12-22 Asahi Glass Co Ltd 板状透明体の欠陥検査方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030088342A (ko) 2003-11-19
CN100350236C (zh) 2007-11-21
TW200400350A (en) 2004-01-01
CN1504743A (zh) 2004-06-16
US20030218743A1 (en) 2003-11-27
JP2003329602A (ja) 2003-11-19
DE10221945C1 (de) 2003-07-31
US6927848B2 (en) 2005-08-09
SG105576A1 (en) 2004-08-27
TWI277733B (en) 2007-04-01
JP4216639B2 (ja) 2009-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101039686B1 (ko) 연속적으로 제조되어 이동하는 대상투명판의 결점들을검출하기 위한 방법과 장치
US3652863A (en) Detection of faults in transparent material using lasers
KR101136804B1 (ko) 투명 소재에서 결함을 탐지하기 위한 방법 및 장치
US4021217A (en) Detecting optical fiber defects
US5355213A (en) Inspection system for detecting surface flaws
US7511807B2 (en) Method and apparatus for detection of inclusion in glass
JP5408915B2 (ja) エッジセンサおよび欠陥検査装置
US4401893A (en) Method and apparatus for optically inspecting a moving web of glass
CZ101195A3 (en) Process and apparatus for investigating transparent material
JP3036733B2 (ja) 透明体の欠陥検出装置
JP7063839B2 (ja) 検査方法、及び検査システム
CA2384005A1 (en) Detection of inclusions in glass
CN113030124A (zh) 亚表面的成像装置
CN113008796A (zh) 亚表面缺陷的检测装置
JPH09318559A (ja) 透明ガラス容器の外観検査方法及び装置
JPH041507A (ja) 被験体の厚さ及び表面歪み測定方法並びに混入異物検出方法
JP2000314707A (ja) 表面検査装置および方法
JP2003028808A (ja) 表面検査方法および表面検査装置
JP3745218B2 (ja) 磁気記録媒体の検査方法及び装置
JP2009210476A (ja) クラック検査装置およびクラック検査方法
SU1296837A1 (ru) Устройство дл контрол геометрических размеров и дефектов образцов с рассеивающими поверхност ми
JPH0894540A (ja) 表面検査装置
JPH03152447A (ja) 傷検査装置
KR100226904B1 (ko) 레이저를 이용한 냉연강판의 표면홈 검출방법및그장치
KR19980065419U (ko) 투과형 물체 내부의 불균일 검사장치

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
E902 Notification of reason for refusal
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140522

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150521

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160519

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170518

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee