KR101036975B1 - 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형메모리 소자 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 변화형 메모리 소자에 관한 것으로, 본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 스위칭 윈도우 (switching window)를 조절하여 소자의 동작신뢰성을 확보할 수 있다. 본 발명에 의하면 각종 저항 변화형 메모리 소자에 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부만을 추가하여 구현할 수 있기 때문에 소자의 제작이 용이하며, 전류 및 전압 구동형 저항 소자에 모두 적용할 수 있는 이점을 수득할 수 있다.
저항 변화형 메모리 소자, 유기 메모리, OxRAM, 상변화 메모리 (PRAM), 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부
Description
도 1은 종래 기술에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 스위칭 윈도우를 설명하기 위한 그래프,
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 단면 개략도,
도 3a-3c는 본 발명의 다른 실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 단면 개략도,
도 4는 종래의 저항 변화형 메모리 소자와 본 발명의 저항 변화형 메모리 소자의 전류-전압 (I-V) 특성을 비교하여 나타낸 그래프,
도 5는 본 발명의 일실시예에 의한 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자의 등가회로도,
도 6은 본 발명의 일실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항의 변화에 따른 스위칭 전압의 변화를 나타낸 그래프,
도 7은 본 발명의 일실시예에 의해 저항 변화형 메모리 소자의 저항부의 저항 변화에 따른 구동 전압의 변화를 도시한 그래프이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 의해 저항 변화형 메모리 소자의 스위칭 재현성을 보여주는 그래프,
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 일실시예에 의해 저항 변화형 메모리 소자의 WORM 타입 특성을 보여주는 그래프이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10: 하부 전극 20: 저항 메모리층
30: 상부 전극 40: 전원공급부
50, 51, 52 : 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부
60: 금속층
본 발명은 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 추가로 포함하여 충분한 스위칭 윈도우를 확보할 수 있고 이로 인해 우수한 동작신뢰성을 시현할 수 있는 저항 변화형 메모리 소자에 관한 것이다.
많은 전자 메모리는 소자에 전압을 인가할 경우 고저항 상태와 저저항 상태 사이에서 스위칭 될 수 있는 쌍안정성 요소(bistable element)를 포함한다. 저항 변 화형 메모리 소자(resistive memory devices)(본원에서 저항 변화형 메모리 소자라는 용어는 저항 메모리 소자와 혼용하여 사용한다)는 용량형 메모리 소자 (capacitative memory devices)에 대응되는 개념으로 인가 전압에 따라 저항이 달라지고, 저항의 변화에 대응하여 데이타를 저장하는 메모리를 의미한다.
칼코겐 물질 (chalcogenide materials), 반도체, 다양한 종류의 산화물 및 질화물들이 저항 메모리 특성을 갖는 것으로 알려져 있고, 심지어 유기 재료 (organic materials)도 저항 메모리 특성 (resistive memory properties)을 갖는 것으로 밝혀졌다. 이러한 저항 변화형 메모리 소자는 높은 구동 전압 및 전류, 낮은 내구성 및 낮은 박막 취급 특성 등의 단점을 가지나, 최근 재료 공학의 비약적인 발전으로 이러한 문제점들이 극복되면서 비휘발성, 저전력, 고밀도 및 다중 비트 동작 메모리(multi-bit operating memory)로서 주목을 받고 있다. 이러한 저항 변화형 메모리 소자의 예들은 상변화 메모리(Phase Change RAM), 유기 메모리 (organic memory), 금속 산화물 저항 메모리 (Oxide Resistive RAM) 등이 있다.
일례로 유기 메모리를 예로 들어 설명하면, 유기 메모리의 메모리 매트릭스는 상부 전극과 하부 전극 사이에 유기 메모리층이 샌드위치되고, 상부 전극과 하부 전극이 교차하는 지점에 형성되는 셀이 쌍안정성 특성을 제공한다.
저항 변화형 메모리 소자에서 전형적인 메모리 셀은 2 가지의 상태들 즉, 저저항 세트(set) 상태와 고저항 리셋 (reset) 상태를 가지며, 저저항 상태일 경우를 데이타 "1"이라 하고, 고저항 상태일 경우를 데이타 "0"이라 하면 데이타의 두 가지 로직 상태를 저장할 수 있다. 이러한 두 가지 상태들은 전압이나 전류의 인가에 의해 스위칭 될 수 있는데, 이때 사용되는 전압이나 전류의 차이를 스위칭 윈도우(switching window)라 한다.
현재 금속 산화물 저항 메모리이나 유기 메모리의 경우 스위칭 윈도우 확보가 어렵다. 특히 유기 메모리의 경우 동작 전압의 산포가 커서 문제가 더욱 심각하다. 도 1은 유기 메모리에 전압을 인가하여 스윕하면서 세트-리셋되는 전압만 측정하여 그래프로 나타낸 것이다. 도 1을 참고하면 동작 전압의 산포가 커서 스위칭 윈도우의 확보가 어려운 것을 확인할 수 있다.
저항 변화형 메모리 소자에서는 세트 상태를 유도하는 전압(전류)과 리셋 상태를 유도하는 전압(전류) 사이에 차이가 충분히 확보되어야 소자의 동작 신뢰성을 확보할 수 있다. 그러나 기존의 저항 변화형 메모리 소자들은 이러한 스위칭 윈도우의 확보가 어려워 소자의 동작 신뢰성을 저하시키는 문제점을 가진다.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 메모리 소자에 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 연결함으로써 스위치 구동 전압 및 전류를 조절할 수 있는 저항 변화형 메모리 소자를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 WORM(Write Once Read Memory) 타입 메모리로도 사용가능하고 동작신뢰성이 우수한 저항 변화형 메모리 소자를 제공하는 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 메모리 소자에 연결된 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 변화형 메모리 소자에 관계한다.
본 발명에서 상기 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부는 메모리 소자의 외부에 연결되거나 메모리 소자의 내부에 형성될 수 있다.
이하에서 첨부 도면을 참고하여 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에서 "스위칭 윈도우를 조정하는 저항부"란 저항변화형 메모리 소자에 연결되어 전압을 분배하기 위한 수단을 의미한다. 본 발명에서 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 구성은 특별히 제한되지 않고 종래의 세라믹 저항과 같은 형태이거나, 메모리 소자 내부에 하나의 층으로 형성될 수도 있다.
본 발명의 저항 변화형 메모리 소자는 저항의 변화에 대응하여 데이타를 저장하는 저항 변화형 메모리 소자와 상기 메모리 소자에 연결된 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 하부 전극과 상부 전극 사이에 저항 메모리층이 형성된 구조를 가지며, 메모리 소자에 적당한 전압을 인가할 경우 저항 메모리층이 고저항 상태 (high resistance)와 저저항 (low resistance) 상태 사이를 스위칭 한다.
본 발명에서 메모리 소자에 연결되는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부는 메모리 소자 내부에 장착되거나 메모리 소자의 외부에 연결될 수 있다. 각각의 경우에 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부는 다양한 형태로 구현될 수 있다.
도 2는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부가 메모리 소자의 외부에 연결된 예를 도시한 것이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 하부 전극(10)과 상부 전극 (30) 사이에 저항 메모리층(20)이 샌드위치 되어 있고, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부(50)가 전원공급부(40)와 메모리 소자 사이에 직렬로 연결될 수 있다. 전원공급부(40)는 상하부 전극(10, 30)을 통해서 저항 메모리층(20)에 바이어스된 전압을 인가하여 저항 메모리층(20)을 저저항 상태 (세트 상태)에서 고저항 상태 (리셋 상태)로 또는 그 반대로 스위칭한다.
도 3a는 본 발명의 다른 실시예에 의해 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부가 메모리 소자의 내부에 형성된 예를 도시한 것이다. 도 3a를 참고하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 상부 전극(30)과 하부 전극(10) 사이에 저항 메모리층 (resistive memory cell)(20)이 샌드위치 되는 구조로서, 특히 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부 (51)가 하부 전극(10) 위에 하나의 층으로 형성될 수 있다.
본 발명에서 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 구성은 도 2 및 도 3a에 도시한 구성 이외의 다양한 형태로 구현이 가능하다. 일례로 금속 배선 (wire)이 가지는 저항을 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부로 이용할 수도 있다. 이 때, 저항부로 사용되는 금속 배선의 종류, 길이, 두께나 형태를 조절하여 스위칭 윈도우를 조절할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 일례를 도 3b 및 3c에 도시하였다. 도 3b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부(52) 위에 금속층(60)을 추가로 포함할 수 있다. 이러한 금속층의 재료로는 알루미늄, 구리, 금, 은, 티타늄, 백금, 텅스텐, 인듐틴옥사이드 등이 사용될 수 있으나, 반드시 이들 재료로 한정되는 것은 아니다. 금속층(60)은 예를 들어 1 내지 100 nm의 두께로 진공증착법을 이용하여 형성할 수 있다. 대안으로 도 3c에 도시된 바와 같이, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부(52)는 가는 금속 와이어 형태로 구성될 수도 있다.
본 발명에서 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부 (51 및 52)는 유기 반도체 재료 또는 무기 반도체 재료로 구성된다. 본 발명에서 상기 무기 반도체 재료는 실리콘(Si), 게르마늄 (Ge), 탄소 (C) 등의 진성 반도체, 외인성 반도체, 화합물 반도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 재료이다.
외인성 반도체는 진성 반도체에 적당한 도펀트를 첨가한 것으로 대표적인 도펀트로는 3족의 B, Al, Ga, In 원소의 V족의 P, As, Sb를 포함한다.
화합물 반도체의 예는 원소 주기율표 III-V족의 비소화갈륨 (GaAs), 인화갈륨 (GaP), II-VI족의 황화카드뮴 (CdS), 텔루르화아연 (ZnTe), IV-VI족의 황화납 (PbS), IV-IV족의 탄화규소 (SiC), 또는 InGaAs, CuGaSe₂등의 3원 화합물 반도체를 포함한다.
상기 유기 반도체 재료의 예들은 2-아미노-4,5-이미다졸디카르보니트릴 AIDCN), 트리스-8-(히드록시위퀴놀린)알루미늄 (Alq), 7,7,8,8-테트라시아노퀴노디메탄 (TCNQ), 3-아미노-5-히드록시피라졸 (AHP), 폴리아닐린 등을 포함한다. 기타 전도성 폴리머, 전도성 부분(conducting moiety)에 의해 도핑된 절연 폴리머 (insulating polymer)도 사용할 수 있다.
본 발명에서 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 재료가 될 수 있는 전도성 폴리머의 예들은 폴리아세틸렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜 등과 폴리디페닐아세틸렌, 폴리(t-부틸)디페닐아세틸렌, 폴리(트리플루오로메틸)디페닐아세틸렌, 폴리(비스트리플루오로메틸)아세틸렌, 폴리비스(t-부틸디페닐)아세틸렌, 폴리(트리메틸실릴) 디페닐아세틸렌, 폴리(카르바졸)디페닐아세틸렌, 폴리디아세틸렌, 폴리페닐아세틸렌, 폴리피리딘아세틸렌, 폴리메톡시페닐아세틸렌, 폴리메틸페닐아세틸렌, 폴리(t-부틸)페닐아세틸렌, 폴리니트로페닐아세틸렌, 폴리(트리플루오로메틸)페닐아세틸렌, 폴리(트리메틸실릴)페닐아세틸렌 및 이들의 유도체를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다.
바람직한 경우에 절연 폴리머가 전도성 부분(conducting moiety)에 의해 도핑된 재료를 사용할 수도 있다. 사용가능한 절연 폴리머로는 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA), 폴리스티렌(PS), 폴리카보네이트 (PC), 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리아세탈, 폴리실리콘 및 폴리설포네이트를 포함한다. 도펀트의 예는 카르바졸, 테레프탈산 (TPA), 1-디페닐-4,4-디아민(TPD) 등을 포함한다.
본 발명에서 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부 (51 및 52)가 저항 변화형 메모리 소자의 내부에 장착되는 경우에는, 스핀 코팅, 잉크젯 프린팅, 롤코팅(roll-to-roll coating), 열증착법 등의 본 발명이 속하는 기술 분야에 잘 알려진 임의의 박막 (thin films) 형성 방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에서 상부 전극(10) 및 하부 전극(30)은 금속, 금속 합금, 금속 질화물 (metal nitrides), 산화물, 황화물, 탄소 및 전도성 폴리머, 유기 도전체(organic conductor)로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 전기 전도성 재료를 포함한다. 구체적인 전극 재료는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 인듐틴옥사이드(ITO)를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다.
본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 유기 메모리, 금속 산화물 저항 메모리 (Oxide Resistive RAM), 또는 상변화 메모리 (PRAM)와 같이 인가 전압에 따라 저항이 달라지는 저항 변화형 메모리 소자이다.
본 발명의 메모리 소자에서 저항 메모리층(20)은 메모리 소자의 타입에 따라 다른 구성을 가질 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 저항 변화형 메모리 소자가 유기 메모리인 경우에는 저항 메모리층(20)은 공액 고분자 (conjugated polymer), 이방성 전기 전도성 물질 (anisotropic conductive material), 유기 반도체, 분자내 전하이동 착체를 포함하는 고분자(polymer containing intramolecular charge-transfer complex)로 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 재료로 제작될 수 있다.
한편, 본 발명의 메모리가 상변화 메모리인 경우에는 저항 메모리층(20)은 게르마늄-안티몬-텔루르(Ge-Sb-Te), 비소-안티몬-텔루르(As-Sb-Te), 주석-안티몬-텔루르(Sn-Sb-Te), 주석-인듐-안티몬-텔루르(Sn-In-Sb-Te), 비소-게르마늄-안티몬-텔루르(As-Ge-Sb-Te), 니오브-안티몬-텔루르(Nb-Sb-Te), 텅스텐-안티몬-텔루르(W-Sb- Te) 등과 같은 칼코겐 화합물로 구성될 수 있다.
다음으로 본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자의 동작에 관해서 설명한다. 종래의 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하지 않는 저항 변화형 메모리 소자(Vext = 0) 및 본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자(Vext = 100Ω)의 전류-전압 특성 곡선(I-V curve)을 도 4에 함께 나타내었다.
도 4를 참고하면, 저항 변화형 메모리 소자는 저항이 낮은 세트(set) 상태와 저항이 높은 리셋 (reset) 상태를 가진다. 고저항 상태는 로직 0에 해당하고 저저항 상태는 로직 1에 해당한다. 두 가지 저항이 다른 상태는 전압이나 전류를 인가하지 않아도 각각의 상태를 장시간 유지할 수 있고, 그 상태를 매우 낮은 전압을 인가하여 흐르는 전류를 검출하면 그 상태를 판독할 수 있으므로 본 발명의 소자는 메모리 소자로 이용할 수 있다.
도 5는 도 2에 도시한 바와 같은 본 발명에 의한 메모리 소자의 등가회로를 도시한 것이다. 예를 들어, 저항 변화형 메모리 소자(Rswitch)에 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부 (Rext)를 직렬로 연결한 회로를 가정해서 설명한다. 저항 변화형 메모리 소자이므로 Rswitch로 표기하였다. 수학식 1로 표현되는 바와 같이, 두 저항부 (Rswitch와 Rext)의 저항비에 따라 회로 전체에 총 인가된 전압의 분할된 전압이 메모리 소자에 인가되므로 메모리 소자의 구동 전압 및 전류를 임의로 조절할 수 있다.
예를 들어, 도 5에 개략적으로 도시한 바와 같이, 세트 상태의 저항 (Rset)은 100Ω이고, 리셋 상태의 저항 (Rreset)은 100 ㏀이며, 리셋 상태에서 세트 상태로 스위칭 하기 위한 임계 전압 (Vth (Reset → set))이 1V이고, 세트 상태에서 리셋 상태로 스위칭하기 위한 임계 전압 (Vth (set →reset))이 2V가 된다고 가정하고 설명한다.
100Ω의 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 연결할 경우, 리셋 상태에서 세트 상태로의 스위칭은 예를 들어 1V의 전압을 인가하면 Rreset (100 ㏀)이 Rext (100Ω)에 비해 훨씬 크기 때문에 외부 전압이 대부분 메모리 셀에 인가되는 반면에, 세트 상태에서 리셋 상태로 스위칭하기 위해서는 셀에 2V의 전압이 필요한데, Rset (100Ω)과 Rext (100Ω)이 같기 때문에 인가 전압이 1/2로 나누어 인가되어서 전체로는 4V의 전압을 인가하여야 한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 세트 상태에서 리셋 상태로의 스위칭 전압이 외부저항(스위칭 윈도우를 조정하는 조정부의 저항)의 크기에 따라 선형으로 증가한다. 반면에 리셋 (reset)상태에서는 Vswitch이 Vtotal과 거의 일치하게 되어 고저항 상태 에서 저저항 상태로 스위칭시 구동전압이 외부 저항의 크기에 상관없이 거의 일정하게 된다. 이와 같이 외부 저항의 크기가 증가함에 따라 세트 동작 전압은 변화가 없는 반면에, 리셋 동작 전압의 크기가 증가하여 스위칭 윈도우가 증가한다 (도 4 및 도 6 참조).
한편, 본 발명의 메모리 소자는 WORM (Write Once Read Memory) 타입 메모리로도 사용할 수 있다. 메모리 소자의 외부 저항의 크기를 상당히 증가시켜 높은 상태 정도의 값을 갖도록 하면 낮은 저항 상태로 스위칭 된 후 다시 높은 저항 상태로 스위칭하기 위해서 필요한 전압이 크게 상승하여 스위칭이 불가능하게 되므로 WORM 타입 메모리로도 사용할 수 있다. 즉, 본 발명에 의한 메모리 소자는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항이 낮은 경우에는 비휘발성 메모리로 사용가능하고, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항의 크기가 큰 경우에는 WORM 타입 메모리 소자로 사용할 수 있다.
본 발명의 원리는 메모리 소자뿐만 아니라 각종 스위칭 소자에도 적용될 수 있다.
이하에서 실시예를 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명하나, 이들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명의 보호범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
실시예
1. 테스트 메모리 소자의 제조
하부 전극으로서 알루미늄을 열증발법(thermal evaporation)에 의해 증착시킨 다음 여기에 P3HT(poly-3-hexylthiophene)를 녹인 용액을 스핀 코팅하고 나서 65℃에서 10분간 베이킹하여 유기메모리층을 형성하였다. 여기에 상부 전극으로 Au 전극을 열증발법에 의해 증착하여 본 발명에 의한 테스트 소자를 제조하였다. 이 때 유기메모리층의 두께는 50㎚, 전극의 두께는 80 nm이고 각각 알파-스텝 프로필로미터 (Alpha-Step profilometer)에 의해 측정하였다. 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부로는 세라믹 저항을 소자의 외부에 직렬로 연결하였다. 증착되는 전극의 두께는 석영 결정 모니터(quartz crystal monitor)를 통하여 조절하였다.
2. 테스트 소자의 스위칭 윈도우 측정
상기 테스트 소자를 본 발명의 방법에 의해 구동하는 경우의 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항의 크기에 따른 구동 전압을 측정하여 도 7에 도시하였다. 도 7을 참고하면, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항이 30Ω인 경우에는 스위칭 윈도우가 제로가 되었으나, 60Ω이 되면 약 0.8V로 윈도우가 증가하고, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항의 크기가 90Ω이 되면 윈도우가 1.6V로 증가되었다. 따라서 본 발명의 저항 변화형 메모리 소자에서는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부의 저항이 증가함에 따라 세트 동작 전압(●)은 변화가 없는 반면에 리셋 동작 전압(▲)의 크기가 증가하여 스위칭 윈도우가 커짐을 확인할 수 있다.
3. 테스트 소자의 스위칭 재현성 평가
테스트 메모리 소자에 50Ω의 외부 저항을 직렬로 연결하여 메모리 윈도우(memory window)를 확보한 후, 상기 테스트소자에 펄스 전압으로 스위칭 사이클(switching cycle)을 측정하고 그 결과를 도 8에 나타내었다. 각각의 싸이클에서 +7V, -1.5V, -0.5V, -6V, -0.5V의 펄스 전압을 차례로 인가하였는데, +7V, -1.5V 전압은 세트 스위칭 전압이고, -0.5V는 독출(reading)을 위한 전압이며, 6V는 소거용 전압(reset switching)이다. 200회 이상의 싸이클을 실시한 결과 본 발명의 메모리 소자는 90% 이상의 높은 재현성을 시현하였다.
4. WORM 타입 특성 평가
본 발명의 저항 변화형 메모리 소자가 WORM 타입 메모리 소자로 사용될 수 있는지 확인하기 위하여, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부로서 5 ㏀의 세라믹 저항을 직렬로 연결한 테스트 소자를 제작하고, 3V에서 세트 스위칭(set switching)한 후, 15 V 전압을 가하여 리셋 스위칭 되는지의 여부를 관찰하였다. 도 9a 및 도 9b에 전류-전압 특성을 그래프로 나타내었다. 도 9a에 도시된 바와 같이, 3V에서 세트 스위칭되었으나 ±15 V 전압에도 리셋 스위칭이 되지 않는 것을 확인하였다(도 9b 참조).
이상에서 바람직한 구현예를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 본 발명의 보호범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있으므로, 이러한 다양한 변형예도 본 발명의 보호 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
본 발명에 의한 저항 변화형 메모리 소자는 세트 상태를 유도하는 전압 (또는 전류)과 리셋 상태를 유도하는 전압(또는 전류) 사이의 차이(스위칭 윈도우)가 충분하게 확보되어 소자의 동작 신뢰성이 우수하다.
또한 본 발명의 원리는 기존의 또는 장래에 개발될 저항 변화형 메모리 소자에 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부만을 추가하여 구현할 수 있기 때문에 소자의 제작이 용이하며, 전류 및 전압 구동형 저항 소자에 모두 적용될 수 있는 이점을 가진다.
Claims (11)
- 저항 변화형 메모리 소자에 있어서, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서, 상기 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부가 메모리 소자 외부에 직렬로 연결된 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서, 상기 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부가 메모리 소자 내부에 장착된 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 3항에 있어서, 상기 메모리 소자가 하부 전극, 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부, 저항 메모리층(resistive memory part) 및 상부 전극이 차례로 형성된 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 4항에 있어서, 상기 메모리 소자가 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부와 저항 메모리층 사이에 금속층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우 를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 2항에 있어서, 상기 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부가 금속 배선인 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서, 상기 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부는 유기 반도체 재료 또는 무기 반도체 재료로 구성되는 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 7항에 있어서, 상기 유기 반도체 재료가 전도성 폴리머 또는 전도성 부분(conducting moiety)에 의해 도핑된 절연 폴리머임을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 7항에 있어서, 상기 무기 반도체 재료가 진성 반도체, 외인성 반도체, 화합물 반도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서, 상기 저항 변화형 메모리 소자가 유기 메모리, 금속 산화물 저항 메모리, 또는 상변화 메모리 (PRAM)인 것을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서, 상기 메모리 소자가 WORM 타입 메모리 소자임을 특징으로 하는 스위칭 윈도우를 조정하는 저항부를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자.
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