KR101028038B1 - Film coating device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 자외선 노광용 마스크 필름 또는 기판(Board)의 자외선 노광용 아크워크(artwork) 필름의 코팅장치에 관한 것이다.The present invention relates to a coating apparatus for an ultraviolet work exposure film of a mask film or a board (Board) of ultraviolet light exposure.
주로 자외선 감광막이 도포된 플렉시블한 기판(Board)의 자외선 노광과정에서 사용되는 마스크 필름 또는 아트워크 필름의 UV 코팅 용도로 사용될 것이다. It will be mainly used for the UV coating of the mask film or artwork film used in the ultraviolet exposure process of the flexible board (Board) to which the ultraviolet photosensitive film is applied.
최근에 전자제품의 경량화, 박엽화 및 단소화(短小化)와 고(高)기능화에 따라 프린트 배선기판은 더욱 더 고(高)정밀도, 고(高)밀도화 되어지고 있으며, 이 때문에 포토레지스트 등의 감광재료를 코팅한 기판의 표면에 소정의 패턴을 노광장치에 의해 감광, 인화(印畵)한 후, 에칭공정에 의해서 기판 위에 패턴을 형성케 하는 포토리소그래피법이 프린트 배선기판 제조에 이용되고 있다.
Recently, due to the light weight, thinning, shortening, and high functionality of electronic products, printed wiring boards are becoming more and more highly precise and high density. A photolithography method is used for manufacturing a printed wiring board, in which a predetermined pattern is photographed and printed on a surface of a substrate coated with a photosensitive material such as a photoresist, and a pattern is formed on the substrate by an etching process. It is becoming.
일반적으로 사용되고 있는 포토마스크 필름과 프린트 배선 기판을 밀착시켜 노광을 하게 되는 밀착방식으로 고정밀도, 고밀도의 프린트 배선 기판을 제조하는 경우, 포토마스크 필름과 배선 기판의 밀착에 의해 노광시마다 포토마스크 필름의 손상이 발생하여 배선 기판에 배선이나 솔더레지스트 등의 패턴이 정밀하게 형성되지 않는 문제점이 있었다.When manufacturing a high-precision, high-density printed wiring board in a close contact method in which a photomask film and a printed wiring board which are generally used are exposed to each other, the photomask film may be used at every exposure by the close contact between the photomask film and the wiring board. Damage occurred and there was a problem that patterns such as wiring or solder resist were not formed precisely on the wiring board.
본 발명에 따르는 경우, 노광용 마스크 필름이 손상되지 않도록 코팅액을 도포함에 있어서 필름 전면에 균일한 량의 보호 코팅액을 도포함으로써 보호 코팅층의 두께를 균일하여 보다 정밀한 반도체 제조를 가능하게 하는 반도체 제조용 필름 코팅장치가 제공된다.According to the present invention, in applying the coating liquid so that the mask film for exposure is not damaged, the film coating apparatus for semiconductor manufacturing which makes the semiconductor coating more precise by applying a uniform amount of the protective coating liquid to the entire surface of the film to enable more precise semiconductor production. Is provided.
본 발명은 필름 코팅장치에 있어서, 필름의 타면과 접면되는 메인롤러(10)와;The present invention provides a film coating apparatus comprising: a main roller (10) which is in contact with the other surface of a film;
회전수단(90)에 의해 회전되며 상기 메인롤러(10)와 평행하게 인접하여 구비되고 필름의 일면과 접면되는 도포용 롤러(20)와;A
상기 메인롤러(10)의 반대편에 상기 도포용 롤러(20)와 평행하게 인접하여 이격되어 구비되고, 코팅액 리져버(39)에 하부가 잠긴상태에서 코팅액을 표면에 묻힌 후 상기 도포용 롤러(20)의 표면에 바르는 코팅액 공급롤러(30)와;On the opposite side of the
필름을 상기 메인롤러(10)와 롤러(20) 사이의 틈으로 안내하는 필름 가이드부(40)와;A film guide part (40) for guiding the film into the gap between the main roller (10) and the roller (20);
상기 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이를 통과하면서 코팅액이 도포되는 필름을 가열 경화시키는 경화수단부(50)와;A hardening means
필름이 경화수단부(40)를 통과하게 이송시키는 컨베이어(60);로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 필름 코팅장치에 관한 것이다.It relates to a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor, characterized in that consisting of;
본 발명은 노광용 마스크 필름이 손상되지 않도록 코팅액을 도포함에 있어서 필름 전면에 균일한 량의 보호 코팅액을 도포함으로써 보호 코팅층의 두께를 균일하여 보다 정밀한 반도체 제조를 가능하게 하는 반도체 제조용 필름 코팅장치를 제공하기 위함이다.The present invention is to provide a film coating apparatus for semiconductor manufacturing that makes the semiconductor coating more precise by applying a uniform amount of protective coating liquid to the entire surface of the film in applying the coating liquid so that the exposure mask film is not damaged. For sake.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 측면 구성도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 측면 주요부 확대도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 평면도.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 정면도.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 중 도포용 롤러 정면도.1 is a side view of the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is an enlarged view of the main portion of the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view of a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a front view of the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a front view of the coating roller of the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention.
이하에서 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 측면 구성도, 도 2(a, b)는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 측면 주요부 확대도, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 평면도, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 정면도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치 중 도포용 롤러 정면도이다.
Hereinafter, a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a side configuration of the film coating apparatus for semiconductor manufacturing according to an embodiment of the present invention, Figure 2 (a, b) is an enlarged view of the main part of the film coating apparatus for semiconductor manufacturing according to an embodiment of the present invention, Figure 3 4 is a plan view of a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a front view of a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention. It is a front view of a coating roller.
본 발명은 자외선 감광막이 도포된 플렉시블한 기판(Board)의 자외선 노광과정에서 사용되는 마스크 필름 또는 아트워크 필름의 UV 코팅 용도로 사용될 수 있다.
The present invention can be used for the UV coating of the mask film or artwork film used in the ultraviolet exposure process of the flexible substrate (Board) to which the ultraviolet photosensitive film is applied.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치는, 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20)와 코팅액 공급롤러(30)와 필름 가이드부(40)와 경화수단부(50)와 컨베이어(60)로 구성된다.
1 to 4, the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, the
도시된 바와 같이, 메인롤러(10)는 필름의 타면과 접면된다. 도포용 롤러(20)는 메인롤러(10)와 평행하게 인접하여 구비되고 필름의 일면과 접면된다. 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20)는 몸체부에 베어링으로 지지된다. 메인롤러(10)를 회전시키는 회전수단(90)이 더 구비된다. 회전수단(90)은, 몸체부에 고정된 구동기어(91)와, 메인롤러축(11)에 고정된 피동기어(93)와, 상기 구동기어(91)와 메인롤러축(11)에 고정된 피동기어(93)를 연결하는 벨트(92, 또는 체인)로 구성된다.
As shown, the
도시된 바와 같이, 코팅액 공급롤러(30)는 메인롤러(10)의 반대편에 도포용 롤러(20)와 평행하게 인접하여 이격되어 구비되고, 코팅액 리져버(39)에 하부가 잠긴상태에서 코팅액을 표면에 묻힌 후 상기 도포용 롤러(20)의 표면에 바른다. 도 2에 도시된 바와 같이, 코팅액 리져버(39)의 상부는 코팅액을 보충할 수 있게 개방되고 개방된 상부로 코팅액 공급롤러(30)의 하부가 위치하게 된다.As shown, the coating
도포용 롤러(20)와 코팅액 공급롤러(30)는 30 ~ 300μm 간격으로 유지될 수 있다. 간격이 너무 적은 경우 고정밀도의 위치 제어가 요구될 수 있으며 실패하는 경우 장비의 손상으로 가져올 수 있다. 간격이 300μm를 넘어가는 경우 간격이 너무 넓어 표면장력에 의해 코팅액 공급롤러(30)에 머금은 코팅액이 도포용 롤러(20)로 전달되는데 문제가 발생할 수 있다.
The
도 2(a, b)에 도시된 바와 같이, 필름 가이드부(40)는 필름을 메인롤러(10)와 롤러(20) 사이의 틈으로 안내한다. 바람직하게 필름 가이드부(40)는, 하부에 넓적한 판형상으로 형성되고 전방 상향으로 굽어진 곡면지지부(40a)를 구비하고, 상단(40b)은 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이의 틈 하부까지 연장된다.
As shown in Fig. 2 (a, b), the
경화수단부(50)는 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이를 통과하면서 코팅액이 도포되는 필름을 고온의 열로 가열 경화시키며 통과되는 필름의 상부에 우치한 가열수단(51)을 구비한다. 가열수단(51)은 통상의 자외선, 적외선 램프를 사용할 수 있다. 컨베이어(60)는 필름이 경화수단부(40)를 통과하게 이송시킨다. 컨베이어(60)는 당업계에 공지된 통상의 이송 시스템을 적용할 수 있으며 공지된 사항으로 상세한 설명은 생략한다.
The
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치에 있어서, 코팅액 공급롤러(30)의 표면에 코팅액 함침홈(35)이 나선형상으로 균일하게 형성되게 할 수 있다. 이렇게 하는 경우 코팅액 공급롤러(30)의 외부 표면에 코팅액 공급롤러(30)의 길이방향으로 균일하게 코팅액을 함침 시킬 수 있으며 또한, 코팅액이 균일하게 도포용 롤러(20)로 전달됨을 시제품 테스트 결과 알 수 있었다. 코팅액 함침홈(35)은 금속 침을 이용하여 나선형으로 생성된 스크래치(scrach)일 수 있다.
As shown in FIG. 5, in the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, the coating
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치는, 도포용 롤러(20) 또는 상기 코팅액 공급롤러(30) 중 하나의 상하 높이를 조절하는 수직방향 조절수단(70)을 더 포함하여 구성됨이 바람직하다. 수직방향 조절수단(70)은, 서보모터(71)와, 상기 서보모터(71)에 의해 승강되고 상단이 도포용 롤러축(21) 또는 코팅액 공급롤러축(31) 중 하나를 승강시키는 연결되는 제1 조절축(72)를 포함하여 구성될 수 있다. 도 2에서 제1 조절축(72)은 코팅액 공급롤러(30)를 승강시켜 도포용 롤러(20)와 코팅액 공급롤러(30) 사이의 갭(GAP)의 크기를 조절한다.
As shown in Figure 2, the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, the vertical direction adjusting means for adjusting the vertical height of one of the
도 2, 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조용 필름 코팅장치는, 메인롤러(10)를 전후진 시킴으로써 상기 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20)의 간격을 조절하는 수평방향 조절수단(80)을 더 포함하여 구성된다. 수평방향 조절수단(70)은 수평방향 구동부(81)와, 상기 수평방향 구동부(81)에 의해 승강되고 전단이 메인롤러축(11)을 전후진 시키는 제2 조절축(82)을 포함하여 구성될 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 조절축(82)은 몸체부에 형성된 가이드를 따라 전후진되는 이송블럭(B)에 힘을 가함으로써 메인롤러축(11)을 전후진시킬 수 있다.
As shown in Figure 2, 6, in the film coating apparatus for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention, the
필름을 작업자가 필름 가이드부(40)에 올려놓은 상태에서 필름을 상향으로 더 밀어 넣으면 회전하는 메인롤러(10)에 의해 필름이 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이를 통과하여 경화수단부(50)로 이송되고 이때 컨베이어(60)가 필름의 이동을 보조한다.
When the operator puts the film upward while the worker puts the film on the
본 발명은 상기에서 언급한 바람직한 실시예와 관련하여 설명됐지만, 본 발명의 범위가 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 이하의 특허청구범위에 의하여 정하여지는 것으로 본 발명과 균등 범위에 속하는 다양한 수정 및 변형을 포함할 것이다.Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, the scope of the present invention is not limited to these embodiments, and the scope of the present invention is defined by the following claims, and equivalent scope of the present invention. It will include various modifications and variations belonging to.
아래의 특허청구범위에 기재된 도면부호는 단순히 발명의 이해를 보조하기 위한 것으로 권리범위의 해석에 영향을 미치지 아니함을 밝히며 기재된 도면부호에 의해 권리범위가 좁게 해석되어서는 안될 것이다.The reference numerals set forth in the claims below are merely to aid the understanding of the present invention, not to affect the interpretation of the scope of the claims, and the scope of the claims should not be construed narrowly.
10 : 메인롤러 20 : 도포용 롤러
21 : 도포용 롤러축 30 : 코팅액 공급롤러
31 : 코팅액 공급롤러축 35 : 코팅액 함침홈
40 : 필름 가이드부 50 : 경화수단부
60 : 컨베이어 70 : 수직방향 조절수단
80 : 수평방향 조절수단 81 : 수평방향 구동부
82 : 제2 조절축10: main roller 20: coating roller
21: coating roller shaft 30: coating liquid supply roller
31: Coating liquid supply roller shaft 35: Coating liquid impregnation groove
40: film guide portion 50: curing means portion
60: conveyor 70: vertical direction adjusting means
80: horizontal direction control means 81: horizontal direction drive unit
82: second adjusting shaft
Claims (4)
회전수단(90)에 의해 회전되며 필름의 타면과 접면되는 메인롤러(10)와;
상기 메인롤러(10)와 평행하게 인접하여 구비되고 필름의 일면과 접면되는 도포용 롤러(20)와;
상기 메인롤러(10)의 반대편에 상기 도포용 롤러(20)와 평행하게 인접하여 이격되어 구비되고, 코팅액 리져버(39)에 하부가 잠긴상태에서 코팅액을 표면에 묻힌 후 상기 도포용 롤러(20)의 표면에 바르는 코팅액 공급롤러(30)와;
필름을 상기 메인롤러(10)와 롤러(20) 사이의 틈으로 안내하는 필름 가이드부(40)와;
상기 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이를 통과하면서 코팅액이 도포되는 필름을 가열 경화시키는 경화수단부(50)와;
필름이 경화수단부(40)를 통과하게 이송시키는 컨베이어(60);로 구성되고,
상기 코팅액 공급롤러(30)의 표면에 코팅액 함침홈(35)이 나선형상으로 균일하게 형성되고,
상기 도포용 롤러(20)와 코팅액 공급롤러(30)는 30 ~ 300μm 간격으로 유지되고,
상기 도포용 롤러(20) 또는 상기 코팅액 공급롤러(30) 중 하나의 상하 높이를 조절하는 수직방향 조절수단(70)을 더 포함하여 구성되고,
상기 수직방향 조절수단(70)은, 서보모터(71)와, 상기 서보모터(71)에 의해 승강되고 상단이 도포용 롤러축(21) 또는 코팅액 공급롤러축(31) 중 하나를 승강시키는 제1 조절축(72)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 필름 코팅장치.In the film coating apparatus,
A main roller 10 rotated by the rotating means 90 and in contact with the other surface of the film;
An application roller 20 provided adjacent to the main roller 10 in parallel and in contact with one surface of the film;
On the opposite side of the main roller 10 is provided spaced apart in parallel adjacent to the coating roller 20, the coating liquid 20 after the coating liquid is buried in the lower portion of the coating liquid reservoir 39, the coating roller 20 Coating liquid supply roller 30 to be applied to the surface of the);
A film guide part (40) for guiding the film into the gap between the main roller (10) and the roller (20);
A hardening means unit 50 for heating and curing the film to which the coating liquid is applied while passing between the main roller 10 and the application roller 20;
Conveyor 60 for conveying the film to pass through the curing means portion 40;
The coating solution impregnating groove 35 is uniformly formed in a spiral shape on the surface of the coating solution supply roller 30,
The coating roller 20 and the coating liquid supply roller 30 is maintained at 30 ~ 300μm intervals,
It further comprises a vertical direction adjusting means for adjusting the vertical height of one of the coating roller 20 or the coating liquid supply roller 30,
The vertical direction adjusting means 70 is made of a servo motor 71 and a lifting and lowering by the servo motor 71, the upper end of which raises or lowers one of the coating roller shaft 21 or the coating liquid supply roller shaft 31. A film coating apparatus for manufacturing a semiconductor, characterized in that it comprises a 1 control shaft (72).
회전수단(90)에 의해 회전되며 필름의 타면과 접면되는 메인롤러(10)와;
상기 메인롤러(10)와 평행하게 인접하여 구비되고 필름의 일면과 접면되는 도포용 롤러(20)와;
상기 메인롤러(10)의 반대편에 상기 도포용 롤러(20)와 평행하게 인접하여 이격되어 구비되고, 코팅액 리져버(39)에 하부가 잠긴상태에서 코팅액을 표면에 묻힌 후 상기 도포용 롤러(20)의 표면에 바르는 코팅액 공급롤러(30)와;
필름을 상기 메인롤러(10)와 롤러(20) 사이의 틈으로 안내하는 필름 가이드부(40)와;
상기 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20) 사이를 통과하면서 코팅액이 도포되는 필름을 가열 경화시키는 경화수단부(50)와;
필름이 경화수단부(40)를 통과하게 이송시키는 컨베이어(60);로 구성되고,
상기 코팅액 공급롤러(30)의 표면에 코팅액 함침홈(35)이 나선형상으로 균일하게 형성되고,
상기 메인롤러(10)를 전후진 시킴으로써 상기 메인롤러(10)와 도포용 롤러(20)의 간격을 조절하는 수평방향 조절수단(80)을 더 포함하여 구성되고,
상기 수평방향 조절수단(70)은 수평방향 구동부(81)와, 상기 수평방향 구동부(81)에 의해 승강되고 전단이 메인롤러축(11)을 전후진 시키는 제2 조절축(82)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 필름 코팅장치.In the film coating apparatus,
A main roller 10 rotated by the rotating means 90 and in contact with the other surface of the film;
An application roller 20 provided adjacent to the main roller 10 in parallel and in contact with one surface of the film;
On the opposite side of the main roller 10 is provided spaced apart in parallel adjacent to the coating roller 20, the coating liquid 20 after the coating liquid is buried in the lower portion of the coating liquid reservoir 39, the coating roller 20 Coating liquid supply roller 30 to be applied to the surface of the);
A film guide part (40) for guiding the film into the gap between the main roller (10) and the roller (20);
A hardening means unit 50 for heating and curing the film to which the coating liquid is applied while passing between the main roller 10 and the application roller 20;
Conveyor 60 for conveying the film to pass through the curing means portion 40;
The coating solution impregnating groove 35 is uniformly formed in a spiral shape on the surface of the coating solution supply roller 30,
It further comprises a horizontal direction adjusting means for adjusting the distance between the main roller 10 and the coating roller 20 by advancing the main roller 10 forward and backward,
The horizontal direction adjusting means 70 includes a horizontal driving part 81 and a second adjusting shaft 82 which is lifted by the horizontal driving part 81 and whose front end advances the main roller shaft 11. Film coating apparatus for manufacturing a semiconductor, characterized in that the configuration.
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