KR101004008B1

KR101004008B1 - 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법

Info

Publication number: KR101004008B1
Application number: KR1020080076599A
Authority: KR
Inventors: 김재호
Original assignee: 주식회사 해광
Priority date: 2008-08-05
Filing date: 2008-08-05
Publication date: 2010-12-31
Also published as: TW201007098A; JP2010037931A; KR20100016940A; CN101644476A; JP4500871B2

Abstract

본 발명은 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법에 관한 것으로, 이중마루 구조를 사용하지 않도록 콘크리트 바닥에 별도의 가공없이 콘크리트 타설로 인해 배기공을 형성하고, 그 배기공에 필요한 면적의 개구량을 가지는 원형의 알루미늄 패널을 설치함으로써 수직 층류형 클린룸 구조보다 진동과 지진하중에 대하여 견고하고 저렴한 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법을 제공함에 그 목적이 있다.

본 발명을 적용하면, 구조적으로 매우 안정적이며, 배기공이 형성되는 배기패널은 최적으로 분할된 보강리브의 배열로 인하여 집중하중에 대한 반력이 높고, 상면을 개공하여 클린룸 내부의 기류를 효과적으로 배출하도록 최대 55%의 개공면적을 형성하여 배기성이 매우 우수하다. 또한, 배기패널과 바닥 구조물과의 유격으로 인한 소음 진동을 완충링이 흡수하여 종래의 억세스플로어가 구성된 크린룸의 바닥 구조보다 보행 진동과 소음이 매우 작은 클린룸을 구성할 수 있고, 시공비용이나 장치 비용이 저렴하다는 장점이 있다.

클린룸, 클린룸 배기, 클린룸 청정공기.

Description

클린룸 배기 장치 및 그 시공방법{AIR EXHAUSTING APPARATUS FOR CLEAN-ROOM AND METHOD FOR ESTABLISHING A SYSTEM}

본 발명은 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 이중마루 구조를 사용하지 않도록 콘크리트 바닥에 별도의 가공없이 콘크리트 타설로 인해 배기공을 형성하고, 그 배기공에 필요한 면적의 개구량을 가지는 원형의 알루미늄 패널을 설치함으로써 수직 층류형 클린룸 구조보다 진동과 지진하중에 대하여 견고하고 저렴한 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법에 관한 것이다.

주지된 바와 같이, 반도체와 같은 고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실 등의 장소에는 그 공정에 필요한 환경을 조성하기 위해 수직 층류형 클린룸을 일반적으로 사용하고 있으며, 수직 층류형 클린룸은 클린룸의 콘크리트 바닥위에 억세스플로어와 그 구성품을 이용하여 콘크리트 바닥면으로부터 일정길이 상부에 억세스플로어가 구성되게 하는 구조로 이루어지며, 이중의 마루 구조로 이루어진 억세스플로어의 하단으로 실내 오염공기를 배기하게 되므로 해당 장소의 청정상태를 유지할 수 있게 구성되어져 있다.

그러나, 상기의 억세스플로어를 이용하는 이중마루 구조는 고가의 억세스 플 로어와 그 구성품으로 이루어지므로 장비 자체의 비용이 매우 크며, 억세스 플로어를 바닥면으로부터 이격시킨 상태에서 견실하게 고정하는 정밀한 시공과정이 필요하므로 막대한 시공비가 필요하다는 문제점이 있었다.

또한, 시공이 완료된 억세스플로어의 이중 마루장치은 방진구조로 시공하였다고 하여도, 실제로 내진 강도를 넘어서는 강도이상의 지진이 발생되면 한 번에 지지력이 취약해져서 억세스플로어가 붕괴될 수 있다는 문제점이 있었다. 또한, 막상 억세스플로어가 붕괴되는 상황이 발생되면 그 억세스플로어 상면에 배치된 고가의 반도체 관련 장비들이 파손되게 되므로 그 손실액은 이루 말할 수 없다는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기한 종래 기술의 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 이중마루 구조를 사용하지 않도록 콘크리트 바닥에 별도의 가공없이 콘크리트 타설로 인해 배기공을 형성하고, 그 배기공에 필요한 면적의 개구량을 가지는 원형의 알루미늄 패널을 설치함으로써 수직 층류형 클린룸 구조보다 진동과 지진하중에 대하여 견고하고 저렴한 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법을 제공함에 그 목적이 있다.

본 발명의 다른 목적은 패널상에 넓은 면적의 배기공을 형성하면서 높은 지지력을 가질 수 있도록 격자형상의 리브를 배열하고, 유격과 소음을 방지할 수 있도록 한 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법을 제공함에 있다.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실을 위한 클린룸의 배기장치에 있어서, 지면상에 설치된 배기파이프와 하단이 일정간격마다 연결되게 구성되며, 원통형상으로 이루어진 배기구 지지프레임(4)과; 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 내주연에 결합되는 링형상의 지지링(3)과; 상기 지지링(3)의 내부 바닥면에 부착되며, 링형상의 완충링(2)과; 상기 완충링(2)의 상면에 결합되며, 원형형상으로 이루어지고, 다수개의 배기공이 형성되어져 있으며, 지지력을 높이기 위한 리브가 그 배기공의 주위에 다수개 형성된 배기패널(1)로 구성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 지지링(3)은 그 측단면 형상이 ‘』’자 형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 지지링(3)은 콘크리트 바닥구조물(7)과의 사이에 실리콘으로 이루어진 실링부재(6)가 도포되어 고정되는 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치이 제공된다.

바람직하게, 상기 완충링(2)은 그 상면에 배기패널(1)의 하면 돌기가 결합될 수 있는 요홈이 형성되며, 재질이 합성수지 재질로 구성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 배기패널(1)은 가로 9개 및 세로 9개의 주보강 리브(1-b)로 분할 구성되며, 그 사이에 가로방향으로 5개의 보조 리브(1-c)가 형성되어져 있는 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 배기패널(1)은 +자형 리브(1-d)를 하중 지지의 중심으로 하중을 주변 주보강 리브(1-b)로 분산하게 형성되어져 있고, 분산된 하중과 전체의 주보강 리브(1-b)의 응력과 변형을 보강리브(1-f)를 원형으로 설치하여 흡수되게 형성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 배기패널(1)은 하중을 지지할 수 있도록 외곽리브(1-e)를 형성하고, 그 외곽리브(1-e)의 하중을 보조하기 위하여 외곽 테두리 보강 리브(1-g)가 설치된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

바람직하게, 상기 배기패널(1)은 전면적에서 동일한 시간과 압력으로 배기가 이루어지도록 외곽에 형성된 두개의 리브(1-e, 1-f)가 구성되며, 그 중간 지점에 유속을 조절하는 병목 구간(1-a)이 좌,우측에 형성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치가 제공된다.

한편, 본 발명은 고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실을 위한 클린룸의 배기장치의 시공 방법에 있어서, 배기파이프를 지면상에 설치하는 과정과; 상기 배기파이프와 하단이 연결되며 원통형상으로 구성된 배기구 지지프레임(4)을 일정간격으로 배치하는 과정과; 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단에 이르도록 콘크리트를 타설하여 배기구 지지프레임(4)이 매입된 콘크리트 바닥 구조물(7)을 형성하는 과정과; 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 내주연에 실링부재를 도포하여 링형상의 지지링(3)을 결합시키는 과정과; 상기 지지링(3)의 내부 바닥면에 링형상의 완충링(2)을 부착시키는 과정과; 상기 완충링(2)의 상면에 형성된 요홈에 배기패널(1) 하면의 돌기를 삽입하여 결합시키는 과정과; 상기 콘크리트 바닥 구조물(7)의 상면에 타일 또는 에폭시 도료를 도포하여 마감층(5)을 형성하는 과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치의 시공방법이 제공된다.

본 발명에 따른 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법은 구조적으로 매우 안정적이며, 배기공이 형성되는 배기패널은 최적으로 분할된 보강리브의 배열로 인하여 집중하중에 대한 반력이 높고, 상면을 개공하여 클린룸 내부의 기류를 효과적으로 배출 하도록 최대 55%의 개공면적을 형성하여 배기성이 매우 우수하다. 또한, 배기패널과 바닥 구조물과의 유격으로 인한 소음 진동을 완충링이 흡수하여 종래의 억세스플로어가 구성된 크린룸의 바닥 구조보다 보행 진동과 소음이 매우 작은 클린룸을 구성할 수 있고, 시공비용이나 장치 비용이 저렴하다는 장점이 있다.

이하, 본 발명에 대해 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치의 구성을 도시한 분해사시도, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치의 장착 상태를 도시한 측단면도, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 포함된 배기패널의 상면 및 하면 구조를 도시한 사시도, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 포함된 배기패널의 구조를 도시한 평면도, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 게재되는 완충링의 구조를 도시한 요부 절개 사시도이다.

이를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치는 이중마루 구조를 사용하지 않도록 콘크리트 바닥에 별도의 가공없이 콘크리트 타설로 인해 배기공을 형성하고, 그 배기공에 필요한 면적의 개구량을 가지는 원형의 알루미늄 패널을 설치함으로써 수직 층류형 클린룸 구조보다 진동과 지진하중에 대하여 견고하고 저렴한 클린룸 배기 장치이다.

또한, 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치는 패널상에 넓은 면적의 배기공을 형성하면서 높은 지지력을 가질 수 있도록 격자형상의 리브를 배열하고, 유격과 소음을 방지할 수 있도록 한 클린룸 배기 장치이다.

즉, 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치는 원형의 알루미늄 패널의 후면에 가로로 9개와 세로로 9개의 리브를 배치하여 정사각형의 격자구조를 구성하고 구성된 격자의 중앙에 보조리브를 배열하여 원형패널의 전체 면적에 대하여 최대 55%의 개공이 가능하면서 높은 지지력을 가지는 고강도의 원형 알루미늄 패널과 원형 알루미늄 패널과 ㄴ형 단면을 가지는 철재링 사이에 유격과 소음을 방지하는 플라스틱 링이 구비되어져 있다.

보다 상세하게, 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치는 반도체와 같은 고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실을 시공할 때, 배기파이프(미도시)를 지면상에 설치하고, 그 배기파이프와 하단이 연결되며 원통형상으로 구성된 배기구 지지프레임(4)을 일정간격으로 배치한다.

그리고, 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단에 이르도록 콘크리트를 타설한다. 그러면, 별도의 시공없이 상기 배기구 지지프레임(4)을 건축물의 바닥면에 구성할 수 있게 되고, 그로인해 콘크리트 바닥 구조물(7)이 형성된다.

그 상태에서, 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 내주연에 링형상의 지지링(3)을 결합시킨다. 상기 지지링(3)은 그 측단면 형상이 ‘』’자 형상으로 이루어져 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단에 원형의 배기패널(1)을 안착시키면 그 배기패널(1)의 상면과 상기 콘크리트 바닥 구조물(7)의 높이가 동일한 높이가 될 수 있다.

즉, 상기 지지링(3)은 상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 외측으로 일정길이 벗어난 상태로 구성되는 바, 지지링(3)은 그 외주연이 상기 콘크리트 바닥구조물(7)의 내부로 일정길이 인입되어져 있다.

이때, 상기 지지링(3)과 상기 콘크리트 바닥구조물(7)의 사이에는 실리콘 등의 실링부재(6)가 도포되는 바, 그 실링부재(6)는 지지링(3)을 콘크리트 바닥구조물(7)에 고정시키게 된다.

또한, 상기 지지링(3)의 내부 바닥면에는 링형상의 완충링(2)이 부착되며, 그 완충링(2)의 상면은 배기패널(1)의 하면 돌기가 결합될 수 있도록 요홈(미도시)이 형성되어져 있으며, 합성수지 재질로 구성되어 진동에 의해 상기 배기패널(1)이 직접 지지링(3)에 밀착되거나 충격을 전달하지 않으며 유격으로 인한 소음이 발생되는 것을 방지하게 된다.

한편, 상기 완충링(2)의 상면에는 원형형상으로 이루어지고, 다수개의 배기공이 형성되고, 지지력을 높이기 위한 리브가 그 배기공의 주위에 다수개 형성된 배기패널(1)이 결합된다.

한편, 오염공기나 먼지 등을 효과적으로 상기 배기패널(1)측으로 이동시키기 위해 상기 콘크리트 바닥 구조물(7)의 상면에는 타일 또는 에폭시 도료에 의한 마감층(5)이 형성되어져 있다.

따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치는 종래기술인 억세스플로어를 사용한 클린룸 바닥을 조성하는 기술에 비하여 시공이 빠르고, 소요비용이 저렴할 뿐 아니라 콘크리트 구조물 자체를 이용할 뿐 별도의 구조물 또는 장치를 바닥면위에 설치하지 않으므로 진동과 하중 같은 외력에 대하여 월등히 안정한 성능을 가지도록 한 것이다.

한편, 상기 배기패널(1)은 상면에 장공형의 배기공이 조성된 상태로 이는 배기패널(1)의 배면을 가로 9개 및 세로 9개의 주보강 리브(1-b)로 나누게 되며, 이들 사이에 가로방향으로 5개(1-c)의 보조 리브를 두어 공간을 형성한 뒤에 나머지 장공형상의 부분을 개공한 것으로, 그로인해, 상기 배기패널(1)의 면적에 대해 개공부의 크기에 따라 최소 17%에서 최대 55%의 개공 면적을 확보하도록 한 것이다.

또한, 상기 배기패널(1)은 +자형 리브(1-d)를 하중 지지의 중심으로 하중을 주변 주보강 리브(1-b)로 분산하도록 유도하고, 분산된 하중과 전체의 주보강 리브(1-b)의 응력과 변형을 보강리브(1-f)를 원형으로 설치하여 흡수되게 형성되어져 있다.

또한, 상기 지지링(3)의 상면에 상기 배기패널(1)이 설치되어 하중을 지지할 수 있도록 외곽리브(1-e)를 형성하고, 그 외곽리브(1-e)의 하중을 보조하기 위하여 외곽 테두리 보강 리브(1-g)를 설치하되, 알루미늄 다이 캐스팅으로 조성되는 상기 배기패널(1)의 성형성을 고려하여 위와 아래쪽의 외곽 테두리 보강 리브(1-g)가 좌,우 측의 외곽 테두리 보강 리브(1-g)보다 많게 구성한다.

상기와 같이, 알루미늄 다이캐스팅의 성형성을 고려하여, 용융 알루미늄의 흐름 속도를 조절하여 상기 배기패널(1)의 성형이 전면적에서 같은 시간과 압력으로 이루어지도록 하기 위하여 외곽을 두루는 두개의 리브(1-e, 1-f)를 중간 지점에 유속을 조절하는 병목 구간(1-a)을 좌,우측에 설치하여 원형 알루미늄 패널의 성형성을 향상으로 강도의 균일함을 가지도록 한 것이다.

또한, 상기 배기패널(1)은 ‘』’단면을 가지는 지지링(3)과의 외형크기의 유격을 맞추기 위하여 최외곽 리브(1-e)의 외측에 선반을 이용하여 가공이 가능한 구간(1-h)을 두어 치수의 정밀함을 가지도록 한다.

도 5의 완충링(2)은 상기 배기패널(1)과 지지링(3) 사이에 유격과 진동 소음 등을 방지하는 기능을 가지도록 구성된 것으로 완충링(3)의 요홈(2-c)이 상기 배기패널(1)의 최외곽리브(1-e)에 삽입되어 고정되고, 측면 요홈(2-d)이 알루미늄 패널의 외곽 테두리 보강리브(1-g)에 삽입되도록 하여, 상기 배기패널(1)에 삽입된 완충링(3)이 삽입 상태에서 회전하거나 밀리지 않도록 한 것이다.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 클린룸 배기 장치 및 그 시공방법은 단지 상기한 실시예에 한정되는 것이 아니라 그 기술적 요지를 이탈하지 않는 범위내에서 다양한 변경이 가능하다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치의 구성을 도시한 분해사시도,

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치의 장착 상태를 도시한 측단면도,

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 포함된 배기패널의 상면 및 하면 구조를 도시한 사시도,

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 포함된 배기패널의 구조를 도시한 평면도,

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 클린룸 배기 장치에 게재되는 완충링의 구조를 도시한 요부 절개 사시도이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

1:배기패널, 2:완충링,

3:지지링, 4:배기구 지지프레임,

5:마감층, 6:실링부재,

7:콘크리트 바닥구조물.

Claims

고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실을 위한 클린룸의 배기장치에 있어서,

지면상에 설치된 배기파이프와 하단이 일정간격마다 연결되게 구성되며, 원통형상으로 이루어진 배기구 지지프레임(4)과;

상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 내주연에 결합되는 링형상의 지지링(3)과;

상기 지지링(3)의 내부 바닥면에 부착되며, 링형상의 완충링(2)과;

상기 완충링(2)의 상면에 결합되며, 원형형상으로 이루어지고, 다수개의 배기공이 형성되어져 있으며, 지지력을 높이기 위한 리브가 그 배기공의 주위에 다수개 형성된 배기패널(1)로 구성되고, 그 배기패널(1)은 가로 9개 및 세로 9개의 주보강 리브(1-b)로 분할 구성되며, 그 사이에 가로방향으로 5개의 보조 리브(1-c)가 형성되며, +자형 리브(1-d)를 하중 지지의 중심으로 하중을 주변 주보강 리브(1-b)로 분산하게 형성되어져 있고, 분산된 하중과 전체의 주보강 리브(1-b)의 응력과 변형을 보강리브(1-f)를 원형으로 설치하여 흡수되게 형성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
제 1항에 있어서, 상기 지지링(3)은 그 측단면 형상이 ‘』’자 형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
제 1항에 있어서, 상기 지지링(3)은 콘크리트 바닥구조물(7)과의 사이에 실리콘으로 이루어진 실링부재(6)가 도포되어 고정되는 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
제 1항에 있어서, 상기 완충링(2)은 그 상면에 배기패널(1)의 하면 돌기가 결합될 수 있는 요홈이 형성되며, 재질이 합성수지 재질로 구성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
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제 1항에 있어서, 상기 배기패널(1)은 하중을 지지할 수 있도록 외곽리브(1-e)를 형성하고, 그 외곽리브(1-e)의 하중을 보조하기 위하여 외곽 테두리 보강 리브(1-g)가 설치된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
제 1항에 있어서, 상기 배기패널(1)은 전면적에서 동일한 시간과 압력으로 충전이 이루어지도록 외곽에 형성된 두개의 리브(1-e, 1-f)가 구성되며, 그 중간 지점에 유속을 조절하는 병목 구간(1-a)이 좌,우측에 형성된 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치.
고집적회로의 제조실, 유전공학연구실, 미립자 제조실을 위한 클린룸의 배기장치의 시공 방법에 있어서,

배기파이프를 지면상에 설치하는 과정과;

상기 배기파이프와 하단이 연결되며 원통형상으로 구성된 배기구 지지프레임(4)을 일정간격으로 배치하는 과정과;

상기 배기구 지지프레임(4)의 상단에 이르도록 콘크리트를 타설하여 배기구 지지프레임(4)이 매입된 콘크리트 바닥 구조물(7)을 형성하는 과정과;

상기 배기구 지지프레임(4)의 상단 내주연에 실링부재를 도포하여 링형상의 지지링(3)을 결합시키는 과정과;

상기 지지링(3)의 내부 바닥면에 링형상의 완충링(2)을 부착시키는 과정과;

상기 완충링(2)의 상면에 형성된 요홈에 배기패널(1) 하면의 돌기를 삽입하여 결합시키는 과정과;

상기 콘크리트 바닥 구조물(7)의 상면에 타일 또는 에폭시 도료를 도포하여 마감층(5)을 형성하는 과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 클린룸 배기 장치의 시공방법.