KR100984949B1

KR100984949B1 - 전기 광학 장치, 전기 광학 장치용 금테두리, 전기 광학장치의 제조 방법, 전기 광학 장치용 금테두리의 제조방법, 및 전자기기

Info

Publication number: KR100984949B1
Application number: KR1020080061300A
Authority: KR
Inventors: 다이스케 나카니시; 야스노리 오니시; 나루오 하시노
Original assignee: 엡슨 이미징 디바이스 가부시키가이샤
Priority date: 2007-06-28
Filing date: 2008-06-27
Publication date: 2010-10-01
Also published as: CN101334539B; JP4466762B2; CN102323683A; TW200909090A; TWI330558B; CN101334539A; KR20090003116A; CN102323683B; JP2009031756A

Abstract

본 발명은, 충분한 기계적 강도를 보지(保持)하면서 충분히 얇게 형성할 수 있는 전기 광학 장치용 금테두리, 이 전기 광학 장치용 금테두리를 구비한 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법, 및 전자기기를 제공하는 것으로, 전기 광학 장치(41)는 전기 광학 패널(42)과, 전기 광학 패널(42)을 수용한 금테두리(45)를 포함하고, 금테두리(45)는 복수의 측벽(3) 및 측벽(3)의 사이에 마련된 각부(角部)(4)를 구비하고, 적어도 하나의 측벽(3)의 선단은 내면끼리 서로 접촉할 때까지 내측으로 구부러진 구조인 절곡부(5)를 갖고, 적어도 하나의 각부(4)는 이음매가 없는 만곡 형상으로 형성되어 있다.

Description

전기 광학 장치, 전기 광학 장치용 금테두리, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법, 및 전자기기{ELECTRO OPTICAL DEVICE, GOLD FRAME FOR ELECTRO OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRO OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR GOLD FRAME FOR ELECTRO OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS}

본 발명은 전기 광학 장치, 전기 광학 장치용 금테두리, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법, 및 전자기기에 관한 것이다.

종래, 금테두리를 이용하여 제작된 전기 광학 장치로서 표시 장치가 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 이 표시 장치에 있어서는, 수지 프레임을 거쳐서 표시 패널이 금테두리의 내부에 수용되어 있다. 금테두리는 주로 하중에 대한 강도를 높이기 위해 이용되고 있고, 측면이 저면에 대하여 수직으로 구부러져 있다.

표시 장치 이외의 기술 분야에서는, 금속제의 상자 형태를 보강하는 구조로 서 이하의 기술이 알려져 있다. 즉, 특허문헌 2에 있듯이, 강재 단부를, 구부린 부분의 내면벽끼리 접할 때까지 구부리는 구조(이하 헤밍 구조라 호칭함)나, 특허문헌 3에 있듯이, 상자 형태의 각부(角部)를 드로잉(drawing) 가공에 의해 형성하는 구조이다.

[특허문헌 1] 일본 특허공개 2004-240239호 공보(제4페이지, 도 2)

[특허문헌 2] 일본 특허공개 소화 제56-015107호 공보(제2페이지, 도 9, 도 10)

[특허문헌 3] 일본 특허공개 평성 제6-136910호 공보(제2∼3페이지, 도 1, 도 4)

액정 장치, EL 장치 등의 평면형 표시 장치에 있어서는, 금테두리를 포함한 모듈 전체의 두께를 얇게 하는 것이 요구된다. 모듈 전체의 두께를 얇게 하기 위해 구부리는 금테두리의 측벽 높이를 낮게 하면, 금테두리의 강도가 손상되고, 금테두리의 왜곡에 기인하여, 액정 패널, EL 패널 등의 표시 패널이 균열된다는 과제가 발생한다.

또한, 액정 장치, EL 장치 등의 평면형 표시 장치에 있어서는, 매우 얇은 평면형의 표시 패널을 금테두리의 내측의 거의 전면에 걸쳐 내장하기 때문에, 금테두리의 어느 쪽의 방향에 왜곡이 발생하더라도, 표시 패널에 응력이 걸려, 균열의 원인으로 되어 버린다.

본 발명은, 상기의 문제점에 비추어 이루어진 것으로서, 충분한 기계적 강도를 보지(保持)하면서 충분히 얇게 형성할 수 있는 전기 광학 장치용 금테두리 및 전기 광학 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 얇고 또한 충분한 기계적 강도를 갖는 전기 광학 장치용 금테두리를 효율적으로 제조할 수 있는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 전기 광학 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치는, 전기 광학 패널과, 상기 전기 광학 패널 을 수용한 금테두리를 갖고, 상기 금테두리는 복수의 측벽 및 상기 측벽의 사이에 마련된 각부(角部)를 구비하고, 적어도 하나의 상기 측벽의 적어도 일부의 선단은 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 갖고, 상기 절곡부를 갖는 측벽과 인접하는 적어도 하나의 상기 각부는 이음매가 없는 만곡 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 전기 광학 패널은 전기적인 입력을 제어함으로써 광에 의한 표시 상태에 변화를 부여할 수 있는 전자 부품이다. 이러한 전기 광학 패널로서, 예컨대 액정 장치, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 각종 표시 장치의 구성 요소인 표시 패널이 있다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 상기 전기 광학 패널을 수용하는 금테두리는, 적어도 하나의 측벽의 적어도 일부의 선단 부분에 절곡부를 갖기 때문에 측벽의 강도를 강하게 할 수 있다. 그리고, 상기 절곡부를 가진 측벽을 포함하는 측벽끼리는 이음매가 없는 만곡 형상으로 이어져 있기 때문에, 각 절곡부의 강도를 조합시킨 강도를 금테두리의 강도로 할 수 있고, 그 때문에, 금테두리의 강도를 현저히 높일 수 있다. 이 때문에, 금테두리의 두께가 얇아지더라도 충분한 기계적 강도를 보지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 금테두리는 얇아도 높은 강도를 갖기 때문에, 전기 광학 패널이 얇게 형성되는 경우라도 금테두리에 의해 그 전기 광학 패널을 외부로부터의 응력이나 기계적인 부하로부터 보호할 수 있다.

상기 전기 광학 장치에 있어서는, 상기 절곡부는, 금테두리의 내측으로 구부리면 좋다. 절곡부, 및 구부린 선단이 금테두리의 내측으로 되도록 함으로써 전기 광학 장치의 외형을 작게 설계할 수 있고, 또한, 디자인적으로도 우수한 전기 광학 장치로 되기 때문이다. 또, 전기 광학 장치에 있어서는, 금테두리의 내측에 수지 등의 프레임을 조립하고, 상기 프레임에 액정 패널, 또는 EL 패널 등의 평면형의 표시 패널을 조립하는 구성을 채용하는 경우가 있다. 그와 같은 경우에 있어서는, 금테두리 내측에 구부린 절곡부의 선단을 이용하여 수지 등의 프레임을 위치 결정하는 구성을 채용할 수 있다. 물론, 금테두리의 외측에 수지 등으로 이루어지는 프레임을 배치하는 구성으로 해도 좋고, 그 경우에는, 절곡부를 금테두리의 외측으로 구부리고, 금테두리 외측에 마련한 프레임을 절곡부의 선단에서 위치 결정하여 고정하더라도 좋다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 상기 전기 광학 패널을 수용하는 금테두리의 상기 이음매가 없는 만곡 형상의 각부는, 평판 금속을 드로잉 가공하여 형성되어 있는 것이 바람직하다. 드로잉 가공은 평판상의 금속 재료를 부분적으로 압축하면서 소망의 형상으로 변형시키는 가공 방법이다. 압축된 금속 재료는 기계적인 강도가 증대하기 때문에, 드로잉 가공에 의해 형성된 각부의 강도는 평판상태의 금속 재료보다 강도가 강하게 된다. 본 발명의 형태에 의하면, 절곡부를 갖는 측벽과 드로잉 가공에 의해 형성된 각부와의 협동(協同)에 의해, 금테두리의 기계적 강도를 한층더 강하게 할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 상기 금테두리는, 평면 형상이 직사각형 형상, 예컨대 직사각형 형상 또는 정사각형 형상인 바닥부를 더 가질 수 있고, 상기 절곡부를 갖는 측벽은 상기 바닥부의 4변에 마련할 수 있다. 절곡부를 가진 측벽을 바닥부의 4변 모두에 마련하면, 금테두리의 강도를 더 강하 게 할 수 있다. 그리고 이 경우, 상기 각부는 그들 4개의 측벽 사이의 4개소의 모두에 드로잉 가공에 의해 마련할 수 있다. 이렇게 하면, 금테두리의 강도를 한층더 강하게 할 수 있다.

또, 상기 복수의 측벽은 상기 바닥부의 4변에 마련되고, 상기 4변 중 적어도 3변의 측벽은 절곡부를 가질 수 있고, 상기 4변 중 적어도 1변의 측벽은 중간부에 절결을 가질 수 있고, 상기 4변에 형성된 측벽 사이의 4개소의 각각에 상기 각부를 마련할 수 있다. 중간부에 절결을 갖는 측벽이 마련된 변이 있으면, 그 절결로부터 금테두리에 수용되어 있는 전기 광학 패널에 실장되어 이루어지는 배선 기판으로서의 FPC(Flexible Printed Circuit:플렉서블 프린트 기판) 등을 도출할 수 있다. 그러나, 중간부에 절결을 갖는 변에서 금테두리의 강도가 낮게 되는 것이 생각되지만, 그 변의 양단에 드로잉 가공에 의해 각부를 형성해 놓으면, 강도의 저하를 가능한 한 억제할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 상기 금테두리는, 상기 절곡부와 상기 각부 사이의 측벽의 선단에는, 노치부(notch)를 갖고 있는 것이 바람직하다. 절곡부와 각부 사이의 측벽의 선단에 노치부를 마련하면, 절곡부를 형성할 때에 노치부에서 응력이 분산되어, 각부에 응력이 전해지는 것에 의한 영향을 저감할 수 있다. 또한, 각부를 형성할 때에 노치부에서 응력이 분산되어, 절곡부에 응력이 전해지는 것에 의한 영향을 저감할 수 있다. 또한, 노치부를 형성함으로써, 절곡부가 형성된 측벽의 높이와, 각부의 높이를 같게 할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 상기 절곡부는 내면끼리 서로 접촉하고 있는 것을 특징으로 한다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리는, 복수의 측벽과, 상기 측벽의 사이에 마련된 각부를 갖고, 적어도 하나의 상기 측벽의 적어도 일부의 선단은 내면끼리 서로 대향할 때까지 내측으로 구부러진 구조인 절곡부를 갖고, 적어도 하나의 상기 각부는, 이음매가 없는 만곡 형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리는, 예컨대 전자 부품을 수용하여 보호하기 위한 테두리로서 이용되거나, 복수의 전자 부품을 정리하여 수용하기 위한 테두리로서 이용되거나 한다. 전자 부품으로서는, 액정 장치, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 플랫 패널 디스플레이를 구성하는 각종 부품이 생각된다. 본 발명의 금테두리는 바닥부, 측벽 및 각부로 이루어지는 상자형, 접시형 또는 트레이형 용기이다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리는, 적어도 하나의 측벽의 적어도 일부의 선단 부분에 절곡부를 갖기 때문에 측벽의 강도를 강하게 할 수 있다. 그리고, 상기 절곡부를 가진 측벽을 포함하는 측벽끼리는 이음매가 없는 만곡 형상으로 이어져 있기 때문에, 각 절곡부의 강도를 조합시킨 강도를 금테두리의 강도로 할 수 있고, 그 때문에, 금테두리의 강도를 현저히 높일 수 있다. 이 때문에, 금테두리의 두께가 얇아지더라도 충분한 기계적 강도를 보지할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법은, 복수의 측벽 및 상기 측벽의 사이에 마련된 각부를 구비한 금테두리를 형성하는 금테두리 형성 공정 과, 상기 금테두리에 전기 광학 패널을 수용하는 전기 광학 패널 수용 공정을 갖고, 상기 금테두리 형성 공정은, 평판을 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 적어도 하나의 상기 측벽으로 되는 영역의 적어도 일부의 선단에 형성하는 절곡 가공 공정과, 상기 복수의 측벽으로 되는 영역을 상기 구부러진 영역이 내측으로 되도록 구부리는 구부림 가공에 의해 형성하고, 또한 상기 각부를 드로잉 가공에 의해 형성하는 측벽·각부 형성 공정을 갖는다. 상기 측벽·각부 형성 공정은, 상기 평판의 금테두리의 내부로 되는 영역에 배치된 내부 금형과 상기 금테두리의 외부로 되는 영역에 배치된 외부 금형을 이용하여 행해지고, 상기 내부 금형은, 상기 각부로 되는 영역에 대응하여 배치되는 가동형(可動型)을 갖고, 상기 가동형은, 상기 각부를 이루는 형상을 구비한 중간부와, 상기 중간부에서 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부에 의해 형성되어 있다. 상기 가동형은 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고, 상기 측벽을 형성하기 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 형성하기 위한 드로잉 가공은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태로 행해지고, 상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태로 상기 내부 금형과 상기 외부 금형에 의해 협동하여 행해진다.

이 구성의 전기 광학 장치의 제조 방법에 의하면, 절곡부를 가진 복수의 측벽과 그들 측벽의 사이에 마련된 각부를 갖는 금테두리를 정확히 제조할 수 있다. 또한, 그들의 측벽 및 각부를 하나의 공정인 측벽·각부 형성 공정에서 동시에 형성할 수 있다. 이 때문에, 얇아도 강도가 매우 강한 금테두리를, 적은 공정으로 단시간에 또한 저비용으로 제조할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법에 있어서, 서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부(分枝部)의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되는 것이 바람직하고, 이 공간은, 상기 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 한쪽의 상기 각부로 치우친 위치에 마련되는 것이 바람직하다. 서로 인접하는 가동형의 사이에 형성된 공간은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 이 공간에 대응하는 부분의 측벽은 가공 후의 치수 정밀도가 나빠질 우려가 있다. 이 부분이 각 측벽의 중앙 부분에 대응하여 마련되면 강도가 높은 각부로부터 떨어진 위치로 되기 때문에 금테두리의 전체적인 강도가 저하할 우려가 있는 한편, 이 부분이 측벽의 중앙 부분으로부터 벗어난 위치, 즉 어느 하나의 각부(강도가 높은 부분)에 가까운 위치에 대응하여 마련되면 금테두리의 전체적인 강도가 저하하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 복수의 가동형의 사이에 마련되는 공간은, 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 하나의 각부로 치우친 위치에 마련되는 것이 바람직하다.

또, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법에 있어서, 서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되는 것이 바람직하고, 이 공간은 상기 금테두리의 측벽 중의 치수 정밀도의 허용 오차가 큰 부분에 대응하여 마련되어 있는 것이 바람직하다. 서로 인접하는 가동형의 사이에 형성된 공간은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 이 공간에 대응하는 부분의 측벽은 가공 후의 치 수 정밀도가 나빠질 우려가 있기 때문이다. 금테두리 중 어느 부분이 치수 정밀도의 허용 오차가 큰지, 혹은 작은지는, 금테두리 자신의 형상이나 금테두리에 수용되는 전자 부품의 형상 등에 의해 결정된다. 예컨대, 금테두리의 측벽과 수용물의 간격이 설계상 매우 좁아질 수밖에 없는 곳은 치수 정밀도의 허용 오차가 작아지기 때문에, 이 부분에 대응하는 위치에 상기의 공간을 마련하는 것은 피하는 것이 바람직하다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 내부 금형은, 상기 가동형이 넓어진 상태에 있을 때에 서로 인접하는 가동형의 사이를 매립하는 보조 금형을 더 갖는 것이 바람직하다. 그리고, 해당 보조 금형은, 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고, 상기 측벽을 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 위한 드로잉 가공은, 상기 보조 금형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태에서 행해지고, 상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 보조 금형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태에서 행해지는 것이 바람직하다.

상기와 같이, 서로 인접하는 가동형의 사이에 형성된 공간은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 아무런 조치도 취하지 않으면, 이 공간에 대응하는 부분의 측벽은 가공 후의 치수 정밀도가 나빠질 우려가 있다. 이것에 대하여, 본 발명형태와 같이 보조 금형을 이용하여 가동형간의 공간을 매립하는 것으로 하면, 측벽을 형성하기 위한 구부림 가공을 이 보조 금형에 의해 정확히 실행할 수 있기 때문에, 측벽의 치수 정밀도가 부분적으로 나빠지는 것을 방지할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 가동형은, 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되는 것이 바람직하고, 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것이 더 바람직하다. 이 구성에 의해, 가동형을 간단하고, 확실하며 또한 신속히 가공 위치와 퇴피 위치 사이에서 이동시킬 수 있다.

또, 가동형에 덧붙여 보조 금형을 마련한 구성의 본 발명에 따른 금테두리의 제조 방법에 의하면, 상기 가동형 및 상기 보조 금형은, 각각이 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되는 것이 바람직하고, 각각이 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것이 더 바람직하다. 이 구성에 의해, 가동형 및 보조 금형을 간단하고, 확실하며 또한 신속히 가공 위치와 퇴피 위치 사이에서 이동시킬 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법은, 평판에 복수의 측벽으로 되는 영역을 갖고, 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 적어도 하나의 상기 측벽으로 되는 영역의 적어도 일부의 선단에 형성하는 절곡 가공 공정과, 상기 복수의 측벽으로 되는 영역을 상기 구부러진 영역이 내측으로 되도록 구부리는 구부림 가공에 의해 형성하고, 또한, 상기 복수의 측벽으로 되는 영역의 사이에 마련된 각부로 되는 영역을 드로잉 가공에 의해 형성하는 측벽·각부 형성 공정을 갖는다. 상기 측벽·각부 형성 공정은, 상기 평판의 금테두리의 내부로 되는 영역에 배치된 내부 금형과 상기 금테두리의 외부로 되는 영역에 배치된 외부 금형을 이용하여 행해지고, 상기 내부 금형은, 상기 각부로 되는 영역에 대응하여 배치되는 가동형을 갖고, 상기 가동형은, 상기 각부를 이루는 형상을 구비한 중간부와, 상기 중간부로부터 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부에 의해 형성되어 있다. 상기 가동형은, 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고, 상기 측벽을 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 위한 드로잉 가공은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태로 행해지고, 상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태에서 상기 내부 금형과 상기 외부 금형에 의해 협동하여 행해진다.

이 구성의 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 의하면, 절곡부를 가진 복수의 측벽과 그들의 측벽 사이에 마련된 각부를 갖는 금테두리를 정확히 제조할 수 있다. 또한, 그들의 측벽 및 각부를 하나의 공정인 측벽·각부 형성 공정에서 동시에 형성할 수 있다. 이 때문에, 얇아도 강도가 매우 강한 금테두리를, 적은 공정에서 단시간에 또한 저비용으로 제조할 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 있어서, 서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되는 것이 바람직하고, 이 공간은, 상기 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 한쪽의 상기 각부로 치우친 위치에 마련되는 것이 바람직하다. 서로 인접하는 가동형의 사이에 형성된 공 간은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 이 공간에 대응하는 부분의 측벽은 가공 후의 치수 정밀도가 나빠질 우려가 있다. 이 부분이 각 측벽의 중앙 부분에 대응하여 마련되면 강도가 높은 각부로부터 떨어진 위치로 되기 때문에 금테두리의 전체적인 강도가 저하할 우려가 있는 한편, 이 부분이 측벽의 중앙 부분으로부터 벗어난 위치, 즉 어느 하나의 각부(강도가 높은 부분)에 가까운 위치에 대응하여 마련되면 금테두리의 전체적인 강도가 저하하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 복수의 가동형의 사이에 마련되는 공간은, 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 하나의 각부로 치우친 위치에 마련되는 것이 바람직하다.

또, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 있어서, 서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되는 것이 바람직하고, 이 공간은, 상기 금테두리의 측벽 중의 치수 정밀도의 허용 오차가 큰 부분에 대응하여 마련되어 있는 것이 바람직하다. 서로 인접하는 가동형의 사이에 형성된 공간은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 이 공간에 대응하는 부분의 측벽은 가공 후의 치수 정밀도가 나빠질 우려가 있기 때문이다. 금테두리 중 어느 부분이 치수 정밀도의 허용 오차가 큰지, 혹은 작은지는, 금테두리 자신의 형상이나 금테두리에 수용되는 전자 부품의 형상 등에 의해 결정된다. 예컨대, 금테두리의 측벽과 수용물의 간격이 설계상 매우 좁아질 수밖에 없는 곳은 치수 정밀도의 허용 오차가 작아지기 때문에, 이 부분에 대응하는 위치에 상기의 공간을 마련하는 것은 피하는 것이 바람직하다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 있어서, 상기 내부 금형은, 상기 가동형이 넓어진 상태에 있는 때에 서로 인접하는 가동형의 사이를 매립하는 보조 금형을 더 갖는 것이 바람직하다. 그리고, 해당 보조 금형은, 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고, 상기 측벽을 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 위한 드로잉 가공은, 상기 보조 금형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태에서 행해지고, 상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 보조 금형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태에서 행해지는 것이 바람직하다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 있어서, 상기 가동형은, 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되는 것이 바람직하고, 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것이 더 바람직하다. 이 구성에 의해, 가동형을 간단하고, 확실하며 또한 신속히 가공 위치와 퇴피 위치 사이에서 이동시킬 수 있다.

또, 가동형에 덧붙여 보조 금형을 마련한 구성의 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법에 의하면, 상기 가동형 및 상기 보조 금형은, 각각이 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되는 것이 바람직하고, 각각이 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것이 더 바람직하다. 이 구성에 의해, 가동형 및 보조 금형을 간단하고, 확실하며 또한 신속히 가공 위치와 퇴피 위치 사이에서 이동시킬 수 있다.

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 장치는, 복수의 측벽 및 상기 측벽의 사이에 마련된 각부를 구비한 금테두리의 내부에 배치되는 내부 금형과, 상기 금테두리의 외부에 배치되는 외부 금형을 갖는다. 상기 내부 금형은 상기 각부에 대향하여 배치되는 가동형을 갖는다. 상기 가동형은, 상기 각부에 대응한 형상을 구비한 중간부와, 상기 중간부에서 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부에 의해 형성되고, 상기 가동형은, 상기 측벽 및 상기 각부의 내주면에 접촉하는 확개(擴開) 위치와 그 확개 위치보다 좁아진 상태인 좁아진 위치와의 사이에서 이동 가능하다.

이 구성의 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 장치에 의하면, 적어도 일부에 절곡부를 가진 복수의 측벽과 그들 측벽의 사이에 마련된 각부를 갖는 금테두리를 정확히 제조할 수 있다. 또한, 가동형을 확개 위치과 좁아진 위치 사이에서 이동시키는 것에 의해, 측벽에 대한 절곡 가공 및 각부에 대한 드로잉 가공을 하나의 공정에서 동시에 실행하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 얇아도 강도가 매우 강한 금테두리를, 적은 공정에서 단시간에 또한 저비용으로 제조할 수 있다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 장치에 있어서도, 상기의 금테두리의 제조 방법과 같이, 상기 내부 금형은, 상기 가동형이 상기 확개 위치에 있을 때에 서로 인접하는 가동형의 사이를 매립하는 보조 금형을 더 갖는 것이 바람직하고, 또한 그 보조 금형은, 자신의 외주면이 상기 가동형의 분지부의 외주면에 일치하는 확개 위치와 그 확개 위치보다 좁아진 상태인 좁아진 위치 사이에서 이동 가능한 것이 바람직하다.

다음에, 본 발명에 따른 전자기기는 상술한 전기 광학 장치를 구비한 것을 특징으로 한다. 전기 광학 장치는, 예컨대 액정 장치, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등이 있다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리는, 측벽의 적어도 일부의 선단 부분에 절곡부를 갖기 때문에 측벽의 강도를 강하게 할 수 있다. 그리고, 절곡부가 형성된 측벽끼리는 이음매가 없는 만곡 형상으로 이어져 있기 때문에, 각 절곡부의 강도를 조합시킨 강도를 금테두리 전체의 강도로 할 수 있고, 그 때문에, 금테두리의 전체의 강도를 현저히 높일 수 있다. 이 때문에, 금테두리의 두께가 얇아지더라도 충분한 기계적 강도를 보지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리를 구비하는 전자기기는 얇아도 높은 강도를 갖기 때문에, 전기 광학 장치의 전기 광학 패널이 얇게 형성되는 경우라도 금테두리에 의해 그 전 기 광학 패널을 기계적인 부하로부터 보호할 수 있다.

(전기 광학 장치용 금테두리의 실시예 1)

이하, 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리를 일 실시예에 근거하여 설명한다. 또, 본 발명이 이 실시예에 한정되는 것이 아닌 것은 물론이다. 또, 설명에서 이용하는 도면에서는, 특징적인 부분을 이해하기 쉽게 나타내기 위해 실제와는 다른 치수비로 되는 일이 있다.

도 1(a)는 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 일 실시예를 사시도에 의해 나타내고 있다. 도 1(b)는, 그 금테두리의 각부의 근방을 확대하여 나타내고 있다. 도 1(a)에 있어서, 금테두리(1)는 소정 두께, 예컨대 0.1mm∼0.3mm, 바람직하게는 0.2mm의 두께의 스테인리스 강판(SUS)을 가공함으로써 형성되어 있다. 금테두리(1)를 형성하는 강판의 도시의 판두께는 실제의 것보다 두껍게 그려져 있다. 이 금테두리(1)는, 직사각형 형상 즉 직사각형 형상의 바닥부(2)와, 그 바닥부(2)의 4변에 마련된 측벽(3)과, 그들 측벽(3)의 사이에 마련된 각부(4)를 갖는다.

각 측벽(3)의 선단(도면의 상단)에는 절곡부(5)가 부여되어 있다. 절곡부(5)는, 내면끼리 서로 접촉할 때까지 구부리는 것에 의해 형성된 구부린 구조인 헤밍 구조이다. 절곡부(5)와 각부(4) 사이에는 노치(notch) 부분(6)이 마련되어 있다. 이와 같이 절곡부(5)와 각부(4) 사이의 측벽에 노치 부분(6)을 마련하면, 절곡부(5)를 형성할 때에 노치 부분(6)에서 응력이 분산되어, 각부(4)에 응력이 전해지는 것에 의한 영향을 저감할 수 있다. 또한, 각부(4)를 형성할 때에 노치 부분에서 응력이 분산되어, 절곡부(5)에 응력이 전해지는 것에 의한 영향을 저감할 수 있다. 또한, 노치 부분(6)을 형성함으로써, 절곡부(5)가 형성된 측벽(3)의 높이와 각부(4)의 높이를 같게 할 수 있다. 절곡부(5)는, 측벽(3)의 부분의 SUS 강판을 미리 절곡대(折曲代)를 포함해서 넓은 폭으로 형성해두고, 그 절곡대를 가공기에 의해 구부리는 것에 의해 형성되어 있다. 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)를 마련하는 것에 의해, 상하좌우 방향으로부터 금테두리(1)에 가해지는 하중에 대한 금테두리(1)의 강도 및 금테두리(1)에 가해지는 구부리는 힘에 대한 금테두리(1)의 강도를 높일 수 있다.

측벽(3) 그 자체는, 바닥부(2)의 외측으로 연장되는 평판 부분으로서 선단에 절곡부가 실시된 평판 부분을 절곡부가 구부러진 영역이 내측으로 되도록, 가공기에 의해 대략 90° 구부리는 것에 의해 형성되어 있다. 측벽(3)의 높이 L1은, 예컨대 1mm∼2mm, 바람직하게는 1.2mm이다. 절곡부(5)의 구부러진 부분의 길이 L2은, 예컨대 0.6 mm이다. 도시의 측벽(3)은 실제의 것보다 높게 그려져 있다.

4개의 측벽(3)의 각각의 사이에 각부(4)가 마련되어 있다. 각부(4)는, 바닥부(2)로부터 대략 90°의 각도로 선 상태로 마련되고, 또한, 바닥부(2)에 직교하는 축선을 중심으로 하여 원호 형상으로 만곡하고 있다. 도시하는 각부(4)의 곡률은 실제의 것보다 크게 그려져 있다. 각부(4)는 드로잉 가공에 의해 형성되어 있다. 즉, 각부(4)는, 바닥부(2)의 외측으로 연장되는 평판 부분의 내면측에 각부(4)의 내면 만곡 형상에 합치한 만곡 형상을 가진 내부 금형을 배치하고, 평판 부분의 외면측에 각부(4)의 외면 만곡 형상에 합치한 만곡 형상을 가진 외부 금형을 더 배치하고, 그들의 금형을 바닥부(2)에 대하여 직각 방향으로 상대적으로 평행 이동시키고, 내부 금형과 외부 금형을 협동시킴으로써 형성되어 있다. 각부(4)는 이와 같이 평판형상의 강판으로 집중하여 가공을 실시하는 것에 의해 형성되어 있기 때문에, 각부(4)는 이음매가 없는 만곡 형상으로 되어 있다. 이음매가 없는 각부(4)의 동작에 의해, 그들의 각부(4)를 사이에 두고 서로 인접하는 측벽(3)의 절곡부(5)가 서로 작용하여 내 하중 강도 및 내 굽힘 강도를 한층더 높이고 있다.

드로잉 가공이 실시된 각부(4)의 내주면은 평판상태에 비해 강판이 수축한 상태(즉 좁아진 상태)에 있다. 이와 같이 좁아진 상태는 강판을 구성하는 조직이 고밀도로 배열된 상태이며, 기계적인 강도가 강하게 된 상태이다. 이 때문에, 드로잉 가공에 의해 각부(4)를 마련한 구성의 금테두리(1)는, 상하좌우 방향으로부터의 하중에 대한 강도가 높고, 또한 구부리는 힘에 대한 강도도 높은 상태로 되어 있다. 특히, 본 실시예에서는, 각부(4)를 드로잉 가공에 의해 형성하고, 또한, 그들의 각부(4)를 사이에 두고 있는 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)를 부여하고 있으므로, 금테두리(1)의 전체적인 강도는 매우 높게 되어 있고, 그 때문에, 금테두리(1)의 전체의 높이가 1mm∼2mm 정도와 같이 매우 낮더라도(즉 매우 얇은 두께이더라도), 내부에 수용한 전자 부품을 보호하는 데에 있어서 충분한 강도를 가질 수 있다.

본 실시예에 있어서, 절곡부(5)를 가진 4개의 측벽(3)의 상호의 바닥부(2)의 저면(도면의 이면)으로부터의 높이는 모두 같게 설정되어 있다. 또, 4개의 각부(4)의 높이도 측벽(3)의 높이와 대략 같은 것으로 설정되고 있다. 그러나, 그들 4개의 측벽(3)의 높이는 필요에 따라 다르게 하더라도 좋다. 예컨대, 하나의 측벽(3)을 다른 3개의 측벽(3)보다 낮게 또는 높게 할 수 있다. 또, 4개의 측벽(3)을 2개씩으로 그룹 분할하고, 한쪽의 그룹의 높이를 다른 그룹의 높이보다 낮게 할 수 있다. 또, 4개의 측벽(3)의 하나씩을 모두 다른 높이로 해도 좋다.

또, 본 실시예에 있어서, 이것에 한정되는 것이 아니라, 선단에 절곡부가 실시된 평판 부분을 절곡부가 구부러진 영역이 외측으로 되도록 형성되어 있더라도 좋다.

(전기 광학 장치용 금테두리의 실시예 2)

도 2는 본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 다른 실시예를 나타내고 있다. 도 2에 있어서 도 1과 같은 부호는 같은 부재를 나타내고 있고, 그들의 부재의 설명은 생략한다. 여기에 나타내는 금테두리(21)가 도 1에 나타낸 금테두리(1)와 다른 점은, 바닥부(2)의 4변에 마련된 측벽(3) 중 전방의 짧은 변에 대응한 측벽(3)이, 그 선단부에 절곡부(5)를 갖지 않고, 그 중간부에 절결(11)을 갖고 있는 것이다. 나머지의 3변에 대응한 측벽(3)의 선단부에는 절곡부(5)가 마련되어 있다. 또, 바닥부(2)의 4변에 마련된 측벽(3) 사이의 4개소의 각각에 각부(4)가 마련되어 있다. 즉, 절결(11)이 마련된 측벽(3)의 양측에도 각부(4)가 마련되어 있다.

또, 본 실시예의 절결(11)의 깊이는 측벽(3)의 높이와 대략 동일하고, 바닥부(2)의 위쪽 영역이 직접적으로 절결(11)로 되어 있다. 그러나, 절결(11)의 깊이는 필요에 따라 적절한 치수로 설정된다. 절결(11)의 깊이가 다른 변 부분의 측벽(3)의 높이보다 작은(즉 얕은) 경우에는, 그 절결(11)과 바닥부(2) 사이에 높이가 낮은 측벽(3)이 마련되는 것으로 된다.

절결(11)을 구비한 금테두리(21)는, FPC(Flexible Printed Circuit:가요성 프린트 회로) 기판이 접속되어 이루어지는 전자 부품을 수용하는 경우에 바람직한 금테두리이다. 이 전자 부품을 금테두리(21)의 내부에 수용한 상태에서, 그 전자 부품에 접속된 FPC 기판을 절결(11)을 통해 외부로 인출하는 것으로 하면, FPC 기판에 필요없는 부하를 가하지 않고 외부로 무리없이 인출할 수 있다.

본 실시예에서는, 금테두리(21)의 3개의 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)가 마련되고, 그리고 4개의 모든 측벽(3)의 사이에 드로잉 가공에 의해 각부(4)가 형성되어 있다. 즉, 각부(4)는, 절결(11)이 설치되어 절곡부(5)가 설치되지 않는 측벽(3)의 양단에도 드로잉 가공에 의해 형성되어 있다. 절곡부(5) 및 각부(4)를 형성하기 위한 방법은, 도 1의 금테두리(1)를 제조하는 경우와 동일하다. 본 실시예에 있어서는, 절곡부(5)가 없는 부분에서 금테두리(21)의 기계적인 강도가 저하하는 것이 생각된다. 그러나, 절곡부(5)가 없는 변 부분의 양단에 각부(4)를 드로잉 가공에 의해 형성하는 것으로 했기 때문에, 기계적인 강도의 저하를 최소한으로 억제할 수 있다. 또, 본 실시예에 있어서도, 선단에 절곡부가 실시된 평판 부분을 절곡부가 구부러진 영역이 외측으로 되도록 형성되어 있더라도 좋다.

(전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 실시예 1)

다음에, 도 1에 나타낸 전기 광학 장치용 금테두리(1)를 제조하기 위한 제조 방법 및 그 제조 방법을 실현하기 위한 제조 장치에 대하여 설명한다.

도 3은 본 실시예에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법의 공정도이다. 도 4∼도 6은 SUS의 강판이 금테두리에 형성되기까지의 과정을 나타내고 있고, 도 4는 강판의 전개 상태, 도 5는 절곡부가 형성된 상태, 도 6은 금테두리 완성 상태를 나타내고 있다. 도 4 및 도 6에 있어서 (a)는 평면도, (b) 및 (c)은 측면도를 나타내고 있다. 도 5에 있어서 (a)는 평면도, (b) 및 (c)은 측면 단면도를 나타내고 있다.

본 실시예의 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 절곡 가공 공정 P1 및 그것에 이어지는 측벽·각부 형성 공정 P2을 갖는다. 절곡 가공 공정 P1에는, 도 4의(a)∼(c)에 나타내는 평판형상의 SUS의 강판(7)이 공급된다. 강판(7) 중, 쇄선으로 둘러싼 부호 2로 나타내는 부분은 도 1(a)의 바닥부(2)에 상당하는 부분이다. 부호 8은 절곡 가공을 받아 도 1(a)의 측벽(3)으로 되는 부분이다. 부호 9는 드로잉 가공을 받아 도 1(a)의 각부(4)로 되는 부분이다. 부호 10은 도 1(a)의 절곡부(5)의 절곡대에 상당하는 부분이다. 또, 도면에서는 각부 대응 부분(9)의 선단이 90°의 직각형상으로 그려져 있지만, 실제로는, 드로잉 가공을 한 후에 각부(4)의 상단을 할 수 있는 한 수평으로 되도록, 직각 형상 이외의 적절한 형상으로 형성되어 있다.

절곡 가공 공정 P1에 있어서는, 도 4(a)의 절곡대(10)가 강판(7)의 한쪽의 주면측으로 구부러져, 도 5의 (a)∼(c)에 부호 5로 도시하는 바와 같이, 내면끼리 서로 접촉하는 구부린 구조인 절곡부가 실시된다. 다음에, 측벽·각부 형성 공정 P2가 실시된다. 이 공정 P2는, 예컨대 도 7 및 도 8에 나타내는 내부 금형(12) 및 외부 금형(13)을 이용하여 행해진다. 내부 금형(12)은, 금테두리의 바닥부(2)의 가장자리선을 따라 배치되는 4개의 가동형(14)과, 그들의 가동형(14)에 탄성력을 부여하는 탄성력 부여 기구(15)(도 8 참조)와, 가동형(14)을 누르는 가압 부재(16)(도 7 참조)를 갖는다.

탄성력 부여 기구(15)는 도 8에서는 스프링과 같이 모식적으로 그리고 있지만, 실제로는 필요에 따라 적절한 구성이면 된다. 그러나, 기본적으로는, 탄성력 부여 기구(15)는 4개의 가동형(14)의 각각을 내측으로 평행 이동시켜 그것들이 중심 부분을 향해 좁아지는 방향으로 탄성력, 예컨대 스프링력을 부여한다. 가동형(14)은, 도 1(a)의 각부(4)의 내주면의 만곡 형상에 합치한 만곡 형상을 가진 중간부(14a)와, 그 중간부(14a)로부터 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부(14b)에 의해 형성되어 있다. 한 쌍의 분지부(14b, 14b)의 길이는 서로 조금 다르고, 그 때문에, 가동형(14)은 대략 L자형 형상으로 구성되어 있다. 서로 인접하는 한 쌍의 가동형(14)의 분지부(14b)의 사이에는 공간(17)이 마련되어 있다.

이들 공간(17)은, 가동형(14)이 내부 중심을 향해 좁아질 때의 각 가동형(14)의 이동을 허용하기 위한 공간이다. 이들 공간(17)의 측벽(3)에 대한 위치는 특별한 위치에 한정되는 것이 아니라, 측벽(3)의 중앙 부분에 대응하는 위치이더라도 좋고, 중앙 부분으로부터 벗어나고 있어 어느 쪽인가의 가동형(14)에 치우 친 위치라도 좋다. 이들 공간(17)이 존재하는 위치는 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 구부림 가공에 의해 강판으로부터 측벽(3)을 형성할 때에 이 공간(17)에 대응하는 부분의 측벽(3)은 구부림 정밀도가 약간 저하하는 경향이 있다. 따라서, 이들 공간(17)은, 측벽(3)의 치수 정밀도의 허용 오차가 큰 부분, 즉 조금은 치수 정밀도가 나빠지더라도 상관없는 부분에 대응하여 마련되는 것이 바람직하다. 또, 이들 공간(17)에 대응하는 부분의 측벽(3)은 내 하중성 및 내 구부림성이 저하할 지도 모른다. 따라서, 이 공간(17)은 측벽(3)의 중앙 부분으로 하는 것보다, 어느 하나의 중간부(14a)로 치우친 위치인 쪽이 바람직하다.

도 3의 절곡 가공 공정 P1이 종료한 상태인 도 5(a)의 강판(7)이 도 3의 측벽·각부 형성 공정 P2에 반입되면, 도 7에 도시하는 바와 같이, 강판(7)이 절곡부(5)를 위로 한 상태에서 테이블(18) 상에 탑재된다. 그리고, 내부 금형(12)의 가동형(14)이 강판(7)의 상부 주면상의 바닥부(2)에 대응하는 부분에 가압된다. 이 때, 가동형(14)은 가압 부재(16)에 의해 외측으로 열린 상태인 확개 위치에 세트되어 있다. 또한, 테이블(18)의 주위에 마련된 외부 금형(13)을 내부 금형(12)의 가동형(14)보다 외측의 부분의 강판(7)의 하부 주면에 가압한다. 그리고 또한, 내부 금형(12)을 테이블(18)상에서 고정한 상태에서, 외부 금형(13)을 내부 금형(12)에 대하여 상대적으로 위쪽으로 평행 이동시킨다. 이와 같이, 내부 금형(12)과 외부 금형을 협동시킴으로써, 도 6의(a)∼(c)에 도시하는 바와 같이, 절곡부(5)를 가진 측벽(3)이 바닥부(2)의 주연부에 대략 90°의 각도를 갖고 구부림 가공에 의해 형성되고, 동시에, 서로 인접하는 측벽(3)의 사이에 각부(4)가 드로잉 가공에 의해 형성된다. 이렇게 해서, 금테두리(1)가 형성된다. 이 때, 도 8에 나타내는 각 가동형(14)의 분지부(14b)는, 도 9(b)에 도시하는 바와 같이, 구부러진 측벽(3)의 절곡부(5)의 하부에서 측벽(3)의 내주면에 접촉한 상태로 되어 있다.

다음에, 도 7에 있어서 내부 금형(12)의 가압 부재(16)가 화살표 B와 같이 위쪽으로 이동된다. 이에 따라, 4개의 가동형(14)이 도 8의 탄성력 부여 기구(15)의 동작에 의해 중심 부분을 향하여 좁아지도록 평행 이동한다. 이에 따라, 도 9(b)와 같이 측벽(3)의 내주면에 접촉하고 있었던 가동형(14)의 분지부(14b)가 도 9(a)에 화살표 C로 도시하는 바와 같이, 내부 방향으로 이동하여 절곡부(5)로부터 벗어난 영역에 배치된다. 다음에, 도 7에 있어서 내부 금형(12)의 전체가 위쪽으로 들어 올려지고 해당 내부 금형(12)이 금테두리(1)로부터 방출된다. 이 때, 가동형(14)은 미리 절곡부(5)의 내측으로 이동하고 있기 때문에, 내부 금형(12)을 빼낼 때에 가동형(14)이 절곡부(5)에 부딪치는 일은 없다.

이상과 같이, 본 실시예에 따르면, 도 1(a)의 금테두리(1), 즉 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)를 갖고, 또한 서로 인접하는 측벽(3)의 사이에 드로잉 가공에 의해 형성된 각부(4)를 갖는 금테두리(1)를 정확히 제조할 수 있다. 또한, 본 실시예에 있어서는, 확개 위치과 좁아진 위치 사이에서 슬라이드 이동 가능한 가동형(14)을 이용하여 도 3의 측벽·각부 형성 공정 P2을 행하는 것으로 했기 때문에, 도 1(a)의 측벽(3) 및 각부(4)의 양쪽을 하나의 공정에서 동시에 형성할 수 있고, 매우 효율적이다.

또한, 가동형(14)의 좁힘 이동을 가능하게 하기 위해 서로 인접하는 가동 형(14)의 분지부(14b)의 사이에 마련한 공간(17)은, 측벽(3)의 중앙 부분에 대응하는 위치에 있는 것은 아니고, 중앙 부분보다 어느 하나의 중간부(14a)에 치우친 위치에 있다. 공간(17)에 대응하는 부분은 금형이 존재하지 않는 부분이기 때문에, 이 부분에 대응하는 측벽(3)은 가공 정밀도가 저하하고 있고, 경우에 따라서는 측벽(3)의 기계적 강도가 저하할 우려도 있다. 그 때문에, 이 부분이 측벽(3)의 중앙 부분에 존재하면, 금테두리(1)의 전체로서의 기계적 강도가 저하할 우려가 있다. 또한, 중간부(14a)에 의해서, 형성되는 금테두리의 각부(4)는 드로잉 가공에 의해 강도가 높게 되고 있다. 한편, 측벽(3)의 중앙 부분은, 강도가 높은 각부(4)로부터 떨어져 있기 때문에, 강도가 각부(4)보다 낮게 되어 있다. 그 때문에, 강도가 낮은 측벽(3)의 중앙 부분과 공간(17)을 일치시키는 것은 바람직하지 못하다. 그러나 본 실시예에서는, 이 공간(17)을 측벽(3)의 중앙 부분으로부터 비키어 놓은 위치, 즉 드로잉 가공에 의해 형성된 각부(4)에 가까이 간 위치에 마련했기 때문에, 완성된 금테두리(1)의 측벽(3)의 기계적 강도가 현저히 저하하는 것을 방지할 수 있다.

(전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 비교예)

본 발명에 따른 전기 광학 장치용 금테두리는, 이하에 설명하는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 비교예에 의해 제조할 수도 있다. 상기의 실시예에서는, 도 3의 측벽·각부 형성 공정 P2에 있어서, 도 1(a)의 측벽(3)의 구부림 가공과 각부(4)의 드로잉 가공을 동시에 행했다. 본 비교예에서 는, 측벽(3)의 구부림 공정을 먼저 실행하고, 다음에 각부(4)를 위한 드로잉 가공을 행한다. 예컨대, 측벽(3)의 구부림 공정에서는, 도 10(a)에 나타내는 것 같이, 각부를 가지지 않는 직선 형상의 가동형(24) 및 탄성력 부여 기구(15)를 구비한 내부 금형을 금테두리(1)의 바닥부(2)(쇄선으로 나타내고 있음)에 대응하는 위치에 설치하고, 가동형(24)을 탄성력 부여 기구(15)에 의한 탄성력에 저항하여 확개 위치로 확대한 상태에서 측벽(3)을 위한 구부림 공정을 실행한다. 이 때의 가동형(24)의 측벽(3)에 대한 위치는 도 9(b)에 부호 14b로 도시하는 바와 같이, 측벽(3)의 내주면에 접촉하는 위치이다. 이렇게 해서 직선 형상의 가동형(24)을 이용하여 측벽(3)을 구부림 가공에 의해 형성할 때, 가동형(24)은 도 1의 금테두리(1)의 각부(4)에 대응하는 위치에 금형을 가지고 있지 않기 때문에, 측벽(3)은 형성되지만, 각부(4)의 만곡 형상은 정확하게는 형성되지 않는다.

다음에, 측벽(3)이 형성된 강판을 다른 가공 공정으로 반송하여, 예컨대 도 10(b)에 나타내는 내부 금형(25)을 금테두리(1)의 바닥부(2)에 대응하는 위치에 설치한 상태에서, 금테두리(1)의 각부(4)를 드로잉 가공에 의해 형성한다. 이에 따라, 도 1(a)에 나타내는 금테두리(1)가 완성된다. 그 후, 내부 금형(25)을 완성된 금테두리(1)의 외부로 발출한다. 내부 금형(25)의 4개의 변의 주위면에는 내측으로 퇴피하는 형상의 퇴피부(26)가 미리 형성되어 있고, 내부 금형(25)은 이들 퇴피부(26)에 의해 측벽(3)의 절곡부(5)(도 1(a) 참조)를 피하는 것에 의해, 금테두리(1)의 내부로 자유롭게 들어갈 수 있고, 또한 금테두리(1)의 외부로 자유롭게 나갈 수 있다.

또, 본 비교예와 같이, 측벽(3)을 위한 구부림 공정과, 각부(4)를 위한 조임 공정을 따로따로 실시하는 것이 가능하지만, 할 수 있으면, 도 8에 나타낸 대략 L자형 형상의 슬라이드 이동 가능한 가동형(14)을 이용하여, 측벽(3)의 구부림 공정과 각부(4)의 조임 공정을 동시에 행하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 가공기의 수 및 가공 공정을 감소시킬 수 있어, 가공 시간을 단축할 수도 있기 때문이다.

(전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 실시예 2)

이하, 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 다른 실시예를 설명한다.

도 11(a)∼도 11(c)는, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법 및 제조 장치의 주요부를 나타내고 있다. 본 제조 장치에 있어서는, 금테두리(1)의 대각선상에 배치된 4개의 가동형(34)과, 금테두리(1)의 측벽(3)에 대향하는 위치에 배치된 4개의 보조 금형(35)에 의해 내부 금형이 형성되어 있다. 가동형(34)은 도 1(a)의 금테두리(1)의 각부(4)의 내주면 형상에 합치한 외주면 형상을 가진 중간부(34a)와, 상기 중간부(34a)로부터 서로 직각 방향으로 연장된 길이가 같은 한 쌍의 분지부(34b)에 의해, 직각 블럭 형상으로 구성되어 있다. 보조 금형(35)은 적절한 길이의 직선 형상 블럭에 의해 형성되어 있다.

가동형(34)은, 도 11(a)에 나타내는 좁아진 위치와, 도 11(b)에 나타내는 확개 위치 사이에서 화살표 D로 도시하는 바와 같이, 평행 이동할 수 있고, 또한 도 8에 나타낸 실시예의 경우와 같이, 탄성력 부여 기구(도 11에는 도시하지 않음)에 의해 좁아지는 방향으로 탄성적으로 가압되어 있고, 또한, 가압 부재(도시하지 않음)에 의해 확개 위치로 확대된다. 확개 위치에 있는 가동형(34)의 외주면은 금테두리의 바닥부(2)의 외둘레에 따라 위치하는 상태로 된다. 한편, 보조 금형(35)은, 도 11(a) 및 도 11(b)에 나타내는 좁아진 위치와, 도 11(c)에 나타내는 확개 위치의 사이에서 화살표 E로 도시하는 바와 같이, 평행 이동할 수 있고, 또한 가동형(34)과 마찬가지로, 탄성력 부여 기구(도시하지 않음)에 의해 좁아지는 방향으로 탄성적으로 가압되어 있고, 또한, 가압 부재(도시하지 않음)에 의해 확개 위치로 확대된다. 확개 위치에 있는 보조 금형(35)(도 11(c) 참조)은 확개 위치에 있는 가동형(34)의 분지부(34b)끼리의 사이의 공간(17)을, 대략 극간없이 매립하는 상태로 된다.

본 실시예의 제조 방법에 있어서는, 도 3에 나타낸 실시예의 경우와 마찬가지로, 절곡 가공 공정 P1에 의해 도 5와 같이 절곡부(5)가 부여된 강판(7)에 대하여, 도 3의 측벽·각부 형성 공정 P2이 실시되어, 도 1의 측벽(3) 및 각부(4)가 동시에 형성된다. 구체적으로는, 가동형(34) 및 보조 금형(35)이 도 11(a)에 나타내는 좁아진 상태에 있는 때에, 그들 금형(34, 35)이 금테두리의 바닥부(2)에 상당하는 부분의 표면에 탑재된다. 다음에, 도 11(b)에 도시하는 바와 같이, 가동형(34)이 확개 위치로 확대되고, 또한 보조 금형(35)이 도 11(c)에 나타내는 바와 같이 확개 위치로 확대된다. 확개 위치로 확대된 보조 금형(35)은, 서로 인접하는 가동형(34)의 분지부(34b)의 사이에 형성되는 공간(17)을 매립하도록 배치된다. 이에 따라, 내부 금형의 외주면은, 불연속 부분이 거의 없이 대략 연속한 균일한 표면으 로 된다.

다음에, 도시하지 않는 외부 금형이 내부 금형에 대하여 도 11의 지면 수직 방향으로 상대적으로 평행 이동된다. 이와 같이, 내부 금형(12)과 외부 금형을 협동시킴으로써, 도 1의 측벽(3)이 절곡 가공에 의해 형성되고, 동시에, 각부(4)가 드로잉 가공에 의해 형성된다. 다음에, 도 11(b) 및 도 11(a)에 도시하는 바와 같이, 보조 금형(35)이 내부로 좁아지고, 또한 가동형(34)이 내부로 좁아진다. 그리고 다음에, 완성된 금테두리(1)의 외부로 내부 금형이 발출된다. 이 때, 가동형(34) 및 보조 금형(35)은 미리 내부로 좁아진 상태이기 때문에, 내부로 돌출하는 절곡부(5)에 부딪치는 일이 없다. 본 실시예에 의하면, 서로 인접하는 가동형(34)의 사이에는 보조 금형(35)이 배치되기 때문에, 가동형(34)의 사이에 공간이 형성되는 일이 없다. 이 때문에, 측벽(3)의 구부림 가공이 불충분하게 되는 곳이 없어져, 측벽(3)의 외주면 전역에 걸쳐 균일하고 정밀도가 높은 절곡 가공을 실시할 수 있고, 그 결과, 측벽(3)의 전역에 걸쳐 내 하중 강도 및 내 굽힘 강도를 강하게 할 수 있어, 측벽(3)에 부분적으로 강도가 약한 곳이 생기는 것을 방지할 수 있다.

(전기 광학 장치의 실시예)

다음에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치를 일 실시예에 근거하여 설명한다.

도 12는 본 실시예에 따른 전기 광학 장치의 분해 사시도를 나타내고 있다. 도 13은 그 전기 광학 장치를 조립한 상태의 도 12에 있어서의 F-F 선에 따른 측면 단면 구조를 나타내고 있다. 본 실시예는 전기 광학 장치로서의 액정 장치에 본 발명을 적용한 경우를 예시하는 것이다. 또, 본 발명은 도시의 구성의 액정 장치에 한정되는 것이 아니라, 또, 전기 광학 장치는 액정 장치에 한정되는 것도 아니다. 예컨대, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등을 채용할 수 있다.

도 12에 있어서, 액정 장치(41)는, 전기 광학 패널로서의 액정 패널(42)과, 수지제의 프레임(43)과, 조명 장치(44)와, 금테두리(45)를 갖는다. 금테두리(45)는 도 2에 나타내는 금테두리(21), 즉 바닥부(2)의 하나의 짧은 변에 대응하는 부분의 측벽(3)이 절곡부(5)를 가지지 않고, 절결(11)을 가진 구성의 금테두리에 의해 구성되어 있다. 물론, 금테두리(45)를 도 1에 나타내는 금테두리(1)에 의해 구성할 수도 있다. 금테두리(45)에 있어서 도 1에 나타낸 부호와 같은 부호는 같은 부재를 나타내는 것으로 하여 그 부재의 설명은 생략한다.

수지 프레임(43)은 도 13에 도시하는 바와 같이 금테두리(45)의 내부에 배치되고, 이 수지 프레임(43)의 하부에 조명 장치(44)가 내장되며, 수지 프레임(43)의 상부에 액정 패널(42)이 내장되고 있다. 수지 프레임(43)은 금테두리(45)가 절곡부(5)의 단차에서 보지(고정)되어 있다.

도 14에 도시하는 바와 같이, 금테두리(45)의 측벽(3)의 외측에 수지 프레임(64)이 더 형성되어 있더라도 좋다. 예컨대, 수지 프레임(43)과 수지 프레임(64)은 일체로, 금테두리(45)의 측벽(3)의 적어도 일부를 덮고 있다. 수지 프레임(43)과 수지 프레임(64)의 속에 금테두리(45)의 측벽(3)의 적어도 일부가 매립되어 있다. 이와 같이, 수지 프레임(43)에 가하여, 금테두리(45)의 측벽(3)의 외측에 수지 프레임(64)을 형성함으로써, 금테두리(45)에 대한 외부로부터의 응력을 완 화할 수 있다. 즉, 금테두리(45) 자체의 강도를 높이는 것으로 된다.

금테두리(45)의 상부에는, 도 15에 도시하는 바와 같이, 금속 또는 수지에 의해 형성되는 상부 프레임(65)이 대향하도록 금테두리(45)의 절곡부(5)와 수지 프레임(43) 사이에 끼워지고 보지(고정)되어 있더라도 좋다.

조명 장치(44)는, 도 12에 도시하는 바와 같이, LED용 FPC(46)의 표면에 실장된 광원으로서의 LED(Light Emitting Diode:발광 다이오드)(47)와, 투명 수지에 의해 형성된 평판 형상의 도광체(48)와, 광 반사 시트(49)와, 광 확산 시트(50)를 갖는다. LED(47)는 FPC(46)을 거쳐 외부의 제어 회로에 의해 구동되어 소망의 광량으로 점등한다. LED(47)로부터의 점 형상의 발광은 도광체(48)의 측면으로부터 상기 도광체(48)로 도입되고, 도광체(48)의 액정 패널(42)측의 주면으로부터 면형상의 광으로서 사출하여 액정 패널(42)을 조명한다.

액정 패널(42)은 한 쌍의 기판(52, 53)을 갖는다. 이들 기판은, 예컨대 유리에 의해 직사각형 형상의 판형상으로 형성되어 있다. 이들 기판은 에폭시계 수지 등에 의해 형성된 밀봉재에 의해 그들의 내부의 주변 영역에서 서로 접착되어 있다. 그들의 기판(52, 53)의 사이에는, 예컨대 5㎛ 정도의 간격인 셀갭이 형성되고, 그 셀갭 내에 광 변조 요소인 액정이 봉입되어 있다. 기판(52, 53)의 외측 표면에는, 각각 편광판(54a, 54b)이 점착되어 있다. 편광판(54a, 54b)(도 3 참조)의 편광 투과축은 소정의 각도로 교차하고 있다. 필요에 따라, 편광판(54a, 54b)과 각 기판(52, 53)과의 사이에 위상차판을 마련하더라도 좋다. 도면의 상부 기판(53)보다 외측으로 돌출하는 부분의 하부 기판(52)의 표면에 구동용 IC(55)이 ACF(Anisotropic Conductive Film:이방성 도전막)을 이용한 COG(Chip On Glass) 기술에 의해 실장되어 있다. 구동용 IC(55)은 주사선 구동 회로, 데이터선 구동 회로, 그 밖의 회로를 포함하고 있다. 하부 기판(52)의 변단 부분에 LCD용 FPC(56)이, 예컨대 ACF에 의해 접속되어 있고, 이 LCD용 FPC(56)을 거쳐서 외부의 제어 회로로부터 구동용 IC(55)로 RGB 화상 신호 등이 전송된다.

액정 패널(42)은 임의의 액정 구동 방식, 예컨대, 단순 매트릭스 방식, 액티브 매트릭스 방식에 의해 구동된다. 또, 액정 패널(42)의 동작 모드는 임의의 동작 모드, 예컨대, TN(Twisted Nematic), STN(Super Twisted Nematic), VA(Vertical Aligned Nematic:수직 배향), ECB(Electrically Controlled Birefringence:전계 제어 복굴절), IPS(In-Plain Switching), FFS(Fringe Field Switching) 등의 각 모드를 선정할 수 있다. 또, 액정 패널(42)은 임의의 채광 방식, 예컨대 반사형, 투과형, 또는 반투과 반사형을 채용할 수 있다. 반투과 반사형은 화소의 일부를 반사영역으로서 이용하고, 다른 일부를 투과영역으로서 이용하는 것에 의해, 필요에 따라 반사형과 투과형을 선택적으로 채용하는 방식이다. 본 실시예에서는 조명 장치(44)를 백라이트로서 이용하기로 했기 때문에, 채광 방식으로서는 투과형 또는 반투과 반사형이 채용된다. 또, 반사형을 채용하는 경우, 조명 장치(44)를 이용하지 않는 구성으로 된다.

단순 매트릭스 방식은, 각 화소에 능동 소자를 가지지 않고, 주사 전극과 데이터 전극과의 교차부가 화소 또는 도트에 대응하고, 구동 신호가 직접 인가되는 매트릭스 방식이다. 이 방식에 대하여 적합하게 이용되는 동작 모드로서는 TN, STN, VA, ECB 등이 있다. 액티브 매트릭스 방식은, 화소 또는 도트마다 능동 소자가 마련되어, 기입 기간에서는 능동 소자가 온 상태로 되어 데이터 전압이 기입되고, 다른 기간에서는 능동 소자가 오프 상태가 되어 전압이 보지되는 매트릭스 방식이다. 이 방식에서 사용하는 능동 소자에는 3단자형과 2단자형이 있다. 3단자형의 능동 소자에는, 예컨대 TFT(Thin Film Transistor:박막 트랜지스터)가 있다. 2단자형의 능동 소자에는, 예컨대 TFD(Thin Film Diode:박막 다이오드)가 있다.

액정 패널(42)로서 TFT 소자를 이용한 액티브 매트릭스 방식의 액정 패널을 이용하는 것으로 하면, 그 전기적인 등가 회로는 도 16에 나타내는 바와 같다. 도 16에 있어서, 복수 라인의 주사선(58)이 행 방향 X로 연장되어 형성되어 있다. 또, 복수 라인의 데이터선(59)이 주사선(58)과 직교하는 열 방향 Y로 연장되어 형성되어 있다. 주사선(58)과 데이터선(59)은 절연막에 의해 서로 절연되어 있다. 주사선(58)은 주사선 구동 회로(62)의 출력 단자에 이어져 있고, 데이터선(59)은 데이터선 구동 회로(63)의 출력 단자에 이어져 있다. 주사선 구동 회로(62) 및 데이터선 구동 회로(63)에는, 통상, 타이밍 동기 회로(도시하지 않음)가 접속되어 양자의 동작 타이밍이 조정되어 있다. 또, 데이터선 구동 회로(63)에는, 통상, R, G, B 3색 또는 R, G1, G2, B4색(자세하게는 후술함)의 화상 신호가 전송된다. 주사선 구동 회로(62) 및 데이터선 구동 회로(63)는 도 12의 구동용 IC(55)의 내부에 마련되어 있다.

주사선(58)과 데이터선(59)에 의해 둘러싸인 직사각형 형상의 평면 영역 내에 온·오프의 최소 단위인 서브화소 P가 마련되어 있다. 그리고, 주사선(58)과 데이터선(59)과 교차부의 근방으로서 각각의 서브화소 P에 대하여 TFT 소자(60)가 마련되어 있다. 주사선(58)은 TFT 소자(60)의 게이트 전극에 이어져 있다. 또, 데이터선(59)은 TFT 소자(60)의 소스 전극에 이어져 있다. 각 서브화소 P 내에는 섬 형상(즉 도트 형상)의 화소 전극(61)이 투광성의 도전 재료, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide:인듐 주석 산화물), IZO(Indium Zinc Oxide:인듐 아연 산화물)에 의해 형성되어 있다. 각 화소 전극(61)은 대응하는 TFT 소자(60)의 드레인 전극에 이어져 있다.

도시는 하지 않지만, 필요에 따라, 각 서브화소 P에 대하여 보조 용량을 마련할 수 있다. 이 보조 용량은 화소 전극(61)에 부수되는 용량이 지나치게 작아지는 것을 방지하기 위해 마련되는 것이다. 이 보조 용량은, 예컨대, TFT 소자(60)의 게이트 전극과 같은 층내에 같은 재료로 주사선(58)과 평행하게 형성된 제 1 전극과, 그 제 1 전극을 덮는 절연막(통상은 TFT 소자의 게이트 절연막에 의해 형성됨)과, 그 각 서브화소 P 내의 절연막 상으로서 TFT 소자의 드레인 전극과 같은 층내에 형성된 제 2 전극에 의해 형성된다.

서브화소 P에 관한 이상의 구성은, 일반적으로는, 도 12에 있어서 구동용 IC(55)이 실장된 기판(52)의 액정측의 표면에 마련된다. 기판(53)의 액정측의 표면에는 복수의 서브화소 P에 대향하는 면 형상의 공통 전극이 ITO, IZO 등에 의해 형성된다. 이 공통 전극은, 기판(52, 53) 상에 형성된 배선 패턴 및 기판(52)과 기판(53) 사이에 마련된 도전 부재를 거쳐 구동용 IC(55)에 도전 접속된다.

액정 패널(42)에 있어서 컬러 표시를 행하는 경우에는, 한 쌍의 기판(52, 53) 중의 한쪽(통상은, TFT 소자가 마련된 기판에 대향하는 기판)에 컬러필터가 마련된다. 컬러필터는, 특정 파장 영역의 광을 선택적으로 투과하는 복수의 착색막에 의해 형성된다. 예컨대, B(청색), G(녹색), R(적색)의 3색을 1색씩 기판상의 각 서브화소에 대응시켜 소정의 배열, 예컨대 스트라이프 배열, 델타 배열, 모자이크 배열로 나열하는 것에 의해 형성된다. 또, R, B의 2색에 덧붙여 2색의 G(G1 및 G2)을 부가한 4색으로 컬러필터를 구성할 수도 있다. 4색의 착색막을 이용하면, NTSC비 상에서의 색 재현 영역을 확대할 수 있어, 각 색조를 풍부히 표현할 수 있다.

도 16에 있어서 적절한 주사선(58)에 온(on) 신호가 전송되고, 그 주사라인 내의 적절한 데이터선(59)에 데이터 신호가 전송되면, 해당하는 TFT 소자(60)가 온 상태가 되어, 해당하는 서브화소 P 내의 액정으로의 기입이 행해진다. 또, 잇따라 TFT 소자(60)가 오프(off) 상태로 되면, 기입된 상태가 보지된다. 이 일련의 기록 동작 및 보지 동작에 의해 액정 분자의 배향이 제어되어, 액정층을 통과하는 편광이 변조된다.

도 12에 있어서, LED용 FPC(46)은 LCD용 FPC(56)에 커넥터, 납땜 등에 의해 접속된다. 그리고, LCD용 FPC(56)은 금테두리(45)의 측벽(3)이 없는 변 부분을 통해 금테두리(45)의 외부로 인출되고, 외부의 제어 회로에 접속된다. 최근, 액정 장치(41)에는 박형화가 요구되고 있다. 이것에 따르기 위해, 본 실시예의 액정 패널(42) 및 조명 장치(44)는 매우 얇게 형성되어 있다. 이 때문에, 수지 프레임(43) 및 금테두리(45)도 매우 얇게 형성되어 있다. 예컨대, 금테두리(45)의 두 께(즉 측벽의 높이)는 1.2mm 정도의 매우 얇은 두께로 형성되어 있다. 금테두리(45)가 얇아지면, 그 금테두리(45)의 내 하중 강도 및 내 굽힘 강도가 저하하여, 수용한 전자 부품인 액정 패널(42)을 보호하는 기능을 충분히 하지 못할 우려가 있다. 그러나, 본 실시예에서는, 금테두리(45)의 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)를 형성하고, 또한 절곡부(5)를 가진 측벽(3)의 사이에 드로잉 가공에 의해 각부(4)를 형성했기 때문에, 금테두리(45)에 충분한 기계적 강도를 갖게 하는 것이 가능해지고, 그 결과, 액정 패널(42)을 확실히 보호할 수 있게 되었다.

(전기 광학 장치의 제조 방법의 실시예)

다음에, 도 12에 나타낸 전기 광학 장치를 제조하기 위한 제조 방법에 대하여 설명한다.

도 17은 본 실시예에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법의 공정도이다. 본 실시예는 전기 광학 장치의 제조 방법으로서의 액정 장치의 제조 방법에 본 발명을 적용한 경우를 예시하는 것이다. 또, 본 발명은 도시의 구성의 액정 장치의 제조 방법에 한정되는 것이 아니라, 또, 전기 광학 장치의 제조 방법은 액정 장치의 제조 방법에 한정되는 것도 아니다.

도 17에 있어서, 액정 장치(41)의 제조 방법은, 전기 광학 패널로서의 액정 패널(42)과, 수지제의 프레임(43)과, 조명 장치(44)와, 금테두리(45)를 갖는다. 복수의 측벽(3) 및 측벽(3)의 사이에 마련된 각부(4)를 구비하는 금테두리(45)를 형성하는 금테두리 형성 공정 P11과, 금테두리(45)에 액정 패널(42)을 수용하는 전 기 광학 패널 수용 공정 P12을 갖는다. 금테두리 형성 공정 P11은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 절곡 가공 공정 P1 및 그것에 이어지는 측벽·각부 형성 공정 P2을 갖는다. 금테두리(45)는 도 2에 나타내는 금테두리(21), 즉 바닥부(2)의 하나의 짧은 변에 대응하는 부분의 측벽(3)이 절곡부(5)를 가지지 않고, 절결(11)을 가진 구성의 금테두리에 의해 구성되어 있다. 물론, 금테두리(45)를 도 1에 나타내는 금테두리(1)에 의해 구성할 수도 있다. 금테두리(45)에 있어서 도 1에 나타낸 부호와 같은 부호는 같은 부재를 나타내는 것으로 하여 그 부재의 설명은 생략한다.

전기 광학 패널 수용 공정 P12에서는, 수지 프레임(43)이 도 13에 도시하는 바와 같이 금테두리(45)의 내부에 배치되고, 이 수지 프레임(43)의 하부에 조명 장치(44)가 내장되며, 수지 프레임(43)의 상부에 액정 패널(42)이 내장된다. 수지 프레임(43)은 금테두리(45)가 절곡부(5)의 단차에서 보지(고정)되어 있다.

금테두리(45)와 수지 프레임(43)은 삽입 성형되어 있더라도 좋다. 예컨대, 금형 내에 삽입 부품인 금테두리(45)를 배치한 후에, 금테두리(45)의 내주를 둘러싸도록 배치한 캐비티에 수지를 충전하여, 금테두리(45)와 수지 프레임(43)을 일체적으로 형성하는 삽입 성형품이다.

이상과 같이, 본 실시예에 의하면, 도 1(a)의 금테두리(1), 즉 측벽(3)의 선단에 절곡부(5)를 갖고, 또한 서로 인접하는 측벽(3)의 사이에 드로잉 가공에 의해 형성된 각부(4)를 갖는 금테두리(1)를 구비하는 전기 광학 장치를 정확히 제조할 수 있다.

(전자기기)

도 18은 본 실시예에 따른 전자기기의 일례를 나타내는 사시도이다. 도 18에 나타내는 휴대형전화기(90)는, 상기 실시예의 액정 장치(41)를 소사이즈의 표시부(92)로서 구비하고, 복수의 조작 버튼(94), 수화구(96), 및 송화구(98)를 구비하여 구성되어 있다. 또, 본 실시예에 따른 금테두리는, 측벽의 선단 부분에 절곡부를 갖기 때문에 측벽의 강도를 강하게 할 수 있다. 그리고, 절곡부가 형성된 측벽끼리는 이음매가 없는 만곡 형상으로 이어져 있기 때문에, 각 절곡부의 강도를 조합시킨 강도를 금테두리 전체의 강도로 할 수 있고, 그 때문에, 금테두리의 전체의 강도를 현저히 높일 수 있다. 이 때문에, 금테두리의 두께가 얇아지더라도 충분한 기계적 강도를 보지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 금테두리를 구비하는 전자기기는 얇아도 높은 강도를 갖기 때문에, 액정 장치(41)의 전기 광학 패널이 얇게 형성되는 경우라도 금테두리에 의해 그 전기 광학 패널을 기계적인 부하로부터 보호할 수 있다.

상기 실시예에 따른 액정 장치(41)는, 상기 휴대형 전화기(90)에 한정되지 않고, 전자북, 퍼스널 컴퓨터, 디지털 스틸 카메라, 액정 텔레비젼, 뷰파인더형 혹은 모니터 직시형의 비디오 테이프 레코더, 카 내비게이션 장치, 호출기, 전자수첩, 전자계산기, 워드프로세서, 워크스테이션, 화상전화, POS 단말, 터치패널을 구비한 기기, 필드 순차(FS) 표기 방식을 이용한 3D 액정 표시 장치, 2화면 액정 표시 장치, 프로젝션 텔레비젼용 기입 밸브 등등의 화상 표시 수단으로서 적합하게 이용할 수 있고, 어느 전자기기에 있어서도, 투과 표시 및 반사 표시에서 응답 완 화 시간이 단축된 고속 응답 표시가 가능하다.

(그 밖의 실시예)

이상, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 그 실시예에 한정되는 것이 아니고, 청구의 범위에 기재한 발명의 범위 내에서 다양하게 개변할 수 있다.

예컨대, 금테두리는 액정 패널을 수용하기 위해서뿐만 아니라, 액정 패널 이외의 전기 광학 패널, 예컨대 유기 EL 패널, 플라즈마 디스플레이용 패널 등과 같은 플랫 디스플레이용 패널을 수용하기 위해 이용할 수 있다. 또, 금테두리는 플랫 디스플레이용 패널 이외의 전자 부품을 수용하기 위해 이용할 수도 있다.

도 12의 실시예에서는, 액정 패널(42)과 조명 장치(44)로 이루어지는 표시 유닛의 배면측에 금테두리(45)를 마련했다. 이 대신에, 표시 유닛의 전면측, 즉 액정 패널(42)의 화상 표시면 측에 금테두리(45)를 마련할 수도 있다. 단지, 이 경우에는, 액정 패널(42)의 화상 표시 영역을 시인할 수 있는 개구를 금테두리(45)의 저면 부분에 마련해 놓아야 한다. 또, 도 12의 실시예에서는, 표시 유닛의 한쪽의 면에 금테두리(45)를 마련했다. 그러나, 금테두리는 표시 유닛의 한쪽의 면뿐만 아니라, 표시 유닛의 양쪽 면에 마련할 수도 있다. 이 경우에는, 한쪽의 금테두리와 다른 쪽의 금테두리에 감입(嵌入) 구조를 마련해두고, 그 감입 구조에 의해 양 금테두리를 결합할 수 있다. 또, 한 쌍의 금테두리를 결합시키는 구성의 경우, 액정 패널(42)의 화상 표시측에 마련되는 금테두리에는, 액정 패널(42)의 화상 표시 영역을 시인할 수 있는 개구를 마련해놓아야 한다.

상기 각 실시예에서는, 4개의 측벽(3)의 모두에 절곡부(5), 또는 3개의 측벽(3)에 절곡부(5)를 갖고, 나머지의 하나의 측벽(3)에는 절곡부(5)를 갖지 않고, 나머지의 하나의 측벽(3)에는 중간부에 절결(11)을 마련했다. 이 대신에, 그들 측벽(3)의 적어도 하나의 측벽(3)에만 절곡부를 가지는 구성으로 할 수도 있다. 이 경우, 절곡부(5)를 가지지 않는 측벽(3)에는 도 1에 있어서의 작은 노치 부분(6)은 마련되지 않는다. 또, 절곡부(5)를 가지지 않는 측벽(3)의 바닥부(2)의 저면(도면의 이면)으로부터의 높이는, 절곡부(5)를 갖는 측벽(3)의 높이보다 낮게 할 수도 있고, 혹은 높게 할 수도 있다. 또, 절곡부(5)는 하나의 측벽(3)의 전체가 아니라, 적어도 일부에 마련된 구성으로 할 수 있다.

도 2에 나타낸 실시예에서는, 금테두리(21)의 바닥부(2)의 하나의 짧은 변에 비교적 큰 폭의 절결(11)을 마련했다. 또, 절결(11)의 깊이를 대략 측벽(3)의 높이와 같게 했다. 이 대신에, 보다 좁은 폭의 절결(11)을 마련할 수도 있다. 이 경우에는, 절결(11)의 양측에 절곡부(5)를 가지지 않는 측벽(3)이 각부(4)까지의 사이에 마련되는 것으로 된다. 또, 측벽(3)의 높이보다 얕은 절결(11)을 마련할 수도 있다. 이 경우에는, 그 변의 부분에 그 밖의 변의 측벽(3)보다 높이가 낮은 측벽(3)이 형성되는 것으로 된다.

또한, 상기 각 실시예에서는, 절곡부(5)는, 내면끼리 서로 접촉할 때까지 구부리는 것에 의해 형성된 구부린 구조인 헤밍 구조로 하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라, 내면끼리 접촉하지 않고 대향하여 구부러진 구부림 구조이더라도 좋다.

도 19(a) 및 (b)은 비교예에 따른 금테두리를 도시하는 도면이다. 도 19(a)는, 측벽(101)의 선단에 헤밍 구조(102)를 부여한 구성의 금테두리(103)이다. 또한, 도 19(b)은, 측벽(101)의 선단에 헤밍 구조를 갖지 않고, 그들의 측벽(101)의 사이에 각부(104)를 갖는 구성의 금테두리(105)이다. 도 19(a)에 나타내는 금테두리에 있어서는, 각부에서의 보강이 약하기 때문에, 금테두리의 대각선 방향으로 왜곡이 발생했다. 또한, 도 19(b)의 구조에 있어서는, 측벽의 높이가 낮고 또한 헤밍 구조를 채용하지 않기 때문에, 금테두리의 세로, 혹은 가로 방향에서 왜곡이 발생했다. 도 19(a) 및 (b)의 어느 쪽의 구성도 상기한 본 발명의 각 실시예에 따른 금테두리에 비해 강도가 약하고, 전기 광학 장치에 이용하는 금테두리로서는 불충분한 것이었다.

도 1은 본 발명에 따른 금테두리의 일 실시예를 나타내는 사시도,

도 2는 본 발명에 따른 금테두리의 다른 실시예를 나타내는 사시도,

도 3은 본 발명에 따른 금테두리의 제조 방법의 일 실시예의 공정도,

도 4는 금테두리의 제조 과정을 나타내는 평면도 및 측면도,

도 5는 도 4에 이어지는 금테두리의 제조 과정을 나타내는 평면도 및 측면 단면도,

도 6은 도 5에 이어지는 금테두리의 제조 과정을 나타내는 평면도 및 측면도,

도 7은 본 발명에 따른 금테두리의 제조 방법에서 이용하는 금형의 일례를 나타내는 측면도,

도 8은 도 7에서 나타낸 금형의 평면도,

도 9는 도 7 및 도 8에 나타낸 금형의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 10은 비교예에 따른 금테두리의 제조 방법에서 이용하는 금형을 나타내는 평면도,

도 11은 본 발명에 따른 금테두리의 제조 방법의 다른 실시예에서 이용하는 금형을 나타내는 평면도,

도 12는 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 일 실시예인 액정 장치를 나타내는 분해 사시도,

도 13은 도 12에 나타내는 액정 장치의 측면 단면도,

도 14는 도 12에 나타내는 액정 장치의 측면 단면도,

도 15는 도 12에 나타내는 액정 장치의 측면 단면도,

도 16은 도 12에 나타내는 액정 장치의 전기적인 등가 회로를 도시한 도면,

도 17은 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 제조 방법의 일 실시예의 공정도,

도 18은 본 발명에 따른 전자기기의 일례를 나타내는 사시도,

도 19는 비교예에 따른 금테두리를 나타내는 사시도.

부호의 설명

1 : 금테두리 2 : 바닥부

3 : 측벽 4 : 각부

5 : 절곡부 6 : 노치 부분

7 : 강판 8 : 측벽 부분

9 : 각부 대응 부분 10 : 절곡대

11 : 절결 12 : 내부 금형

13 : 외부 금형 14 : 가동형

14a : 중간부 14b : 분지부

15 : 탄성력 부여 기구 16 : 가압 부재

17 : 공간 18 : 테이블

21 : 금테두리 24 : 가동형

25 : 내부 금형 26 : 퇴피부

34 : 가동형 34a : 중간부

34b : 분지부 35 : 보조 금형

41 : 액정 장치(전기 광학 장치) 42 : 액정 패널(전기 광학 패널)

43 : 수지 프레임 44 : 조명 장치

45 : 금테두리 46 : LED용 FPC

47 : LED 48 : 도광체

49 : 광 반사 시트 50 : 광 확산 시트

52, 53 : 기판 54a, 54b : 편광판

55 : 구동용 IC 56 : LCD용 FPC

58 : 주사선 59 : 데이터선

60 : TFT 소자 61 : 화소 전극

62 : 주사선 구동 회로 63 : 데이터선 구동 회로

64 : 수지 프레임 65 : 상부 프레임

90 : 휴대형 전화기 92 : 표시부

94 : 조작 버튼 96 : 수화구

98 : 송화구 P : 서브화소

Claims

전기 광학 패널과,

상기 전기 광학 패널을 수용한 금테두리를 갖고,

상기 금테두리는 복수의 측벽 및 상기 측벽의 사이에 마련된 각부(角部)를 구비하고,

적어도 하나의 상기 측벽의 적어도 일부의 선단은 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 갖고,

상기 절곡부를 갖는 측벽과 인접하는 적어도 하나의 상기 각부는 이음매가 없는 만곡 형상으로 형성되어 있고,

상기 금테두리는, 상기 절곡부와 상기 각부 사이의 측벽의 선단에는 노치부(notch portion)를 갖고 있는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 금테두리의 상기 이음매가 없는 만곡 형상의 각부는 평판 금속을 드로잉(drawing) 가공하여 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 금테두리는 평면 형상이 직사각형 형상인 바닥부를 더 갖고, 상기 절곡 부를 갖는 측벽은 상기 바닥부의 4변에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 3 항에 있어서,

상기 금테두리는 4변에 마련된 상기 절곡부를 갖는 측벽 사이의 4개소의 각각에 상기 각부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 금테두리는 평면 형상이 직사각형 형상인 바닥부를 더 갖고, 상기 복수의 측벽은 상기 바닥부의 4변에 마련되고, 상기 4변 중 적어도 3변의 측벽은 절곡부를 갖고, 상기 4변 중 적어도 1변의 측벽은 중간부에 절결을 갖고, 상기 4변에 형성된 측벽 사이의 4개소의 각각에 상기 각부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
삭제
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 절곡부는 내면끼리 서로 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
복수의 측벽과,

상기 측벽의 사이에 마련된 각부를 갖고,

적어도 하나의 상기 측벽의 적어도 일부의 선단은 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 갖고,

적어도 하나의 상기 각부는 이음매가 없는 만곡 형상으로 형성되어 있는

상기 절곡부와 상기 각부 사이의 측벽의 선단에는 노치부(notch portion)를 갖고 있는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리.
복수의 측벽 및 상기 측벽의 사이에 마련된 각부를 구비하는 금테두리를 형성하는 금테두리 형성 공정과,

상기 금테두리에 전기 광학 패널을 수용하는 전기 광학 패널 수용 공정을 갖고,

상기 금테두리 형성 공정은,

평판을 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 적어도 하나의 상 기 측벽으로 되는 영역의 적어도 일부의 선단에 형성하는 절곡 가공 공정과,

상기 복수의 측벽으로 되는 영역을 구부러진 영역이 내측으로 되도록 구부리는 구부림 가공에 의해 상기 측벽을 형성하고, 또한 상기 각부를 드로잉 가공에 의해 형성하는 측벽·각부 형성 공정

을 갖고,

상기 측벽·각부 형성 공정은, 상기 평판의 금테두리의 내부로 되는 영역에 배치된 내부 금형과 상기 금테두리의 외부로 되는 영역에 배치된 외부 금형을 이용하여 행해지고,

상기 내부 금형은 상기 각부로 되는 영역에 대응하여 배치되는 가동형(可動型)을 갖고,

상기 가동형은 상기 각부를 이루는 형상을 구비한 중간부와, 상기 중간부로부터 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부에 의해 형성되고,

상기 가동형은 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고,

상기 측벽을 형성하기 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 형성하기 위한 드로잉 가공은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태에서 상기 내부 금형과 상기 외부 금형에 의해 협동(協同)하여 행해지고,

상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태에서 행해지는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
제 9 항에 있어서,

서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되어 있고,

상기 공간은 상기 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 한쪽의 상기 각부로 치우친 위치에 마련되는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
제 9 항에 있어서,

서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되어 있고,

상기 공간은 상기 금테두리의 측벽 중의 치수 정밀도의 허용 오차가 큰 부분에 대응하여 마련되어 있는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 가동형은, 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되어 있고, 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
평판에 복수의 측벽으로 되는 영역을 갖고, 내면끼리 서로 대향하여 구부러진 구조인 절곡부를 적어도 하나의 상기 측벽으로 되는 영역의 적어도 일부의 선단에 형성하는 절곡 가공 공정과,

상기 복수의 측벽으로 되는 영역을 구부러진 영역이 내측으로 되도록 구부리는 구부림 가공에 의해 상기 측벽을 형성하고, 또한, 상기 복수의 측벽으로 되는 영역의 사이에 마련된 각부로 되는 영역을 드로잉 가공에 의해 상기 각부를 형성하는 측벽·각부 형성 공정

을 갖고,

상기 측벽·각부 형성 공정은, 상기 평판의 금테두리의 내부로 되는 영역에 배치된 내부 금형과 상기 금테두리의 외부로 되는 영역에 배치된 외부 금형을 이용하여 행해지고,

상기 내부 금형은 상기 각부로 되는 영역에 대응하여 배치되는 가동형을 갖고,

상기 가동형은 상기 각부를 이루는 형상을 구비한 중간부와, 상기 중간부로부터 서로 직각 방향으로 연장된 한 쌍의 분지부에 의해 형성되고,

상기 가동형은 넓어지는 방향 및 좁아지는 방향의 양쪽으로 이동 가능하고,

상기 측벽을 형성하기 위한 구부림 가공 및 상기 각부를 형성하기 위한 드로잉 가공은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 넓어진 상태로 상기 내부 금형과 상기 외부 금형에 의해 협동하여 행해지고,

상기 내부 금형을 상기 금테두리의 외부로 발출하는 공정은, 상기 가동형이 상기 금테두리의 내부에서 좁아진 상태로 행해지는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 그 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되어 있고,

상기 공간은 상기 금테두리의 측벽의 중앙부보다 어느 한쪽의 상기 각부로 치우친 위치에 마련되는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

서로 인접하는 한 쌍의 상기 가동형의 분지부의 사이에는, 상기 한 쌍의 가동형이 좁아지는 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 공간이 마련되어 있고,

상기 공간은 상기 금테두리의 측벽 중의 치수 정밀도의 허용 오차가 큰 부분에 대응하여 마련되어 있는

것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법.
제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 가동형은, 탄성력에 의해 상기 넓어지는 방향 또는 상기 좁아지는 방향으로 가압되어 있고, 가압 부재에 의해 눌리는 것에 의해 상기 탄성력에 저항하여 상기 좁아지는 방향 또는 상기 넓어지는 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리의 제조 방법.
청구항 1 또는 2에 기재된 전기 광학 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 전자기기.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 절곡부가 형성된 상기 측벽의 높이와 상기 각부의 높이가 동일한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 절곡부가 형성된 상기 측벽의 높이와 상기 각부의 높이가 동일한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 금테두리.