KR100974846B1 - 스퍼터링 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 처리실과,상기 처리실 내에 상호 평행하게 수평으로 배치된 제 1, 제 2 회전축과,상기 제 1, 제 2 회전축에 설치되고, 상기 제 1, 제 2 회전축이 회전하면, 수평 자세와 기립 자세를 취하는 제 1, 제 2 지지판과,상기 처리실 내에 연직으로 배치되어, 기립 자세로 되는 상기 제 1, 제 2 지지판과 대면가능한 타겟과,상기 처리실의 상기 타겟과 대면하는 위치로 형성되어, 개폐가능한 통과공과,상기 통과공에서 상기 처리실과 접속된 반송실을 갖고,상기 제 1, 제 2 지지판이, 상기 제 1, 제 2 회전축 사이의 위치에서 수평 자세를 취할 수 있도록 구성된 스퍼터링 장치를 이용하여,상기 타겟을 스퍼터링하고, 기립자세의 상기 제 1 지지판에 배치되어, 상기 타겟에 대면된 제 1 기판 표면에 박막을 성장시키면서,박막이 미형성된 제 2 기판을 상기 통과공을 통과시켜 상기 반송실로부터 상기 처리실 내로 반입하고, 수평자세의 상기 제 2 지지판 상에 배치하는 스퍼터링 방법으로서,상기 제 1, 제 2 회전축은 수평면 내에서 회전 가능하게 구성되고,상기 제 1 기판의 스퍼터링이 종료된 후, 회전 기구에 의해, 상기 제 1, 제 2 회전축을 180°회전시키고, 상기 제 2 지지판을 기립자세로 하여, 상기 제 2 기판을 상기 타겟과 대면시켜, 상기 타겟을 스퍼터링하는, 스퍼터링 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 스퍼터링 장치는, 상기 제 1, 제 2 회전축이 다른 높이로 배치되고, 상기 제 1, 제 2 지지판이 상기 제 1, 제 2 회전축 사이의 위치에서 겹쳐서 수평 자세를 취할 수 있도록 구성되고,상기 제 1, 제 2 지지판을 승강 이동시키고, 기립 자세의 상기 제 1, 제 2 지지판을 동일 높이로 하여 상기 제 1, 제 2 기판 표면에 박막을 성장시키는, 스퍼터링 방법.
- 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 타겟의 스퍼터링 중에, 상기 반송실에 접속된 다른 처리실로부터 기판을 꺼내고,상기 다른 처리실로부터 상기 기판을 꺼내는 때에는 상기 통과공을 닫고, 상기 반송실을 상기 처리실보다 저압력으로 하고,상기 통과공을 열어 상기 반송실의 내부 분위기와 상기 처리실의 내부 분위기를 접속하기 전에, 상기 반송실의 내부 분위기를 상기 다른 처리실의 내부 분위기로부터 차단하고, 상기 반송실내로 스퍼터링 가스를 도입하여, 상기 반송실의 압력을 상승시키는, 스퍼터링 방법.
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