JP3242145B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
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- JP3242145B2 JP3242145B2 JP12509792A JP12509792A JP3242145B2 JP 3242145 B2 JP3242145 B2 JP 3242145B2 JP 12509792 A JP12509792 A JP 12509792A JP 12509792 A JP12509792 A JP 12509792A JP 3242145 B2 JP3242145 B2 JP 3242145B2
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- Japan
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- arm
- substrate
- chamber
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板にエッチング等の
処理を施す基板処理装置に用いて好適な基板搬送装置に
関するものである。
処理を施す基板処理装置に用いて好適な基板搬送装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイやＥＬ（エレク
トロルミネセンス）マトリクス表示パネル等の表示装置
においては大面積化が著しく、用いられるガラス基板に
おいても大型のものの需要が増加しつつある。このよう
にガラス基板が大型化すると、該ガラス基板の表面に処
理を施した場合の表面状態については極めて均一である
ことが要求され、前記ガラス基板に対して例えばプラズ
マアッシングやプラズマエッチング等の処理を施す基板
処理装置においても、均一かつ高速の処理速度が求めら
れている。このため、従来のバッチ式の基板処理装置に
代わり、上記の性能に優れた枚葉式基板処理装置が主流
になりつつある。この枚葉式基板処理装置は、ガラス基
板を一枚づつ処理する方式の装置であって、通常、処理
が行なわれるチャンバと、前記基板のロード・アンロー
ド用カセットと、前記チャンバと基板のロード・アンロ
ード用カセットとの間に設けられ前記基板を一枚づつ受
け渡すための基板搬送装置とから構成され、該基板搬送
装置としては周回するベルト上に基板を載せて搬送する
構造のものが一般的であった。
トロルミネセンス）マトリクス表示パネル等の表示装置
においては大面積化が著しく、用いられるガラス基板に
おいても大型のものの需要が増加しつつある。このよう
にガラス基板が大型化すると、該ガラス基板の表面に処
理を施した場合の表面状態については極めて均一である
ことが要求され、前記ガラス基板に対して例えばプラズ
マアッシングやプラズマエッチング等の処理を施す基板
処理装置においても、均一かつ高速の処理速度が求めら
れている。このため、従来のバッチ式の基板処理装置に
代わり、上記の性能に優れた枚葉式基板処理装置が主流
になりつつある。この枚葉式基板処理装置は、ガラス基
板を一枚づつ処理する方式の装置であって、通常、処理
が行なわれるチャンバと、前記基板のロード・アンロー
ド用カセットと、前記チャンバと基板のロード・アンロ
ード用カセットとの間に設けられ前記基板を一枚づつ受
け渡すための基板搬送装置とから構成され、該基板搬送
装置としては周回するベルト上に基板を載せて搬送する
構造のものが一般的であった。
【０００３】ところが、この基板搬送装置においては、
ベルトが周回する間に該ベルトから多量のダストが発生
し、このダストは汚染を極度に嫌う基板に付着し当該基
板の品質を低下させることとなり、ひいては当該基板を
用いた表示装置の品質の低下を引き起こし、製品歩留ま
りも低下する等の問題があった。また、基板はベルトの
摩擦力（粘着力）により搬送されるために位置決めが不
正確になり易く、しばしば基板が破損する等の問題もあ
った。そこで、上記の問題点を解消する基板搬送装置と
して、基板を載せるハンドが先端に設けられたアーム部
を有するマニピュレータ（いわゆるロボット）を備えた
ものが用いられつつある。
ベルトが周回する間に該ベルトから多量のダストが発生
し、このダストは汚染を極度に嫌う基板に付着し当該基
板の品質を低下させることとなり、ひいては当該基板を
用いた表示装置の品質の低下を引き起こし、製品歩留ま
りも低下する等の問題があった。また、基板はベルトの
摩擦力（粘着力）により搬送されるために位置決めが不
正確になり易く、しばしば基板が破損する等の問題もあ
った。そこで、上記の問題点を解消する基板搬送装置と
して、基板を載せるハンドが先端に設けられたアーム部
を有するマニピュレータ（いわゆるロボット）を備えた
ものが用いられつつある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ロボットを備えた基板搬送装置においては、通常、３軸
タイプのロボットを搭載しているが、このロボットは構
造が複雑になるために非常に高価になることと、タイミ
ングベルトを用いているので静止状態から起動動作する
際にアームが左右に振れ、載置された基板がカセット等
に接触し該ガラス基板がズレるという欠点があった。ま
た、例えばチャンバ内に処理すべき次の基板をセットす
るには、まず、チャンバ内の処理済み基板を取り出し当
該基板をアンロード用カセットに収納した後、未処理の
基板をロード用カセットから取り出しチャンバ内にセッ
トするというように、処理済み基板と未処理基板の搬送
を順次行なわなければならないために、基板の搬送に要
する時間が長く、処理装置のスループット（単位時間当
りの基板処理枚数）が低下するという問題があった。そ
こで、ロボットを二台並べて搭載した基板搬送装置が考
えられるが、この場合ロボット相互の干渉があるために
スループットを向上させることができず、それどころか
該基板処理装置のロボット搭載のためのスペースが増大
し装置自体が大型化し、クリーンルーム内の設置スペー
スが増大するという問題が生じることとなる。
ロボットを備えた基板搬送装置においては、通常、３軸
タイプのロボットを搭載しているが、このロボットは構
造が複雑になるために非常に高価になることと、タイミ
ングベルトを用いているので静止状態から起動動作する
際にアームが左右に振れ、載置された基板がカセット等
に接触し該ガラス基板がズレるという欠点があった。ま
た、例えばチャンバ内に処理すべき次の基板をセットす
るには、まず、チャンバ内の処理済み基板を取り出し当
該基板をアンロード用カセットに収納した後、未処理の
基板をロード用カセットから取り出しチャンバ内にセッ
トするというように、処理済み基板と未処理基板の搬送
を順次行なわなければならないために、基板の搬送に要
する時間が長く、処理装置のスループット（単位時間当
りの基板処理枚数）が低下するという問題があった。そ
こで、ロボットを二台並べて搭載した基板搬送装置が考
えられるが、この場合ロボット相互の干渉があるために
スループットを向上させることができず、それどころか
該基板処理装置のロボット搭載のためのスペースが増大
し装置自体が大型化し、クリーンルーム内の設置スペー
スが増大するという問題が生じることとなる。
【０００５】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、スループットを向上させることができ、設
置スペースが小さく、しかも低コストの基板搬送装置を
提供することにある。
のであって、スループットを向上させることができ、設
置スペースが小さく、しかも低コストの基板搬送装置を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次の様な基板搬送装置を採用した。すなわ
ち、基板に処理を施す処理チャンバと、基板を保持、格
納する搬入搬出用チャンバとの間の搬送チャンバに設け
られた基板搬送装置であって、前記搬送チャンバから搬
入搬出用チャンバに向かって進退自在に設けられ、この
進退方向と直角な水平方向に延在するアーム本体と、該
アーム本体から前記搬入搬出用チャンバに向かって延び
前記基板を載置する複数の支持板とを備えてなる第１の
アームと、前記搬送チャンバから処理チャンバに向かっ
て進退自在に設けられ、この進退方向と直角な水平方向
に延在するアーム本体と、該アーム本体から前記処理チ
ャンバに向かって延び前記基板を載置する複数の支持板
とを備えてなる第２及び第３のアームと、前記搬送チャ
ンバ内の前記第１ないし第３のアームの複数の支持板間
に設けられ、上下方向移動自在かつ上下方向の任意の位
置に固定自在、かつ、垂直な軸線の回りに回転自在かつ
任意の回転角の位置に固定自在なる第４のアームと、こ
れらのアームを駆動させる駆動機構と、該駆動機構を制
御する制御手段とを具備してなることを特徴としてい
る。
に、本発明は次の様な基板搬送装置を採用した。すなわ
ち、基板に処理を施す処理チャンバと、基板を保持、格
納する搬入搬出用チャンバとの間の搬送チャンバに設け
られた基板搬送装置であって、前記搬送チャンバから搬
入搬出用チャンバに向かって進退自在に設けられ、この
進退方向と直角な水平方向に延在するアーム本体と、該
アーム本体から前記搬入搬出用チャンバに向かって延び
前記基板を載置する複数の支持板とを備えてなる第１の
アームと、前記搬送チャンバから処理チャンバに向かっ
て進退自在に設けられ、この進退方向と直角な水平方向
に延在するアーム本体と、該アーム本体から前記処理チ
ャンバに向かって延び前記基板を載置する複数の支持板
とを備えてなる第２及び第３のアームと、前記搬送チャ
ンバ内の前記第１ないし第３のアームの複数の支持板間
に設けられ、上下方向移動自在かつ上下方向の任意の位
置に固定自在、かつ、垂直な軸線の回りに回転自在かつ
任意の回転角の位置に固定自在なる第４のアームと、こ
れらのアームを駆動させる駆動機構と、該駆動機構を制
御する制御手段とを具備してなることを特徴としてい
る。
【０００７】
【作用】本発明の基板搬送装置では、第１ないし第３の
アームにおいては、基板を載置する複数の支持板はアー
ムの進退方向に沿って進行・退却するものであるから、
静止状態から起動動作する際にアームが左右に振れるこ
とがなくなる。また、第１ないし第４のアームは互いに
独立に駆動可能であるから、複数のアームを同時に作動
させることができ、処理チャンバ内の処理済み基板を取
り出す動作と、未処理基板をロード用カセットから取り
出し処理チャンバ内にセットする動作を同時に行い、基
板の搬送に要する時間を短縮し、処理装置のスループッ
トを向上させる。また、比較的狭いスペースでも搭載可
能であり、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、第４のア
ームにより基板を垂直な軸線の回りに回転させ、任意の
回転角の位置に固定することにより、当該基板の方向を
変える。
アームにおいては、基板を載置する複数の支持板はアー
ムの進退方向に沿って進行・退却するものであるから、
静止状態から起動動作する際にアームが左右に振れるこ
とがなくなる。また、第１ないし第４のアームは互いに
独立に駆動可能であるから、複数のアームを同時に作動
させることができ、処理チャンバ内の処理済み基板を取
り出す動作と、未処理基板をロード用カセットから取り
出し処理チャンバ内にセットする動作を同時に行い、基
板の搬送に要する時間を短縮し、処理装置のスループッ
トを向上させる。また、比較的狭いスペースでも搭載可
能であり、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、第４のア
ームにより基板を垂直な軸線の回りに回転させ、任意の
回転角の位置に固定することにより、当該基板の方向を
変える。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面に基づ
き説明する。図１は基板搬送装置１を示す斜視図であ
り、図２は基板搬送装置１を用いて構成されたプラズマ
処理装置２である。まず、プラズマ処理装置２について
説明する。このプラズマ処理装置２は、処理チャンバ１
１と、搬入搬出用チャンバ１２と、搬送チャンバ１３と
から概略構成され、処理チャンバ１１と搬送チャンバ１
３はそれぞれ他のチャンバと独立に真空排気が可能であ
る。
き説明する。図１は基板搬送装置１を示す斜視図であ
り、図２は基板搬送装置１を用いて構成されたプラズマ
処理装置２である。まず、プラズマ処理装置２について
説明する。このプラズマ処理装置２は、処理チャンバ１
１と、搬入搬出用チャンバ１２と、搬送チャンバ１３と
から概略構成され、処理チャンバ１１と搬送チャンバ１
３はそれぞれ他のチャンバと独立に真空排気が可能であ
る。
【０００９】処理チャンバ１１は、長方形のガラス基板
Ｇにプラズマアッシングやプラズマエッチング等の処理
を施すもので、底部にガラス基板Ｇが載置されるステー
ジ１４が設けられ、このステージ１４には複数のプッシ
ャーピン１５，１５，…が設けられ、これらのプッシャ
ーピン１５，１５，…はステージ１４に対して上下方向
移動自在かつ上下方向の任意の位置に固定自在である。
この処理チャンバ１１では、内部が所定の圧力に減圧さ
れた状態でチャンバ内に反応性ガスを導入しつつ該反応
性ガスに高電界を印加して該反応性ガスを電離させるこ
とにより、ステージ１４上にプラズマを発生させてガラ
ス基板Ｇにプラズマアッシングやプラズマエッチング等
の処理を施すことができる。
Ｇにプラズマアッシングやプラズマエッチング等の処理
を施すもので、底部にガラス基板Ｇが載置されるステー
ジ１４が設けられ、このステージ１４には複数のプッシ
ャーピン１５，１５，…が設けられ、これらのプッシャ
ーピン１５，１５，…はステージ１４に対して上下方向
移動自在かつ上下方向の任意の位置に固定自在である。
この処理チャンバ１１では、内部が所定の圧力に減圧さ
れた状態でチャンバ内に反応性ガスを導入しつつ該反応
性ガスに高電界を印加して該反応性ガスを電離させるこ
とにより、ステージ１４上にプラズマを発生させてガラ
ス基板Ｇにプラズマアッシングやプラズマエッチング等
の処理を施すことができる。
【００１０】搬入搬出用チャンバ１２は、ガラス基板Ｇ
を保持、格納するもので、中央部底部に前記ガラス基板
Ｇを昇降させるエレベータ１６が設けられ、内蔵される
ロード用カセット及びアンロード用カセットを介してガ
ラス基板Ｇの搬入及び搬出が行なわれる。搬送チャンバ
１３は、該搬送チャンバ１３内に設けられた基板搬送装
置１により処理チャンバ１１と搬入搬出用チャンバ１２
との間のガラス基板Ｇの搬送が行なわれるもので、前記
処理チャンバ１１とは連通口１７を介して、また搬入搬
出用チャンバ１２とは連通口１８を介してそれぞれ接続
されている。そして、連通口１７（１８）には気密性の
開閉扉１９（２０）が設けられ、処理チャンバ１１と搬
送チャンバ１３がそれぞれ独立に所定の真空度に真空排
気できるようになっている。
を保持、格納するもので、中央部底部に前記ガラス基板
Ｇを昇降させるエレベータ１６が設けられ、内蔵される
ロード用カセット及びアンロード用カセットを介してガ
ラス基板Ｇの搬入及び搬出が行なわれる。搬送チャンバ
１３は、該搬送チャンバ１３内に設けられた基板搬送装
置１により処理チャンバ１１と搬入搬出用チャンバ１２
との間のガラス基板Ｇの搬送が行なわれるもので、前記
処理チャンバ１１とは連通口１７を介して、また搬入搬
出用チャンバ１２とは連通口１８を介してそれぞれ接続
されている。そして、連通口１７（１８）には気密性の
開閉扉１９（２０）が設けられ、処理チャンバ１１と搬
送チャンバ１３がそれぞれ独立に所定の真空度に真空排
気できるようになっている。
【００１１】基板搬送装置１は、第１直進アーム（第１
のアーム）２１、第２直進アーム（第２のアーム）３
１、第３直進アーム（第３のアーム）４１、回転アーム
（第４のアーム）５１、駆動機構６１，７１，８１、制
御手段（図示せず）から概略構成されている。第１直進
アーム２１は、搬送チャンバ１３から搬入搬出用チャン
バ１２に向かって進退自在に設けられたもので、この進
退方向と直角な水平方向に延在するアーム本体２２と、
該アーム本体２２から搬入搬出用チャンバ１２に向かっ
て延びる２本の支持板２３，２４とから構成され、支持
板２３（２４）には、中央より先端部にかけてガラス基
板Ｇを載置するための切欠部２５（２６）が形成されて
いる。そして、この第１直進アーム２１には、進退方向
に配設され複数のロールに巻回されたベルト６２とモー
タ６３とから構成される駆動機構６１が設けられてい
る。
のアーム）２１、第２直進アーム（第２のアーム）３
１、第３直進アーム（第３のアーム）４１、回転アーム
（第４のアーム）５１、駆動機構６１，７１，８１、制
御手段（図示せず）から概略構成されている。第１直進
アーム２１は、搬送チャンバ１３から搬入搬出用チャン
バ１２に向かって進退自在に設けられたもので、この進
退方向と直角な水平方向に延在するアーム本体２２と、
該アーム本体２２から搬入搬出用チャンバ１２に向かっ
て延びる２本の支持板２３，２４とから構成され、支持
板２３（２４）には、中央より先端部にかけてガラス基
板Ｇを載置するための切欠部２５（２６）が形成されて
いる。そして、この第１直進アーム２１には、進退方向
に配設され複数のロールに巻回されたベルト６２とモー
タ６３とから構成される駆動機構６１が設けられてい
る。
【００１２】第２直進アーム３１は、第１直進アーム２
１上方に搬送チャンバ１３から処理チャンバ１１に向か
って進退自在に設けられたもので、この進退方向と直角
な水平方向に延在するアーム本体３２と、該アーム本体
３２から処理チャンバ１１に向かって延びる２本の支持
板３３，３４とから構成され、支持板３３（３４）に
は、中央より先端部にかけてガラス基板Ｇを載置するた
めの切欠部３５（３６）が形成されている。そして、こ
の第２直進アーム３１には、進退方向に配設され複数の
ロールに巻回されたベルト７２とモータ７３とから構成
される駆動機構７１が設けられている。
１上方に搬送チャンバ１３から処理チャンバ１１に向か
って進退自在に設けられたもので、この進退方向と直角
な水平方向に延在するアーム本体３２と、該アーム本体
３２から処理チャンバ１１に向かって延びる２本の支持
板３３，３４とから構成され、支持板３３（３４）に
は、中央より先端部にかけてガラス基板Ｇを載置するた
めの切欠部３５（３６）が形成されている。そして、こ
の第２直進アーム３１には、進退方向に配設され複数の
ロールに巻回されたベルト７２とモータ７３とから構成
される駆動機構７１が設けられている。
【００１３】第３直進アーム４１は、第２直進アーム３
１上方に搬送チャンバ１３から処理チャンバ１１に向か
って進退自在に設けられたもので、この進退方向と直角
な水平方向に延在するアーム本体４２と、該アーム本体
４２から処理チャンバ１１に向かって延びる２本の支持
板４３，４４とから構成され、支持板４３（４４）に
は、中央より先端部にかけてガラス基板Ｇを載置するた
めの切欠部４５（４６）が形成されている。そして、こ
の第３直進アーム４１には、進退方向に配設され複数の
ロールに巻回されたベルト８２とモータ８３とから構成
される駆動機構８１が設けられている。
１上方に搬送チャンバ１３から処理チャンバ１１に向か
って進退自在に設けられたもので、この進退方向と直角
な水平方向に延在するアーム本体４２と、該アーム本体
４２から処理チャンバ１１に向かって延びる２本の支持
板４３，４４とから構成され、支持板４３（４４）に
は、中央より先端部にかけてガラス基板Ｇを載置するた
めの切欠部４５（４６）が形成されている。そして、こ
の第３直進アーム４１には、進退方向に配設され複数の
ロールに巻回されたベルト８２とモータ８３とから構成
される駆動機構８１が設けられている。
【００１４】回転アーム５１は、支持板２３，２４（３
３，３４、４３，４４）間に設けられたもので、搬送チ
ャンバ１３内に立設された軸５２と、当該軸５２上に固
定された長尺の支持板５３とから構成され、前記軸５２
は図示しない駆動機構により上下方向移動自在かつ上下
方向の任意の位置に固定自在であるとともに、垂直な軸
線の回りに回転自在かつ任意の回転角の位置に固定自在
である。そして、支持板５３には中央部にガラス基板Ｇ
を載置するための切欠部５４が形成されている。
３，３４、４３，４４）間に設けられたもので、搬送チ
ャンバ１３内に立設された軸５２と、当該軸５２上に固
定された長尺の支持板５３とから構成され、前記軸５２
は図示しない駆動機構により上下方向移動自在かつ上下
方向の任意の位置に固定自在であるとともに、垂直な軸
線の回りに回転自在かつ任意の回転角の位置に固定自在
である。そして、支持板５３には中央部にガラス基板Ｇ
を載置するための切欠部５４が形成されている。
【００１５】次に、基板搬送装置１の作用について図３
ないし図１０を基に説明する。今、例えば、処理チャン
バ１１内においてガラス基板Ｇ1の処理が完了し、次の
ガラス基板Ｇ2の処理を開始しようとする場合には、下
記ステップＳ１〜ステップＳ８の動作により短時間で搬
送作業を行うことができる。
ないし図１０を基に説明する。今、例えば、処理チャン
バ１１内においてガラス基板Ｇ1の処理が完了し、次の
ガラス基板Ｇ2の処理を開始しようとする場合には、下
記ステップＳ１〜ステップＳ８の動作により短時間で搬
送作業を行うことができる。
【００１６】（ステップＳ１）図３に示すように、第１
直進アーム２１を搬入搬出用チャンバ１２内に進入さ
せ、次に処理しようとするガラス基板Ｇ2を該第１直進
アーム２１の切欠部２５，２６に移載する。この間、第
２直進アーム３１、第３直進アーム４１、回転アーム５
１は待機位置にある。
直進アーム２１を搬入搬出用チャンバ１２内に進入さ
せ、次に処理しようとするガラス基板Ｇ2を該第１直進
アーム２１の切欠部２５，２６に移載する。この間、第
２直進アーム３１、第３直進アーム４１、回転アーム５
１は待機位置にある。
【００１７】（ステップＳ２）図４に示すように、第１
直進アーム２１を搬送チャンバ１３内に後退させて開閉
扉２０を閉じ、搬送チャンバ１３内を真空排気し所定の
真空度とする。次いで、回転アーム５１を第３直進アー
ム４１の上方に上昇させて軸５２を９０゜回転させ、そ
の後この回転アーム５１を当初の位置に下降させる。こ
の間にガラス基板Ｇ2は水平面内において９０゜回転さ
せられ、第３直進アーム４１の切欠部４５，４６に移載
される。
直進アーム２１を搬送チャンバ１３内に後退させて開閉
扉２０を閉じ、搬送チャンバ１３内を真空排気し所定の
真空度とする。次いで、回転アーム５１を第３直進アー
ム４１の上方に上昇させて軸５２を９０゜回転させ、そ
の後この回転アーム５１を当初の位置に下降させる。こ
の間にガラス基板Ｇ2は水平面内において９０゜回転さ
せられ、第３直進アーム４１の切欠部４５，４６に移載
される。
【００１８】（ステップＳ３）図５に示すように、既に
処理チャンバ１１内において処理されたガラス基板Ｇ1
を所定位置、すなわち第２直進アーム３１と第３直進ア
ーム４１との間の位置に上昇させ、搬送チャンバ１３と
処理チャンバ１１とが同一の真空度であることを確認し
た後に開閉扉１９を開き、第２直進アーム３１と第３直
進アーム４１とを同時に処理チャンバ１１内に進入させ
る。次いで、プッシャーピン１５，１５，…を所定位置
に下降させる。この間にガラス基板Ｇ1は第２直進アー
ム３１の切欠部３５，３６に移載される。
処理チャンバ１１内において処理されたガラス基板Ｇ1
を所定位置、すなわち第２直進アーム３１と第３直進ア
ーム４１との間の位置に上昇させ、搬送チャンバ１３と
処理チャンバ１１とが同一の真空度であることを確認し
た後に開閉扉１９を開き、第２直進アーム３１と第３直
進アーム４１とを同時に処理チャンバ１１内に進入させ
る。次いで、プッシャーピン１５，１５，…を所定位置
に下降させる。この間にガラス基板Ｇ1は第２直進アー
ム３１の切欠部３５，３６に移載される。
【００１９】（ステップＳ４）図６に示すように、第２
直進アーム３１を搬送チャンバ１３内に後退させ、次い
で、プッシャーピン１５，１５，…を所定位置まで上昇
させ、第３直進アーム４１上のガラス基板Ｇ2を持ち上
げる。次いで、第３直進アーム４１を搬送チャンバ１３
内に後退させてプッシャーピン１５，１５，…を下降さ
せ、ガラス基板Ｇ2をステージ１４上に載置し、開閉扉
１９を閉じる。その後、処理チャンバ１１においてガラ
ス基板Ｇ2に所定の処理が施される。
直進アーム３１を搬送チャンバ１３内に後退させ、次い
で、プッシャーピン１５，１５，…を所定位置まで上昇
させ、第３直進アーム４１上のガラス基板Ｇ2を持ち上
げる。次いで、第３直進アーム４１を搬送チャンバ１３
内に後退させてプッシャーピン１５，１５，…を下降さ
せ、ガラス基板Ｇ2をステージ１４上に載置し、開閉扉
１９を閉じる。その後、処理チャンバ１１においてガラ
ス基板Ｇ2に所定の処理が施される。
【００２０】（ステップＳ５）図７に示すように、回転
アーム５１を第２直進アーム３１の上方まで上昇させて
該第２直進アーム３１上のガラス基板Ｇ1を回転アーム
５１上に移載し、次いで軸５２を９０゜回転させ、その
後この回転アーム５１を当初の位置に下降させる。この
間にガラス基板Ｇ1は水平面内において９０゜回転させ
られ、第１直進アーム２１の切欠部２５，２６に移載さ
れる。
アーム５１を第２直進アーム３１の上方まで上昇させて
該第２直進アーム３１上のガラス基板Ｇ1を回転アーム
５１上に移載し、次いで軸５２を９０゜回転させ、その
後この回転アーム５１を当初の位置に下降させる。この
間にガラス基板Ｇ1は水平面内において９０゜回転させ
られ、第１直進アーム２１の切欠部２５，２６に移載さ
れる。
【００２１】（ステップＳ６）図８に示すように、搬送
チャンバ１３内に窒素（Ｎ2）ガスを充填し該搬送チャ
ンバ１３内の圧力を大気圧に戻して開閉扉２０を開き、
第１直進アーム２１を搬入搬出用チャンバ１２内に進入
させる。次いで、エレベータ１６を上昇させてガラス基
板Ｇ1をカセットに移載し、第１直進アーム２１を搬送
チャンバ１３内に後退させる。
チャンバ１３内に窒素（Ｎ2）ガスを充填し該搬送チャ
ンバ１３内の圧力を大気圧に戻して開閉扉２０を開き、
第１直進アーム２１を搬入搬出用チャンバ１２内に進入
させる。次いで、エレベータ１６を上昇させてガラス基
板Ｇ1をカセットに移載し、第１直進アーム２１を搬送
チャンバ１３内に後退させる。
【００２２】（ステップＳ７）図９に示すように、エレ
ベータ１６を未処理のガラス基板Ｇ3の受渡位置へ移動
させ、次いで、第１直進アーム２１を搬入搬出用チャン
バ１２内に進入させ、エレベータ１６を下降させてガラ
ス基板Ｇ3を第１直進アーム２１の切欠部２５，２６に
移載する。次いで、第１直進アーム２１を搬送チャンバ
１３内に後退させて開閉扉２０を閉じ、搬送チャンバ１
３内を真空排気し所定の真空度とする。
ベータ１６を未処理のガラス基板Ｇ3の受渡位置へ移動
させ、次いで、第１直進アーム２１を搬入搬出用チャン
バ１２内に進入させ、エレベータ１６を下降させてガラ
ス基板Ｇ3を第１直進アーム２１の切欠部２５，２６に
移載する。次いで、第１直進アーム２１を搬送チャンバ
１３内に後退させて開閉扉２０を閉じ、搬送チャンバ１
３内を真空排気し所定の真空度とする。
【００２３】（ステップＳ８）図１０に示すように、回
転アーム５１を第３直進アーム４１の上方に上昇させて
軸５２を９０゜回転させ、その後この回転アーム５１を
当初の位置に下降させる。この間にガラス基板Ｇ3は水
平面内において９０゜回転させられ、第３直進アーム４
１の切欠部４５，４６に移載される。
転アーム５１を第３直進アーム４１の上方に上昇させて
軸５２を９０゜回転させ、その後この回転アーム５１を
当初の位置に下降させる。この間にガラス基板Ｇ3は水
平面内において９０゜回転させられ、第３直進アーム４
１の切欠部４５，４６に移載される。
【００２４】以上のステップ２〜ステップ８を繰り返す
ことにより、短時間かつ連続的に処理チャンバ１１内に
ガラス基板Ｇを供給することができる。
ことにより、短時間かつ連続的に処理チャンバ１１内に
ガラス基板Ｇを供給することができる。
【００２５】以上説明したように、本実施例の基板搬送
装置１によれば、第１直進アーム２１、第２直進アーム
３１、第３直進アーム４１、回転アーム５１、駆動機構
６１，７１，８１、制御手段を具備し、ガラス基板Ｇを
載置する支持板２３、２４（３３、３４、または４３、
４４）をアーム２１（３１または４１）の進退方向に沿
って進行・退却させることとしたので、静止状態から起
動動作する際に各アーム２１〜４１が左右に振れること
がなくなる。また、アーム２１〜５１は互いに独立に駆
動可能であるから、これら複数のアーム２１〜５１を同
時に作動させることができ、処理チャンバ１１内の処理
済みガラス基板Ｇを取り出す動作と、未処理ガラス基板
Ｇをロード用カセットから取り出し処理チャンバ１１内
にセットする動作を同時に行うことができ、ガラス基板
Ｇの搬送に要する時間を短縮し、処理装置のスループッ
トを向上させることができる。
装置１によれば、第１直進アーム２１、第２直進アーム
３１、第３直進アーム４１、回転アーム５１、駆動機構
６１，７１，８１、制御手段を具備し、ガラス基板Ｇを
載置する支持板２３、２４（３３、３４、または４３、
４４）をアーム２１（３１または４１）の進退方向に沿
って進行・退却させることとしたので、静止状態から起
動動作する際に各アーム２１〜４１が左右に振れること
がなくなる。また、アーム２１〜５１は互いに独立に駆
動可能であるから、これら複数のアーム２１〜５１を同
時に作動させることができ、処理チャンバ１１内の処理
済みガラス基板Ｇを取り出す動作と、未処理ガラス基板
Ｇをロード用カセットから取り出し処理チャンバ１１内
にセットする動作を同時に行うことができ、ガラス基板
Ｇの搬送に要する時間を短縮し、処理装置のスループッ
トを向上させることができる。
【００２６】また、比較的狭いスペースでも搭載可能で
あるから、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、回転アー
ム５１を用いることにより、長方形のガラス基板Ｇを垂
直な軸線の回りに回転させ、該ガラス基板Ｇの方向を変
えることができる。
あるから、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、回転アー
ム５１を用いることにより、長方形のガラス基板Ｇを垂
直な軸線の回りに回転させ、該ガラス基板Ｇの方向を変
えることができる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の基板搬送装
置によれば、基板に処理を施す処理チャンバと、基板を
保持、格納する搬入搬出用チャンバとの間の搬送チャン
バに設けられた基板搬送装置であって、前記搬送チャン
バから搬入搬出用チャンバに向かって進退自在に設けら
れ、この進退方向と直角な水平方向に延在するアーム本
体と該アーム本体から前記搬入搬出用チャンバに向かっ
て延び前記基板を載置する複数の支持板とを備えてなる
第１のアームと、前記搬送チャンバから処理チャンバに
向かって進退自在に設けられ、この進退方向と直角な水
平方向に延在するアーム本体と該アーム本体から前記処
理チャンバに向かって延び前記基板を載置する複数の支
持板とを備えてなる第２及び第３のアームと、前記搬送
チャンバ内の前記第１ないし第３のアームの複数の支持
板間に設けられ、上下方向移動自在かつ上下方向の任意
の位置に固定自在、かつ、垂直な軸線の回りに回転自在
かつ任意の回転角の位置に固定自在なる第４のアーム
と、これらのアームを駆動させる駆動機構と、該駆動機
構を制御する制御手段とを具備してなることとしたの
で、静止状態から起動動作する際に各アームが左右に振
れることがなくなる。また、第１ないし第４のアームは
互いに独立に駆動可能であるから、これら複数のアーム
を同時に作動させることができ、処理チャンバ内の処理
済み基板を取り出す動作と、未処理基板をロード用カセ
ットから取り出し処理チャンバ内にセットする動作を同
時に行うことができ、基板の搬送に要する時間を短縮
し、処理装置のスループットを向上させることができ
る。
置によれば、基板に処理を施す処理チャンバと、基板を
保持、格納する搬入搬出用チャンバとの間の搬送チャン
バに設けられた基板搬送装置であって、前記搬送チャン
バから搬入搬出用チャンバに向かって進退自在に設けら
れ、この進退方向と直角な水平方向に延在するアーム本
体と該アーム本体から前記搬入搬出用チャンバに向かっ
て延び前記基板を載置する複数の支持板とを備えてなる
第１のアームと、前記搬送チャンバから処理チャンバに
向かって進退自在に設けられ、この進退方向と直角な水
平方向に延在するアーム本体と該アーム本体から前記処
理チャンバに向かって延び前記基板を載置する複数の支
持板とを備えてなる第２及び第３のアームと、前記搬送
チャンバ内の前記第１ないし第３のアームの複数の支持
板間に設けられ、上下方向移動自在かつ上下方向の任意
の位置に固定自在、かつ、垂直な軸線の回りに回転自在
かつ任意の回転角の位置に固定自在なる第４のアーム
と、これらのアームを駆動させる駆動機構と、該駆動機
構を制御する制御手段とを具備してなることとしたの
で、静止状態から起動動作する際に各アームが左右に振
れることがなくなる。また、第１ないし第４のアームは
互いに独立に駆動可能であるから、これら複数のアーム
を同時に作動させることができ、処理チャンバ内の処理
済み基板を取り出す動作と、未処理基板をロード用カセ
ットから取り出し処理チャンバ内にセットする動作を同
時に行うことができ、基板の搬送に要する時間を短縮
し、処理装置のスループットを向上させることができ
る。
【００２８】また、比較的狭いスペースでも搭載可能で
あるから、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、基板を垂
直な軸線の回りに回転させ、当該基板の方向を変えるこ
とができる。
あるから、搭載のためのスペースを増大させることがな
く、装置自体も大型化することがない。また、基板を垂
直な軸線の回りに回転させ、当該基板の方向を変えるこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例である基板搬送装置を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】本発明の一実施例である基板搬送装置を用いて
構成されたプラズマ処理装置の平面図である。
構成されたプラズマ処理装置の平面図である。
【図３】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図４】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図５】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図６】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図７】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図８】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図９】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用を
示す過程図である。
示す過程図である。
【図１０】本発明の一実施例である基板搬送装置の作用
を示す過程図である。
を示す過程図である。
１ 基板搬送装置 ２ プラズマ処理装置 １１ 処理チャンバ １２ 搬入搬出用チャンバ １３ 搬送チャンバ １４ ステージ １５ プッシャーピン １６ エレベータ １７，１８ 連通口 １９，２０ 開閉扉 ２１ 第１直進アーム ２２ アーム本体 ２３，２４ 支持板 ２５，２６ 切欠部 ３１ 第２直進アーム ３２ アーム本体 ３３，３４ 支持板 ３５，３６ 切欠部 ４１ 第３直進アーム ４２ アーム本体 ４３，４４ 支持板 ４５，４６ 切欠部 ５１ 回転アーム ５２ 軸 ５３ 支持板 ５４ 切欠部 ６１ 駆動機構 ６２ ベルト ６３ モータ ７１ 駆動機構 ７２ ベルト ７３ モータ ８１ 駆動機構 ８２ ベルト ８３ モータ Ｇ，Ｇ1，Ｇ2，Ｇ3 ガラス基板
Claims (1)
- 【請求項１】 基板に処理を施す処理チャンバと、基板
を保持、格納する搬入搬出用チャンバとの間の搬送チャ
ンバに設けられた基板搬送装置であって、 前記搬送チャンバから搬入搬出用チャンバに向かって進
退自在に設けられ、この進退方向と直角な水平方向に延
在するアーム本体と、該アーム本体から前記搬入搬出用
チャンバに向かって延び前記基板を載置する複数の支持
板とを備えてなる第１のアームと、 前記搬送チャンバから処理チャンバに向かって進退自在
に設けられ、この進退方向と直角な水平方向に延在する
アーム本体と、該アーム本体から前記処理チャンバに向
かって延び前記基板を載置する複数の支持板とを備えて
なる第２及び第３のアームと、 前記搬送チャンバ内の前記第１ないし第３のアームの複
数の支持板間に設けられ、上下方向移動自在かつ上下方
向の任意の位置に固定自在、かつ、垂直な軸線の回りに
回転自在かつ任意の回転角の位置に固定自在なる第４の
アームと、 これらのアームを駆動させる駆動機構と、 該駆動機構を制御する制御手段とを具備してなることを
特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12509792A JP3242145B2 (ja) | 1992-05-18 | 1992-05-18 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12509792A JP3242145B2 (ja) | 1992-05-18 | 1992-05-18 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0621191A JPH0621191A (ja) | 1994-01-28 |
| JP3242145B2 true JP3242145B2 (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=14901782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12509792A Expired - Lifetime JP3242145B2 (ja) | 1992-05-18 | 1992-05-18 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3242145B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100846682B1 (ko) * | 2006-12-11 | 2008-07-17 | (주)테크윙 | 테스트핸들러용 하이픽스보드 클램핑장치 |
| JP6700605B2 (ja) * | 2016-11-16 | 2020-05-27 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
-
1992
- 1992-05-18 JP JP12509792A patent/JP3242145B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0621191A (ja) | 1994-01-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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