KR100934327B1 - 플라즈마 디스플레이 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는, 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형이, 방전을 유지하기 위한 유지 펄스 전압을 주사 전극과 유지 전극에 대해서 교대로 인가하는 유지 기간과, 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 제거 기간을 갖고, 오방전이 억제되며, 안정한 화상 표시가 가능해진다.

Description

플라즈마 디스플레이 장치{PLASMA DISPLAY APPARATUS}
본 발명은, 대화면으로, 박형, 경량의 디스플레이 장치로서 알려져 있는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 장치에서는, 가스 방전에 의해 자외선을 발생시키고, 이 자외선으로 형광체를 여기하여 발광시켜 컬러 표시를 행하고 있다.
플라즈마 디스플레이 장치에는, 크게 구별하여, 구동적으로는 AC형과 DC형이 있고, 방전 형식으로는 면 방전형과 대향 방전형의 2종류가 있지만, 고 정밀화, 대화면화 및 구조의 간소성에 따르는 제조의 간편성으로부터, 현재 상황에서는, 3전극 구조의 면 방전형의 플라즈마 디스플레이 장치가 주류이다. 이 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부의 일반적인 구조를 도 8에 도시한다.
유리와 같은 투명하고 절연성의 기판(1) 상에, 주사 전극(2)과 유지 전극(3)이 거리(MG)(이하, 주 방전 갭(MG)이라고 기재한다)만큼 떨어져 대향하여 배치되고, 또한, 다수의 쌍으로 된 주사 전극(2)과 유지 전극(3)이 거리(IPG)(이하, 인접 방전 셀 사이 갭(IPG)이라고 기재한다)만큼 떨어져 배치되어 있다. 그리고 주사 전극(2) 및 유지 전극(3)을 덮도록 유전체층(4) 및 보호막(5)이 설치되어 있다. 또, 유리와 같은 절연성의 기판(6) 상에는 다수의 데이터 전극(7)이 부설되고, 데이터 전극(7)을 덮도록 유전체층(8)이 설치되어 있다. 그리고 데이터 전극(7) 사이의 유전체층(8) 상에는 데이터 전극(7)과 평행하게 격벽(9)이 설치되어 있다. 유전체층(8) 표면과 격벽(9)의 측면에는 형광체(10)가 설치되어 있다. 그리고, 주사 전극(2) 및 유지 전극(3)과 데이터 전극(7)이 직교하도록 기판(1)과 기판(6)이 대향하여 배치되고, 쌍을 이루는 주사 전극(2) 및 유지 전극(3)이 데이터 전극(7)과 교차하는 부분이 방전 셀(11)이 된다. 방전 셀(11)에는, 방전 가스로서 헬륨, 네온 및 아르곤 중 적어도 1종의 가스와 크세논이 봉입되어 있다.
도 8에 도시한 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부의 개략 구성과, 패널부의 각 전극의 결선(wire connecting) 상태를 도 9에 도시한다. 패널부의 각 전극의 배열은 m×n의 매트릭스 구성으로, 열 방향에는 어드레스를 행하기 위한 데이터 전극(7)이 m열 배열되어 있고, 행 방향에는 방전을 유지하기 위한 주사 전극(2)과 유지 전극(3)이 쌍이 되어 n열 배열되어 있다.
구동부는, 데이터 기입 구동 회로(12)와, 주사 구동 회로(13)와, 초기화 회로(14)와, 유지 구동 회로(15)를 갖고 있다. 데이터 기입 구동 회로(12)는 데이터 전극(7)으로 구동 전압을 출력하기 위한 회로로, 데이터 전극(7) 각각에 대해서 m개의 출력 단자로 접속되어 있다. 또, 주사 구동 회로(13)는 주사 전극(2)으로 구동 전압을 출력하기 위한 회로로, 주사 전극(2) 각각에 대해서 n개의 출력 단자로 접속되어 있다. 그리고, 유지 구동 회로(15)는 유지 전극(3)으로 구동 전압을 출력하는 회로로, 유지 전극(3)에 대해서 공통으로 접속되어 있다. 초기화 회로(14) 는, 통전 전의 전하의 축적이 전혀 없는 각 전극에 초기 전하를 축적하기 위한 구동 동작인 초기화 동작을 행하기 위한 회로이이다.
그러나, 상술한 패널부 및 구동부를 구비하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서는, 도 8에 도시하는 패널부에서의 Y방향에 대해서 특히 고 정밀화를 위해서 방전 셀 피치를 작게 한 경우에 오방전이 발생하여 버린다고 하는 문제가 생긴다.
이 원인은 이하의 메커니즘에 의한 것이다. 예를 들면 최후의 유지 방전이 인가된 후의 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압의 상태는, 음으로부터 양으로 전환된 상태가 된다. 이것은 보호막(5) 표면에 양 이온이 도달함으로써 실현된다. 그러나, 양 이온의 이동 속도(μion)는 전자의 이동 속도(μe)에 비해서 대단히 느리기 때문에, 예를 들면, 양 이온의 이동 거리가 짧게 되는 주 방전 갭(MG) 부근에서의 전환은 용이하게 행해지지만, 양 이온에 대해서 긴 이동 거리가 필요한 주사 전극(SCNi)의 외측, 결국 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에서의 전환시에는 양 이온이 미도달 될 확률이 높고, 그 결과, 주사 전극(SCNi)의 외측, 결국 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에는 음전하(16)가 중화되지 않고 남은 상태가 되어 버린다. 이 상태를 도 10a에 도시한다. 도 10a는 도 8에 있어서의 10A-10A 단면의 화살표 방향에서 본 도면으로, 「+」「-」는 전하를 도시하지만, 어디까지나 개념적인 것이고, 그 수 등은 엄밀한 것이 아니다.
그리고, 음전하(16)가 남은 상태 그대로 이후의 소거 기간 및 벽 전압 조정 기간에서의 동작을 행하면, 벽 전압의 조정이 행해지지만, 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에 잔존하는 불필요한 음전하(16)는 그대로 남게 된다.
그리고 이 상태인 채로, 기입 기간에서의 기입 동작에 의해 주사 전극(SCNi)에 주사 펄스 전압(Vad(V))이, 데이터 전극(Dj)에 기입 펄스 전압(Vw(V))이 인가되면, 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에 잔류하고 있는 불필요한 음전하(16)와 데이터 전극(Dj)의 사이에 방전(17)이 발생해 버리고(도 10b), 그 방전(17)에 따라서 동시에 대량의 프라이밍 효과 입자(준 안정 원자·이온 등)가 발생한다. 여기에서 방전(17)의 발생 장소가 인접 방전 셀 갭(IPG) 부근인 것에서 발생한 프라이밍 효과 입자는 인접 방전 셀에 유입되기 쉽고, 이것은 고 정밀화를 위해서 방전 셀(11)의 피치가 좁은 경우에 현저해진다. 그리고 도 8에 도시하는 Y방향에는, X방향에서의 격벽(9)에 도시하는 바와 같은 방전 영역을 물리적으로 규제하지 않기 때문에, 프라이밍 효과 입자는 주로 Y방향의 인접 방전 셀에 유입되고, 유입된 프라이밍 효과 입자는 방전 셀(11)의 벽 전압을 변화시켜 버리기 때문에, 그 결과, Y방향에서의 오기입이나 기입 불량이라는 오방전의 문제가 발생한다.
쌍이 되는 주사 전극과 유지 전극을 다수 형성한 기판과 데이터 전극을 주사 전극 및 유지 전극에 대해서 직교하도록 형성한 기판을 대향 배치시킨 패널부와, 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 방전을 유지하기 위한 유지 펄스 전압을 주사 전극과 유지 전극에 대해서 교대로 인가하는 유지 기간과, 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 제거 기간을 갖는 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다.
본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 장치에 의하면, 그 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형이, 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 제거 기간을 갖고 있고, 이것에 의해 오방전의 원인이 되는 인접 방전 셀 사이 부근에 잔존하는 불필요한 잔류 전하가 소거되어, 결과적으로 오방전이 억제된다.
따라서, 정밀도가 높은 방전 셀 구조에서도 안정한 화상 표시를 행할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.
(실시 형태 1)
이하에, 본 발명의 실시 형태 1에 대해서 도면을 이용하여 설명한다. 또한, 실시 형태 1에서의 패널부는, 도 8에 도시한 패널부와 동일하고, 이 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부의 개략 구성과, 패널부의 각 전극과의 결선 상태는 도 9에 도시한 것과 동일하다. 따라서, 그들의 설명은 생략한다.
도 1은, 실시 형태 1의 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부를 구동하기 위해서 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형을 도시하는 도면이다. 통전 전의 전하의 축적이 전혀 없는 각 전극에 대해서 초기 전하를 축적하기 위한 초기화 기간과, 그 후의 1필드 기간을 도시하는 것이다.
1화면은 1필드 기간으로 표시되고, 예를 들면 제1로부터 제8의 다수의 서브필드로 구성되어 있다. 그리고 1서브필드는 벽 전압 조정 기간, 기입 기간, 유지 기간 및 제거 기간에 의해 구성되어 있다. 이들 각 기간에서의 동작에 대해서 이하에 설명한다.
우선, 초기화 기간에 있어서의 동작에 대해서 설명한다. 이 초기화 기간에 있어서는, 우선 모든 데이터 전극(D1∼Dm) 및 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)을 0(V)로 유지하고, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)에는, 0(V)로부터 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)에 대해서 방전 개시 전압 이하가 되는 전위(Vpu(V))까지 급속하게 상승한 뒤, 방전 개시 전압을 넘는 전위(Vru(V))까지 완만하게 상승하는 양극성의 파형의 구동 전압을 인가한다. 이 완만한 상승 과정에서는, 각각의 방전 셀(11)에 있어서, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)으로부터 모든 데이터전극(D1∼Dm) 및 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)을 향한 1회째의 미약한 초기화 방전이 일어나고, 유지 전극(SUS1∼SUSn) 상의 보호막(5) 표면에 음의 벽 전압이 축적되며, 데이터 전극(D1∼Dm) 상의 형광체(10) 표면 및 주사 전극(SCN1∼SCNn) 상의 보호막(5) 표면에는 양의 벽 전압이 축적된다. 그리고 이 상태로부터, 각 전극 사이에서 방전이 발생하지 않을 정도의 완만함으로 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)의 전위를 0(V)를 향해서 하강시킨다. 이상에 의해 초기화 기간에 의한 초기화 동작이 종료한다.
다음에, 벽 전압 조정 기간에서의 동작에 대해서 설명한다. 이 벽 전압 조정 기간에 있어서는, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn) 및 모든 데이터 전극(D1∼Dn)에 0(V)를 인가하고, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)에는 0(V)로부터 Vrc(V)를 향해서 완 만하게 상승하는 양극성의 파형의 구동 전압을 인가한다. 이 완만한 상승 과정에서는, 모든 방전 셀(11)에 있어서, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)을 음, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)을 양으로 한 미약한 방전이 일어나고, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn) 상의 보호막(5) 표면의 양의 벽 전압, 및 유지 전극(SUS1∼SUSn) 상의 보호막(5) 표면의 음의 벽 전압이, 일단, 벽 전압 조정 기간 뒤에 행해지는 기입 기간에서의 기입 동작에 적합한 벽 전압에까지 조정된다. 계속해서 또한, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)에 0(V)를 인가한 뒤, Vns(V)를 향해서 완만하게 하강하는 파형의 구동 전압을 인가하는 동시에, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)에는 0(V)로부터 Ve(V)로 완만하게 상승하는 파형의 구동 전압을 인가한다. 이들의 구동 전압의 인가시에, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn) 및 모든 데이터 전극(D1∼Dm)을 양, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)을 음으로 한 미약한 방전이 일어나고, 모든 데이터 전극(D1∼Dm) 상의 형광체(10) 표면의 양의 벽 전압 및 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn) 상의 보호막(5) 표면의 음의 벽 전압 및 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn) 상의 보호막(5) 표면의 양의 벽 전압이, 벽 전압 조정 기간 뒤에 행해지는 기입 기간에서의 기입 동작에 적합한 벽 전압에까지 조정된다. 이상에 의해, 벽 전압 조정 기간이 종료한다.
다음에, 기입 기간에서의 동작에 대해서 설명한다. 이 기입 기간에 있어서는, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)에 전위(Vsc(V))를 인가하고, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)에는 계속해서 전위(Ve)를 인가한다. 또, 데이터전극(D1∼Dm) 중, 1행째에 표시해야 할 방전 셀(11)에 대응하는 소정의 데이터 전극(Dj)(j는 1∼m의 정수를 나타낸다)에 양의 전위(Vw(V))의 기입 펄스 전압을 인가하는 동시에, 1행째의 주사 전극(SCN1)에는 음의 극성의 전위(Vad(V))를 인가한다. 이 때, 소정의 데이터 전극(Dj)과 주사 전극(SCN1)의 교차부(제1 교차부)에서의 형광체(10) 표면과 주사 전극(SCN1) 상의 보호막(5) 표면 사이의 전위차는, 데이터 파형의 전위(Vw)에 데이터 전극(Dj) 상의 형광체(10) 표면의 양의 벽 전압을 더한 것으로부터 주사 전극(SCN1) 상의 보호막(5) 표면의 음의 벽 전압을 뺀 것(즉 절대치로 가산한 것)이 되기 때문에, 제1 교차부에서, 소정의 데이터 전극(Dj)과 주사 전극(SCN1)의 사이에서 기입 방전이 일어난다. 동시에 이 기입 방전에 유발되어, 제1 교차부에서 유지 전극(SUS1)과 주사 전극(SCN1)의 사이에서도 기입 방전이 일어나고, 제1 교차부의 주사 전극(SCN1) 상의 보호막(5) 표면에 양의 벽 전압이 축적되어, 제1 교차부의 유지 전극(SUS1) 상의 보호막(5) 표면에 음의 벽 전압이 축적된다.
동일한 동작이 n행째까지 계속해서 행해져서, 기입 기간의 기입 동작이 종료한다.
다음에, 유지 기간에서의 동작에 대해서 설명한다. 이 유지 기간에 있어서는, 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)과 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)에 전위(Vst(V))의 유지 파형을 교대로 인가함으로써, 기입 방전을 일으킨 방전 셀(11)에서 유지 방전이 계속해서 행해진다. 이 유지 방전에 의해 발생하는 자외선으로 여기된 형광체(10)로부터의 가시 발광을 표시에 이용한다.
여기에서, 유지 방전이 계속해서 행해지는 방전 셀(11)의 주사 전극(SCNi)과 유지 전극(SUSi)의 벽 전압의 상태는 이하와 같아진다. 우선, 주사 전극(SCNi)에 Vst(V), 유지 전극(SUSi)에 0(V)가 인가되면, 주사 전극(SCNi)으로부터 유지 전 극(SUSi)을 향해서 방전이 발생하고, 그것에 따라서, 주사 전극(SCNi)으로부터 유지 전극(SUSi)을 향해서 양 이온이, 유지 전극(SUSi)으로부터 주사 전극(SCNi)을 향해서 전자가 이동하고, 그 결과, 유지 전극(SUSi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압은 양으로, 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압은 음으로 된다. 그리고 다음 순간, 유지 펄스 전압(Vst(V))의 인가가 전환되어, 주사 전극(SCNi)에 0(V)가, 유지 전극(SUSi)에 Vst(V)가 인가되면, 유지 전극(SUSi)으로부터 주사 전극(SCNi)을 향해서 방전이 발생하고, 그것에 따라서 동일한 양 이온과 전자의 이동이 일어나서, 유지 전극(SUSi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압은 양에서 음으로, 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압은 음에서 양으로 전환된다. 그리고 이상의 동작이 반복된 뒤, 유지 전극(SUSi)에 Vst(V)가, 주사 전극(SCNi)에 0(V)가 인가된 상태로 유지 방전이 종료한다. 이 때, 유지 전극(SUSi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압은 양에서 음으로, 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5)의 표면의 벽 전압은 음에서 양으로 전환된 상태가 된다. 이상의 상태로 유지 기간이 종료한다.
다음에, 제거 기간에서의 동작에 대해서 설명한다. 이 제거 기간에 있어서는, 데이터 전극(Dj)을 Vrd(V), 유지 전극(SUSi)을 0(V)로 유지하고, 그 상태로 주사 전극(SCNi)에 대해서 Vnr(V)를 향해서 완만하게 하강하는 경사 파형 전압을 인가한다. 그렇게 하면, 이 경사 파형 전압이 하강하는 사이에, 도 2에 도시하는 바와 같이, 데이터 전극(Dj)을 양, 주사 전극(SCNi)을 음으로 한 미약한 방전(18)이 발생하여, 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 상에 잔존하는 불필요한 음전하(16)가 제거되기 때문에, 오방전의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 여기에서, 도 2는 도 8에 있어서의 10A-10A 단면의 화살표 방향에서 본 도면이다.
이상에 의해 제거 기간의 소거 동작이 종료한다.
그리고, 재차, 벽 전압 조정 기간으로부터 시작되는 서브필드 기간의 동작이 반복됨으로써 1필드 기간이 구성되어, 화상 표시가 행해진다.
이상 서술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 제거 기간을 설치함으로써, 오방전의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 정밀도가 높은 방전 셀 구조에서도 안정한 화상 표시를 행할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.
또한, 이상의 설명에서는, 주사 전극을 A로 하고, 유지 전극을 B로 한 경우, 그 기판(1)에서의 배열의 반복이 ABAB로 되는 예를 도시하였지만, 이것 이외의, 예를 들면 인접하는 셀 사이에 동일 종류의 전극을 배치한 ABBA 배열에서도 동일한 효과를 얻을 수 있다. 여기에서, 정밀도가 높을 때, 방전 셀의 수가 증가함으로써, ABAB 배열에서는 패널부에서의 전극 사이의 정전 용량이 증가하여 무효 전력이 증가하지만, ABBA 배열로 함으로써 인접 셀 사이 갭에서의 정전 용량을 감소시켜서, 무효 전력의 발생을 억제하고, 따라서 플라즈마 디스플레이 장치의 소비 전력을 억제하는 효과를 얻을 수 있다.
또, 제거 기간에서 인가되는 경사 파형 전압의 최소 전압치(Vnr(V))가, 데이터 전극(Dj)-주사 전극(SCNi) 사이의 방전 개시 전압치(Vf1(V))에 대해서, -(Vf1- 60)≤Vnr≤-30이 되는 관계를 가지면, 실시 형태 1에서의 효과가 더욱 높아지기 때문에 바람직하다.
(실시 형태 2)
다음에, 본 발명의 실시 형태 2에 대해서 도면을 이용하여 설명한다. 또한, 실시 형태 2에서의 패널부는, 도 8에 도시한 패널부와 동일하고, 이 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부의 개략 구성과, 패널부의 각 전극과의 결선 상태는 도 9에 도시한 것과 동일하다. 따라서, 그들의 설명은 생략하고, 실시 형태 2가 종래와 다른 점에 대해서 도 3을 이용하여 이하에 설명한다.
도 3은, 실시 형태 2의 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부를 구동하기 위해서 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형을 도시하는 도면으로, 유지 기간과 벽 전압 조정 기간과 기입 기간을 도시하고 있다.
실시 형태 2가, 종래와 다른 점은, 유지 기간의 최후의 유지 펄스의 피크 전압(Vsh(V))을, 그 이전의 유지 펄스의 피크 전압(Vst(V)) 및 방전 개시 전압(Vf2(V))에 대해서, Vst≤Vsh<Vf2가 되는 관계로 한 점이다.
이 작용은 이하와 같다. 최후의 유지 펄스의 피크 전압(Vsh(V))이, 그 이전의 유지 펄스의 피크 전압(Vst(V))보다 크기 때문에, 유지 기간의 최후의 유지 방전시에 있어서는 양 이온에 대한 전기적인 인력이 커지기 때문에, 양 이온에 대해서 긴 이동 거리가 필요한 주사 전극(SCNi)의 외측, 결국 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에도 양 이온이 도달할 수 있게 된다. 그 결과, 최후의 유지 방전이 인가된 후의 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 표면 벽 전압의 음에서 양으로의 전 환이 충분히 행해지게 되고, 불필요한 음전하가 잔류하지 않게 되기 때문에, 오방전의 발생이 없어진다고 하는 것이다.
이상 서술한 바와 같이, 최후의 유지 펄스 전압의 피크 전압치(Vsh(V))가, 그 이전의 유지 펄스 전압의 피크 전압치(Vst(V)) 및 주사 전극과 유지 전극 사이의 방전 개시 전압치(Vf2(V))에 대해서, Vst≤Vsh<Vf2가 되는 관계로 함으로써 오방전을 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 정밀도가 높은 방전 셀 구조에서도 안정한 화상 표시를 행할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.
여기에서, 구동 전압의 파형으로서 도 4에 도시하는 바와 같은, 실시 형태 2에서의 구동 전압의 파형에, 실시 형태 1에서 도시한 바와 같은, 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에 잔존하는 불필요한 음전하를 제거하기 위한 제거 기간에서의 구동 전압의 파형을 가한 것으로 하면, 불필요한 음전하의 제거 효과가 더욱 높아지기 때문에 바람직하다.
또, 최후의 유지 펄스 전압의 전압치(Vsh(V))가, 주사 전극과 유지 전극 사이의 방전 개시 전압치(Vf2(V))에 대해서, Vst≤Vsh<Vf2, 바람직하게는 (Vf2-50)≤Vsh<(Vf2-30)이 되는 관계를 가지면, 실시 형태 2의 효과가 더욱 높아지기 때문에 바람직하다.
(실시 형태 3)
이하에, 본 발명의 실시 형태 3에 대해서 도면을 이용하여 설명한다. 또한, 실시 형태 3에서 이용하는 패널부는, 도 8에 도시한 패널부와 동일하고, 이 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부의 개략 구성과, 패널부의 각 전극 과의 결선 상태는 도 9에 도시한 것과 동일하다. 따라서, 그들의 설명은 생략하고, 실시 형태 3이 종래와 다른 점에 대해서 도 5를 이용하여 이하에 설명한다.
도 5는 실시 형태 3의 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부를 구동하기 위해서 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형을 도시하는 도면으로, 유지 기간과 벽 전압 조정 기간과 기입 기간을 도시하고 있다. 실시 형태 3이 종래와 다른 점은, 실시 형태 3이 유지 기간의 최후의 유지 펄스의 펄스폭(ts2)을 그 이전의 유지 펄스의 펄스폭(ts1)보다도 넓게 한 것이다.
이 작용은 이하와 같다. 최후의 유지 펄스 전압의 펄스폭(ts2)이 그 이전의 유지 펄스 전압의 펄스폭(ts1)보다 크기 때문에, 유지 기간의 최후의 유지 방전시에는 양 이온의 이동 시간이 길어지므로, 양 이온에 대해서 긴 이동 거리가 필요한 주사 전극(SCNi)의 외측, 결국 인접 방전 셀 사이 갭(IPG) 부근에도 양 이온이 도달할 수 있게 된다. 따라서, 주사 전극(SCNi) 상의 보호막(5) 표면의 벽 전압의 음에서 양으로의 전환이 충분히 행해지게 되고, 불필요한 음전하가 잔류하지 않게 되기 때문에, 오방전의 발생이 없어지는 것이다.
이상 서술한 바와 같이, 최후의 유지 펄스 전압의 펄스폭(ts2)을, 그 이전의 유지 펄스 전압의 펄스폭(ts1)보다 크게 함으로써 오방전을 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 정밀도가 높은 방전 셀 구조에서도 안정한 화상 표시를 행할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.
여기에서, 구동 전압의 파형으로서 도 6에 도시하는 바와 같은, 실시 형태 3에서의 구동 전압의 파형에, 실시 형태 1에서 도시한 바와 같은, 인접 방전 셀 사 이 갭(IPG) 부근에 잔존하는 불필요한 음전하를 제거하기 위한 제거 기간에서의 구동 전압의 파형을 가한 것으로 하면, 불필요한 음전하의 제거 효과가 더욱 높아지기 때문에 바람직하다.
또, 유지 기간의 최후의 유지 펄스의 펄스폭(ts2(㎲))을 그 이전의 유지 펄스폭(ts1(㎲))에 대해서, (ts1+2)≤ts2≤20가 되는 관계로 하면, 실시 형태 3에서의 효과가 더욱 높아지기 때문에 바람직하다.
또, 이상의 설명에서는 유지 기간의 최후의 유지 펄스의 펄스폭을, 그 이전의 유지 펄스의 펄스폭보다도 확대한 구동 방법을 이용하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니라, 유지 기간의 최후에서 2번째 이후, 또는 3번째 이후의 유지 펄스의 펄스폭을, 그 이전의 유지 펄스의 펄스폭보다도 확대한 구동 방법을 이용해도 동일한 효과를 얻을 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
또, 실시 형태 1∼3에 있어서, 벽 전압 조정 기간에 주사 전극에 인가되는 경사 파형 전압의 최대 전압치(Vrc(V))가, 데이터 전극(Dj)-주사 전극(SCNi) 사이의 방전 개시 전압치(Vf1(V))에 대해서, (Vf1-50)≤Vrc<Vf1가 되는 관계를 가지면 바람직하다.
또한, 실시 형태 1∼3에 있어서의, 제거 기간 및 벽 전압 조정 기간에서의 각 경사 파형 전압의 경사는, 급속한 전환이 요구되는 동시에 불필요한 방전을 발생시키지 않을 정도의 완만함이 요구되고 있고, 그와 같은 관점에서, 0.5V/㎲ 이상, 20V/㎲ 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.
또, 이상의 설명으로부터 명확하게 알 수 있는 바와 같이, 주사 전극(SCN1∼ SCNn)과 유지 전극(SUS1∼SUSn)은 패널부에서는 완전히 동일한 것으로, 인가되는 구동 전압에 의해서 구별되는 것이다. 따라서, 실시 형태 1∼3에서 도시한 주사 전극(SCN1∼SCNn)으로 인가되는 구동 전압의 파형과 유지 전극(SUS1∼SUSn)으로 인가되는 구동 전압의 파형은, 양쪽이 교체되었다고 해도 동일한 효과를 얻을 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
또한, 이상의 설명에서는, 초기화 기간에 있어서, 모든 유지 전극(SUS1∼SUSn)에, 0(V)로부터 모든 주사 전극(SCN1∼SCNn)에 대해서 방전 개시 전압 이하가 되는 전위(Vpu(V))까지 급속히 상승한 뒤, 방전 개시 전압을 넘는 전위(Vru(V))까지 완만하게 상승하는 양극성 파형의 구동 전압을 인가하였지만, 도 7에 도시하는 바와 같이, 유지 전극(SUS1∼SUSn)에 당초부터 방전 개시 전압을 넘는 전위(Vru(V))의 직사각형 형상의 펄스 전압을 인가하도록 해도 좋다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태 1의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 2는, 본 발명의 실시 형태 1의 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부 내부에서의 전하 상태를 도시하는 단면도,
도 3은, 본 발명의 실시 형태 2의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 4는, 본 발명의 실시 형태 2의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 5는, 본 발명의 실시 형태 3의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 6은, 본 발명의 실시 형태 3의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 7은, 본 발명의 다른 실시 형태의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부가 출력하는 구동 전압의 파형의 타이밍 차트,
도 8은, 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부의 구조를 도시하는 단면 사시도,
도 9는, 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구동부의 개략 구성과 패널부의 각 전극의 결선 상태를 도시하는 도면,
도 10a, 도 10b는, 종래의 플라즈마 디스플레이 장치의 패널부 내부에서의 전하 상태를 도시하는 단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 기판 2 : 주사 전극
3 : 유지 전극 4 : 유전체층
5 : 보호막 6 : 기판
7 : 데이터 전극 8 : 유전체층
9 : 격벽 10 : 형광체

Claims (4)

  1. 쌍이 되는 주사 전극과 유지 전극을 다수 형성한 기판과 데이터 전극을 상기 주사 전극 및 상기 유지 전극에 대해서 직교하도록 형성한 기판을 대향 배치시킨 패널부와,
    상기 패널부를 구동하기 위한 구동 전압을 출력하는 구동부를 갖는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서,
    방전을 유지하기 위한 유지 펄스 전압을 상기 주사 전극과 상기 유지 전극에 대해서 교대로 인가하는 유지 기간을 갖고, 최후의 유지 펄스 전압의 전압치(Vsh(V))가, 그 이전의 유지 펄스 전압의 전압치(Vst(V)) 및 상기 주사 전극과 상기 유지 전극 사이의 방전 개시 전압치(Vf2(V))에 대해서, Vst≤Vsh<Vf2가 되는 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 최후의 유지 펄스 전압의 전압치(Vsh(V))가, 상기 주사 전극과 상기 유지 전극 사이의 방전 개시 전압치(Vf2(V))에 대해서, (Vf2-50)≤Vsh<(Vf2-30)이 되는 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유지 기간 뒤에 제거 기간을 갖고, 상기 제거 기간은, 상기 유지 기간 의 최후의 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 기간인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유지 펄스 전압과는 극성이 다른 경사 파형 전압을 최후의 유지 펄스 전압을 인가한 전극과는 다른 전극에 대해서 인가하는 제거 기간을 또한 갖고,
    상기 제거 기간에서의 상기 경사 파형 전압의 경사가, 0.5V/㎲ 이상, 20V/㎲ 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
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