KR100933125B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

인접하는 처리실로의 처리액(미스트)의 침입을 보다 확실하게 방지하는 것으로서, 기판 처리 장치는, 기판(S)에 약액 처리를 실시하는 습식(Wet) 처리부(2)와, 그 전(前) 처리로서 드라이 세정 등의 처리를 기판(S)에 실시하는 전 처리부(1)를 가진다. 각 처리부(1, 2)의 처리실(10, 20)은 개구부(11a)를 통해 연통되어 있고, 이 개구부(11a)는, 전 처리부(1)측에 설치되는 셔터 장치(14)와, 습식 처리부(2)측에 설치되는 셔터 장치(24)에 의해 개폐 가능하게 설치되어 있다. 또, 전 처리부(1)의 처리실(10)내에는, 개구부(11a)의 개방 중, 습식 처리부(2)측을 향해 개구부(11a)에 에어를 토출하는 에어 노즐(19a, 19b)이 배치되어 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, LCD(액정 표시 장치)나 PDP(플라즈마 디스플레이) 등의 FPD(플랫 패널 디스플레이)용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 반도체 기판 등의 기판에 각종 처리액을 공급하여 처리를 실시하는 기판 처리 장치 등에 관한 것이다.

종래부터, 복수의 처리실을 가지고, LCD, PDP용 유리 기판 등의 기판을 반송하면서, 각 처리실 내에서 기판에 처리액을 공급함으로써 미리 정해진 프로세스 처리를 기판에 실시하는 장치가 알려져 있다. 예를 들면, 특허 문헌 1에는, 기판에 박리액을 공급함으로써 레지스트 피막을 박리하는 박리 처리실과, 박리 처리 후의 기판을 세정하는 세정 처리실이 인접하여 설치된 것이 기재되어 있다.

이러한 종류의 장치에서는, 처리에 수반해 처리실에 충만한 미스트 상태의 처리액이, 기판 반송용의 개구부를 통해서 인접하는 처리실(인접 처리실이라고 한다)에 침입하고, 당해 인접 처리실의 기판의 처리에 다양한 영향을 주는 것을 생각할 수 있다. 예를 들면, 상기 특허 문헌 1에서는, 박리 처리실에서 사용된 박리액을 회수하여 재사용(순환 사용)하는데, 그 경우, 세정액의 미스트가 세정 처리실로부터 박리 처리실로 침입하면, 박리액의 액질이 열화하는 것을 생각할 수 있다.

이 때문에, 일반적으로는, 예를 들면 특허 문헌 2에 나타내는 바와같이, 처리실간에 셔터를 설치하고, 기판의 반송 시에만 개구부를 열어, 인접 처리실로의 미스트의 침입을 방지하는 것이 행해진다.

<특허 문헌 1> 일본국 특허공개 2004－146414호 공보

<특허 문헌 2> 일본국 특허공개 2000－58501호 공보

그러나, 처리실간에 셔터를 설치한 장치라도, 기판의 반송 중은, 개구부가 열려있게 되므로, 여전히 개구부를 통해서 인접 처리실에 미스트가 침입하기 쉽고, 따라서, 인접 처리실로의 미스트의 침입을 방지하는데 있어서 아직 개선의 여지가 있다.

또, 개구부의 폐지(閉止) 시에 셔터에 부착된 미스트가 셔터 작동 시에 인접 처리 실내로 비산하는 것을 생각할 수 있고, 특히, 특허 문헌 2의 구성에서는, 셔터가, 수평축 둘레로 회동하여 처리실 내측으로 넘어지는 가도식(可倒式)의 구조이므로, 부착된 미스트 등이 셔터 작동 시(특히 개방 시)에 비산하기 쉽고, 이 점을 개선할 필요도 있다.

또한, 복수의 처리실이 인접하는 장치에서는, 어느 한쪽측의 처리실로부터 다른쪽측의 처리실로의 미스트 침입이 문제가 되고, 그 반대는 어느 정도 허용되는 케이스가 많다. 예를 들면 특허 문헌 1의 장치에서는, 박리액의 열화를 방지하는데 있어서, 세정 처리실로부터 박리 처리실로의 미스트 침입을 저지할 필요가 있는데, 반대로, 즉 세정실로의 박리액(미스트)의 침입은 그다지 문제가 되지 않는다. 따라서, 미스트 침입의 방지책을 도모하는데는, 이러한 사정을 고려한 다음에 방지책을 강구하는 것이 바람직하다.

본 발명은, 상기와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 인접하는 처리실로의 미스트 상태 처리액의 침입을 보다 효과적으로 방지하는 것을 목적으로 하는 것이다.

상기의 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 기판 처리 장치의 기본 구성은, 기판에 처리액을 공급하여 소정의 습식 처리를 기판에 실시하는 습식 처리실을 가지고, 이 습식 처리실의 격벽에 형성되는 기판 반송용의 개구부를 통해 당해 습식 처리실에 대해서 기판의 출입이 행해지는 기판 처리 장치에 있어서, 상기 개구부를 개폐하는 셔터 수단과, 상기 습식 처리실의 실외에 배치되는 노즐 부재를 포함하고, 적어도 상기 개구부가 개구하고 있을 때 당해 노즐 부재로부터 기체를 토출시킴으로써 상기 개구부를 향하는 기체류를 형성하는 기체류 형성 수단을 구비하는 것이다.

이 기판 처리 장치에 의하면, 셔터 수단에 의한 개구부의 개방 중, 즉, 주로 기판이 개구부를 통과할 때는, 노즐 부재로부터 기체가 토출됨으로써 습식 처리실외에서 상기 개구부로 향하는 기체류가 형성되고, 그 기체압에 의해서 상기 개구부를 통과한 습식 처리실내로부터 실외로의 처리액(미스트)의 유출이 방지된다. 따라서, 셔터 수단에 의해 개구부를 개폐하는것만의 종래 장치에 비해, 보다 확실하게 미스트의 유출을 방지하는 것이 가능해진다.

또한, 이 기판 처리 장치에 있어서는, 상기 셔터 수단으로서, 상기 개구부를 상기 습식 처리실의 실내측으로부터 개폐하는 셔터 본체를 구비하는 제1 셔터 수단과, 상기 개구부를 상기 습식 처리실의 실외측으로부터 개폐하는 셔터 본체를 구비하는 제2 셔터 수단을 구비하고, 상기 기체류 형성 수단은, 상기 개구부를 통과하 는 기판에 대해서 상기 노즐 부재로부터 기체를 공급함으로써, 당해 기판 표면에, 습식 처리실의 실외측으로부터 실내측을 향해 유동하는 기체류를 형성하도록 구성되는 것이 매우 적합하다.

이 구성에 의하면, 습식 처리실 내에도 셔터 수단(제1 셔터 수단)이 배치되어 있으므로, 습식 처리실 외의 셔터 수단(제2 셔터 수단)의 셔터 본체에 미스트가 부착되기 어려워진다. 따라서, 제2 셔터 수단에 부착된 미스트나 그 건조물이 셔터 작동 시에 습식 처리실의 실외측으로 비산하는 것을 유효하게 방지할 수 있다. 또한, 기판이 개구부를 통과할 때는, 기체류 형성 수단에 의해 기판 표면에 습식 처리실의 실내측을 향해 유동하는 기체류가 형성되므로, 보다 확실하게 습식 처리실로부터의 미스트의 유출이 방지된다.

구체적인 구성으로서 예를 들면 상기 개구부를 통해 상기 습식 처리실에 연통하고, 또한 상기 습식 처리의 전 처리, 또는 후 처리를 기판에 실시하는 인접 처리실을 가지는 경우에는, 이 인접 처리실에 상기 제2 셔터 수단 및 상기 노즐 부재가 배치된다.

이 구성에 의하면, 셔터 작동 시에 인접 처리실 내에 미스트가 비산하고, 또 기판 반송 중에 상기 개구부를 통해서 미스트가 인접 처리실 내로 침입하는 것이 유효하게 방지된다.

또한, 상기와 같은 기판 처리 장치에 있어서는, 상기 셔터 본체에 의해 상기 개구부를 폐지하는 폐지 상태와, 소정의 퇴피 위치에 상기 셔터 본체를 퇴피시킴으로써 상기 개구부를 개방하는 개방 상태로 상기 각 셔터 수단의 구동 상태를 전환 제어하는 셔터 제어 수단을 더 가지고, 이 셔터 제어 수단은, 기판이 상기 개구부를 통과할 때는, 상기 제1 셔터 수단을 폐지 상태로부터 개방 상태로 전환하기 직전에, 상기 제2 셔터 수단을 폐지 상태로부터 개방 상태로 전환하도록 구성되어 있는 것이 적합하다.

이러한 구성에 의하면 기판 반송 시에는, 습식 처리실의 실내측의 제1 셔터 수단보다 항상 실외측의 제2 셔터 수단이 먼저 개방 상태로 전환되므로, 제2 셔터 수단의 셔터 본체로의 미스트의 부착이 유효하게 방지된다.

이 경우, 상기 기체류 형성 수단을 제어하는 기체류 형성 제어 수단을 더 가지고, 이 기체류 형성 제어 수단이, 제1 셔터 수단의 폐지 상태로부터 개방 상태로의 전환 동작에 동기하여 기체의 공급을 개시하도록 구성되어 있는 것이 적합하다.

이 구성에 의하면, 개구부가 개방되는 것과 동시에 기체의 공급이 개시되므로, 습식 처리실내로부터의 미스트의 유출이 보다 효과적으로 방지된다.

또, 상기와 같은 기판 처리 장치에 있어서, 상기 각 셔터 수단 중 적어도 제2 셔터 수단은, 상기 셔터 본체를 상기 격벽의 벽면을 따라서 슬라이드시킴으로써 상기 개구부를 개폐하도록 구성되어 있는 것이 적합하다.

이와 같이 격벽의 벽면을 따라서 셔터 본체를 슬라이드시키는 구성에 의하면, 소위 가도식의 개폐 구조와 같이, 셔터 본체가 크게 요동하지 않고, 이 때문에, 만일 셔터 본체에 미스트가 부착된 경우에도 미스트 등의 비산이 일어나기 어려워진다.

또, 습식 처리실에 인접하는 인접 처리실을 가지는 기판 처리 장치의 경우, 상기 인접 처리실은, 당해 처리실 내에서 상기 개구부의 근방을 포위하도록 형성되는 예비실과, 이 예비실 내의 분위기를 배기하는 예비실 배기 수단을 더 구비하는 것이 적합하다.

이 구성에 의하면, 제2 셔터 수단에 의한 개구부의 개방 동작에 수반해 셔터 본체에 부착된 미스트가 비산하거나, 혹은 개구부를 통해서 미스트가 습식 처리실측으로부터 인접 처리실측으로 침입한 경우에도, 신속하게 예비실로부터 당해 미스트가 외부로 배출되게 된다.

또한, 본 발명의 기판 처리 장치에 있어서는, 상기의 기본 구성에, 이하와 같은 구성이 부가된 것이어도 된다. 즉, 상기 습식 처리실로서 기판 반송 방향으로 배열되는 제1 처리실 및 제2 처리실을 가지고, 각 처리실에서 기판에 대해서 서로 다른 처리액을 이용해 순차적으로 소정의 습식 처리를 실시하도록 구성되고, 또한 상기 서로 다른 처리액의 관계가, 기판 처리 시에 한쪽측의 처리액에 대한 다른쪽측의 처리액의 혼입을 억제하는 것이 요구되는 관계에 있는 것으로서, 상기 제1 처리실과 상기 제2 처리실의 사이에 중간실이 설치되고, 상기 개구부로서, 상기 제1 처리실과 중간실의 격벽에 제1 개구부가, 상기 중간실과 제2 처리실의 격벽에 제2 개구부가 각각 설치되고, 또한 상기 셔터 수단으로서, 상기 제1, 제2 개구부를 각각 개폐하는 셔터 수단이 설치되어 있고, 상기 기체류 형성 수단은, 상기 노즐 부재를 상기 중간실에 구비하고, 당해 노즐 부재로부터 기체를 토출시킴으로써, 상기 제1 개구부 및 제2 개구부 중 한쪽측의 개구부이며 상기 다른쪽측의 처리액이 이용되는 처리실과 중간실의 사이에 위치하는 개구부를 대상 개구부로 하여 당해 대상 개구부로 향하는 기체류를 형성하도록 구성되어 있고, 이 기체류 형성 수단의 상기 노즐 부재와 상기 대상 개구부의 사이의 위치에 배기구를 가지고, 당해 배기구를 통해 상기 중간실 내의 배기를 행하는 중간실 배기 수단이 더 설치되어 있는 것이다. 여기서, 「서로 다른 처리액」이란, 서로 성상(性狀)(속성)이 다른 처리액 이외에, 서로 성상은 공통이고 종류가 다른 처리액이나, 성상이나 종류는 공통이고 농도만이 서로 다른 처리액 등을 포함하는 개념이다.

이 기판 처리 장치에 의하면, 제1 처리실과 제2 처리실의 사이에 중간실이 설치되고, 상기 다른쪽측의 처리액을 이용하는 처리실측의 개구부(상기 대상 개구부)가 개방되어 있을 때는, 상기 중간실에 설치된 노즐 부재로부터 당해 대상 개구부를 향해 기체가 토출되고, 그 결과, 상기 대상 개구부로부터의 미스트(다른쪽측의 처리액)의 유출이 방지된다. 또한, 당해 미스트가 다소 유출된 경우에도, 중간실 배기 수단으로 중간실 내가 배기되어 있으므로, 당해 미스트는 중간실로부터 외부로 배기된다. 이 때, 배기구는, 노즐 부재와 상기 대상 개구부의 사이의 위치에 설치되어 있으므로, 유출된 미스트는 신속하게 배기된다. 따라서, 다른 처리실(즉, 상기 한쪽측의 처리액이 이용되는 처리실)로의 상기 미스트의 침입이 효과적으로 저지되고, 상기 한쪽측의 처리액에 대한 다른쪽측의 처리액의 혼입이 저지된다.

또한, 이 기판 처리 장치에 있어서는, 상기 중간실에 칸막이벽이 설치됨으로써, 상기 중간실의 내부가 상기 노즐 부재를 포함하는 노즐실과, 상기 대상 개구부 및 배기구를 포함하는 배기실로 나뉘어지고, 상기 노즐 부재는, 상기 칸막이벽에 설치된 기판 반송용의 개구부를 통해서 상기 배기실측으로 기체를 토출하는 것이 적합하다.

이 장치에 의하면, 상기 대상 개구부를 통해서 미스트가 다소 유출된 경우에도, 칸막이벽에 의해서 다른 처리실측으로의 미스트의 확산이 유효하게 방지된다. 이 때문에, 당해 다른 처리실로의 상기 미스트의 침입을 보다 효과적으로 저지할 수 있다.

또, 상기 기체류 형성 수단은, 상기 대상 개구부를 통과하는 기판에 대해서 상기 노즐 부재로부터 기체를 공급함으로써, 당해 기판 표면을 따라서 상기 중간실측으로부터 처리실측을 향해 유동하는 기체류를 형성하는 것이 적합하다.

이 장치에 의하면, 상기 대상 개구부를 기판이 통과하는 사이, 중간실측으로부터 처리실측으로 유동하는 기체류가 기판 표면에 형성되므로, 기판을 따른 처리실로부터의 미스트 유출이 유효하게 방지된다.

또한, 상기 장치에 있어서, 상기 서로 다른 처리액은 농도가 다른 동일한 종류의 처리액이며, 또한 고농도의 처리액이 상기 제1 처리실에서 이용되는 것으로서, 상기 노즐 부재는 상기 제2 개구부를 상기 대상 개구부로 하여 당해 개구부를 향해 기체를 토출하도록 설치되는 것이다.

이 장치에서는, 각 처리실에 있어서 동일한 종류의 처리가 실시되는데, 상기의 장치 구성을 가지고 있는 결과, 저농도의 미스트(처리액)가 제2 처리실로부터 유출하여 제1 처리실로 침입하는 것이 유효하게 방지된다. 따라서, 저농도의 미스트가 고농도의 처리액에 혼입하여 당해 처리액이 희석되는 문제를 유효하게 방지할 수 있다. 이러한 구성은, 특히, 상기 제1 처리실 내를 배기하는 처리실 배기 수단과, 상기 배기 중에 포함되는 미스트를 재사용하기 위하여 포집하는 포집 수단을 구비하는데 유용하다. 즉, 이와 같이 배기 중에 포함되는 미스트(고농도의 미스트)를 포집해 재사용하는 경우에, 상기 장치 구성을 채용하면, 포집, 재사용되는 고농도의 처리액의 희석을 유효하게 방지할 수 있다는 장점이 있다.

본 발명의 청구항 1∼12에 관한 기판 처리 장치에 의하면, 기판이 개구부를 통과할 때 등에는, 노즐 부재로부터 기체가 토출되고, 그 기체압에 의해서 상기 개구부를 통한 습식 처리실 내로부터 실외로의 처리액(미스트)의 유출이 방지된다. 따라서, 셔터 수단에 의해 개구부를 개폐하는 것만의 종래 장치에 비해, 보다 확실하게 미스트의 유출을 방지하는 것이 가능해진다.

특히, 청구항 2∼7에 관한 기판 처리 장치에 의하면, 습식 처리실 내에도 셔터 수단이 배치되어 있고, 습식 처리실 외의 셔터 수단의 셔터 본체에 미스트가 부착하기 어려워지므로, 습식 처리실 외의 셔터 수단에 부착된 미스트나 그 건조물이 셔터 작동시에 습식 처리실의 실외측에서 비산하는 것을 유효하게 방지할 수 있다.

또, 청구항 8∼12에 관한 기판 처리 장치에 의하면, 습식 처리실인 제1 처리실과 제2 처리실의 사이에 중간실이 설치되고, 이 중간실에 노즐 부재가 설치되어 대상 개구부를 향해 기체가 토출됨과 더불어, 당해 중간실이 배기 수단으로 배기되는 구성으로 되어 있으므로, 만약 대상 개구부로부터 미스트가 유출된 경우에도, 당해 미스트를 중간실로부터 외부로 신속하게 배기할 수 있고, 따라서, 제1, 제2 처리실 중 한쪽측으로부터 다른쪽측으로의 미스트의 침입을 효과적으로 방지할 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해 도면을 이용해 설명한다.

<제1의 실시의 형태>

도 1은, 본 발명에 관한 기판 처리 장치의 일례를 나타내고 있다. 이 도면에 나타내는 기판 처리 장치는, 기판(S)을 반송하면서 미리 정해진 순서로 소정의 처리를 기판(S)에 실시하는 프로세스 처리 장치이며, 동 도면은 그 일부분을 개략적으로 나타낸다.

이 도면에 나타내는 바와같이, 기판 처리 장치는, 약액(처리액)을 기판(S)에 공급하여 소정의 약액 처리를 실시하는 습식 처리부(2)와, 그 전 처리로서 드라이 세정 등의 처리를 기판(S)에 실시하는 전 처리부(1)를 구비한다. 각 처리부(1, 2)는, 각각 상자형의 밀폐된 처리실(10, 20)을 가지고 있다. 이들 처리실(10, 20)은, 격벽(11)을 공유해 인접됨과 더불어, 당해 격벽(11)에 형성되는 기판 반송용의 개구부(11a)를 통해서 서로 연통하고 있다. 개구부(11a)는, 폭방향(기판(S)의 반송 방향과 직교하는 방향；동 도면에서는 지면에 직교하는 방향)으로 가늘고 긴 장방형의 형상으로 기판(S)을 통과시키는데 필요하고 또한 충분한 크기로 형성되어 있다. 또한, 이하의 설명에서 「상류측」「하류측」이라고 할 때는 기판(S)의 반송 방향에 의거하는 것으로 한다.

각 처리실(10, 20)의 내부에는, 복수의 반송 롤러(5)가 소정 간격으로 배치 되고 있고, 기판(S)이 이들 반송 롤러(5)의 구동에 의해 수평 자세로 반송되도록 구성되어 있다.

전 처리부(1)의 처리실(10)(본 발명에 관한 인접 처리실에 상당한다)의 내부에는, 동 도면에 도시하는 바와같이, 개구부(11a)를 포위하는 예비실(12)이 구획 형성되어 있다. 이에 따라 처리실(10)내에서 개구부(11a)를 포함하는 일부 공간이 그 이외의 공간으로부터 격리되어 있다.

예비실(12) 중 상기 격벽(11)에 대향하는 벽면에는, 기판(S)의 통과구(12a)가 형성되어 있고, 이 통과구(12a)를 통해서 기판(S)이 예비실(12)을 통과하는 구성으로 되어 있다. 또, 이 예비실(12)에는, 그 천정 부분에 배기 통로(12b)가 연통 접속되어 있다. 이 배기 통로(12b)는, 처리실(10)의 외부로 도출됨과 더불어 부압 펌프(13) 등에 접속되어 있고, 이에 의해서 예비실(12) 내의 분위기가 항상 배기되도록 구성되어 있다. 또한, 이 실시 형태에서는, 이 배기 통로(12b) 및 부압 펌프(13) 등이 본 발명의 예비실 배기 수단에 상당한다.

예비실(12) 내에는, 상기 개구부(11a)를 개폐하는 셔터 장치(14)(본 발명에 관한 제2 셔터 수단에 상당한다)가 배치되어 있다.

이 셔터 장치(14)는, 개구부(11a)를 전 처리부(1)측으로부터 개폐하기 위한 셔터 본체(15)와, 이 셔터 본체(15)를 구동하는 구동 기구로 구성되어 있다.

셔터 본체(15)는, 폭방향으로 가늘고 긴 평판 형상을 가지고, 전체가 내약품성을 가지는 재료로 구성되어 있다. 구동 기구는, 이 셔터 본체(15)를 격벽(11)의 벽면을 따라서 상하운동시키도록 구성되어 있다. 구체적으로는, 도 2에 도시하는 바와같이, 격벽(11)을 따라서 셔터 본체(15)를 안내하는 가이드(16)와, 이 가이드(16)에 설치되는 랙(rack)(16a, 16b)과, 이들 랙(16a, 16b)에 각각 맞물리는 피니언(17a, 17b)을 구비하는 구동축(17)과, 이 구동축(17)을 구동하는 모터(18) 등을 가지고, 상기 구동축(17)의 정, 역회전 구동에 따라, 셔터 본체(15)를 상기 개구부(11a)를 폐지하는 위치(도 1의 실선으로 표시하는 위치)와, 개구부(11a)보다 하측으로 퇴피하여 당해 개구부(11a)를 개방하는 위치(도 1의 2점 쇄선으로 표시하는 위치)로 이동시키도록 구성되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 셔터 본체(15)에 의해 개구부(11a)가 폐지되어 있는 상태를 셔터 장치(14)의 「폐지 상태」로, 셔터 본체(15)가 개구부(11a)의 하측으로 퇴피하여 당해 개구부(11a)가 개방되어 있는 상태를 셔터 장치(14)의 「개방 상태」로 칭한다.

처리실(10)내에는, 또한, 예비실(12)의 바로 상류측의 위치에 상하 한쌍의 에어 노즐(19a, 19b)(본 발명에 관한 노즐 부재에 상당한다)이 배치되어 있다. 이들 에어 노즐(19a, 19b)은, 폭방향으로 연속적으로, 또는 단속적으로 신장되는 슬릿형상의 개구를 가지는, 소위 슬릿 노즐로 이루어지고, 반송 중의 기판(S)의 상하 각면에 대해서 각각 상류측으로부터 하류측을 향해(즉, 습식 처리부(2)측을 향해) 경사 방향으로, 띠 형상으로 기체를 토출할 수 있도록 구성되어 있다. 당해 실시 형태에서는, 청정도 및 온, 습도가 소정 레벨로 조정된 소위 CDA(Clean Dry Air ；이하, 간단히 에어라고 한다)를 토출한다.

이들 에어 노즐(19a, 19b)은, 전자 밸브 등을 가지는 에어 공급관(19)을 통해 도면 외의 에어 공급원에 접속되어 있고, 상기 전자 밸브 등의 제어에 따라 각 에어 노즐(19a, 19b)로부터의 에어의 토출과 정지의 전환, 및 에어 토출량의 조정을 행해지도록 구성되어 있다. 또한, 당 실시 형태에서는, 에어 노즐(19a, 19b), 에어 공급관(19) 및 에어 공급원 등이 본 발명에 관한 기체류 형성 수단에 상당한다.

한편, 습식 처리부(2)의 처리실(20)(본 발명에 관한 습식 처리실에 상당한다) 내부에는, 기판(S)에 대해서 약액을 공급하기 위한 복수의 액 노즐(22)이 배치되어 있다. 이들 액 노즐(22)은 약액을 분무하는, 소위 스프레이 노즐로 이루어지고, 반송 롤러(5)의 상부에 소정의 배열로 배치되어 있다. 이들 액 노즐(22)은 전자 밸브 등을 가지는 약액 공급관(23)을 통해 도면 외의 에어 공급원에 접속되어 있고, 상기 전자 밸브 등의 제어에 따라 각 액 노즐(22)로부터의 약액의 분무와 정지의 전환, 및 약액 토출량의 조정이 행해지도록 구성되어 있다.

또, 처리실(20) 내에는, 상기 셔터 장치(14)와는 별도로, 습식 처리부(2)측으로부터 상기 개구부(11a)를 개폐하기 위한 셔터 장치(24)(본 발명의 제1 셔터 수단에 상당한다)가 배치되어 있다.

이 셔터 장치(24)의 구성은, 전 처리부(1)의 셔터 장치(14)의 구성과 공통된다. 즉, 개구부(11a)를 개폐하기 위한 셔터 본체(25)와, 이 셔터 본체(25)를 구동하는 구동 기구로 구성되어 있고, 셔터 본체(25)에 의해 개구부(11a)를 막는 「폐지 상태」와, 셔터 본체(15)를 개구부(11a)의 하측으로 퇴피시켜 당해 개구부(11a)를 개방하는 「개방 상태」로 전환 가능하게 구성되어 있다(도 1중에 실선 및 2점 쇄선으로 표시하는 상태).

또한, 상기 기판 처리 장치는, CPU 등을 구성 요소로 하는 컨트롤러(6)(도 2 참조)를 가지고 있고, 배기 통로(12b), 각 공급관(19, 23) 등에 설치되는 각 전자 밸브나, 셔터 장치(14, 24)의 모터(18) 등은, 모두 이 컨트롤러(6)에 접속됨으로써 당해 컨트롤러(6)에 의해서 통괄적으로 제어되게 되어 있다. 특히, 전 처리부(1)로부터 습식 처리부(2)로의 기판(S)의 반송 시에는, 컨트롤러(6)의 제어에 의해, 셔터 장치(14, 24)에 의한 개구부(11a)의 개폐 등의 동작이 도 3에 나타내는 순서에 따라서 행해짐으로써, 습식 처리부(2)로부터 전 처리부(1)로의 미스트 상태의 약액의 침입이 방지되게 되어 있다. 이하, 이 점에 대해 설명한다. 또한, 이 실시 형태에서는, 이 컨트롤러(6)가, 본 발명에 관한 셔터 제어 수단 및 기체류 형성 제어 수단에 상당한다.

이 장치에서, 기판(S)의 처리 중은, 도 1의 실선으로 표시하는 바와같이 각 처리부(1)의 셔터 장치(14, 24)가 폐지 상태로 구동 제어된다. 이에 따라 각 처리실(10, 20)이 비연통 상태로 되고, 기판(S)의 처리 중에 습식 처리부(2)측에서 발생한 미스트 상태의 약액(이하, 간단히 미스트라고 한다)이 전 처리부(1)측에 침입하는 것이 방지된다.

각 처리부(1, 2)에서 기판(S)의 처리가 종료하면, 습식 처리부(2)의 기판(S)이 다음 공정으로 반출됨과 더불어, 전 처리부(1)의 기판(S)이 습식 처리부(2)로 반송된다.

이 때, 전 처리부(1)로부터 습식 처리부(2)로의 기판(S)의 반송에 있어서는, 도 3에 나타내는 순서에 따라서 개구부(11a)의 개폐 등의 동작이 행해진다.

우선, 연속적으로 반송되어 오는 기판(S)이, 에어 노즐(19a, 19b)보다 상류측의 소정 위치에 도달한 것이 도면 외의 센서에 의해 검출되면, 전 처리부(1)의 셔터 장치(14)가 개방 상태로 전환된다. 그리고, 당해 셔터 장치(14)가 완전히 개방 상태로 되면, 습식 처리부(2)의 셔터 장치(24)가 개방 상태로 전환됨과 더불어, 에어 노즐(19a, 19b)로부터의 에어의 토출이 개시된다.

이에 따라, 기판(S)이 예비실(12)을 통과하면서 개구부(11a)를 통해서 전 처리부(1)(처리실(10))로부터 습식 처리부(2)(처리실(20))로 반입된다.

또한, 이와 같이 개구부(11a)가 개방되면, 습식 처리부(2)측으로부터 개구부(11a)를 통해 전 처리부(1)측에 미스트가 침입하는 경우가 있는데, 상기와 같이 예비실(12) 내의 분위기가 흡인 배기되는 결과, 당해 미스트는 배기 통로(12b)를 통해서 도출되게 된다. 또, 기판(S)이 예비실(12)을 한창 통과하는 도중에, 에어 노즐(19a, 19b)로부터 토출되는 에어에 의해, 기판(S)의 상하 양면을 따라서 상류측으로부터 하류측을 향하는 에어류가 형성되게 되고, 그 결과, 개구부(11a)를 통한 처리실(10)내로의 미스트의 침입이나, 통과구(12a)를 통한 상류측으로의 미스트의 유동이 방지된다. 따라서, 미스트가 예비실(12)로부터 상류측으로 침입하지 않고, 이에 따라 전 처리부(1)내로의 실질적인 미스트의 침입이 방지되게 된다.

기판(S)의 반송이 진행되고, 기판(S)이 습식 처리부(2)의 처리실(20)내로 완전하게 반입되면, 상기와 반대의 순서로 개구부(11a)가 폐지된다. 즉, 습식 처리부(2)의 셔터 장치(24)가 폐지 상태로 전환됨과 더불어, 이와 동시에 에어 노즐(19a, 19b)로부터의 에어의 토출이 정지되고, 그 후, 사전 처리부(1)의 셔터 장 치(14)가 폐지 상태로 전환된다. 이에 따라, 이후, 각 처리부(1, 2)에서 기판(S)의 처리가 각각 개시되게 된다.

이상과 같은 기판 처리 장치에 의하면, 전 처리부(1)의 처리실(10) 내부에, 개구부(11a)를 포위하도록 예비실(12)이 구획 형성되어 있고, 이 예비실(12)의 분위기가 흡인 배기되도록 구성됨과 더불어, 이 예비실(12)의 바로 상류측에 에어 노즐(19a, 19b)이 배치되고, 개구부(11a)의 개방 중은, 에어 노즐(19a, 19b)로부터 토출되는 에어에 의해, 기판(S)의 상하 양면을 따라서 에어류가 형성되는 구성으로 되어 있다.

이 때문에, 개구부(11a)를 통한 처리실(10)내로의 미스트의 침입(유출)이나, 통과구(12a)를 통한 상류측으로의 미스트의 유출이 유효하게 방지되고, 또, 개구부(11a)를 통해서 예비실(12) 내에 미스트가 침입한 경우에도, 당해 미스트는 신속하게 배기 통로(12b)를 통해서 외부로 배출된다. 따라서, 습식 처리부(2)로부터 전 처리부(1)로의 실질적인 미스트의 침입이 유효하게 방지되게 된다.

또, 이 기판 처리 장치에서는, 전 처리부(1)의 처리실(10)내뿐만 아니라, 습식 처리부(2)내에도 셔터 장치(24)가 설치되고, 셔터 본체(25)에 의해 습식 처리실(2)측으로부터도 개구부(11a)가 개폐되도록 구성되어 있으므로, 이에 따라 전 처리부(1)측의 셔터 본체(15)로의 미스트의 부착이 효과적으로 방지된다. 즉, 개구부(11a)의 폐지 중에 미스트가 전 처리부(1)측의 셔터 본체(15)에 부착되는 것이 유효하게 방지된다.

특히, 이 장치에서는, 도 3에 도시하는 바와같이, 개구부(11a)를 개방할 때 는, 우선 전 처리부(1)측의 셔터 장치(14)가 개방 상태로 전환된 후에, 습식 처리부(2)측의 셔터 장치(24)가 개방 상태로 전환되고, 한편, 개구부(11a)를 폐지할 때는, 우선 습식 처리부(2)측의 셔터 장치(24)가 폐지 상태로 전환된 후에, 전 처리부(1)측의 셔터 장치(14)가 폐지 상태로 전환되므로, 전 처리부(1)측의 셔터 본체(15)가 단독으로 개구부(11a)를 막는 상태가 아니다. 이 때문에, 전 처리부(1)측의 셔터 본체(15)로의 미스트의 부착이 효과적으로 방지된다.

게다가, 각 셔터 장치(14, 24)는, 상기와 같이, 셔터 본체(15, 25)를 격벽(11)을 따라서 상하로 슬라이드시킴으로써 개구부(11a)를 개폐하는 구성이므로, 가도식의 셔터 장치와 같이 셔터 본체가 크게 요동하지 않고, 이 때문에, 셔터 본체(15, 25)에 미스트가 부착된 경우에도 개폐 동작에 수반되는 미스트의 비산이 일어나기 어렵다.

따라서, 개구부(11a)를 개방할 때에 셔터 본체(15)에 부착한 미스트가 전 처리부(1)의 처리실(10) 내에 비산되는 사태가 경감되고, 그 결과, 습식 처리부(2)로부터 전 처리부(1)로의 미스트의 침입이 효과적으로 방지되게 된다.

또한, 상술한 기판 처리 장치에 대해서는, 그 구체적인 구성으로서, 이하와 같은 구성을 채용하는 것도 가능하다.

예를 들면, 이 실시 형태에서는, 습식 처리부(2)로부터 전 처리부(1)로의 미스트의 침입을 방지하기 위해서 본 발명을 적용한 예에 대해서 설명했는데, 본 발명은, 습식 처리부(2)와 그 후 처리부의 관계에 있어서도 적용 가능하다. 예를 들면, 도 4는 그 일례를 나타낸다.

이 장치에서는, 습식 처리부(2)의 처리실(20)과 후 처리부(3)의 처리실(30)의 격벽(11’)(경계벽)에 기판 반송용의 개구부(11a’)가 형성되어 있고, 이 개구부(11a’)를 통해서 습식 처리부(2)측으로부터 후 처리부(3)측으로 기판(S)이 반송되도록 구성되어 있다. 동 도면에 도시하는 바와같이, 습식 처리부(2)의 처리실(20)내에는 셔터 장치(24’)(본 발명에 관한 제1 셔터 수단에 상당한다)가, 후 처리부(3)의 처리실(30) 내에는 셔터 장치(14’)(본 발명에 관한 제2 셔터 수단에 상당한다)가 각각 배치되어 있다. 이들 셔터 장치(14’, 24’)의 구성은, 상기 실시 형태의 셔터 장치(14, 24)와 동일하다. 또, 후 처리부(3)의 처리실(30)내에는, 개구부(11a’)를 포위하도록 예비실(12’)이 설치되고, 이 예비실(12’)내가 배기 통로(12b’)를 통해서 흡인 배기되도록 구성되어 있다. 또, 예비실(12’)(통과구(12a’))의 바로 하류측에는 에어 노즐(19a’, 19b’)이 배치되어 있고, 기판(S)의 반송 중은 이들 에어 노즐(19a’, 19b’)로부터 토출되는 에어에 의해 기판(S)의 상하 각면을 따라서 습식 처리부(2)측을 향해 유동하는 에어류가 형성되게 되어 있다. 또한, 셔터 장치(14’, 24’) 등의 구동 제어는, 도 3에 있어서, 전 처리부(1)의 셔터 장치(14)의 동작을 후 처리부(3)의 셔터 장치(14’)의 동작으로 치환한 순서로 행해진다.

이러한 도 4에 도시하는 기판 처리 장치의 구성에 의하면, 습식 처리부(2)측으로부터 후 처리부(3)측으로의 미스트의 침입을 유효하게 방지할 수 있어, 상술한 실시 형태와 동일한 작용 효과를 누릴 수 있다.

또, 상기 실시 형태의 셔터 장치(14, 24)에서는, 랙과 피니언에 의한 구동 기구를 적용해 셔터 본체(15, 25)를 격벽(11)을 따라서 슬라이드시키도록 구성되어 있는데, 셔터 본체(15, 25)의 구동 기구는, 그 이외의 것이어도 된다. 예를 들면, 셔터 본체(15, 25)에 상하 방향으로 신장되는 나사축을 조여 삽입하고, 이 나사축의 회전에 수반해 셔터 본체(15, 25)를 상하 방향으로 이동시키는 구성을 작용해도 된다.

또, 셔터 장치(14, 24)는, 상기 실시 형태와 같이 셔터 본체(15, 25)가 격벽(11)을 따라서 슬라이드하는 것에 한정되지 않고, 예를 들면 도 5(a)에 나타내는 것이어도 된다. 동 도면에 나타내는 셔터 장치(14)(24)는, 개구부(11a)와 대략 동등한 크기의 개구(15a(25a))를 일부에 구비한 셔터 본체(15(25))를 가지고 있다. 이 셔터 본체(15)는, 평행 링크(32, 32)를 통해 각각 격벽(11)에 고정된 브래킷(31)에 지지되어 있다. 평행 링크(32, 32)중 한쪽측에는 구동용 링크(34)가 일체로 고정되어 있고, 이 링크(34)의 선단에 에어 실린더(36)의 로드(36a)가 연결되어 있다. 그리고, 에어 실린더(36)의 로드 돌출 구동 상태에서는, 동 도면에 도시하는 바와같이, 개구부(11a)와 개구(15a)가 상하로 어긋난 상태에서 셔터 본체(15)가 격벽(11)에 밀접하고, 이에 의해 개구부(11a)가 셔터 본체(15)에 의해서 폐지되는 한편, 에어 실린더(36)의 로드 끌어들임 구동 상태에서는, 도 5(b)에 나타내는 바와같이, 셔터 본체(15)가 격벽(11)으로부터 이간하는 방향으로 평행 이동하고, 이에 따라 개구부(11a)를 개방하도록 구성되어 있다. 그리고, 이와 같이 개구부(11a)가 개방된 상태에서는, 셔터 본체(15)의 개구(15a)와 상기 개구부(11a)가 기판 반송 방향으로 배열되고, 이에 의해 개구(15a)를 통해서 기판(S)의 반송이 가 능해지도록 구성되어 있다. 이러한 셔터 장치(14, 24)의 구성에 의하면, 셔터 본체(15, 25)의 자세를 유지한 상태에서 개구부(11a)의 개폐를 행하므로, 상기 실시 형태의 셔터 장치(14) 등과 마찬가지로 작동 중에 미스트의 비산이 일어나기 어렵고, 따라서, 당해 비산에 수반하는 전 처리부(1)내로의 미스트의 침입을 유효하게 방지할 수 있다.

또한, 본 발명은, 셔터 장치(14, 24)의 구체적인 구성으로서, 종래와 같은 가도식의 것을 배제하는 것은 아니지만, 가도식의 셔터 구조는, 셔터 본체를 슬라이드, 혹은 평행 이동시키는 구조에 비해 미스트가 비산되기 쉽고, 따라서, 셔터 작동 시의 미스트의 비산을 방지하는데는, 상기 실시 형태 등과 같이 셔터 본체(15, 25)를 슬라이드, 혹은 평행 이동시키는 구성을 채용하는 것이 바람직하다.

또, 상기 실시 형태나 도 4의 예에서는, 전 처리부(1)나 후 처리부(3)에 예비실(12, 12’)을 설치하고 있는데, 이는 개구부(11a, 11a’)로부터 침입한 미스트를 신속하게 외부로 배출하기 위한 연구이며, 예를 들면 습식 처리부(2) 내에서 발생하는 미스트의 양이 적고, 전 처리부(1)나 후 처리부(3)내로의 미스트의 침입이 비교적 일어나기 어려운 경우에는, 예비실(12, 12’) 및 배기 통로(12b, 12b’) 등의 구성을 생략하고, 에어 노즐(19a, 19b, 19a’, 19b’)을 개구부(11a, 11a’)의 바로 근방에 배치하도록 해도 된다.

또, 상기 실시 형태나 도 4에서는, 습식 처리부(2)에 전 처리부(1)나 후 처리부(3)가 인접된 기판 처리 장치에 본 발명을 적용한 예에 대해서 설명했는데, 본 발명은, 전 처리부(1)나 후 처리부(3)가 인접되지 않는 장치에 대해서도 적용 가능 하다. 즉, 습식 처리부의 상류측 및 하류측에 반송 롤러만이 설치되고, 기판(S)을 반송하면서 습식 처리부에서 처리를 행하고, 그 전후에서는 기판(S)을 반송하는 것만의 구성으로 된 기판 처리 장치나, 습식 처리부의 격벽에 기판 반입 반출 겸용의 단일 개구부가 형성되고, 반송 롤러의 구동에 의해 기판(S)을 반송하면서 상기 개구부로부터 습식 처리부 내에 기판(S)을 반입하여 소정의 처리를 행한 후, 반송 롤러를 반전 구동하여 상기 개구부로부터 기판(S)을 반출하도록 구성된 기판 처리 장치에 대해서도 본 발명은 적용 가능하다. 또, 습식 처리부에 전 처리부나 후 처리부가 인접되는데, 기판의 종류에 따라서는 전 처리부나 후 처리부에서 기판의 처리를 행하지 않고 간단히 통과시키도록 구성된 기판 처리 장치에 대해서도, 물론, 본 발명은 적용 가능하다.

<제2 실시의 형태>

도 6은, 제2의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치를 나타내고 있다.

이 도면에 도시하는 기판 처리 장치는, 기판(S)을 반송하면서 미리 정해진 순서로 소정의 처리를 기판(S)에 실시하는 프로세스 처리 장치의 일부, 구체적으로는 기판(S)에 형성된 레지스트막을 박리하는 공정의 구성을 개략적으로 나타낸다.

이 도면에 나타내는 바와같이, 기판 처리 장치는, 기판(S)에 박리액(처리액)을 공급하여 박리 처리를 실시하는 제1 박리 처리실(51)(본 발명에 관한 제1 처리실에 상당한다) 및 제2 박리 처리실(53)(본 발명에 관한 제2 처리실에 상당한다)과, 이들 처리실(51, 53)의 사이에 개설되는 중간실(52)을 구비하고 있다. 제1 박리 처리실(51)과 중간실(52)은 격벽(61)을 공유하여 인접되고, 또한, 중간실(52)과 제2 박리 처리실(53)은 격벽(63)을 공유하여 인접되어 있고, 당해 격벽(61, 63)에 형성되는 기판 반송용의 개구부(61a, 63a)(각각 본 발명에 관한 제1 개구부, 제2 개구부에 상당한다)를 통해서 서로 연통하고 있다. 각 개구부(61a, 63a)는, 폭 방향(기판(S)의 반송 방향과 직교하는 방향；동 도면에서는 지면에 직교하는 방향)으로 가늘고 긴 장방형의 형상으로 기판(S)을 통과시키는데 필요하고 또한 충분한 크기로 형성되어 있다.

각 처리실(51, 53) 및 중간실(52)의 내부에는, 복수의 반송 롤러(5)가 소정 간격으로 배치되어 있고, 이들 반송 롤러(5)의 구동에 의해, 기판(S)이 상기 롤러(5)에 의해서 구성되는 반송로를 따라서 수평 자세로 도면 중 화살표 방향으로 반송되도록 구성되어 있다.

각 처리실(51, 53)의 내부에는, 각각 기판(S)에 대해서 박리액을 공급하기 위한 복수의 액 노즐(70, 80)이 설치되어 있다. 각 액 노즐(70, 80)은, 박리액을 분무하는, 소위 스프레이 노즐로 이루어지고, 어느것이나 반송 롤러(5)의 상측방 위치에 소정의 배열로 배치되어 있다.

제1 박리 처리실(51)의 액 노즐(70)은, 제1 액 공급관(71)을 통해 제1 액 탱크(73)에 접속되어 있고, 제1 액 공급관(71)을 통해 설치되되는 펌프(72)의 구동 및 도면 외의 전자 밸브 등의 제어에 의해, 상기 제1 액 탱크(73)로부터 박리액의 공급을 받아 기판(S) 상에 박리액을 공급 가능하게 되어 있다. 한편, 제2 박리 처리실(53)의 액 노즐(80)은, 제2 액 공급관(81)을 통해 제2 액 탱크(83)에 접속되어 있고, 제2 액 공급관(81)을 통해 설치되되는 펌프(82)의 구동 및 도면 외의 전자 밸브 등의 제어에 의해, 상기 제2 액 탱크(83)로부터 박리액의 공급을 받아 기판(S) 상에 박리액을 공급 가능하게 되어 있다. 즉, 각 액 탱크(73, 83)에는, 각각 농도가 다른 동일한 종류의 박리액이 수용되어 있고, 구체적으로는, 제1 액 탱크(73)에 고농도의 박리액이 수용되어 있고, 이에 따라 각 처리실(51, 53)에서, 각각 농도가 다른 박리액을 이용해 기판(S)의 박리 처리가 행해지도록 되어 있다.

제1 박리 처리실(51)에서 상기 격벽(61)의 근방에는, 기판(S)의 반출에 수반하여 박리액을 제거하기 위한 상하 한쌍의 에어 나이프(74, 74)가 배치되어 있다. 각 에어 나이프(74, 74)는, 상기 반송로의 폭 방향으로 가늘고 긴, 또한 길이 방향으로 연속적으로 신장되는 가늘고 긴 토출구를 가지는 슬릿 노즐로 이루어지고, 상기 반송로의 상하 양측에, 각각 토출구가, 상기 반송로측에서 약간 상류측을 향하도록 배치되어 있다. 각 에어 나이프(74, 74)는, 에어 공급관(76)을 통해 도면 외의 에어 공급원에 접속되어 있고, 도면 외의 전자 밸브 등의 조작에 의해, 상기 에어 공급원으로부터 소정 유량의 에어의 공급을 받아 상기 에어를 기판(S)에 토출 가능하게 되어 있다.

또한, 제1 박리 처리실(51)에는 상기 개구부(61a)를 개폐하는 셔터 장치(75)가, 제2 박리 처리실(53)에는 상기 개구부(63a)를 개폐하는 셔터 장치(85)가, 각각 설치되어 있다. 이들 셔터 장치(75, 85)는 각각, 전체가 내 약품성을 가지는 재료로 구성되고, 또한 폭 방향으로 가늘고 긴 평판 형상을 이루는 셔터 본체(75a, 85a)와, 셔터 본체(75a, 85a)를 각각 구동하는, 모터를 구동원으로 하는 구동 기구를 가지고, 당해 구동 기구에 의해 셔터 본체(75a, 85a)를 각각 격벽(61, 63)의 벽 면을 따라서 상하운동시킴으로써, 상기 개구부(61a, 63a)를 개폐 가능하게 되어 있다. 또한, 도시를 생략하고 있지만, 구동 기구로는, 예를 들면, 제1 실시 형태의 상기 셔터 장치(14, 24)와 동일한 기구가 적용된다.

상기 중간실(52)은 동 도면에 도시하는 바와같이, 기판 반송용 개구부(62a)를 구비한 칸막이벽(62)에 의해 상류측의 노즐실(52a)과 하류측의 배기실(52b)로 나뉘어 있다.

노즐실(52a)에는, 상하 한쌍의 에어 나이프(86, 86)(노즐 부재)가 설치되고, 이들 에어 나이프(86, 86)가 상기 반송로를 사이에 두고 배치되어 있다. 각 에어 나이프(86, 86)는 에어 공급관(87)을 통해 상기 에어 공급원에 접속되어 있고, 도면 외의 전자 밸브 등의 조작에 의해, 상기 에어 공급원으로부터 소정 유량의 에어의 공급을 받아 상기 에어를 기판(S)에 토출 가능하게 되어 있다. 각 에어 나이프(86, 86)는 제1 박리 처리실(51)에 배치되는 것과 대략 동일한 슬릿 노즐로 이루어지고, 각각 토출구가 상기 반송로측에서 약간 하류측을 향하도록 배치되어 있다. 이 구성에 의해 에어 나이프(86, 86)로부터 토출되는 에어가 상기 개구부(62a)를 통해서 제2 박리 처리실(53)측, 즉 개구부(63a)측으로 토출되고, 기판(S)의 반송 중은, 상기 기판(S)의 상하 양면을 따라서 제2 박리 처리실(53)측으로 유동하는 에어류가 형성되게 되어 있다. 또한, 당 실시 형태에서는, 이들 에어 나이프(86, 86), 에어 공급관(87) 및 에어 공급원 등이 본 발명에 관한 기체류 형성 수단에 상당한다.

한편, 배기실(52b)에는, 그 천정부에 배기관(91)이 접속되어 있다. 이 배기 관(91)은 도면 외의 필터 및 전자 밸브 등을 통해 부압 펌프(92)에 접속되어 있고, 이에 의해 배기실(52b)의 천정면에 형성되는 배기구(90)를 통해 중간실(52) 내의 분위기를 배기 가능하게 되어 있다. 또한, 당 실시 형태에서는, 이 배기구(90), 배기관(91) 및 부압 펌프(92) 등이 본 발명에 관한 중간실 배기 수단에 상당한다.

배기실(52b)에는, 또한 상기 개구부(63a)를 중간실(52)측으로부터 개폐하는 셔터 장치(88)가 설치되어 있다. 이 셔터 장치(88)의 구성은, 상기 셔터 장치(75, 85)와 대략 동등하며, 셔터 본체(88a)가, 격벽(63)의 중간실(52)측의 벽면을 따라서 상하운동함으로써 상기 개구부(63a)를 중간실(52)측으로부터 개폐 가능하게 되어 있다. 또한, 당 실시 형태에서는, 이들 셔터 장치(75, 85, 88)가 본 발명에 관한 셔터 수단에 상당한다.

상기 액 공급관(71, 81), 에어 공급관(76, 87) 및 배기관(91)에 설치되는 각 전자 밸브나, 상기 셔터 장치(75, 85, 88)의 각 구동 기구의 모터 등은, 모두 구동 제어 장치로서의 컨트롤러(6)에 전기적으로 접속되어 있고, 당해 컨트롤러(6)에 의해서 통괄적으로 제어되도록 되어 있다. 그리고, 기판 반송 시에는, 상기 컨트롤러(6)의 제어에 의해서 상기 셔터 장치(75, 85, 88)에 의한 상기 개구부(61a, 63a)의 개폐, 에어의 토출 등이 도 7에 도시하는 순서에 따라서 실시되고, 이에 따라 제2 박리 처리실(53)로부터 제1 박리 처리실(51)로의 미스트 상태 박리액(이하, 간단히 미스트라고 한다)의 침입이 방지되게 되어 있다. 이하, 이 점에 대해서 설명한다.

이 장치에서는, 기판(S)의 처리중은, 도 6의 실선으로 나타내는 바와같이 각 셔터 장치(75, 85, 88)에 의해 개구부(61a, 63a)가 폐지되고, 이에 따라 제1 박리 처리실(51), 중간실(52) 및 제2 박리 처리실(53)이 비연통 상태로 되고, 각 처리실(51, 53)에서 발생한 미스트의 외부 확산이 방지된다. 또한, 중간실(52)(배기실(52b))은 상기 배기구(90)를 통해서 항상 배기되어 있다.

각 처리실(51, 53)에서 기판(S)의 처리가 종료하면, 제2 박리 처리실(53)의 기판(S)이 다음 공정으로 반출됨과 더불어, 제1 박리 처리실(51)의 기판(S)이 중간실(52)을 통과하면서 제2 박리 처리실(53)로 반송된다. 이 제1 박리 처리실(51)로부터 제2 박리 처리실(53)로의 기판(S)의 반송에 있어서는, 도 7에 나타내는 순서에 따라서 개구부(61a, 63a)의 개폐 등이 행해진다.

우선, 제1 박리 처리실(51)에서 기판(S)이 소정 위치까지 반송되고, 도면 외의 센서에 의해 그 선단이 검출되면, 에어 나이프(74, 74)에 의한 에어의 토출이 개시됨과 더불어, 셔터 장치(75)가 작동하여 개구부(61a)가 개방되고, 이에 의해 기판(S)이 개구부(61a)를 통해서 제1 박리 처리실(51)로부터 반출됨과 더불어, 이 반출에 수반해, 에어 나이프(74, 74)로부터 토출되는 에어에 의해 기판(S) 상의 박리액 등이 제거된다.

그리고 또한 중간실(52)(노즐실(52a))에서 에어 나이프(86, 86)에 의한 에어 토출이 개시된 후, 중간실(52)측의 셔터 장치(88)와 제2 박리 처리실(53)측의 셔터 장치(85)가 순차적으로 작동함으로써 상기 개구부(63a)가 개방되고, 이에 따라 기판(S)이 중간실(52)을 통과하면서 제2 박리 처리실(53)로 반입된다. 이 때, 에어 나이프(86, 86)로부터 에어의 토출이 개시되면, 당해 에어가 칸막이벽(62)에 형성 된 개구부(62a)를 통해서 개구부(63a)로 분사되고, 이에 따라 제2 박리 처리실(53)로부터의 미스트의 유출이 억제된다. 그리고, 도 8에 도시하는 바와같이, 기판(S)이 개구부(63a)를 통해서 제2 박리 처리실(53) 내에 반송되는 사이, 에어 나이프(86, 86)로부터 토출되는 에어에 의해서 기판(S)의 상하 양면을 따라서 하류측으로 유동하는 에어류(도면 중의 실선 화살표)가 형성되고, 이 에어류가 개구부(63a)를 통해서 제2 박리 처리실(53) 내에 들어감으로써, 제2 박리 처리실(53)로부터의 미스트 유출이 방지된다. 또한, 개구부(63a)가 개방되어 있는 기간 중, 다소의 미스트가 제2 박리 처리실(53)로부터 중간실(52)로 유출되는 것을 생각할 수 있는데, 이러한 미스트는 배기실(52b) 내의 배기에 의해 배기구(90)를 통해서 외부로 배출되고(도 8중의 파선 화살표 참조), 이에 따라 중간실(52)로부터의 미스트의 유출, 즉 제1 박리 처리실(51)로의 미스트의 침입이 방지되게 된다.

이렇게 하여 기판(S)의 반송이 진행되고, 기판(S)이 제1 박리 처리실(51)로부터 반출되면, 에어 나이프(74, 74)에 의한 에어의 토출이 정지됨과 더불어, 셔터 장치(75)가 작동하여 개구부(61a)가 폐지된다. 그리고 또한 기판(S)이 반송되고, 제2 박리 처리실(53)로의 기판(S)의 반입이 완료되면, 즉, 제2 박리 처리실(53) 내에 배치되는 도면 외의 센서에 의해 기판(S)의 후단이 검출되면, 제2 박리 처리실(53)측의 셔터 장치(85)의 작동에 의해 개구부(63a)가 폐지되고, 그 후, 중간실(52)측의 셔터 장치(88)가 작동하여 폐지 위치에 세트됨과 더불어, 상기 에어 나이프(86, 86)에 의한 에어의 토출이 정지된다. 이에 따라, 각 처리실(51, 53)에서 기판(S)의 처리가 각각 개시되게 된다.

이상과 같이, 제2의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치에서는, 제1 박리 처리실(51)과 제2 박리 처리실(53)의 사이에 중간실(52)이 설치되고, 개구부(63a)가 개방되는 사이, 중간실(52)에 설치된 에어 나이프(86, 86)에 의해 상기 개구부(63a)를 향해 에어가 토출되므로, 제2 박리 처리실(53)로부터의 미스트의 유출이 유효하게 방지되고, 또한, 만일 제2 박리 처리실(53)로부터 개구부(13a)를 통해서 중간실(52)에 미스트가 유출된 경우에도, 당해 미스트는 중간실(52)로부터 외부로 배기되게 되어, 제1 박리 처리실(51)로의 침입이 방지된다. 따라서, 제2 박리 처리실(53)에서 발생한 저농도의 미스트가 제1 박리 처리실(51)에 침입하고, 이에 따라 제1 박리 처리실(51)의 고농도의 박리액이 희석되어 제1 박리 처리실(51)의 처리에 영향을 준다는 문제를 미연에 방지할 수 있다.

특히, 이 기판 처리 장치 중간실(52) 내에 칸막이벽(62)을 설치함으로써 중간실(52) 내를 상류측의 노즐실(52a)과 하류측의 배기실(52b)로 나누고, 노즐실(52a)측으로부터 개구부(62a)를 통해서 에어를 토출시키면서 배기실(52b) 내를 배기하는 구성으로 되어 있으므로, 제2 박리 처리실(53)로부터 유출한 미스트의 상류측으로의 확산이 칸막이벽(62)에 의해 효과적으로 저지되고, 그 결과, 제1 박리 처리실(51)로의 미스트의 침입이 고도로 방지된다.

<제3의 실시 형태>

도 9는, 제3의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 일례를 나타낸다.

제3의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치는, 상기 제2의 실시 형태의 변형예로서, 제2 박리 처리실(53)에서, 제1 박리 처리실(51)보다 고농도의 박리액이 사용 되는 경우에 적합한 것이다. 또한, 이 기판 처리 장치의 기본적인 구성은 제2의 실시 형태의 것과 공통되므로, 제2의 실시 형태와 공통되는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙여 설명을 생략하고, 이하의 설명에서는, 제2의 실시 형태와의 차이점에 대해서 상세하게 설명하기로 한다.

동 도면에 도시하는 바와같이, 이 처리조 장치에서는, 중간실(52)의 상류측에 배기실(52b)이 설치되는 한편, 하류측에 노즐실(52a)이 설치된 구성으로 되어 있고, 에어 나이프(86, 86)는, 각각 토출구가 상기 반송로측에서 약간 상류측을 향하도록 배치되어 있다. 또, 배기실(52b)에는, 격벽(61)의 상기 개구부(61a)를 중간실(52)측으로부터 개폐하는 셔터 장치(89)가 설치되어 있다. 이 셔터 장치(89)의 구성은, 상기 셔터 장치(75, 85)와 대략 동일하고, 셔터 본체(89a)가, 격벽(61)의 중간실(52)측의 벽면을 따라서 상하운동함으로써 상기 개구부(61a)를 중간실(52)측으로부터 개폐 가능하게 되어 있다. 또한, 이 장치에서, 격벽(63)의 개구부(63a)를 중간실(52)측으로부터 개폐하는 상기 셔터 장치(88)는 설치되어 있지 않다.

이 장치에서는, 제1 박리 처리실(51)로부터 제2 박리 처리실(53)로의 기판(S)의 반송에 있어서, 상기 컨트롤러(6)의 제어에 의거해, 도 10에 도시하는 순서에 따라서 개구부(61a, 63a)의 개폐 등의 동작이 행해진다.

우선, 제1 박리 처리실(51)에서 기판(S)이 소정 위치까지 반송되면, 에어 나이프(74, 74)에 의한 에어의 토출이 개시됨과 더불어, 중간실(52)측의 셔터 장치(89)가 작동하고, 개구부(61a)를 개방할 수 있는 위치에 상기 셔터 본체(89a)가 세트된다(이 시점에서 개구부(61a)는 셔터 장치(75)에 의해 폐지되어 있다). 이어서, 에어 나이프(86, 86)에 의한 에어의 토출이 개시되고, 그 후, 셔터 장치(75)가 작동함으로써 개구부(61a)가 개방되고, 또한 셔터 장치(85)가 작동함으로써 개구부(63a)가 개방된다. 이에 따라 기판(S)이 개구부(61a)를 통해서 제1 박리 처리실(51)로부터 반출됨과 더불어, 이 반출에 수반해, 에어 나이프(74, 74)로부터 토출되는 에어에 의해 기판(S) 상의 박리액 등이 제거된다. 이 때, 에어 나이프(86, 86)로부터 에어의 토출이 개시되면, 당해 에어가 칸막이벽(62)에 형성된 개구부(62a)를 통해서 개구부(61a)로 분사되고, 이에 따라 제1 박리 처리실(51)로부터의 미스트의 유출이 억제된다. 그리고, 기판(S)이 개구부(61a)를 통해서 제1 박리 처리실(51)로부터 반출되는 사이, 에어 나이프(86, 86)로부터 토출되는 에어에 의해서 기판(S)의 상하 양면을 따라서 상류측으로 유동하는 에어류가 형성되고, 이 에어류가 개구부(61a)를 통해서 제1 박리 처리실(51) 내로 들어감으로써, 제1 박리 처리실(51)로부터의 미스트의 유출이 방지된다. 또한, 개구부(61a)가 개방되어 있는 기간 중은, 다소의 미스트가 제1 박리 처리실(51)로부터 중간실(52)로 유출되는 것을 생각할 수 있다. 이러한 미스트는 배기실(52b) 내의 배기에 의해 배기구(90)을 통해서 외부로 배출되고, 이에 의해서 중간실(52)로부터의 미스트의 유출, 즉 제2 박리 처리실(53)로의 미스트의 침입이 방지되게 된다.

이렇게 하여 기판(S)의 반송이 진행되고, 기판(S)이 제1 박리 처리실(51)로부터 반출되면, 제1 박리 처리실(51)측의 셔터 장치(75)가 작동함으로써 개구부(61a)가 폐지됨과 더불어, 에어 나이프(74, 74)에 의한 에어의 토출이 정지되고, 또한 중간실(52)측의 셔터 장치(89)가 작동하여 폐지 위치에 세트된다. 그리고 또한 기판(S)이 반송되고, 제2 박리 처리실(53)로의 기판(S)의 반입이 완료되면, 셔터 장치(85)가 작동하여 개구부(63a)가 폐지됨과 더불어, 에어 나이프(86, 86)에 의한 에어의 토출이 정지된다.

이러한 제2의 실시 형태의 기판 처리 장치에 의하면, 중간실(52)에 설치된 에어 나이프(86, 86)에 의해 개구부(61a)를 향해 에어가 토출되므로, 제1 박리 처리실(51)로부터의 미스트의 유출이 효과적으로 방지되고, 또, 만일 제1 박리 처리실(51)로부터 개구부(61a)를 통해서 중간실(52)에 미스트가 유출된 경우에도, 당해 미스트는 중간실(52)로부터 외부로 배기되게 되어, 제2 박리 처리실(53)로의 침입이 방지된다. 따라서, 이 장치에 의하면, 제1 박리 처리실(51)에서 발생한 저농도의 미스트가 제2 박리 처리실(53)에 침입하여 당해 제 2 박리 처리실(53)의 박리액이 희석되고, 이에 따라 제2 박리 처리실(53)에서의 박리 처리에 영향을 준다는 사태의 발생을 미연에 방지할 수 있다.

또한, 상술한 제2, 제3의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구체적인 구성으로는, 이하와 같은 구성을 채용하는 것도 가능하다.

예를 들면, 제2, 제3의 각 실시 형태에서는, 중간실(52)에 칸막이벽(62)을 설치함으로써, 그 내부를 노즐실(52a)과 배기실(52b)로 나누고 있는데, 칸막이벽(62)을 생략한 구성으로 해도 된다. 단, 칸막이벽(62)을 설치한 구성에 의하면, 상기와 같이, 중간실(52) 내에 저농도 미스트가 유출된 경우에도, 당해 미스트가 고농도의 박리액이 사용되는 처리실측으로 확산하는 것을 유효하게 저지할 수 있 다. 따라서, 고농도측의 박리 처리실로의 저농도 미스트의 침입을 보다 확실하게 방지하는데 있어서는, 칸막이 벽(62)을 설치하는 것이 바람직하다.

또, 제2의 실시 형태의 기판 처리 장치는, 예를 들면 제1 박리 처리실(51)내를 배기하는 배기 장치(본 발명에 관한 처리실 배기 수단에 상당한다)와, 이 배기 장치에 의한 배기 중에 포함되는 미스트(고농도 미스트)를 포집하는 포집 장치(본 발명에 관한 포집 수단에 상당한다)를 더 구비하고, 포집한 미스트를 액 탱크(73)로 되돌려 재사용하도록 구성된 것이어도 된다. 즉, 미스트를 포집, 재사용하는 경우, 제1 박리 처리실(51)에 저농도 미스트가 침입하면, 저농도 미스트도 포집 장치에 의해서 포집되므로, 박리액의 희석이 진행되기 쉬워진다고 생각된다. 이 점, 도 6에 나타내는 장치 구성을 채용하면, 제1 박리 처리실(51)로의 저농도 미스트의 침입을 유효하게 방지할 수 있으므로, 고농도 미스트를 포집, 재사용하는 상기와 같은 장치에서는 특히 바람직하다. 또한, 이 점은, 제3의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치에 관해서, 제2 박리 처리실(53)에서 고농도 미스트를 포집, 재사용하도록 한 경우도 마찬가지이다.

또, 제2, 제3의 각 실시 형태에서는, 농도가 다른 동일한 종류의 박리액을 각각 사용하여 각 처리실(51, 53)에서 박리 처리를 실시하는 기판 처리 장치에 대해 설명했는데, 본 발명은, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 농도가 다른 에칭액을 각각 사용하여 각 처리실에서 기판에 에칭 처리를 실시하는 기판 처리 장치에 대해서도 적용 가능하다. 또, 이와 같이 각 처리실에서 서로 농도가 다른 동일한 종류의 처리액을 이용하는 이외에, 서로 성상(속성；요컨데 대상이 되는 처 리)가 공통이고 종류가 다른 처리액을 이용하는 장치, 서로 성상(속성)이 다른 처리액을 이용하는 장치, 예를 들면 상류측의 처리실에서 박리액을 이용해 박리 처리를 행하고, 하류측의 처리실에서 순수한 물을 이용해 세정 처리를 행하는 장치에도, 물론, 본 발명은 적용 가능하다.

또한, 상술한 제1∼제3의 각 실시 형태에서는, 기판(S)을 수평 자세로 반송하면서 당해 기판(S)에 처리를 실시하는 경우에 대해서 설명했다. 물론, 경사 자세(예를 들면 반송 방향과 직교하는 방향에서 그 한쪽측으로부터 다른쪽측으로 경사지는 자세)로 기판(S)을 반송하면서 당해 기판(S)에 처리를 실시하는 장치에 대해서도, 본 발명은 적용 가능하다.

도 1은 본 발명에 관한 기판 처리 장치(제1의 실시 형태)의 일례를 나타내는 개략 구성도이다.

도 2는 전 처리부 및 습식 처리부의 각 셔터 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 3은 전 처리부로부터 습식 처리부로의 기판 반송 시의 셔터 장치 등의 동작 순서를 나타내는 도면이다.

도 4는 본 발명에 관한 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 개략 구성도이다.

도 5는 전 처리부 및 습식 처리부의 각 셔터 장치의 별도의 구성을 나타내는 측면도이다.

도 6은 본 발명에 관한 기판 처리 장치(제2의 실시 형태)를 나타내는 개략 구성도이다.

도 7은 제1 박리 처리실로부터 제2 박리 처리실로의 기판 반송 시의 셔터 등의 동작 순서를 설명하는 도면이다.

도 8은 제1 박리 처리실로부터 제2 박리 처리실로 기판이 반송되는 상태를 나타내는 도면이다.

도 9는 본 발명에 관한 기판 처리 장치(제3의 실시 형태)를 나타내는 개략 구성도이다.

도 10은 제1 박리 처리실로부터 제2 박리 처리실로의 기판 반송 시의 셔터 등의 동작 순서를 설명하는 도면이다.

<부호의 설명>

1 : 전 처리부 2 : 습식 처리부

10, 20 : 처리실 11a : 개구부

14, 24 : 셔터 장치 15, 25 : 셔터 본체

19a, 19b : 에어 노즐 S : 기판

Claims (12)

1. 기판에 처리액을 공급하여 소정의 습식(Wet) 처리를 기판에 실시하는 습식 처리실을 가지고, 이 습식 처리실의 격벽에 형성되는 기판 반송용 개구부를 통해 당해 습식 처리실에 대해서 기판의 출입이 행해지는 기판 처리 장치에 있어서,

   상기 개구부를 개폐하는 셔터 수단과,

   상기 습식 처리실의 실외에 배치되는 노즐 부재를 포함하고, 적어도 상기 개구부가 개구되어 있을 때 당해 노즐 부재로부터 기체를 토출시킴으로써 상기 개구부를 향하는 기체류를 형성하는 기체류 형성 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
2. 청구항 1에 있어서,

   상기 셔터 수단으로서, 상기 개구부를 상기 습식 처리실의 실내측으로부터 개폐하는 셔터 본체를 구비하는 제1 셔터 수단과, 상기 개구부를 상기 습식 처리실의 실외측으로부터 개폐하는 셔터 본체를 구비하는 제2 셔터 수단을 구비하고,

   상기 기체류 형성 수단은, 상기 개구부를 통과하는 기판에 대해서 상기 노즐부재로부터 기체를 공급함으로써, 당해 기판 표면에, 습식 처리실의 실외측으로부터 실내측을 향해 유동하는 기체류를 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
3. 청구항 2에 있어서,

   상기 개구부를 통해 상기 습식 처리실에 연통하고, 또한 상기 습식 처리의 전 처리, 또는 후 처리를 기판에 실시하는 인접 처리실을 가지고, 이 인접 처리실에 상기 제2 셔터 수단 및 상기 노즐 부재가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,

   상기 셔터 본체에 의해 상기 개구부를 폐지(閉止)하는 폐지 상태와, 소정의 퇴피 위치에 상기 셔터 본체를 퇴피시킴으로써 상기 개구부를 개방하는 개방 상태로 상기 각 셔터 수단의 구동 상태를 전환 제어하는 셔터 제어 수단을 더 가지고,

   이 셔터 제어 수단은, 기판이 상기 개구부를 통과할 때는, 상기 제1 셔터 수단을 폐지 상태로부터 개방 상태로 전환하기 직전에, 상기 제2 셔터 수단을 폐지 상태로부터 개방 상태로 전환하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
5. 청구항 4에 있어서,

   상기 기체류 형성 수단을 제어하는 기체류 형성 제어 수단을 더 가지고, 이 기체류 형성 제어 수단은, 제1 셔터 수단의 폐지 상태로부터 개방 상태로의 전환 동작에 동기하여 기체의 공급을 개시하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
6. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,

   상기 각 셔터 수단 중 적어도 제2 셔터 수단은, 상기 셔터 본체를 상기 격벽의 벽면을 따라서 슬라이드시킴으로써 상기 개구부를 개폐하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
7. 청구항 3에 있어서,

   상기 인접 처리실은, 당해 처리실 내에서 상기 개구부의 근방을 포위하도록 형성되는 예비실과, 이 예비실 내의 분위기를 배기하는 예비실 배기 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
8. 청구항 1에 있어서,

   상기 습식 처리실로서 기판 반송 방향으로 배열되는 제1 처리실 및 제2 처리실을 가지고, 각 처리실에서 기판에 대해서 서로 다른 처리액을 이용해 순차적으로 소정의 습식 처리를 실시하도록 구성되고, 또한 상기 서로 다른 처리액의 관계가, 기판 처리 시에 한쪽측의 처리액에 대한 다른쪽측 처리액의 혼입을 억제하는 것이 요구되는 관계에 있는 것으로서,

   상기 제1 처리실과 상기 제2 처리실의 사이에 중간실이 설치되고, 상기 개구부로서, 상기 제1 처리실과 중간실의 격벽에 제1 개구부가, 상기 중간실과 제2 처리실의 격벽에 제2 개구부가 각각 설치되고, 또한, 상기 셔터 수단으로서, 상기 제1, 제2 개구부를 각각 개폐하는 셔터 수단이 설치되어 있고,

   상기 기체류 형성 수단은, 상기 노즐 부재를 상기 중간실에 구비하고, 당해 노즐 부재로부터 기체를 토출시킴으로써, 상기 제1 개구부 및 제2 개구부 중 한쪽측의 개구부이며 상기 다른쪽측의 처리액이 이용되는 처리실과 중간실의 사이에 위치하는 개구부를 대상 개구부로 하여 당해 대상 개구부를 향하는 기체류를 형성하도록 구성되어 있고,

   이 기체류 형성 수단의 상기 노즐 부재와 상기 대상 개구부 사이의 위치에 배기구를 가지고, 당해 배기구를 통해 상기 중간실 내의 배기를 행하는 중간실 배기 수단이 더 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
9. 청구항 8에 있어서,

   상기 중간실에 칸막이벽이 설치됨으로써, 상기 중간실의 내부가 상기 노즐부재를 포함하는 노즐실과, 상기 대상 개구부 및 배기구를 포함하는 배기실로 나뉘어지고, 상기 노즐 부재는, 상기 칸막이벽에 형성된 기판 반송용의 개구부를 통해서 상기 배기실측으로 기체를 토출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
10. 청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,

    상기 기체류 형성 수단은, 상기 대상 개구부를 통과하는 기판에 대해서 상기 노즐 부재로부터 기체를 공급함으로써, 당해 기판 표면을 따라서 상기 중간실측으로부터 처리실측을 향해 유동하는 기체류를 형성하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
11. 청구항 8 또는 청구항 9에 있어서,

    상기 서로 다른 처리액은 농도가 다른 동일한 종류의 처리액이며, 또한 고농도의 처리액이 상기 제1 처리실에서 이용되는 것이고, 상기 노즐 부재는, 상기 제2 개구부를 상기 대상 개구부로 하여 당해 개구부를 향해 기체를 토출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
12. 청구항 11에 있어서,

    상기 제1 처리실 내를 배기하는 처리실 배기 수단과, 상기 배기 중에 포함되는 미스트(mist)를 재사용하기 위하여 포집하는 포집 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.

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