KR100917566B1 - 웨이퍼 연마장치 - Google Patents
웨이퍼 연마장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100917566B1 KR100917566B1 KR1020080000326A KR20080000326A KR100917566B1 KR 100917566 B1 KR100917566 B1 KR 100917566B1 KR 1020080000326 A KR1020080000326 A KR 1020080000326A KR 20080000326 A KR20080000326 A KR 20080000326A KR 100917566 B1 KR100917566 B1 KR 100917566B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polishing
- wafer
- marker
- present
- block
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
Claims (3)
- 연마 대상 웨이퍼가 장착되고, 측면에는 위치 구분을 위한 표시(marking)가 되어있는 연마 블럭(block)을 구비한 웨이퍼 연마장치에 있어서,상기 연마 블럭의 위치 구분을 위한 마커가 상기 연마 블럭과 동일한 재질로 이루어져 상기 연마 블럭의 측면에 접착 또는 나사결합되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 연마장치.
- 제 1항에 있어서,상기 마커는 알루미나로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 연마장치.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 마커는 상기 연마 블럭과 다른 색으로 염색되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 연마장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080000326A KR100917566B1 (ko) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 웨이퍼 연마장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080000326A KR100917566B1 (ko) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 웨이퍼 연마장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090074516A KR20090074516A (ko) | 2009-07-07 |
KR100917566B1 true KR100917566B1 (ko) | 2009-09-16 |
Family
ID=41331790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080000326A KR100917566B1 (ko) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 웨이퍼 연마장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100917566B1 (ko) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003188119A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウエーハの研磨方法 |
JP2004090106A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Seiko Epson Corp | 研磨クロス、研磨装置および研磨クロスの貼り付け方法 |
KR20070065780A (ko) * | 2005-12-20 | 2007-06-25 | 주식회사 실트론 | 실리콘 웨이퍼 연마장치, 이에 이용되는 리테이닝어셈블리, 및 이를 이용한 실리콘 웨이퍼 평평도 보정방법 |
-
2008
- 2008-01-02 KR KR1020080000326A patent/KR100917566B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003188119A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウエーハの研磨方法 |
JP2004090106A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Seiko Epson Corp | 研磨クロス、研磨装置および研磨クロスの貼り付け方法 |
KR20070065780A (ko) * | 2005-12-20 | 2007-06-25 | 주식회사 실트론 | 실리콘 웨이퍼 연마장치, 이에 이용되는 리테이닝어셈블리, 및 이를 이용한 실리콘 웨이퍼 평평도 보정방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090074516A (ko) | 2009-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101856250B1 (ko) | 반도체용 유리 기판 및 그의 제조 방법 | |
TWI695424B (zh) | 磨削裝置 | |
US9216438B2 (en) | Diamond screening apparatus | |
US20130115859A1 (en) | Surface treatment method of polishing pad and polishing method of wafer using the same | |
JP2005246491A (ja) | 研削装置及びウェーハの研削方法 | |
TWI523096B (zh) | 晶圓硏磨機台及晶圓硏磨方法 | |
JP4650886B2 (ja) | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法 | |
KR100917566B1 (ko) | 웨이퍼 연마장치 | |
JP2007033857A (ja) | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス | |
US20210069859A1 (en) | Processing apparatus | |
JP2005300566A (ja) | フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、及びフォトマスク | |
KR20140124948A (ko) | 평탄도 유지와 치핑방지에 용이한 반도체 제조설비용 진공 척 | |
JP2006332536A (ja) | ウエーハのワレ検査装置およびワレ検査方法ならびにウエーハの製造方法 | |
JP2007194556A (ja) | 半導体ウェーハの製造方法 | |
JP5532025B2 (ja) | ガラス基板検査システム、およびガラス基板製造方法 | |
JP2008080443A (ja) | 片面研磨装置 | |
JP6079698B2 (ja) | ウェハ平坦度の測定方法 | |
JP2008034666A (ja) | ピックアップ装置 | |
JP7463037B2 (ja) | 検査用基板及び検査方法 | |
KR100774824B1 (ko) | Cmp공정에서의 스크래치 방지용 폴리싱 패드 | |
JP6973280B2 (ja) | インプリントモールド用合成石英ガラス基板 | |
KR20130143307A (ko) | 마스크 블랭크용 기판 연마 장치 및 이를 이용한 마스크 블랭크용 기판 연마방법 | |
JP2004306219A (ja) | サンドブラストによる基板加工方法 | |
KR20150069683A (ko) | 패드 컨디셔닝 전용 장치 및 방법 | |
US20150306728A1 (en) | Systems for, methods of, and apparatus for processing substrate surfaces |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130624 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140630 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150626 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160629 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170626 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180627 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190624 Year of fee payment: 11 |