KR100910399B1 - 정전 방전 보호 장치, 다이오드, 입력 버퍼 및 정전 방전보호 방법 - Google Patents
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 85
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
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- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/0814—Diodes only
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- H—ELECTRICITY
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0255—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
Claims (20)
- 다이오드 내에서 패드 확산 영역 및 공급 확산 영역에 대한 도전성 상호 접속부를 제공하기 위한 제 1 도전층과,상기 패드 확산 영역을 패드와 결합시키기 위한 제 1 부분과, 상기 공급 확산 영역에 전압 공급부를 결합시키기 위한 제 2 부분을 포함하는 제 2 도전층과,상기 다이오드의 다이오드 영역내에서 서로 간에 실질적으로 병렬을 이루는 제 1 도전층 및 제 2 도전층의 라인들을 포함하는,정전 방전 보호 장치.
- 제 1 항에 있어서,적어도 하나의 공급 확산 영역의 폭은 상기 다이오드를 제조하는 프로세스에 대한 공급 확산 영역의 최소폭보다 큰,정전 방전 보호 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 적어도 하나의 공급 확산 영역의 폭은 상기 다이오드가 제조되는 프로세스에 대한 공급 확산 영역의 최소폭보다 적어도 50% 더 큰,정전 방전 보호 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 패드 확산 영역을 패드에 결합시키기 위한 제 2 도전층의 제 1 부분은 상기 다이오드 영역의 제 1 측면으로부터 상기 다이오드 영역을 가로질러 그의 중간 부분에 못 미치게 확장되고, 상기 공급 확산 영역을 전압 공급부에 결합시키기 위한 제 2 도전층의 제 2 부분은 상기 다이오드의 상기 제 1 측면에 대한 반대 측으로부터 상기 다이오드 영역을 가로질러 그의 중간에 못 미치게 확장되는,정전 방전 보호 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 제 2 도전층의 제 1 부분 및 제 2 부분의 각각은 실질적으로 전체 다이오드 영역을 가로지르는 라인을 포함하는,정전 방전 보호 장치.
- 다이오드로서,적어도 하나의 제 1 공급 확산 영역―상기 적어도 하나의 제 1 공급 확산 영역은 제 1 공급 확산 영역의 최소폭보다 큰 폭을 가짐―과,패드 확산 영역과 상기 적어도 하나의 제 1 공급 확산 영역을 포함하는 공급 확산 영역에 대한 상호 접속부를 제공하는 제 1 금속층과,상기 패드 확산 영역을 패드에 결합시키기 위한 제 1 부분과, 공급 전압을 수신하도록 상기 공급 확산 영역들을 결합시키기 위한 제 2 부분을 포함하는 제 2 금속층 - 상기 제 1 금속층과 제 2 금속층의 라인들은 상기 다이오드의 다이오드 영역내에서 서로간에 실질적으로 병렬을 이룸 - 을 포함하는,다이오드.
- 제 6 항에 있어서,상기 적어도 하나의 제 1 공급 확산 영역은 최소폭보다 적어도 50% 더 큰 폭을 갖는,다이오드.
- 제 7 항에 있어서,상기 패드 확산 영역은 상기 다이오드가 제조되는 프로세스에 대한 패드 확산 영역의 최소폭과 실질적으로 동일한 폭을 가진,다이오드.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 2 금속층의 제 1 및 제 2 부분의 각각의 라인들은 상기 다이오드 영역의 대향 측면으로부터 상기 다이오드 영역의 50% 미만을 가로질러 확장되는,다이오드.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 2 금속층의 제 1 부분과 제 2 부분의 각각의 라인들은 상기 다이오드 영역의 전체폭을 실질적으로 가로질러 확장되고, 상기 공급 확산 영역의 폭은 상기 공급 확산 영역의 최소폭보다 적어도 100% 더 큰,다이오드.
- 입력 신호를 수신하기 위한 패드와,상기 패드와 결합된 제 1 단자와, 제 1 공급 전압을 수신하기 위해 결합된 제 2 단자를 포함하는 제 1 다이오드와,상기 패드에 결합된 제 1 단자와, 제 2 공급 전압을 수신하기 위해 결합된 제 2 단자를 포함하는 제 2 다이오드를 포함하고,상기 제 1 다이오드 및 제 2 다이오드의 적어도 하나는 낮은 레벨의 금속층과 높은 레벨의 인접한 금속층을 포함하고, 상기 낮은 레벨의 금속층과 높은 레벨의 금속층의 라인들은 적어도 하나의 다이오드의 다이오드 영역내에서 서로간에 실질적으로 병렬을 이루는,입력 버퍼.
- 제 11 항에 있어서,상기 적어도 하나의 다이오드는,상기 패드에 결합된 패드 확산 영역과 각각의 공급 전압을 수신하기 위해 결합된 공급 확산 영역을 포함하고, 상기 공급 확산 영역은 상기 공급 확산 영역의 최소폭보다 넓고, 상기 패드 확산 영역은 실질적으로 상기 패드 확산 영역의 최소폭을 가진,입력 버퍼.
- 제 12 항에 있어서,상기 적어도 하나의 다이오드에 대한 상기 공급 확산 영역은 상기 공급 확산 영역의 최소폭보다 적어도 50% 더 넓은,입력 버퍼.
- 제 12 항에 있어서,상기 적어도 하나의 다이오드의 높은 레벨의 금속층은 상기 패드 확산 영역을 상기 패드에 결합시키기 위한 제 1 부분과, 각각의 공급 전압을 수신하도록 상기 공급 확산 영역을 결합시키기 위한 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 1 부분과 제 2 부분의 금속 라인은 상기 다이오드 영역의 대향 측면들로부터 다이오드 영역의 50% 미만을 가로질러 확장되는,입력 버퍼.
- 제 12 항에 있어서,상기 적어도 하나의 다이오드의 높은 레벨의 금속층은 상기 패드 확산 영역을 상기 패드에 결합시키기 위한 제 1 부분과, 각각의 공급 전압을 수신하도록 상기 공급 확산 영역을 결합시키기 위한 제 2 부분을 포함하고, 상기 제 1 부분과 제 2 부분의 금속 라인은 상기 다이오드 영역의 대향 측면들로부터 다이오드 영역의 전체폭을 가로질러 확장되는,입력 버퍼.
- 다이오드내의 공급 확산 영역의 최소폭보다 넓은 공급 확산 영역을 제공하는 단계와,패드 확산 영역을 제공하는 단계와,상기 다이오드의 다이오드 영역을 가로질러 제 1 방향으로 확장되는 라인들을 가진 제 1 도전층 - 상기 제 1 도전층은 패드 및 공급 확산 영역에 결합된 도전 라인을 가짐 - 을 제공하는 단계와,상기 다이오드 영역내의 상기 제 1 도전층의 라인들에 실질적으로 병렬인 라인들을 가진 인접하는 제 2 도전층을 제공하는 단계를 포함하는,정전 방전 보호 방법.
- 제 16 항에 있어서,상기 공급 확산 영역을 제공하는 단계는, 상기 공급 확산 영역의 최소폭보다 적어도 50% 더 넓은 공급 확산 영역을 제공하는 단계를 포함하는,정전 방전 보호 방법.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 2 도전층을 제공하는 단계는,상기 패드 확산 영역을 패드에 결합시키기 위한 제 1 라인을 포함하는 제 2 도전층의 제 1 부분을 제공하는 단계 및공급 전압을 수신하도록 공급 확산 영역을 결합시키기 위한 제 2 라인을 포함하는 제 2 도전층의 제 2 부분을 제공하는 단계를 포함하되,상기 제 1 라인 및 제 2 라인의 각각은 상기 다이오드 영역의 대향 측면들로부터 다이오드 영역의 50% 미만을 가로질러 확장되는,정전 방전 보호 방법.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 2 도전층을 제공하는 단계는,상기 패드 확산 영역을 패드에 결합시키기 위한 제 1 라인을 포함하는 제 2 도전층의 제 1 부분을 제공하는 단계, 및공급 전압을 수신하도록 공급 확산 영역을 결합시키기 위한 제 2 라인을 포함하는 제 2 도전층의 제 2 부분을 제공하는 단계를 포함하고,상기 제 1 라인 및 제 2 라인의 각각은 다이오드 영역의 대향 측면들로부터 전체 다이오드 영역을 실질적으로 가로질러 확장되는,정전 방전 보호 방법.
- 제 19 항에 있어서,상기 공급 확산 영역을 제공하는 단계는, 상기 공급 확산 영역의 최소폭보다 적어도 100% 더 넓은 공급 확산 영역을 제공하는 단계를 포함하는,정전 방전 보호 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/335,008 | 2002-12-31 | ||
US10/335,008 US7847317B2 (en) | 2002-12-31 | 2002-12-31 | Low-capacitance electrostatic discharge protection diodes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050092027A KR20050092027A (ko) | 2005-09-16 |
KR100910399B1 true KR100910399B1 (ko) | 2009-08-04 |
Family
ID=32655225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020057012312A KR100910399B1 (ko) | 2002-12-31 | 2003-12-10 | 정전 방전 보호 장치, 다이오드, 입력 버퍼 및 정전 방전보호 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7847317B2 (ko) |
JP (1) | JP5054282B2 (ko) |
KR (1) | KR100910399B1 (ko) |
AU (1) | AU2003293472A1 (ko) |
TW (1) | TWI233210B (ko) |
WO (1) | WO2004061913A2 (ko) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8475453B2 (en) | 2006-10-06 | 2013-07-02 | Covidien Lp | Endoscopic vessel sealer and divider having a flexible articulating shaft |
JP2008218564A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2009054851A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Corp | 半導体集積回路 |
US20100155911A1 (en) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | Broadcom Corporation | ESD Protection Diode in RF pads |
KR101712629B1 (ko) * | 2010-08-19 | 2017-03-06 | 삼성전자 주식회사 | Esd 보호 소자와 그 제조 방법 및 그 보호 소자를 포함하는 전기전자장치 |
JP2014225483A (ja) | 2011-09-16 | 2014-12-04 | パナソニック株式会社 | 半導体集積回路装置 |
US10027067B2 (en) * | 2013-07-26 | 2018-07-17 | Solexy Usa, Llc | Hazardous area coupler device for high frequency signals |
EP4207283A1 (en) | 2021-12-31 | 2023-07-05 | Nexperia B.V. | A semiconductor device |
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---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3396317A (en) | 1965-11-30 | 1968-08-06 | Texas Instruments Inc | Surface-oriented high frequency diode |
JPH01168043A (ja) | 1987-12-23 | 1989-07-03 | Matsushita Electron Corp | 半導体装置の製造方法 |
US5455436A (en) * | 1994-05-19 | 1995-10-03 | Industrial Technology Research Institute | Protection circuit against electrostatic discharge using SCR structure |
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JP3379700B2 (ja) * | 1999-11-30 | 2003-02-24 | 日本電気株式会社 | 半導体装置および半導体装置の自動レイアウト方法 |
US6518604B1 (en) | 2000-09-21 | 2003-02-11 | Conexant Systems, Inc. | Diode with variable width metal stripes for improved protection against electrostatic discharge (ESD) current failure |
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JP2002313937A (ja) * | 2001-04-16 | 2002-10-25 | Sony Corp | 集積回路装置 |
JP4257823B2 (ja) | 2002-05-27 | 2009-04-22 | パナソニック株式会社 | 半導体装置および容量測定方法 |
-
2002
- 2002-12-31 US US10/335,008 patent/US7847317B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-10 JP JP2004565301A patent/JP5054282B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-10 AU AU2003293472A patent/AU2003293472A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-10 KR KR1020057012312A patent/KR100910399B1/ko active IP Right Grant
- 2003-12-10 WO PCT/US2003/039159 patent/WO2004061913A2/en active Application Filing
- 2003-12-11 TW TW092135078A patent/TWI233210B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-11-05 US US12/940,556 patent/US8304807B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5923079A (en) | 1996-11-29 | 1999-07-13 | Nec Corporation | Single-chip system having electrostatic discharge (ESD) protective circuitry including a single bipolar transistor portion |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006512771A (ja) | 2006-04-13 |
WO2004061913A2 (en) | 2004-07-22 |
US20110050335A1 (en) | 2011-03-03 |
AU2003293472A8 (en) | 2004-07-29 |
JP5054282B2 (ja) | 2012-10-24 |
TWI233210B (en) | 2005-05-21 |
US8304807B2 (en) | 2012-11-06 |
WO2004061913A3 (en) | 2004-08-26 |
US7847317B2 (en) | 2010-12-07 |
KR20050092027A (ko) | 2005-09-16 |
US20040124473A1 (en) | 2004-07-01 |
AU2003293472A1 (en) | 2004-07-29 |
TW200414550A (en) | 2004-08-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130701 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140701 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150630 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160630 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170704 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180628 Year of fee payment: 10 |