KR100863377B1 - 검사용 패턴 및 검사용 패턴의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는방법 - Google Patents
검사용 패턴 및 검사용 패턴의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (14)
- 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법으로,- 기준 방향(23)을 따라 연장되는 두 개의 측면(21,22)를 포함하며, 라인 너비가 w인 라인(2)과, 상기 라인에 바로 인접하게 연결되는 주기적인 구조물(3)을 포함하는 검사용 패턴(1)을 포함하는 포토마스크를 제공하고, 상기 구조물 각각은, 상기 구조물(3)의 외곽 에지로부터 상기 라인(2)까지의 거리가 가장 큰 곳에서 최대점과, 상기 최대점과 상기 구조물(3)의 외곽 에지 및 상기 라인(2) 사이의 최소 거리 사이의 차이인 진폭(A)을 가지고, 여기서 상기 차이가 기준 방향(23)에 대하여 수직으로 측정되며, 상기 구조물(3)은 고정된 주기 1/f로 배열되고, 여기서 상기 모든 구조물(3)의 진폭(A)이 동일하고, 상기 라인(2)에 인접하는 스페이스(4)은 상기 구조물(3)를 포함하여 상기 구조물(3)를 포함하는 각 라인(2)의 어느 한 측면(21, 22) 위에, 두 개의 스페이스(4)이 각각 배치되거나 그 역으로 되고, 상기 스페이스(4)은 상기 기준 방향(23)에 대해 수직으로 측정되는 스페이스 너비 s를 갖고, 상기 스페이스 너비 s는 두 개의 인접하는 라인(2) 사이의 거리에 대응하고, 상기 검사용 패턴(1)의 유효 라인 너비 CD는 CD X l = B로 정의되고, 여기서 l은 기준 방향으로 라인(2)의 길이에 대응하고, B는 주기적인 구조물(3)을 포함하는 특정 라인의 면적에 대응하고, 상기 라인(2)과 상기 주기적인 구조물(3)은 마스크 형성 재료로 만들어진다;- 상기 검사용 패턴(1)을 트랜스퍼함으로써, 상기 검사용 패턴(1)의 이미지(52, 56)을 얻고;- 상기 검사용 패턴(1)의 이미지(52, 56)의 에지를 결정함으로써, 한 세트의 에지 위치 데이터를 얻고;- 상기 에지 위치 데이터를 직선에 대해 조정하고 상기 에지 위치 오차를 결정하고;- 공간 주파수에 의존하여 진폭 스펙트럼을 산출해냄으로써 공간 주파수에 의존하는 진폭을 나타내는 관계 A(f, image)를 얻고;- 상기 관계 A(f, image)의 최대점 A(fx, image)을 결정하고;- 상기 검사용 패턴의 이미지의 최대점 A(fx, image)과 상기 최대점 A(fx, photomask)의 비율을 형성하는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항에 있어서,상기 주기적인 구조물(3)은, 상기 라인(2) 중 양 측면(21, 22) 위에 배치되고, 양측의 상기 구조물(3)의 진폭과 주기는 동일한 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제2항에 있어서,상기 구조물의 최대점(31)은, 제1측면 위에, 제2측면의 최대점(31)과 같은 높이로 배치되고, 상기 높이는 기준 방향(23)을 따라 측정되는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제2항에 있어서,상기 구조물의 최대점(31)은 제1측면 위에 제2측면(22)의 최대점의 높이에 대해 기준 방향으로 주기의 반 만큼 이동시킨 위치에 배열되는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라인의 너비 w는 상기 스페이스의 너비 s와 동등한 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라인의 너비 w는 상기 스페이스의 너비 s보다 더 큰 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라인의 너비 w는 상기 스페이스의 너비 s보다 더 작은 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 주기적인 구조물의 진폭 A는 20내지 220 nm 의 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제7항에 있어서,상기 주기적인 구조물의 진폭 A는 80 내지 150 nm 의 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 주기적인 구조물의 주기 1/f는 4000 nm 보다 작은 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,유효 라인 너비 CD는 360nm 보다 작은 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,기준이 되는 진폭 스펙트럼의 최대점인 A(fx, photomask)은, 포토마스크(5)의 디자인 데이터를 구함으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,기준이 되는 진폭 스펙트럼의 최대점 A(fx, photomask)는,- 포토마스크의 이미지(56)를 얻고;- 포토마스크의 이미지에서 에지를 정함으로써 한 세트의 포토마스크 에지 위치 데이터를 얻고;- 포토마스크 에지 위치 데이터를 직선에 대해 조정하고, 포토마스크 에지 위치 오차를 결정하고;- 공간 주파수에 의존하여 진폭 스펙트럼을 산출함으로써, 공간 주파수에 의존하는 진폭을 나타내는 관계 A(f, photomask)를 얻고;- 관계 A(f, photomask)의 최대점 A(fx, photomask)를 얻는; 것에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 검사용 패턴(1)의 트랜스퍼 프로퍼티를 구하는 방법.
- 트랜스퍼 처리에서 적어도 하나의 파라미터를 결정하는 방법으로,- 그 각각이, 기준 방향(23)을 따라 연장되는 두 개의 측면(21,22)를 포함하며, 라인 너비가 w인 라인(2)과, 상기 라인에 바로 인접하게 연결되는 주기적인 구조물(3)을 포함하는 복수개의 검사용 패턴(1)을 포함하는 포토마스크를 제공하고, 상기 구조물 각각은, 상기 구조물(3)의 외곽 에지로부터 상기 라인(2)까지의 거리가 가장 큰 곳에서 최대점과, 상기 최대점과 상기 구조물(3)의 외곽 에지 및 상기 라인(2) 사이의 최소 거리 사이의 차이인 진폭(A)을 가지고, 여기서 상기 차이는 기준 방향(23)에 대하여 수직으로 측정되며, 상기 구조물(3)은 고정된 주기 1/f로 배열되고, 여기서 상기 모든 구조물(3)의 진폭(A)이 동일하고, 상기 라인(2)에 인접하는 스페이스(4)은 상기 구조물(3)를 포함하여 상기 구조물(3)를 포함하는 각 라인(2)의 어느 한 측면(21, 22) 위에, 두 개의 스페이스(4)가 각각 배치되거나 그 역으로 되고, 상기 스페이스(4)은 상기 기준 방향(23)에 대해 수직으로 측정되는 스페이스 너비 s를 갖고, 상기 스페이스 너비 s는 두 개의 인접하는 라인(2) 사이의 거리에 대응하고, 상기 검사용 패턴(1)의 유효 라인 너비 CD는 CD X l = B로 정의되고, 여기서 l은 기준 방향으로 라인(2)의 길이에 대응하고, B는 주기적인 구조 물(3)을 포함하는 특정 라인의 면적에 대응하고, 상기 라인(2)과 상기 주기적인 구조물(3)은 마스크 형성 재료로 만들어지고; 상기 복수개의 검사용 패턴 각각이 f의 소정 범위로부터 선택되는 다른 고정 주기 1/f를 갖는다;- 상기 트랜스퍼 처리를 다양한 처리 파라미터를 사용하여 수행함으로써, 다양한 처리 파라미터 각각에 대응하는 한 세트의 트랜스퍼된 패턴을 얻고;- 한 세트의 트랜스퍼된 패턴에서 한 세트의 이미지를 제공하고;트랜스퍼된 패턴의 이미지의 에지를 결정함으로써, 한 세트의 에지 위치 데이터를 얻고;에지 위치 데이터를 직선에 대해 조정하고 에지 위치 오차를 결정하고; 공간 주파수에 의존하는 진폭 스펙트럼을 산출해냄으로써, 공간 주파수에 의존하는 진폭을 나타내는 관계 A(f, image)를 얻는; 것을 수행함으로써 트랜스퍼된 패턴에서 한 세트의 이미지를 구하고;- A(f, image)의 관계에서 최대점 A(fx, image)을 결정하고;- 기준 진폭 스펙트럼에서 최대점 A(fx,photomask)를 결정하고;- 검사용 패턴의 이미지의 최대점 A(fx, image)과 최대점 A(fx, photomask)의 비율을 형성하고;- 처리 파라미터를, A(fx, photomask)/A(fx, image)의 비가 fx의 소정범위 내에서 최소가 되게끔 선택하는 것을 특징으로 하는 트랜스퍼 처리에서 적어도 하나의 파라미터를 결정하는 방법.
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